DE2935716A1 - Verfahren und vorrichtung zum messen der dicke eines films durch ausnutzung von infrarot-interferenzerscheinungen - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zum messen der dicke eines films durch ausnutzung von infrarot-interferenzerscheinungen

Info

Publication number
DE2935716A1
DE2935716A1 DE19792935716 DE2935716A DE2935716A1 DE 2935716 A1 DE2935716 A1 DE 2935716A1 DE 19792935716 DE19792935716 DE 19792935716 DE 2935716 A DE2935716 A DE 2935716A DE 2935716 A1 DE2935716 A1 DE 2935716A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
film
infrared
infrared light
interference
thickness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19792935716
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
DE2935716C2 (en, 2012
Inventor
Shingo Ishikawa
Akitaka Yasujima
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei Corp
Original Assignee
Asahi Dow Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Dow Ltd filed Critical Asahi Dow Ltd
Publication of DE2935716A1 publication Critical patent/DE2935716A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2935716C2 publication Critical patent/DE2935716C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
DE19792935716 1978-09-04 1979-09-04 Verfahren und vorrichtung zum messen der dicke eines films durch ausnutzung von infrarot-interferenzerscheinungen Granted DE2935716A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10754778A JPS5535214A (en) 1978-09-04 1978-09-04 Method and device for film-thickness measurement making use of infrared-ray interference

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2935716A1 true DE2935716A1 (de) 1980-03-06
DE2935716C2 DE2935716C2 (en, 2012) 1987-07-09

Family

ID=14461940

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19792935716 Granted DE2935716A1 (de) 1978-09-04 1979-09-04 Verfahren und vorrichtung zum messen der dicke eines films durch ausnutzung von infrarot-interferenzerscheinungen

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4254337A (en, 2012)
JP (1) JPS5535214A (en, 2012)
DE (1) DE2935716A1 (en, 2012)
FR (1) FR2435019A1 (en, 2012)
GB (1) GB2033079B (en, 2012)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3135443A1 (de) * 1981-09-08 1983-03-24 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Verfahren und fotometrische anordnung zur dickenmessung und -steuerung optisch wirksamer schichten
DE3248157A1 (de) * 1981-12-29 1983-07-07 Chugai Ro Kogyo Co., Ltd., Osaka Vorrichtung zum messen der dicke einer beschichtung auf einer unterlage
EP0197199A1 (en) * 1985-03-22 1986-10-15 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Apparatus for and a method of measuring the thickness of a film
EP0304795A3 (en) * 1987-08-28 1990-09-12 Agfa-Gevaert Ag Device for checking of coated and uncoated foils
EP0304793A3 (en) * 1987-08-28 1990-09-12 Agfa-Gevaert Ag Device for the determination of the thickness of film bases
EP0545738A3 (en, 2012) * 1991-12-06 1994-01-05 Hughes Aircraft Co
EP0577399A3 (en) * 1992-06-29 1995-05-10 Hughes Aircraft Co Apparatus and method for metrology of the thickness of a thin layer of film having local deformations and variations in slope.
WO2017067542A1 (de) * 2015-10-22 2017-04-27 Precitec Optronik Gmbh Messvorrichtung und verfahren zur messung der dicke einer flächigen probe

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6134167Y2 (en, 2012) * 1981-02-12 1986-10-06
JPS57150001U (en, 2012) * 1981-03-17 1982-09-20
JPS57157105A (en) * 1981-03-24 1982-09-28 Kokusai Electric Co Ltd Device for measuring thickness of thin film
JPS5879401U (ja) * 1981-11-25 1983-05-28 本田技研工業株式会社 車両用ホイ−ル
US4522510A (en) * 1982-07-26 1985-06-11 Therma-Wave, Inc. Thin film thickness measurement with thermal waves
JPS6037226A (ja) * 1983-08-10 1985-02-26 Hitachi Ltd 二部材の結合方法
JPS60127403A (ja) * 1983-12-13 1985-07-08 Anritsu Corp 厚み測定装置
DE3373341D1 (en) * 1983-12-27 1987-10-08 Ibm Deutschland White-light interferometer
US4958930A (en) * 1985-12-11 1990-09-25 E. I. Du Pont De Nemours And Company Apparatus for monitoring thickness variations in a film web
JPH0617774B2 (ja) * 1987-06-22 1994-03-09 大日本スクリ−ン製造株式会社 微小高低差測定装置
DE3939877A1 (de) * 1989-12-01 1991-06-06 Siemens Ag Messanordnung zur beruehrungslosen bestimmung der dicke und/oder thermischen eigenschaften von folien und duennen oberflaechenbeschichtungen
DE3939876A1 (de) * 1989-12-01 1991-06-06 Siemens Ag Messanordnung zur beruehrungslosen bestimmung der dicke und/oder thermischen eigenschaften von folien und duennen oberflaechenbeschichtungen
JPH03285106A (ja) * 1990-03-31 1991-12-16 Photonics:Kk 表面検査装置
US5293214A (en) * 1991-12-06 1994-03-08 Hughes Aircraft Company Apparatus and method for performing thin film layer thickness metrology by deforming a thin film layer into a reflective condenser
US5290586A (en) * 1992-09-10 1994-03-01 International Business Machines Corporation Method to monitor Meta-Paete cure on metallized substrates
US5406090A (en) * 1993-02-22 1995-04-11 Mattson Instruments, Inc. Spectrometer and IR source therefor
US5452953A (en) * 1993-10-12 1995-09-26 Hughes Aircraft Company Film thickness measurement of structures containing a scattering surface
FR2716531B1 (fr) * 1994-02-18 1996-05-03 Saint Gobain Cinematique Contr Procédé de mesure d'épaisseur d'un matériau transparent.
DE19601923C1 (de) * 1996-01-12 1997-07-24 Inst Chemo Biosensorik Verfahren und Vorrichtung zum Erkennen organischer Substanzen
US5752607A (en) * 1996-03-18 1998-05-19 Moen Incorporated Process for distinguishing plumbing parts by the coatings applied thereto
US5909282A (en) * 1996-05-31 1999-06-01 Tropel Corporation Interferometer for measuring thickness variations of semiconductor wafers
US6034774A (en) * 1998-06-26 2000-03-07 Eastman Kodak Company Method for determining the retardation of a material using non-coherent light interferometery
FR2780778B3 (fr) 1998-07-03 2000-08-11 Saint Gobain Vitrage Procede et dispositif pour la mesure de l'epaisseur d'un materiau transparent
US6470294B1 (en) * 1999-04-13 2002-10-22 Qualitek-Vib, Inc. System and method for the on-line measurement of glue application rate on a corrugator
GB0611156D0 (en) * 2006-06-07 2006-07-19 Qinetiq Ltd Optical inspection
JP5009709B2 (ja) * 2007-07-20 2012-08-22 富士フイルム株式会社 厚み測定用光干渉測定装置
US9581433B2 (en) 2013-12-11 2017-02-28 Honeywell Asca Inc. Caliper sensor and method using mid-infrared interferometry
DE102015007054A1 (de) 2015-06-02 2016-12-08 Thomas Huth-Fehre Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Dicke von dünnen organischen Schichten
CN108050947A (zh) * 2018-01-02 2018-05-18 京东方科技集团股份有限公司 一种膜层厚度的检测方法
WO2020128593A1 (en) * 2018-12-20 2020-06-25 Arcelormittal Measure of the degree of crystallinity of a polymer coating on a metal substrate
JP7230540B2 (ja) * 2019-01-31 2023-03-01 セイコーエプソン株式会社 分光システム

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1147406B (de) * 1956-02-10 1963-04-18 Siemens Ag Verfahren und Einrichtung zur Messung von Dicke und Brechungsindex duenner, schwach absorbierender Schichten
DE2054084A1 (de) * 1969-11-05 1971-05-19 Brun Senson Systems Inc Verfahren und Gerat zur Unter druckung von Interferenzfehlern bei Zweistrahl Infrarotmessungen
DE2414034A1 (de) * 1973-03-26 1974-10-10 Ibm Verfahren zur messung der dicke mehrerer uebereinanderliegender schichten

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3238839A (en) * 1962-03-29 1966-03-08 Gen Electric Optical thickness gauge
US3601492A (en) * 1967-11-20 1971-08-24 Monsanto Co Apparatus for measuring film thickness
US3693025A (en) * 1969-11-28 1972-09-19 Brun Sensor Systems Inc Apparatus and method for eliminating interference errors in dual-beam infrared reflection measurements on a diffusely reflecting surface by geometrical elimination of interference-producing specularly-reflected radiation components
GB1382081A (en) * 1972-03-14 1975-01-29 Ici Ltd Transmission spectra
US3973122A (en) * 1974-06-17 1976-08-03 Ixcon Inc. Measuring apparatus
US4027161A (en) * 1976-04-05 1977-05-31 Industrial Nucleonics Corporation Minimizing wave interference effects on the measurement of thin films having specular surfaces using infrared radiation

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1147406B (de) * 1956-02-10 1963-04-18 Siemens Ag Verfahren und Einrichtung zur Messung von Dicke und Brechungsindex duenner, schwach absorbierender Schichten
DE2054084A1 (de) * 1969-11-05 1971-05-19 Brun Senson Systems Inc Verfahren und Gerat zur Unter druckung von Interferenzfehlern bei Zweistrahl Infrarotmessungen
DE2054084B2 (de) * 1969-11-05 1973-03-08 Brun Sensor Systems Ine , Columbus, Ohio (V St A ) Zweistrahl-infrarotmessung im reflexions- oder durchstrahlungsverfahren
DE2414034A1 (de) * 1973-03-26 1974-10-10 Ibm Verfahren zur messung der dicke mehrerer uebereinanderliegender schichten

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3135443A1 (de) * 1981-09-08 1983-03-24 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Verfahren und fotometrische anordnung zur dickenmessung und -steuerung optisch wirksamer schichten
DE3248157A1 (de) * 1981-12-29 1983-07-07 Chugai Ro Kogyo Co., Ltd., Osaka Vorrichtung zum messen der dicke einer beschichtung auf einer unterlage
EP0197199A1 (en) * 1985-03-22 1986-10-15 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Apparatus for and a method of measuring the thickness of a film
US4676647A (en) * 1985-03-22 1987-06-30 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Film thickness measuring device and method
EP0304795A3 (en) * 1987-08-28 1990-09-12 Agfa-Gevaert Ag Device for checking of coated and uncoated foils
EP0304793A3 (en) * 1987-08-28 1990-09-12 Agfa-Gevaert Ag Device for the determination of the thickness of film bases
EP0545738A3 (en, 2012) * 1991-12-06 1994-01-05 Hughes Aircraft Co
US5333049A (en) * 1991-12-06 1994-07-26 Hughes Aircraft Company Apparatus and method for interferometrically measuring the thickness of thin films using full aperture irradiation
EP0577399A3 (en) * 1992-06-29 1995-05-10 Hughes Aircraft Co Apparatus and method for metrology of the thickness of a thin layer of film having local deformations and variations in slope.
WO2017067542A1 (de) * 2015-10-22 2017-04-27 Precitec Optronik Gmbh Messvorrichtung und verfahren zur messung der dicke einer flächigen probe

Also Published As

Publication number Publication date
US4254337A (en) 1981-03-03
FR2435019B1 (en, 2012) 1984-02-24
DE2935716C2 (en, 2012) 1987-07-09
GB2033079A (en) 1980-05-14
GB2033079B (en) 1983-05-18
JPS5535214A (en) 1980-03-12
FR2435019A1 (fr) 1980-03-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2935716C2 (en, 2012)
DE69523459T2 (de) Verfahren und vorrichtung zur detektion der position einer faltenlinie eines verpackungsstreifens
DE2853520C2 (en, 2012)
DE3926349C2 (en, 2012)
DE69021813T2 (de) Apparat und Verfahren für die Ausmessung von dünnen mehrschichtigen Lagen.
DE1447253A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur kontinuierlichen interferometrischen Messung von Dickeoder Brechungsindex eines laufenden Films
DE2552541A1 (de) Gleichzeitige durchlaessigkeit periodischer spektralkomponenten durch vielfach interferometrische geraete
DE19912500A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen von Eigenschaften einer laufenden Materialbahn
DE2721891A1 (de) Stabiles zweikanalspektrometer mit einzelfilter
DE2428123A1 (de) Anordnung zum nachweisen von fehlstellen mittels abtastung durch einen laserstrahl
DE3937851A1 (de) Laser-doppler-geschwindigkeitsmesser
DE2054084A1 (de) Verfahren und Gerat zur Unter druckung von Interferenzfehlern bei Zweistrahl Infrarotmessungen
DE2153315A1 (de) Verfahren zur interferenzspektroskopischen Spektraluntersuchung einer Probe und Interferenz-Spektroskopiegerät zur Durchführung dieses Verfahrens
DE3607244A1 (de) Vorrichtung zur erfassung der laengskanten eines stabfoermigen objekts
DE2909400C2 (de) Vorrichtung zur Messung der Dicke einer Kunststoffolienschicht mittels Infrarotlichts
DE3503086C1 (de) Verfahren bzw.Vorrichtung zur Messung der Wanddicke von transparenten Gegenstaenden
EP0323564A2 (de) Optische Fehlerinspektionsvorrichtung
DE2423340A1 (de) Abtastverfahren
EP0716292A2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens zum Messen einer Lage von Bahnen oder Bogen
DE69421649T2 (de) Optische Prüfvorrichtung für die Füllung von Zigaretten
DE3685631T2 (de) Absorptionsmesser zur bestimmung der dicke, feuchte oder anderer parameter eines films oder einer beschichtung.
DE3732149C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Charakterisieren einer Genauigkeitseigenschaft einer optischen Linse
DE2212498A1 (de) Raman-Spektrometer
DE3401475C2 (en, 2012)
DE19720330C1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Messung von Spannungen in Glasscheiben mit Hilfe des Streulichtverfahrens

Legal Events

Date Code Title Description
OAP Request for examination filed
OD Request for examination
OI Miscellaneous see part 1
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: ASAHI KASEI KOGYO K.K., OSAKA, JP

8128 New person/name/address of the agent

Representative=s name: BLUMBACH, P., DIPL.-ING., 6200 WIESBADEN WESER, W.

D2 Grant after examination
8363 Opposition against the patent
8339 Ceased/non-payment of the annual fee