DE2803331A1 - Anlage zum teilweisen behandeln von langgestreckten werkstuecken durch stromstarke glimmentladung - Google Patents
Anlage zum teilweisen behandeln von langgestreckten werkstuecken durch stromstarke glimmentladungInfo
- Publication number
- DE2803331A1 DE2803331A1 DE19782803331 DE2803331A DE2803331A1 DE 2803331 A1 DE2803331 A1 DE 2803331A1 DE 19782803331 DE19782803331 DE 19782803331 DE 2803331 A DE2803331 A DE 2803331A DE 2803331 A1 DE2803331 A1 DE 2803331A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- recipient
- workpiece
- container
- inner electrode
- treated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32018—Glow discharge
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/34—Methods of heating
- C21D1/38—Heating by cathodic discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/36—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases using ionised gases, e.g. ionitriding
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S422/00—Chemical apparatus and process disinfecting, deodorizing, preserving, or sterilizing
- Y10S422/907—Corona or glow discharge means
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Furnace Details (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Discharge Heating (AREA)
Description
Klöckner Ionon GmbH, Mainzer Straße 71, 5 Köln 1
2/
Anlage zum teilweisen Behandeln von langgestreckten Werkstücken durch stromstarke Glimmentladung
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anlage zum teilweisen Behandeln von langgestreckten Werkstücken durch stromstarke
Glimmentladung mit einem Rezipienten und einer Gleichstromquelle, die mit dem Werkstück und dem Rezipienten
verbindbar ist.
Bei der Behandlung von Werkstücken durch stromstarke Glimmentladung
etwa zum Nitrieren, !Carbonitrieren, Karburieren, Metallisieren, Glühen oder dgl- werden Werkstücke in einem
Rezipienten angeordnet, der evakuiert wird, wonach die Werkstücke indirekt durch Fremdbeheizung oder direkt durch
Glimmentladung auf die Behandlungstemperatur gebracht und dann eine vorbestimmte Zeit, gegebenenfalls unter Verwendung
eines Behandlungsgases, das den Rezipienten durchströmt, behandelt. Wenn bestimmte Bereiche etwa eines zu nitrierenden
Werkstückes weich bleiben sollen, werden diese Bereiche durch ein Blech oder dgl. abgedeckt oder mittels einer
Kupferpaste bestrichen, so daß an diesen Stellen keine Nitrierhärtung stattfindet. Wenn man jedoch langgestreckte
Werkstücke nur teilweise behandeln will, beispielsweise nur das Gewinde von Rohren eines Bohrgestänges, würde das Einbringen
des gesamten Rohres in eine entsprechend großen Rezipienten sowie das Anbringen eines Schutzes für die
nicht zu behandelnden Bereiche dieses Werkstückes zu einem unverhältnismäßig hohen Energieverbrauch führen, da das gesamte
Werkstück auf Behandlungstemperatur gebracht wird,
909831/0084
Klöckner Ionon
während nur ein geringer Teil zu behandeln ist. Ferner ergäbe sich ein relativ großer Arbeitsaufwand hinsichtlich des Anbringens
des Schutzes und zudem würde man einen sehr großen Rezipienten mit entsprechend leistungsstarker Stromversorgung
und entsprechend ausgelegten Vakuumpumpen benötigen. Aufgrund des großen Volumens des Rezipienten wäre auch der Gasverbrauch
entsprechend groß und ferner würde eine kräftige Aufhängung für das Werkstück benötigt.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Anlage der eingangs genannten Art zu schaffen, die es ermöglicht, langgestreckte
Werkstücke in Teilbereichen mit minimalem Aufwand zu behandeln.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß die Wandung des Rezepienten
wenigstens eine Durchtrittsöffnung für das Werkstück
aufweist, während innerhalb des Rezipienten ein metallischer Behälter angeordnet ist, der zusammen mit dem
Rezipienten und dem Werkstück geerdet und in den der zu behandelnde Teil des Werkstücks einführbar ist, wobei sich innerhalb
des Behälters eine Innenelektrode befindet, die mit dem anderen Pol der Gleichstromquelle verbindbar ist.
Bei dieser Anlage kann das Werkstück mit seinem zu behandelnden Teil innerhalb des metallischen Behälters angeordnet werden,
wobei zur Behandlung des zu behandelnden Teils des Werkstücks dieser sowie das Innere des Behälters beglimmt wird.
Das aus dem Rezipienten herausragende Werkstück liegt ebenso wie der Rezipient auf Erdpotential, so daß hierdurch keine Gefährdung
des Bedienungspersonals hervorgerufen werden kann und ferner keine Sicherheitsvorkehrungen etwa in Form von Schutzabdeckungen
vorgesehen werden müssen.
Bei Bohrgestängen wurde festgestellt, daß ein Härten der Gewinde der einzelnen Bohrstangen vorteilhaft ist, um ein
909831/0084
Klöckner Ionon GmbH - Y - Akte 1837
Festfressen dieser Gewinde zu verhindern, so daß sich beim Ziehen des Bohrgestänges ein besseres Lösen der Bohrstangen
voneinander und damit ein erheblich verringerter Zeitaufwand ergibt, jedoch müssen zu diesem Zweck die Gewinde
der Bohrstangen jeweils neu gehärtet werden. Mit der erfindungsgemäßen Anlage wird dies am Ort der Bohrung möglich.
Insbesondere benötigt man hierzu nur einen sehr kleinen Rezipienten mit entsprechend kleinen Strom-, Gasversorgungsund
Vakuumpumpanlagen, so daß eine derartige Anlage sogar auf Bohrinseln oder dgl. verwendet werden kann, wo sehr
beengte Verhältnisse herrschen. Gerade hierbei ist es auch wichtig, daß das aus dem Rezipxenten herausragende Rohr auf
Erdpotential liegt und somit keine Gefahrenquelle darstellt.
Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind den unteransprüchen
zu- entnehmen.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand der in den beigefügten Abbildungen dargestellten Ausführungsbeispiele näher
erläutert.
Fig. 1 zeigt schematisch eine erfindungsgemäße Anlage zum Behandeln des Endteiles eines langgestreckten
Werkstücks.
Fig. 2 zeigt schematisch eine erfindungsgemäße Anlage zum Behandeln eines Mittelteils eines langgestreckten
Werkstückes.
Fig. 3 zeigt ausschnittweise im Schnitt eine Ausführungsform für einen Rezipxenten für die Anlage von
Fig. 1.
Die in Fig. 1 dargestellte Anlage besteht aus einem Rezipxenten 1, einer Gleichstromquelle 2, einer nicht dargestellten
Einrichtung zum Evakuieren des Rezipxenten 1 sowie
909831/0084
Klöckner Ionon GmbH - /K - Akte 1837 2803331
S"
gegebenenfalls einer an den Rezipienten angeschlossenen Gaszuführeinrichtung
zum Liefern des zur Behandlung der Werkstücke notwendigen Behandlungsgases, die ebenfalls nicht
dargestellt ist. Innerhalb des Rezipienten ist ein metallischer Behälter 3 angeordnet, der auf dem gleichen Potential
wie der Rezipient 1 liegt, nämlich auf Erdpotential. Innerhalb des Behälters 3 befindet sich eine Innenelektrode 4,
die mit dem anderen Pol der Gleichstromquelle 2 verbunden ist, wobei eine Zuführung 5 für die Innenelektrode 4 vorgesehen
ist, die sich durch die Wandung des Behälters 3 und
des Rezipienten 1 erstreckt und gegenüber diesem mittels einer Isoliereinrichtung 6 isoliert ist. In dem Ausführungsbeispiel von Fig. 1 ist die Innenelektrode 4 in Form eines
zylindrischen Topfes 7 innerhalb des Behälters 3 ausgebildet. Ein zu behandelndes Werkstück 8, das ebenfalls auf Erdpotential
liegt, ist durch die Wandung des Rezipienten Λ in den Behälter 3 hineingeführt, so daß der Topf 7 der Innenelektrode
4 den zu behandelnden Teil des Werkstücks 8 wenigstens teilweise mit Abstand umgibt. An der öffnung,
durch die das Werkstück 8 in den Rezipienten 1 eingeführt ist, ist eine Vakuumdichtung 9 vorgesehen.
Falls es sich bei dem zu behandelnden Werkstück 8 um ein Rohr handelt, ist dessen Innenbohrung ebenfalls mit einer
Vakuumdichtung zu versehen, um das Eindringen von Luft in den Rezipienten 1 zu verhindern.
Das zur Behandlung des Werkstücks 8 notwendige Behandlungsgas kann beispielsweise durch die Zuführung 5 für die Innenelektrode 4 vorgenommen werden, wobei dann die Zuführung 5
rohrförmig ausgebildet und an die Gaszuführungseinrichtung angeschlossen sein muß. Die Gasabfuhr aus dem Rezipienten 1
kann außerhalb und/oder innerhalb des Behälters 3 vorgenommen werden, der Behälter 3 braucht nicht gegenüber dem umgebenden
Rezipienten 1 abgedichtet su sein, vielmehr kann er auch Öffnungen
zum Durchtritt von Gas aufweisen. Der Behälter 3 kann bei-
909831/00S4
Klöckrer Ionon GmbH
- Akte 1837
spielsweise aus einem Drahtnetz mit engen Maschen oder aus einem gelochten Blech,aber auch aus einem Zylinder oder
dergleichen bestehen.
Das Aufheizen kann direkt oder indirekt vorgenommen werden, d.h. durch Beglimmen des zu behandelnden Teils des Werkstücks
8 (direkte Beheizung)oder durch Beglimmen der Innenelektrode 4-, deren Värmeabstrahlung zum Aufheizen des
zu behandelnden Teils des Werkstücks 8 führt (indirekte Aufheizung). Letzteres hat den Vorteil, daß Verschmutzungen
der Oberfläche des zu behandelnden Werkstücks 8 während des Aufheizens nicht zum Auftreten von Entladungsstörungen wie
Lichtbogen führen können, so daß ein störungsfreierer und gleichmäßigerer Anfahrvorgang gewährleistet wird. Zum Zweck
der indirekten Aufheizung ist die Innenelektrode 4 mit dem negativen Pol der Gleichstromquelle 2 zu verbinden, während
der Rezipient 1, das Werkstück 8 und der Behälter 3 mit dem
positiven Pol der Gleichstromquelle 2 verbunden und gleichzeitig auf Erdpotential gelegt werden. Hierdurch wird vermieden,
daß der aus dem Rezipienten 1 herausragende Teil des langgestreckten Werkstücks 8 auf Spannung liegt. Beim
Beginn der eigentlichen Behandlung (Fig. i),bei der der zu behandelnde Teil des Werkstücks 8 beglimmt werden muß, muß
dann umgepolt werden, wobei die Innenelektrode 4- mit dem positiven
Pol der Gleichstromquelle 2 verbunden wird, während der Rezipient 1, der Behälter 3 und das Werkstück 8 mit dem negativen
Pol der Gleichstromquelle 2 verbunden werden,jedoch geerdet bleiben.
Gemäß Fig. 2 soll ein mittlerer Teil eines langgestreckten Werkstücks 8 durch Glimmentladung behandelt werden, wobei
sich dieser mittlere zu behandelnde Teil des Werkstücks 8 innerhalb einer zylindrischen Inneneiektrode 4 befindet.
Auch hier kann das Aufheizen direkt oder indirekt vorgenommen
werden.
Gemäß Fig. 3 is£ durch eine öffnung in der Wandung des Rezipienten
1 eine Zuführung 5 geführt, die rohrförmig ausgebildet
ist und mittels einer Schraube 10 verspannt ist.
909831/0084
Glöckner Ionon GmbH
Die Zuführung 5 ist von einem Keramikrohr 11 umgeben, das
sich in einer Metallhülse 12 befindet, die sich über eine Scheibe 13 gegenüber der Wandung des Rezipienten 1 und über
einen flanschformigen Ansatz 14 gegenüber dem Behälter 3 abstützt.
Die Verspannung erfolgt durch die Schraube 10 mit Hilfe eines Ansatzes 15 der Durchführung 5· Aufgrund des
Keramikrohres 11 ist der Behälter 3 gegenüber der Zuführung 5 isoliert, jedoch mit der Wandung des Rezipienten 1 über
die Hülse 12 und die Scheibe 13 verbunden. Dichtungen 16 sorgen für eine vakuumdichte Durchführung der Zuführung 5·
Zwischen der Innenseite des Behälters 3 benachbart dem Keramikrohr 11 und der Außenwandung der Innenelektrode 4 befindet
sich ein Spaltsystem 17 aus durch Glimmerscheiben 18 voneinander getrennten Teilen 19, die auf schwimmendem Potential
liegen. Das Spaltsystem 17 verhindert, daß sich ein leitender Metallfilm zwischen der Innenelektrode 4 und
dem Behälter 3 ausbildet, der zu einem galvanischen Kurzschluß
führen würde. Der Behälter 3 besitzt ein nach innen gerichtetes Rohrstück 20, in das das zu behandelnde "Werkstück
8 eingeschoben und von diesem gehaltenverden kann, während
sich der zu behandelnde Teil des Werkstücks 8 in den Topf der Innenelektrode 4 hineinerstreckt und auf diese Weise behandelt
werden kann. Die Schraube 10, die zusammen mit einer Hülse 21 den elektrischen Kontakt zwischen der Zuführung 5
und der Innenelektrode 4 herstellt sowie die Verspannung gewährleistet,
besitzt entsprechend der rohrförmigen Zuführung 5 eine Bohrung, um den Eintritt von Behandlungsgas in den Innenraum
der Innenelektrode 4 benachbart dem zu behandelnden Teil des Werkstücks 8 zu gewährleisten.
909831/0084
Claims (5)
- Klöckner Ionon GmbH Akte 1837Ansprüchey1. Anlage zum teilweisen Behandeln von langgestreckten Werkstücken durch stromstarke Glimmentladung mit einem Rezipienten und einer Gleichstromquelle, die mit dem Werkstück und dem Rezipienten verbindbar ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Wandung des Rezipienten (1) wenigstens eine Durchtrittsöffnung für das Werkstück (8) aufweist, während innerhalb des Rezipienten (1) ein metallischer Behälter (3) angeordnet ist, der zusammen mit dem Rezipienten (1) und dem Werkstück (8) geerdet und in den der zu behandelnde Teil des Werkstücks (6) einführbar ist, wobei sich innerhalb des Behälters (3) eine Innenelektrode (4-) befindet, die mit dem anderen Pol der Gleichstromquelle (2) verbindbar ist.
- 2. Anlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Polarität von Werkstück (8), Rezipient (1) und Behälter (3) einerseits und der Innenelektrode (4) andererseits umschaltbar ist, wobei Werkstück (8), Rezipient (1) und Behälter (3) geerdet bleiben.
- 3· Anlage nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Behälter (3) öffnungen für den Durchtritt von Gas aufweist.
- 4. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 3i dadurch gekennzeichnet, daß die Innenelektrode (4) einen Zylinder (7) aufweist, der den zu behandelnden Teil des Werkstücks (8) wenigstens teilweise mit Abstand umgibt.
- 5. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet , daß die Stromzuführung (5) für die Innenelektrode (4) rohrförmig und an die Zufuhr für das Behandl-ungsgas angeschlossen ist.909831/008*ORIGINAL IiMSPECTED
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2803331A DE2803331C3 (de) | 1978-01-26 | 1978-01-26 | Anlage zum teilweisen Behandeln von langgestreckten Werkstücken durch stromstarke Glimmentladung |
CH1153878A CH634604A5 (de) | 1978-01-26 | 1978-11-09 | Anlage zum teilweisen behandeln von langgestreckten werkstuecken durch stromstarke glimmentladung. |
JP14491278A JPS5514884A (en) | 1978-01-26 | 1978-11-22 | Apparatus for partial treating of long size structure by heavy current glow discharge |
US06/004,837 US4221972A (en) | 1978-01-26 | 1979-01-19 | Apparatus for the partial treatment of elongated articles by current intensive glow discharge |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2803331A DE2803331C3 (de) | 1978-01-26 | 1978-01-26 | Anlage zum teilweisen Behandeln von langgestreckten Werkstücken durch stromstarke Glimmentladung |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2803331A1 true DE2803331A1 (de) | 1979-08-02 |
DE2803331B2 DE2803331B2 (de) | 1980-10-09 |
DE2803331C3 DE2803331C3 (de) | 1981-09-03 |
Family
ID=6030428
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2803331A Expired DE2803331C3 (de) | 1978-01-26 | 1978-01-26 | Anlage zum teilweisen Behandeln von langgestreckten Werkstücken durch stromstarke Glimmentladung |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4221972A (de) |
JP (1) | JPS5514884A (de) |
CH (1) | CH634604A5 (de) |
DE (1) | DE2803331C3 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0043789A2 (de) * | 1980-07-08 | 1982-01-13 | Europäische Atomgemeinschaft (Euratom) | Verfahren zur entladungschemischen Behandlung empfindlicher Werkstücke durch Einsatz der Glimmentladung |
EP0872569A1 (de) * | 1997-04-18 | 1998-10-21 | Plasma Metal S.A. | Verfahren und Ofen zum Nitrieren |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4484809B1 (en) * | 1977-12-05 | 1995-04-18 | Plasma Physics Corp | Glow discharge method and apparatus and photoreceptor devices made therewith |
DE3101351C2 (de) * | 1981-01-17 | 1982-10-14 | Klöckner Ionon GmbH, 5090 Leverkusen | Vorrichtung zum Härten von metallischen Werkstücken mit einer evakuierbaren Kammer |
US4878570A (en) * | 1988-01-25 | 1989-11-07 | Dana Corporation | Surface hardened sprags and rollers |
US5171369A (en) * | 1988-08-18 | 1992-12-15 | Jan Elwart | Device for glow potential processing, in particular ionic carburation |
US5039357A (en) * | 1990-06-15 | 1991-08-13 | Dynamic Metal Treating, Inc. | Method for nitriding and nitrocarburizing rifle barrels in a fluidized bed furnace |
US5300266A (en) * | 1992-05-27 | 1994-04-05 | Scientific Products Corporation | Electrical apparatus and method for generating antibiotic |
DE19807742A1 (de) * | 1998-02-24 | 1999-10-21 | Ruediger Haaga Gmbh | Vorrichtung zum Sterilisieren eines Behälters mittels eines Niederdruck-Plasmas |
US7638727B2 (en) * | 2002-05-08 | 2009-12-29 | Btu International Inc. | Plasma-assisted heat treatment |
DE102013203648A1 (de) * | 2013-03-04 | 2014-09-04 | INP Greifswald Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e. V. | Verfahren und vorrichtung zur plasmabehandlung von hohlkörpern |
JP6354149B2 (ja) * | 2013-12-18 | 2018-07-11 | 株式会社Ihi | プラズマ窒化装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3308049A (en) * | 1963-03-06 | 1967-03-07 | Gen Electric | Glow discharge apparatus for treating workpieces |
US3654108A (en) * | 1969-09-23 | 1972-04-04 | Air Reduction | Method for glow cleaning |
CH519588A (de) * | 1970-02-13 | 1972-02-29 | Berghaus Elektrophysik Anst | Verfahren zur Bearbeitung eines Werkstückes mittels einer Glimmentladung und Apparatur zur Durchführung des Verfahrens |
CH551496A (de) * | 1970-09-21 | 1974-07-15 | Berghaus Bernhard Elektrophysi | Verfahren zur verfestigung der oberflaeche von werkstuecken aus eisen und stahl. |
-
1978
- 1978-01-26 DE DE2803331A patent/DE2803331C3/de not_active Expired
- 1978-11-09 CH CH1153878A patent/CH634604A5/de not_active IP Right Cessation
- 1978-11-22 JP JP14491278A patent/JPS5514884A/ja active Pending
-
1979
- 1979-01-19 US US06/004,837 patent/US4221972A/en not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
NICHTS ERMITTELT * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0043789A2 (de) * | 1980-07-08 | 1982-01-13 | Europäische Atomgemeinschaft (Euratom) | Verfahren zur entladungschemischen Behandlung empfindlicher Werkstücke durch Einsatz der Glimmentladung |
EP0043789A3 (de) * | 1980-07-08 | 1983-01-05 | Europäische Atomgemeinschaft (Euratom) | Verfahren zur entladungschemischen Behandlung empfindlicher Werkstücke durch Einsatz der Glimmentladung |
EP0872569A1 (de) * | 1997-04-18 | 1998-10-21 | Plasma Metal S.A. | Verfahren und Ofen zum Nitrieren |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CH634604A5 (de) | 1983-02-15 |
DE2803331B2 (de) | 1980-10-09 |
DE2803331C3 (de) | 1981-09-03 |
US4221972A (en) | 1980-09-09 |
JPS5514884A (en) | 1980-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3234100C2 (de) | Plasmalichtbogeneinrichtung zum Auftragen von Überzügen | |
DE2803331C3 (de) | Anlage zum teilweisen Behandeln von langgestreckten Werkstücken durch stromstarke Glimmentladung | |
DE2601288A1 (de) | Gasaetzvorrichtung, insbesondere zur herstellung von halbleitervorrichtungen | |
DE1440263A1 (de) | Vorrichtung zum Herstellen von Bohrungen geringen Durchmessers mittels Elektroerosion | |
DE1192335B (de) | Plasma-Vorrichtung der Bauart >>Stellarator<< | |
DE2437774A1 (de) | Verfahren zum abschliessen eines entladungsgefaesses und entladungslampe mit einem solchen entladungsgefaess | |
DE3226713A1 (de) | Als flachspule ausgebildete induktionsheizspule zum tiegelfreien zonenschmelzen | |
DE809223C (de) | Elektrische Entladungsroehre mit kuenstlich gekuehlter Anode | |
DE1179309B (de) | Hochfrequenz-Ionenquelle | |
DE1764684A1 (de) | Kaltkathoden-Entladevorrichtung | |
DE69101352T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Funkenerasionsbehandlung von Hartmetallgegenständen. | |
DE1907920A1 (de) | Vorrichtung zum Gluehen von Rohren | |
DE1240199B (de) | Entladungsvorrichtung zum Erzeugen einer energiereichen Bogenentladung | |
DE1928617C3 (de) | Vorrichtung zur Durchführung chemischer Reaktionen mittels elektrischer Entladungen in einem in einer Überschallströmung ionisierten Gasstrom | |
DE2044276A1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Vakuumkondensators | |
DE895634C (de) | Anodenrohr fuer Hochspannungsstromrichter | |
DE1946123A1 (de) | Gaslaser | |
DE1764536B2 (de) | Hochfrequenz-Plasmagenerator | |
DE4306896C2 (de) | Heizrohr für einen Industrieofen und Verwendung des Heizrohres in einem Industrieofen | |
DE4206851A1 (de) | Heizrohr fuer einen industrieofen, industrieofen und verfahren zur beheizung des ofens | |
AT221672B (de) | Verfahren zum Betrieb einer elektrischen Glimmentladung und Entladungsgefäß hiefür | |
DE1232433B (de) | Verfahren zum Betrieb einer elektrischen Glimmentladung und Entladungsgefaess hierfuer | |
DE923613C (de) | Einrichtung zur Verstaerkung oder Erzeugung elektrischer Schwingungen | |
DE918647C (de) | Gasentladungsgefaess mit Steuergitter | |
DE961274C (de) | Elektrische Entladungslampen mit Gas- und/oder Metalldampffuellung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OD | Request for examination | ||
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |