DE2836699C2 - Rasterelektronenmikroskop - Google Patents
RasterelektronenmikroskopInfo
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
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Description
|5 Die Erfindung betrifft ein Rasterelektronenmikroskop, wie es im Oberbegriff des Patentanspruchs 1 angege-
|j ben ist
i<\ Ein Rastereiektronenmikro&i op dieser Art ist aus der US-PS 40 39 829 bekannt. Bei diesem bekannten
ύ Rasterelektronenmikroskop wird für die Messung des Abstandes zwischen zwei Objektpunkten mit einer
j£ 35 Stereoskopen Betrachtungsweise der für diese Objektpunkte erzeugten Bilder gearbeitet Hierzu wird der
U Einfallswinkel für den Elektronenstrahl bei dessen Auftreffen auf das Objekt abwechselnd auf den einen oder
i|j den anderen von zwei verschiedenen Werten eingestellt, und die beiden so erhaltenen Bilder des Objektes
13 werden gleichzeitig an verschiedenen Stellen zur Anzeige gebracht. Für die Messung wird dann das eine dieser
' beiden Bilder durch das linke Auge des Beobachters betrachtet, während die Betrachtung des anderen Bildes mit
;. 40 dem rechten Auge des Beobachters erfolgt. Die Berechnung des Abstandes zwischen den interessierenden
I? Objektpunkten erfolgt dann anhand von Lagesignalen, die anhand von den Objektpunktbildcrn überlagerten
I; Zeichen erhalten werden.
:■! Diese Art der Abstandsmessung setzt jedoch die Möglichkeit voraus, den Einfallswinkel für die Elektronen-
ί:ί. strahlen am Objekt abwechselnd, wiederholt und schnell zu ändern. Dies kann entweder durch eine entsprechen-
;;;,' 45 de Beeinflussung des Elektronenstrahls bei ortsfester Lage des Objekts oder durch eine entsprechende Verstel-I
lung des Objekts relativ zum Elektronenstrahl erreicht werden. Bei der zweiten Alternative ergeben sich jedoch
;;, Schwierigkeiten für die Beobachtung des Bildes auf dem Rasterelektronenmikroskop infolge der induzierten
|| mechanischen Schwingungen, die eine verminderte Auflösung zur Folge haben, und außerdem stellen sich
;,1 unerwünschte Leistungsminderungen wegen der Abnutzung der mechanisch bewegten Teile ein. Die insoweit
\d 50 vorzuziehende erste Alternative wiederum verlangt eine Änderung in der Elektronenoptik, die ebenfalls uner-
:/■ wünscht ist
fi< Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Rasterelektronenmikroskop der eingangs erwähnten Art
jr so auszubilden, daß es eine genaue Messung des Abstandes zwischen zwei Objektpunkten ohne einen Eingriff in
I; die Elektronenoptik und ohne eine Änderung des Einfallswinkel für den Elektronenstrahl am Objekt bei der
' 55 Messung selbst dann ermöglicht, wenn das Objekt eine erhebliche Neigung gegenüber dem Elektronenstrahl
.:,; aufweist.
\.' Die gestellte Aufgabe wird gemäß der Erfindung gelöst durch ein Rasterelektronenmikroskop, wie es im
Patentanspruch 1 gekennzeichnet ist; vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen.
60 Das Bild des Objekts kann beispielsweise aufgrund der am Objekt durch den Elektronenstrahl ausgelösten
Sekundärelektronen erhalten werden.
Für die weitere Erläuterung der Erfindung wird nunmehr auf die Zeichnung Bezug genommen, in der ein
bevorzugtes Ausführungsbeispiel für die Erfindung veranschaulicht ist. Dabei zeigen in der Zeichnung:
F i g. I ein Blockschallbild für das Ausführiingsbcispiel der Erfindung.
hi Ki g. 2 ein Blockschaltbild für einen Ausschnitt aus der Schaltung vor, Fi g. I,
hi Ki g. 2 ein Blockschaltbild für einen Ausschnitt aus der Schaltung vor, Fi g. I,
F i g. 3 Diagramme zur Vcranschaiilichung von Signalen für eine Erläuterung des Betriebs der Schaltung von
F i g. 2.
Fi g. 4 Darstellungen von milder Schaltung von F i g. 2 erhaltenen Zeichen.
F i g. 5 eine stereoskopische Darstellung der Beziehung zwischen der Objektoberfläche und der Bildebene,
F i g. 6 eine Ansicht der Darstellung von F i g. 5 in Richtung der z- Achse und
F i g. 7 ein Blockschaltbild für einen anderen Ausschnitt aus der Schaltung von Fig. 1.
In F i g. 1 ist ein Rasterelektronenmikroskop dargestellt, bei dem in einer evakuierten Röhre 1 ein Elektronenstrahlerzeuger
2 einen Elektronenstrahl aussendet, der mittels einer Fokussierlinse 3 auf ein Objekt 4 fokussiert
wird. Das Objekt 4 ist an einem Halter 5 befestigt, der mit Hilfe eines Objektantriebes 6 unter einem beliebigen
Winkel θ gegen den Elektronenstrahl geneigt und in der jeweiligen geneigten Stellung festgehalten werden
kann, wobei außerdem auch eine Drehung um einen beliebigen Azimutwinkel α möglich ist und das Objekt 4
dann in der entsprechenden gedrehten Stellung festgehalten werden kann. Der jeweilige Neigungswinkel θ und
der jeweilige Azimutwinkel λ werden am Objektantrieb 6 mittels entsprechender Detektoren erfaßt und in
Form elektrischer Signale zur weiteren Auswertung abgegeben.
Ein Signalgenerator 7 erzeugt ein sägezahnförmiges Abtastsignal für eine Abtastung in x-Richtung und ein
sägezahnförmiges Abtastsignal für eine Abtastung in y-Richtung. die über einen Vergrößerungseinsteller 8
einem Ablenksystem 9 zugeführt werden. Der Elektronenstrahl vom Elektronenstrahlerzeuger 2 wird dadurch
zweidimensional abgelenkt, und damit wird das Objekt 4 zweidimensional mit dem fokussieren Elektronenstrahl
abgetastet Wenn das Objekt 4 durch den fokussieren Elektronenstrahl bestrahlt wird, kann vom Objekt 4
ein für dieses charakteristisches Informationssignal erhalten werden, wie z. B. ein Sekundärelektronen-Signal,
ein Reflexionselektronen-Signal, ein Durchlaßelektronen-Signal, ein Absorptionselektronen-Sigtjal, ein Augerelektronen-Signal,
ein Röntgenstrahl-Signal oder ein Kathodenlumineszenz-Signal. Bei dem in F i g. 1 gezeigten
Ausführungsbeispiel wird ein vom Objekt 4 erhaltenes Sekundärelektronen-Signal durch einen Detektor 10
erfaßt, dessen Ausgangssignal über einen Verstärker 11 und einen Mischer 12 an das Gitter eir.r ~, Elektronenstrahlröhre
13 abgegeben wird.
Die durch den Signalgenerator 7 erzeugten Abtastsignale werden weiter auch dem Ablenksystem der Elektronenstrahlröhre
13 zugeführt, so daß der Bildschirm der Elektronenstrahlröhre 13 synchron zur zweidimensionalen
Abtastung für das Objekt 4 abgetastet wird. Als Ergebnis wird ein Bild der zweidimensionalen Abtastfläche
des Objektes 4 durch den Elektronenstrahl aufgrund des Sekundärelektronen-Signales auf dem Bildschirm
angezeigt Der Vergrößerungseinsteller 8 hat eine Einrichtung zum Ändern der Amplituden der Abtastsignale,
die vom Signalgenerator 7 abgegeben werden. Eine Änderung der Amplituden dieser Signale bedeutet eine
Änderung der Größe der Abtastfläche des Objektes 4, und eine Änderung der Größe der Abtastfläche bedeutet
eine Änderung des Vergrößerungsfaktors des an der Elektronenstrahlröhre 13 angezeigten Bildes. Der Vergrößerungseinsteller
8 hat auch einen Signalgenerator zum Erzeugen eines elektrischen Signales, das die geänderte
Größe darstellt
Das Rasterelektronenmikroskop von F i g. 1 besitzt weiter einen Rechner 14 mit einem Signalgenerator zum
Erzeugen von Lagesignalen und einer Rechen- und Anzeigeeinrichtung zum Berechnen und Anzeigen des
Abstandes zwischen zwei willkürlichen Objektpunkten aufgrund der Lagesignale, Signalen, die den Neigungswinkel
und den Drehwinkel des Objekts 4 anzeigen, die vom Objektantrieb 6 eingestellt sind, und das Vergrößerungsfaktorsignal,
das vom Vergrößerungseinsteller 8 abgegeben wird. Von diesem Rechner 14 werden zwei
veränderliche Lagesignale erzeugt und im Mischer 12 mit dem Signal aus dem Verstärker 11 gemischt, und das
gemischte Signal wird der Elektronenstrahlröhre 13 als Helligkeitsmodulationssignal zugeführt. Entsprechend
werden zwei durch die beiden veränderlichen Lagesignale erzeugte Zeichen den Objektpunktbildern überlagert
und auf dem Bildschirm der Elektronenstrahlröhre 13 angezeigt. Die Lage dieser Zeichen kann beliebig geändert
werden, indem die beiden veränderlichen Lagesignale geänder. werden. Außerdem berechnet der Rechner 14
den tatsächlichen Abstand zwischen den beiden Objektpunkten, der den beiden Zeichen aufgrund der beiden
Lagesignale, des Neigungswinkelsignals und des Drehwinkels vom Objektantrieb 6 und des Vergrößerunesfaktorsignals
vom Vergrößerungseinsteller 8 entspricht Die Berechnung kann durch einen Mikrocomputer erfolgen,
und der Abstand kann entsprechend Programmen für die Information über den Vergrößerungsfaktor, den
Neigungswinkel und den Drehwinkel gemessen werden.
F i g. 2 zeigt ein Blockschaltbild für einen Lagesignalgenerator im Rechner 14 von Fig. 1. Ein Synchronisiersignalgenerator
20 erzeugt ein X-Achsen-Synchronisiersignal und ein Y-Achsen-Synchronisiersignal, die in F i g. 3
bei (A) bzw. bei (B) gezeigt sind, wobei der in F i g. 1 dargestellte Signalgenerator 7 abhängig von diesen Signalen
das in F i g. 3 bei (C) bzw. bei (D) dargerstellte X-Achsen-Abtastsignal und K-Achsen-Abtastsignal abgibt.
Das in F i g. 3 bei (A) gezeigte X-Achsen-Synchronisiersignal, das durch den Synchronisiersignalgenerator 20
erzeugt ist, wird in ein Zeichenkoordinatensteuergüed 21 eingespeist, das einen Speicher zum Speichern einer
auf dem Bildschirm der Elektronenstrahlröhre 13 anzuzeigenden Z.ichenkoordinate hat. Zunächst wird lediglich
die erste Zyklusperiode des in Fig.3 bei (D) gezeigten K-Achsen-Abtastsignals betrachtet. Durch Einstellen
eines Koordinatenstellers 22, der ein Knopf auf einer Steuertafel sein kann, wird ein vom Zeichenkoordiriatensteuerglied
21 erzeugtes X-Achsen-Koordinatensignal Xa eines ersten an der Elektronenstrahlröhre 13 anzuzeigenden
Zeichens in ein X- Achsen -Koordinatenregisters 23 gesetzt. Das -Y-Achsen-Koordinatensignal im X-Achsen-Koordinatenregister
23 wird abhängig vom A'-Achsen-Synchronisiersifnal einem X-Achsen-Koordina·
tenzählregister 24 übertragen. Taktimpulse mit einer 100- bis 500mal so hohen Frequenz wie die Frequenz des in
F i g. 3 bei (A) gezeigten -V-Aehsen-Synchronisiersignals werden durch einen Impulsgenerator 25 erzeugt und in
das X-Achsen-Koordinatenzählregister 24 eingespeist. Ein Überlaufsignal oder ein Entnahmesignal vom Zähl· egistcr
24 steuert Impulsgeneratoren 26 und 27 an. Der Impulsgenerator 26 erzeugt in Fig.3 bei (E) gezeigte
Impulse langer Dauer, während der Impulsgenerator 27 in Fig.3 bei (H) dargestellte Impulse kurzer Dauer
abgibt. Die Impulse von den Impulsgerieratoren 26 und 27 werden an erste Eingänge von UND-Gliedern 28 bzw.
29 angelegt. Ein Aucgangssteuerglied 30 erzeugt ein in Fig.3 bei (F) gezeigtes Signal zum Angeben eines
V-Achsen-Koordinatensignals Ya für das erste Zeichen durch Einstellen des Koordinatenstellers 22 an einem
Ausgangsanschluß 31 und gleichzeitig ein in F i g. 3 (I) gezeigtes Signal an einem anderen Ausgangsanschluß 32.
Diese Signale werden an die zweiten Eingänge des UND-Gliedes 28 bzw. 29 abgegeben, die an ihren Ausgängen
Signale erzeugen, die in Fig. 3 bei (G) bzw. bei (J) dargestellt sind. Diese Ausgangssignale werden einem
ODER-Glied 33 zugeführt, das an seinem Ausgang ein in F i g. 3 bei (K) dargestelltes Signal abgibt.
Es soll nun die zweite Zyklusperiode des in Fig. 3 bei (D) gezeigten V-Achsen-Abtastsignals betrachtet
werden. In dieser Zyklusperiode erfolgt genau der gleiche Betrieb wie in der ersten Zyklusperiode für ein
X-Achsen-Koordinatensignal Xn und ein K-Achsen-Koordinatensignal Yb eines zweiten Zeichens, das an der
Elektronenstrahlröhre 13 anzuzeigen ist. In und nach einer dritten Zyklusperiode werden der Betrieb für Xa und
Ya in der ersten Zyklusperiode und der Betrieb für Xb und Yu in der zweiten Zyklusperiode abwechselnd und
wiederholt ausgeführt.
ίο Ein in Fig. 3 bei (K) dargestelltes Signal wird im Mischer 12 von Fig. I mit dem Signal vom Verstärker 11 von
F i g. 1 gemischt, und das gemischte Signal wird an die Elektronenstrahlröhre 13 als Helligkeitsmodulationssignal
abgegeben. Entsprechend werden das durch (XA, Ya) dargestellte erste Zeichen und das durch (Xb, Yb) dargestellte
zweite Zeichen auf dem Bildschirm der Elektronenstrahlröhre 13 überlagert zum Bild des Objekts 4
angezeigt. F i g. 4 zeigt das erste und das zweite Zeichen, die auf der Elektronenstrahlröhre 13 in der oben
is erläuterten Weise angezeigt v/erden. In Fig.4 stellt links oben ein L-förmiges Zeichen das durch (Aa, Ya)
definierte erste Zeichen und rechts unten ein L-förmiges Zeichen das durch (Xb, Yb) definierte zweite Zeichen
dar. Mehrere gestrichelte Linien deuten Abtastzeilen an.
Die Koordinaten (XA, Ya) und (Xb, Yr) des ersten und des zweiten Zeichens können willkürlich gewählt
werden, und die Auswahl kann durch Steuern des Koordinatensteiler«; 22 befohlen worden.
Bei dem in Fig. 2 dargestellten Beispiel werden das Lagesignal (Xa. Ya) des ersten Zeichens und das
Lagesignal (X8. Yb) des zweiten Zeichens abwechselnd in ungeradzahligem Zyklus und geradzahligem Zyklus
des in Fig.3 bei (D) dargestellten Signals erzeugt. Alternativ können drei Zeichen auf dem Bildschirm der
Elektronenstrahlröhre 13 durch Erzeugen des Lagesignals (Xa, Ya) im ersten Zyklus, des Lagesignales (Xb, Yb)
im zweiten Zyklus und eines Lagesignals (Xc, Yc)im dritten Zyklus angezeigt werden. Auf ähnliche Weise ist es
möglich, vier oder mehr Zeichen anzuzeigen. Bei dem Beispiel von F i g. 2 ist das System aus dem X-Achsen-Koordinatenregister
23, dem X-Achsen-Koordinatenzählregister 24 und den Impulsgeneratoren 26 und 27 in
Beziehung zum X-Achsen-Koordinatensignal Xa des ersten Zeichens und zum X-Achsen-Koordinatensignal Xb
des zweiten Zeichens. Wenn jedoch das System lediglich in Bezieh· fr.g zum X-Achsen-Koordinatensignal Xa des
ersten Zeichens ist. können mehrere Zeichenlagesignale erzeugt werden, indem mehrere gleiche Systeme
vorgesehen werden.
Während die bei dem Beispiel von F i g. 2 dargestellten Zeichen L-förmig sjnd, können die Zeichen auch jede
andere Form aufweisen, z. B. ein Rechteck, ein Kreis oder ein Kreuz sein, und sie können von jeder Größe sein.
F i g. 5 zeigt stereoskopisch die Beziehung zwischen der Ebene des Objekts 4 und der Bildebene der Bildschirme
der Elektronenstrahlröhre 13, wenn der Neigungswinkel des Objektes 4 den Wert θ und der Azimutwinkel
den Wert λ hat, und F i g. 6 ist eine Ansicht von F i g. 5 in Richtung der Z-Achse. In diesen Figuren ist die Ebene
AEBC axt Bildebene und die Ebene AFDCdie Objektebene, und eine X- Y-Ebene, die senkrecht zur Z-Achsrichtung
ist, die die Achsrichtung des Elektronenstrahles darstellt, ist in Übereinstimmung mit der Bildebene AEBC
gezeigt. Entsprechend ist eine Achse AC eine Objektneigungsachse. In diesen Figuren wird der Abstand
zwischen den Punkten A und D des Objekts 4, der den Lagen A und B von zwei auf der Elektronenstrahlröhre 13
anzuzeigenden Zeichen entspricht, auf folgende Weise bestimmt. Mit AX ·= XA—XsundJV = YA— Vsfolgt:
AC = JYcos,x-AXsm.i (1)
BC = JA" cos.t + JVsin.-t (2)
CD = BC/ cos θ = ^X cos λ + Δ Y sin <*>eos θ (3)
AD = \(ACf + (CDf]"? = \(ΔΥοο% a-JXsin ocf + (AXcos a + JYsin «//cos20}"2 (4)
F i g. 7 zeigt ein Blockschaltbild eines Ausführungsbeispiels für den in F i g. 1 dargestellten Rechner 14. Die
Gleichung (4) wird mittels des Rechners 14 so berechnet daß der tatsächliche Abstand zwischen zwei Objektpunkten,
die den Lagen der beiden auf dem Bildschirm der Elektronenstrahlröhre 13 anzuzeigenden Zeichen
so entsprechen, genau bestimmmt werden kann.
Ein Multiplexer 1120 wird durch ein Multiplexersteuersignal 1111 von einem Steuerglied 1130 so gesteuert,
daß die X-Achsen-Koordinate XA des ersten Zeichens von einem Anschluß 1101 in einen Vierpolspeicher 1121
geschrieben wird (der gleichzeitig durch Zweikanaladressen lesen und schreiben kann). Damit wird die X-Achsen-Koordinate
Xa in einem vorbestimmten Platz des Speichers 1121 gespeichert Die K-Achsen-Koordinate YA
des ersten Zeichens sowie die X-Achsen- und K-Achsen-Koordinaten Xb und YB des zweiten Zeichens von den
Anschlüssen 1101 werden in ähnlicher Weise im Speicher 1121 gespeichert Der Vergrößerungsfaktor von einem
Anschluß 1103 wird ebenfalls im Speicher 1121 gespeichert Zusätzlich wird der über einen Anschluß 1102
eingespeiste Neigungswinkel θ in einem Funktionsumsetzer 1128 für trigonometrische Funktionen (der aus
einem Festspeicher mit wahlfreiem Zugriff aufgebaut sein kann) in eine Cosinus-Funktion umgesetzt, und der
über einen Anschluß 1114 eingespeiste Drehwinkel ec wird durch den Funktionsumsetzer 1128 in eine Sinus-Funktion
und eine Cosinus-Funktion umgesetzt Diese Funktionen werden auch in den Speicher 1121 geschrieben.
Die X-Achsen-Koordinate X4 wird durch eine Speicheradresse 1106 adressiert, und die X-Achsen-Koordinate
XB wird durch eine Speicheradresse 1107 adressiert wenn sie aus dem Speicher 1121 auszulesen sind. Die
Differenz ΔΧ zwischen diesen Koordinaten wird durch einen Addierer/Subtrahierer 1123 berechnet Die Differenz
JX wird in einem Zwischenspeicher 1105 über den Multiplexer 1120 gespeichert und dann im Platz ΔΧ im
Speicher 1121 aufgezeichnet. Die Y-Achsen-Koordinate YA wird durch eine Speicheradresse 1106 adressiert
und die K-Achsen-Koordinate YB wird durch eine Speicheradresse 1107 adressiert wenn sie aus dem Speicher
1121 auszulesen sind. Die Differenz ΔΥ zwischen diesen Koordinaten wird durch den Addierer/Subtrahierer
1123 berechnet. Die Differenz //V wird im Zwischenspeicher 1105 gespeichert und dann im Platz für .iKim
Speicher 1121 aufgezeichnet. Die Differenz//Kund der Wert cos λ werden durch die Speicheradressen 1106 und
1107 adressiert und aus dem Speicher 1121 ausgelesen. Das Produkt AY- cos λ wird in einem Multiplizierer
1124 berechnet und an einem vorbestimmten Platz (W \) im Speicher 1121 aufgezeichnet. Auf ähnliche Weise
wird das Produkt AX ■ sin λ berechnet und an einem vorbestimmten Platz (W2) aufgezeichnet. Die Plätze W1
und W 2 werden durch die Speicheradressen 1106 und 1107 adressiert, so daß deren Inhalte gelesen und
voneinander im Addierer/Subtrahierer 1123 subtrahiert werden. Die Differenz hiervon wird am Platz Wl
gespeichert. Der Platz IVl wird wieder durch die Speicheradressen 1106 und 1107 adressiert, so daß die Inhalte
dar ui gelesen und miteinander multipliziert werden, und das Produkt hiervon wird am Platz W1 gespeichert. Die
Werte AX und cos α werden durch die Speicheradressen 1106 und 1107 adressiert, und das Produkt AX ■ cos λ ίο
wird im Multiplierer 1124 berechnet und am Platz W gespeichert. Die Werte AY und sin χ werden durch die
Speicheradressen 1106 und 1107 adressiert, und das Produkt AY ■ sin λ wird im Multiplizierer 1124 berechnet
und an einem vorbestimmten Platz (W3) gespeichert. Die Plätze W2 und W3 werden durch die Speicheradressen 1106 und 1107 adressiert, und die Summe der Inhalte an diesen Plätzen wird im Addierer/Subtrahierer 1123
berechnet und am Platz W2 gespeichert. Der Platz IVI und der Platz für cos θ werden durch die Speicheradressen 1106 und 1107 adressiert, und der Inhalt am Platz Wl wird durch cos θ\η einem Dividierer 1125 dividiert,
und der so erhaltene Quotient wird am Platz W2 gespeichert. Der Platz W2 wird durch die Speicheradresse
1107 adressiert, und der Inhalt wird mit sich selbst (quadrieren) im Multiplizierer 1124 multipliziert, und das so
erhaltene Produkt (Quadrat) wird am Platz W2 gespeichert. Die Plätze Wl und W2 werden durch die
Speicheradressen 1106 und 1107 adressiert, und die Summe der Inhalte an diesen Plätzen wird im Addierer/Subtrahierer 1123 berechnet und am Platz Wl gespeichert. Der Platz Wl wird durch die Adresse 1106 adressiert,
und die Wurzel des Inhaltes an diesem Platz wird in einem Wurzclziehcr 1126 berechnet und am Platz Wl
gespeichert. Die Plätze W1 und der Platz für den Vergrößerungsfaktor werden durch die Speicheradressen 1106
und 1107 adressiert, und das Produkt der Inhalte an diesen Plätzen wird im Multiplizierer 1124 berechnet und am
Platz Wl gespeichert. Der Platz Wl wird durch die Speicheradresse 1106 adressiert, und der Inhalt an diesem
Platz wird an einen Umsetzer 1122 abgegeben, wo er in eine Dezimalzahl umgesetzt wird, die mit einem
Sichtgerät 1127 angezeigt wird.
Folglich ist die auf dem Bildschirm des Sichtgeräts 1127 angezeigte Zahl gleich der Gleichung (4) multipliziert
mit dem Vergrößerungsfaktor, d. h, dem genauen tatsächlichen Abstand zwischen den beiden Punkten auf dem
Objekt 4, der der ersten Zeichenstelle A und der zweiten Zeichenstelle B entspricht. Tatsächlich ist diese Zahl mit
dem Neigungswinkel # und dem Drehwinkel a des Objektes 4 korrigiert.
Selbst wenn das Objekt 4 um einen bestimmten Winkel geneigt und um einen bestimmten Betrag gedehnt ist,
kann entsprechend dem Ausführungsbeispiel von F i g. 7 der tatsächliche Abstand zwischen den beiden Objektpunkten, der den Zeichenstellungen der auf der Elektronenstrahlröhre 13 angezeigten Zeichen entspricht, genau
aufgrund der Koordinaten der Zeichen bestimmt werden, die auf dem Bildschirm der Elektronenstrahlröhre 13
angezeigt sind, und dieser Abstand kann ohne Ändern des Einfallswinkels des Elektronenstrahles auf das Objekt
in schneller und wiederholter Weise ermittelt werden. Entsprechend ist das Beispiel von F i g. 7 für die ein
Rastereiektrorierimikroskop, das keine Stereodarsieilung eines Objekies erzeugt, ohne Änderung der mikroskopröhre geeignet
In F i g. 7 können die Winkel θ und « und die Vergrößerungsfaktcren automatisch durch den Objektantrieb 6
und den Vergrößerungseinsteller 8 (vgl. Fig. 1) erzeugt werden oder nicht. Weiterhin kann das Ergebnis der
Berechnung durch das Beispiel der F i g. 7 von einem Mikrocomputer erhalten werden.
45
Claims (1)
- Patentansprüche:1. Rasterelektronenmikroskop zum Erzeugen eines Objektbildes und zum Messen des gegenseitigen Abstandes mindestens zweier Objektpunkte mit einem Elektronenstrahlerzeuger, mit einem Abtastsystem5 zum zweidimensionalen Abtasten des Objekts mit dem Elektronenstrahl, mit einem Detektor zum Erfassen eines vom Objekt kommenden, durch den Elektronenstrahl erzeugten Informationssignals, mit einem Sichtgerät zum Sichtbarmachen eines Bildes des Objekts aufgrund des Informafonssignals, mit einem Zeichengenerator, der Zeichen erzeugt und den Bildern der zur Abstandsmessung ausgewählten Objektpunkte auf dem Bildschirm des Sichtgeräts überlagert, mit einem Objektantrieb zum Neigen des Objekts bezüglich des>o Elektronenstrahls und zum anschließenden Halten des geneigten Objekts und mit einem Rechner zum Berechnen des Abstandes zwischen den Objektpunkten unter Verwendung der Koordinaten der Zeichen auf dem Bildschirm des Sichtgeräts und der Objektneigung, dadurch gekennzeichnet,
daß das Rasterelektronenmikroskop zum Erzeugen nichtstereoskoper Bilder ausgebildet ist und
daß jeweils zur Messung des Abstandes zwischen zwei Objektpunkten (A, D) der Objektantrieb (5, 6) das15 Objekt (4) nur um einen einzigen, beliebig großen Winkel (ö) neigt und in der geneigten Stellung festhält und der Rechner (14 in F i g. 1; F i g. 7) den Abstand zwischen den beiden Objektpunkten (A, D) aus dem einzigen Neigungswinkel (ö) und den Koordinaten der Zeichen auf dem Bildschirm des Sichtgeräts (13; 1127) berechnet, die den Bildern der beiden Objektpunkte (A, D) bei um diesen Neigungswinkel (β) geneigten Objekt (4) überlagert sind.20 Z Rasterelektronenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet daß jeweils zur Messung desAbstandpszwischen zwei Objektpunkten (A, ^zusätzlich ein Drehantrieb (5,6) zum Drehen des Objekts (4) um einen beliebigen Azimutwinkel (λ) bezüglich des Elektronenstrahls und zum Halten des Objekts (4) in der gedrehten Stellung vorgesehen ist und der Rechner (14 in F i g. 1; F i g. 7) bei der Berechnung des Abstandes der Objektpunkte (A, D) zusätzlich den Azimutwinkel (a) berücksichtigt.25 3. Rasterelektronenmikroskop nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch einen Vergrößerungseinsteller (8) für das Objektbild, dessen Ausgang (bei 1103 in F i g. 7) an den Rechner (14) angeschlossen ist
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