DE2801720A1 - Dickschicht-widerstandsthermometer und verfahren zu seiner herstellung - Google Patents
Dickschicht-widerstandsthermometer und verfahren zu seiner herstellungInfo
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Description
PATENTANWÄLTE A. GRÜNECKER
% 8 Ü 1 7 2 O H. KlNKELDEY
W. STOCKMAIR
DRING Aet CALIfCH
K. SCHUMANN
OK R6H **AT OPU-PHYS
P. H. JAKOB
D. PL- ffJCi
G. BEZOLD
DR flERNÄT DiPL CHÖA
8 MÜNCHEN
MAXIMILIANSTRASSE
16. Jan. 1978 P 12 281
ENGELHARD MINERALS & CHEMICALS CORPORATION 70 Wood Avenue South, Metro Park Plaza
Iselin, New Jersey 08830, USA
Dickschicht-Widerstandsthermometer und Verfahren zu seiner Herstellung
Die Erfindung betrifft einen Metallfilm, dessen elektrischer Widerstand sich mit der Temperatur gleichmäßig
ändert, sowie ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Films; sie betrifft insbesondere Widerstandsthermometer,
die aus hochreinem Platin hergestellt werden, das zweckmäßig in einer bestimmten Konfiguration
oder in Form eines bestimmten Musters auf ein Keramiksubstrat aufgebracht wird.
Widerstandsthermometer, wie z.B. solche, die aus einem massiven Draht hergestellt sind, messen die Temperatur
durch Messung des Widerstandes des metallischen Elements. D.h.,. der Widerstand des Metalls hängt von der
Temperatur ab und deshalb stellt die Messung des Widerstandes ein Maß für die Umgebungstemperatur dar.
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TELEFON (OSB) 33SSOS TELEX OB-SO 3SO TELEGRAMME MONAPAT TELEKOPIERER
Auf dem Gebiet der Mikroelektronik für die Herstellung von elektrischen Leitern und elektrischen Widerständen
(Widerstandskörpern)wird die Dickschicht-Technologie angewendet. In der Regel werden ein oder mehrere Edelmetalle
wie Platin, Gold oder Silber, mit einem Substrat verbunden, im allgemeinen mit einem glasartigen
Material. Bei einer dicken Schicht (Film) handelt es sich im Unterschied zu einer dünnen Schicht (Film)
im allgemeinen um eine Metallschicht, deren Dicke innerhalb des Bereiches von etwa 0,005 mm bis etwa
0,030 mm liegt,und in der Regel bezieht man sich dabei auf eine Paste oder eine Druckerfarbe, die durch
Siebdruck aufgebracht wird bei der Herstellung der elektrischen Schaltung (des Schaltkreises). Eine dünne
Schicht (Film) wird im allgemeinen durch Vakuumprozesse aufgebracht und die Dicke der Metallschicht wird im
allgemeinen in Angström ausgedrückt und sie kann innerhalb des Bereiches von bis zu etwa 10.000 A (0,001 mm)
liegen.
Die Dickschicht-Technologie für die Herstellung von Thermoelementen ist in der US-Patentschrift 3099575
beschrieben. Nach den Angaben dieser Patentschrift werden ein oder mehrere Edelmetalle in einem organischen
Träger suspendiert und die dabei erhaltene" Paste wird auf ein Substrat, wie z.B. geschmolzenen
Quarz,aufgedruckt. Der Film wird dann gebrannt, wodurch das Metall mit dem Substrat verbunden wird unter Bildung
eines Dickschicht-Thermoelements. In der US-Patentschrift 3781749 ist insbesondere ein Dickschicht
-Me tall schicht -Auf bau für ein Widerstandsthermometer angegeben. Hier ist das Edelmetall mittels
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eines glasartigen Materials entlang einer elektrisch leitenden gewundenen Bahn mit dem Substrat verbunden.
Eine wichtige Eigenschaft für ein kommerziell brauchbares Widerstandsthermometer ist die, daß es einen
hohen Widerstands-Temperaturkoeffizienten (TCR) aufweist, der in der Regel in Teilen pro Million
Teilen pro Grad Celsius (ppm/ C) gemessen wird. So beträgt beispielsweise ein Standardwert in der Industrie
für Platindraht-Widerstandsthermometer 3850 ppm/°C (z.B. 0,003850 ). Bei einem typi-
' Unm · u
sehen Thermometer mit einem Gesamtwiderstand von
100 Ohm an dem Eispunkt (O C) nimmt der Widerstand durchschnittlich 0,385 0hm/ C Temperatursteigerung
innerhalb eines Bereiches von 0 - 100 C zu. Ein hoher TCR ist insofern vorteilhaft, als die Änderung
des Widerstandes pro Grad Celsius umso größer ist, je höher der TCR ist, wodurch die Instrumentierung
vereinfacht und die Kosten für die Vorrichtung gesenkt
werden. Reines Platin hat einen TCR von 3928+· ppm/ C und dieser Wert wird etwa erreicht
durch Labor-Thermometer, die einen TCR-Wert von 3927+ ppm/ C haben können. Für die großtechnische
Verwendung sind bereits zahlreiche Standards vorgeschlagen und verwendet worden. Der TCR-Wert von
3850 ppm/ C wird in Europa in großem Umfang angewendet und es ist anzunehmen, daß er auch in den
USA allgemein gebräuchlich wird. Es war bisher schwierig, einen TCR von 3850 ppm/°C mit dicken
Filmen (dicken Schichten) zu erzielen, wie in der US-Patentschrift 3781749 angegeben.
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Ein Ziel der vorliegenden Erfindung besteht darin, einen TCR von 3850 ppm/°G oder höher zu erzielen
unter Anwedung von Dickschicht-Verfahren.
Der TCR eines brauchbaren Thermometers muß stabil sein, wobei die Stabilität definiert ist als die
Fähigkeit, seine angegebenenWiderstands-Temperatur-Eigenschaften
über lange Zeiträume hinweg aufrecht zu erhalten, während es innerhalb seiner speziellen
Temperaturgrenzen betrieben wird.
Ein weiteres Ziel der Erfindung besteht darin, ein Widerstandsthermometer anzugeben, das eine gute
Stabilität aufweist, einen geeigneten Aufbau hat, der K seine gemeinsame Verwendung mit verschiedenen
Widerstandsthermometern, im allgemeinen zylindrischen Einheiten^wie sie derzeit im Gebrauch sind,
erlaubt·
Erfindungsgemäß wird eine dicke Filmpaste hergestellt,
die enthält oder besteht aus einer Dispersion oder Suspension von Platinpulver mit einer Reinheit von
99,9% und einem glasartigen Material,wie einer Glasfr
itte, in einem organischen Medium oder Träger. Die hohe Reinheit des Platins ist wichtig, wenn ein
hoher TCR erzielt werden soll. Während des Durchknetens (Mahlens) der Paste und des Brennens des
Films muß daher eine Platinverunreinigung vermieden werden. Das Platinpulver kann in kugelförmiger oder
flockiger Form vorliegen, und es sollte einen Durchmesser von etwa 10 Mikron oder weniger, vorzugsweise
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/10
einen durchschnittlichen Durchmesser von 2 Mikron oder weniger in der fertigen Paste, bestimmt mittels
eines Coulter-Counters haben, wie er in der Industrie in großem Umfang verwendet wird. Es ist wichtig, daß
die Platinteilchen in der Paste nicht agglomeriert sind und daß die Teilchen im wesentlichen eine einheitliche
Größe haben, um scharfbegrenzte Ränder
in dem auf dem Substrat abgeschiedenen Muster zu erzielen. Da das Brennen des Films bei einer verhältnismäßig
hohen Temperatur durchgeführt wird, wie nachfolgend noch näher erläutert wird, ist ein
kugelförmiges Platin-Pulver gut geeignet, gewünschtenfalls können aber auch Platinflocken verwendet
werden.
Das Platinpulver hat eine verhältnismäßig hohe Schutt -Dichte, bestimmt nach dem modifizierten
ASTM-Standardverfahren B 725-70. Es ist wichtig, daß das Metall als elektrisch leitendes Element
mit dem gebrannten Produkt ein durchgehendes (kontinuierliches) Muster bildet. Wenn die Schüttdichte
(Dichte) der Teilchen zu gering ist, entsteht eine übermäßige Schrumpfung beim Brennen und das Metall
agglomeriert, wobei diskrete Metallinseln und Unterbrechungen in der elektrisch leitenden Bahn (Weg)
entstehen. Eine verhältnismäßig hohe Schüttdichte kann erzielt werden durch Verwendung eines sehr
feinen Pulvers, zweckmäßig eines solchen mit einer Teilchengröße von weniger als 10 Mikron im Durch-
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messer, mit einer verhältnismäßig geringen Oberflächengröße.
Die Schutt dichte sollte nicht weniger als etwa 2o% der geschmolzenen Dichte (21,45 g/cm )
betragen und sie sollte vorzugsweise oberhalb etwa 25% der geschmolzenen Dichte liegen.
Die Glasfritte, deren Teilchengröße in der Regel
innerhalb des Bereiches von etwa 1 bis 3 Mikron liegt, bewirkt die Haftung an dem Substrat. Deshalb sollte in
der Suspension genügend Glasfritte verwendet werden, um das Metall mit dem Substrat zu verbinden. Die Verwendete
Glasfrttten menge hängt großenteils von der
Breite des zu bedruckenden Film ab. Wenn die Menge zu groß ist, entstehen beim Brennen Frittenkügelchen,
wodurch die Gleichmäßigkeit des Film unterbrochen wird. Es wurde gefunden, daß Pasten, die 4-8 Gew.-%
Fritte, bezogen auf das Gewicht der Mischung aus dem Platin und der Fritte, enthalten, am besten geeignet
sind, daß die Paste aber auch mehr oder weniger als diese Menge enthalten kann, in Abhängigkeit von
bestimmten Faktoren, wie z.B. der Art der Fritte, der Form und Größe der Platinteilchen, der Art des
Substrats, der Breite des aufgedruckten Musters und der angewendeten Brenntemperatur und Brennzeit.
Es ist besonders wichtig, daß die Glasfritte im wesentlichen frei von Verunreinigungen ist, welche den TCR
und/oder die Stabilität des gebrannten Produktes nachteilig beeinflussen können. Winzige Mengen an
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Blei in der Glasfritte führen z.B. zu einer beträchtlichen
Herabsetzung des TCR. Andere Verunreinigungen, welche das gebrannte Produkt verschlechtern können,
sind z.B. Wismut, Zinn und bestimmte Alkali- oder Erdalkalimetalle. Borsilikatglas, das in der Regel
mehr als 60 Gew.-% Siliciumdioxid enthält, ist besonders
geeignet. Derartige bleifreie Glasfritten schmelzen oder sintern in der Nähe von etwa 975 bis
etwa 1050°C. Weil das Glas eine Quelle für Verunreinigungen sein kann, ist es in der Regel nicht
zweckmäßig, mehr als etwa 10 Gew.-% Fritte, bezogen auf das Gesamtgewicht der Mischung von Platin
und Fritte zu verwenden.
Das Platinpulver und die Glasfritte werden miteinander gemischt und es wird ein organischer Träger zugesetzt,
um die Viskosität der Druckerfarbe einzustellen. Die Paste wird durchgemahlen, um eine
Scherwirkung zwischen den einzelnen Teilchen zu erzielen, so daß der Träger jedes gescherte Teilchen
benetzt. Die Paste sollte die richtigen rheologischen Eigenschaften aufweisen, so daß beim Aufbringen
auf das Substrat,beispielsweise durch Siebdrucken, ein Fließen aif tritt zur Erzeugung des Musters, daß
die Paste jedoch dann steif wird, um die scharfen Mustergrenzen beizubehalten.
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Zu typischen organischen Trägern gehören z.B. Harze, wie Polystyrole,Polyterpeiiv Polymethacrylate
und Äthyl cellulose sowie Lösungsmittel, wie Butylcarbitolacetat, Äthylnaphthalin, Phenylcyclohexan,
Terpene, z.B. Kiefernöl, Alpha- und Be ta-Terpinol und dergleichen, sowie Gemische von aliphatischen
und aromatischen Kohlenwasserstoffen. Die Mengen des verwendeten Trägers werden so eingestellt,
daß man die für jeden Auftrag erforderliche Pastenkonstistenz erhält.
Die Paste wird so auf ein Keramiksubstrat oder ein schwerschmelzbares (feuerfestes) Substrat aufgedruckt,
daß eine durchgehende Bahn (Weg ) entsteht. Zur Herstellung der Substrate können zahlreiche
Materialien verwendet werden, und dazu gehören z.B. Aluminiumoxid, 96%iges Aluminiumoxid,
Aluminiumoxid-Siliziumdioxid und dergleichen, und die Art des Substrats hängt großenteils von seinen
Eigenschaften und von dem Endverwendungszweck ab. Außerdem kann das Substrat eine gekrümmte Oberfläche,
beispielsweise eine kreisförmige oder elliptische Oberfläche,haben. Das bedruckte Substrat wird dann
bei einer verhältnismäßig hohen Temperatur gebrannt, wobei diese in Abhängigkeit von der Brenndauer
variieren kann, die oberhalb des Schmelzpunktes der Glasfritte, jedoch unterhalb des Schmelzpunktes
des Platins (d.h. 17720C), in der Regel 100°C oder mehr, vorzugsweise 250 C oder mehr unterhalb des
Platinschmelzpunktes liegt. Die Brenntemperatur und die Brennzeit werden großenteils von praktischen
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- r-
Grenzen bestimmt, in der Regel wird der Aufdruck jedoch etwa eine halbe Stunde lang erhitzt, um die
maximale Brennt mperatur zu erreichen, er wird
etwa 15 Minuten lang bei diesem Wert gehalten und dann 15 Minuten lang abgekühlt. Die maximale Brenntemperatur
sollte mindestens 1450 C, vorzugsweise etwa 1500 bis etvza 1550 C,betragen. Die aufgebrannte
Bahn (Weg) kann durch eine Überglasur, in der Regel ein glasförmiges Glas, geschützt werden, die so
ausgewählt wird, daß sie bei einer Temperatur beträchtlich unter der Brenntemperatur des Films
schmilzt.
Für wiederkehrende Auftragszwecke werden in der
Regel zylindrische Substrate verwendet und die Paste kann unter Anwandung bekannter Rotationsdruck-Methoden
auf diese Zylinder aufgedruckt werden. Ein typischer Zylinder kann einen Durchmesser
von etwa 0,5 cm und eine Länge von 2,5 cm haben. Die bevorzugte Gestalt der aufgedruckten
Linien ist eine rechteckige gefaltete Bahn (Durchgang ) mifc einer großen Vielzahl von Stegen bzw.
Abschnitten (z.B. 18 Stege bzw. Abschnitte), die durch Endsegmente an alternierenden Enden miteinander
verbunden sind. Die Breite der Bahn(des Weges) beträgt etwa 1/6 mm.
Die Widerstandsbahn ist durchgehend (kontinuierlich), und sie kann etwa 1/6 mm breit sein. Die Stege
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(Abschnitte) der Bahn erstrecken sich im allgemeinen in axialer Richtung entlang der Oberfläche des
Keramikzylinders. Die Gestalt der Bahn kann als eine räumliche rechteckige Welle mit einer verhältnismäßig
großen Amplitude (etwa 1,8 cm) und·einer verhältnismäßig kleinen Periode (etwa 2/3 rnm) angesehen
werden. Im allgemeinen handelt es sich um eine gefaltete rechteckige Bahn (Weg). Die beiden
Endstege (Endabschnitte) der Bahn stellen Seitenstäbe einer Breite von etwa 1/2 mm dar. Alternativ
kann die Form der Bahn unter einem Winkel zu der Achse des Zylinders ausgebildet sein, um die genaue
Bildung des BahnwiderStandes zu erleichtern.
Die Konfiguration der auf die Oberfläche des Keramikzylinders aufgedruckten Platinbahn (-weg)
umfaßt Verlängerungen an einigen der Endsegmente und einen Kurzschlußbügel (ein Verbindungsstück)
an diesen Verlängerungen. Bei der Herstellung werden diese Verlängerungen geöffnet, jeweils
eine zu einem bestimmten Zeitpunkt, durch Sandstrahl- oder Laser-Trimmen, bis der Bahnwiderstand
auf einen Wert unmittelbar unterhalb des vorher festgelegten Wertes gebracht ist. Die Breite
der verhältnismäßig breiten Endstege wird dann zugeschnitten (getrimmt), um den Widerstandswert
der Bahn (des Weges) bis genau auf die vorher festgelegte Größe fein abzustimmen.
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Ein bevorzugter Gedanke der Erfindung liegt in einer gefalteten Dickschicht-Bahn aus hochreinem
Platin auf einem zylindrischen Keramiksubstrat mit einem hohen TCR von etwa 3850 ppm/ C. Die
Bahn (der Weg) wird durch Aufbringen einer dicken Filmpaste auf ein Substrat durch Siebdruck und anschließendes
Brennen der Paste innerhalb einer Zeitspanne und bei einer Temperatur, die ausreichen, um
die Bahn mit dem Substrat zu verbinden und einen TCR von mindestens etwa 3850 ppm/ C zu erzeugen,
aufgebracht. Die Paste besteht aus etwa 2o Gew.-% eines organischen Trägers, in den 80 Gew.-% Teilchen
eingemischt worden sind. Bei den Teilchen handelt es sich um 96 Gew.-% Platin-Teilchen
mit einer Größe von weniger als etwa 10 Mikron und 4 Gew.-% Teilchen einer von Verunreinigungen
freien glasartigen Glasfritte mit einer Teilchengröße von weniger als 10 Mikron.
Die Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert.
Dabei zeigen:
Fig. 1 eine perspektivische Ansicht einer Ausführungsform der Erfindung, die eine Platinbahn-Konfiguration
auf einem Keramikzylinder zusammen mit Eingangs- und Ausgangs-Anschlüssen zur Erzielung
eines Widerstandsthermometers erläutert;
Fig. 2 eine mehr schematische Darstellung der Bahnkonfiguration gemäß Fig. 1 in flach ausgelegter
Form; und
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Fig. 3 eine schematische Darstellung einer anderen Bahn-Konfiguration.
Es wurde gefunden, daß zur Erzielung des verhältnismäßig hohen TCR-Wertes von 3850, der erwünscht ist,
wenn die erfindungsgemäßen Dickschicht-Widerstandsthermömeter
die konventionellen Dräitwicke!-Thermometer
ersetzen sollen, es wichtig ist, ein hochreines Platinpulver, vorzugsweise ein solches mit
einer Reinheit von 99,9+% und mit einer geeigneten Teilchengröße, gemessen durch die Teilchengrößenverteilung,
BET-Oberflächengröße und Schüttdichte, zu verwenden. Ein weiterer wichtiger Aspekt der
vorliegenden Erfindung besteht darin, daß gefunden wurde, daß beim Brennen ungewöhnlich hohe Temperaturen
innerhalb des Bereiches von 1450 C und darüber erforderlich sind, um den in dem fertigen Thermometer
gewünschten hohen TCR-Wert zu entwickeln. Die Bedeutung dieser Merkmale der Erfindung geht
aus den nachfolgend beschriebenen Beispielen hervor. Diese sollen die Erfindung näher erläutern, ohne sie
jedoch darauf zu beschränken.
Es wurde gefunden, daß ein Glaspulver geeignet ist zur Herstellung eines Dickschicht-Widerstandthermometers
mit einem hohen TCR, das eine Oberflächengöße
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von 2,6 m /g,gemessen nach dem üblichen BET-Verfahr en ,hat,
von 2,6 m /g,gemessen nach dem üblichen BET-Verfahr en ,hat,
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Die Teilchengrößenverteilung in dem Pulver vor dem Mischen war wie folgt:
90 Gew.-% weniger als 49,6 Mikron
50 Gew«-% weniger als 18,1 Mikron 10 Gew.-% weniger als 2,5 Mikron
Bei Betrachtung unter dem Mikroskop war zu sehen, daß dieses Material großenteils aus sehr kleinen
Teilchen, wahrscheinlich mit einem Durchmesser von weniger als 2 Mikron,bestand, daß diese jedoch
zu den o.a. großen Teilchen agglomeriert waren. Die Schüttdichte dieses Pulvers, bestimmt nach
einem modifizierten ASTM-Standard-Verfahren B
527-70,betrug 7,44 g/cm . Bei dieser Modifikation wurde anstelle der üblichen 50 g-Probe, die 3000 mal zerbrochen
(tappad) worden war, eine 10 g-Probe verwendet, die 1500 mal mit einem handelsüblichen
Tap-Pak-Volumeter zerbrochen worden war. Dieses
Material wurde mit einer von Verunreinigungen freien Fritte (Borsilikat' mit Spurenmengen Blei,
Wismut, Zinn und anderen bekannten Verunreinigungen in Gehalten, die unterhalb der Gehalte liegen, welche
den TCR beeinflussen) und mit einer geeigneten Menge eines organischen Trägers mit etwa 15 Gewichtsteilen :tthylcellulose und etwa 85 Gewichtsteilen
Butylcarbitolacetat gemischt. Die dabei erhaltene
Paste enthielt etwa 80 Gew.-% Platin und Glasfritte
und etwa 20 Gew.-% des organischen Trägers.
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Die Paste wurde auf einer handelsüblichen 3-Walzen-Farbmühle
zerkleinert (gemahlen). Während dieses Mahlverfahrens wurden die größeren Agglomerate
in die sie aufbauenden kleineren Teilchenbestandteile
zerlegt. Etwa 90% der Teilchen hatten einen Durchmesser von weniger als 10 Mikron, keines hatte
einen Durchmesser von mehr als 15 Mikron.
Die Messung der Teilchengröße kann zweckmäßig unter Anwendung eines konventionellen Zerkleinerungstests
durchgeführt werden. Zu diesem Zweck wird ein Metallblock verwendet, der in seiner Oberfläche eingearbeitete
Rillen mit flachem Boden aufweist, die sich von der Oberfläche des Blockes bis zu einer
Tiefe, die größer ist als der maximale Teilchendurchmesser, verjüngen. Die zu testende Paste wird mittels
einer Gummiwalze in die Rillen hineingepreßt. Wenn die Rillentiefe gleich dem Teilchendurchmesser in
der Paste ist, schiebt die Gummiwalze die Teilchen vor sich her, wobei freie Zwischenräume im Film
entstehen,und dadurch wird· im allgemeinen die Teilchengröße
der Masse der Paste angezeigt. Bei Anwendung eines solchen Tests ist es nicht erforderlich,
eine Teilchenprobe aus der Paste zu entnehmen und die Teilchengrößenverteilung in einem Coulter-Counter
nachzumessen, wie dies bei der Teilchengrößenverteilung des o.a. frischen Pulvers durchgeführt wurde.
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Die fertige Paste wurde dann durch Siebdruck auf
ein Keramiksubstrat in dem gewünschten Muster aufgabracht und gebrannt. Das Aufbrennen der Paste
auf das Substrat kann in Gegenwart von Luft in den kommerziell für die Dickschicht-Hehandlung verwendeten
Ofentypen durchgeführt werden, wobei diesmal jedoch die angewendete Temperatur höher war als
diejenige, wie sie normal angewendet wird. Ein typischer Heizzyklus umfaßt das l/2-stündige Erhitzen
auf die Maximaltemperatur, das 1/4-stündige Halten bei dieser Temperatur und das anschließende
1/4-stündige Abkühlen. Mit der vorstehend beschriebenen Paste, die unter Anwendung der nachfolgend
angegebenen Bedingungen, jedoch bei verschiedenen Maximaltemperaturen, gebrannt wurde, wurden die
folgenden Ergebnisse erhalten:
Temperatur (°C) TCR (ppm/°C) -
965 3750
1095 3822
1480 3846
1500 3850,5
Wie aus der vorstehenden Tabelle hervorgeht, konnte bei einer typischen kommerziellen Brenntemperatur
von etwa 10000C ein verhältnismäßig hoher TCR-Wert
erzielt werden. Um jedoch den gewünschten TCR-Wert von 3850 ppm/ C zu erzielen, muß eine wesentlich
höhere Temperatur, im allgemeinen von mehr als4450°C
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angewendet werden« Obgleich die vorstehende Tabelle anzeigt, daß für diese Standardbedingungen 1500 C
erforderlich wären, wird angenommen, daß durch Verlängerung der Brennzeit bei der Maximaltemeratur
der TCR-Wert auch bei einer tieferen Temperatur auf den gewünschten Wert erhöht werden kann» Dies
geht aus dem folgenden Beispiel hervor.
Die Paste des Beispiels 1 wurde auf ein Keramiksubstrat aufgedruckt und unter den gleichen Bedingungen
wie oben gebrannt, wobei diesmal jedoch die Maximaltemperatur 1000°C betrug und die Brennzeit bei der
Maximaltemperatur über den üblichen Wert von 1/4 Stunde hinaus verlängert wurde, wobei die folgenden
Ergebnisse erhalten wurden:
Minuten bei | 1000°C | TCR (ppm/°C) |
10 | 3744 | |
100 | 3783 | |
1000 | 3802 |
Die vorstehenden Ergebnisse zeigen, daß bei Verlängerung der Brennzeit bei der Maximaltemperatur der TCR-Wert
anstieg« Das gleiche Material wurde nach 1000-minütigem Brennen bei 10000C erneut 15 Minuten lang bei
1200°C gebrannt, wobei ein TCR-Wert von 3838 ppm/°C erzielt wurde, was anzeigt, daß auch nach längerem
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Brennen bei der Maxiraaltemperatur eine weitere Verbesserung
durch Erhöhung der Maximal temperatur noch möglich ist. Es sollte daher möglich sein, Maximaltemperaturen
von etwas unterhalb 1500 C anzuwenden, wenn man eine etwas längere Brenndauer bei der maximalen
Brenntemperatur in Kauf nimmt»
Wie oben erwähnt, stellen die Reinheit des Platins und die Teilchengröße wichtige Faktoren bei der Erzielung
des gewünschten hohen TCR-Wertes gemäß der vorliegenden Erfindung dar. In den nachfolgenden
Beispielen wurden Pasten mit einer niedrigen "Schüttdichte ($&p density) (Beispiel 3) und einer niedrigen Platinreinheit
(Beispiel 4) verwendet, um die Signifikanz der beiden Faktoren zu demonstrieren»
Aus einer Probe eines Platinpulvers mit einer Reinheit von 99,9+% wurde nach dem vorstehend beschriebenen
Verfahren und unter Verwendung der vorstehend angegebenen Komponenten eine Paste hergestellt. Nach
dem Aufbringen eines Musters durch Siebdruck auf ein Keraraiksubstrat wurde sie unter Anwendung des typischen
Zeitplans gebrannt, wobei eine maximale Brenntemperatur von 995 C 15 Minuten lang eingehalten wurde·
Dabei wurde ein TCR-Wert von 3271 ppm/°C.erzielt. Die
Maximaltemperatur wurde erhöht, um einen TCR-Wert
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von 3850 ppm/ C zu erzielen, es war jedoch nicht möglich, die bevorzugte Brenntemperatur von 1500 C
zu erreichen, weil als Folge der Schrumpfung des Films ein offener Schaltkreis in dem Widerstandsfilm entstand. Die Platinteilchen, die sich während
des Brennens bei der höheren Temperatur abschieden, führten zu einer elektrischen Unterbrechung (Diskontinuität)
in dem Film.
Die Untersuchung der Platinteilchen bei dieser erfolglosen Paste zeigte, daß anstelle einer niedrigen
Oberflächengröße und einer hohen · Schütt-dichte wie
in dem vorausgegangenen Beispiel das Platinpulver
eine Oberflächengröße von 15,5 m /g und eine Schüttdichte - von 0,85 g/cm aufwies. Beide Faktoren
lassen vermuten, daß die Platinteilchen ungewöhnlich klein waren. Eine Probe der Teilchen nach dem Mahlen
zeigte jedoch, daß sie die nachfolgend angegebene, mit dem Coulter-Counter gemessene Teilchengrößenverteilung
hatte : 90 Gew.-% weniger als 13,5 Mikron, 50 Gew.-% weniger als 6,4 Mikron und 10 Gew.-% weniger
als 3,3 Mikron. Obgleich die Teilchengröße ähnlich zu sein schien wie in der zufriedenstellenden
Paste des Beispiels 1, hatten die Teilchen, wie durch die Oberflächengröße und die Schüttdichte angezeigt,
wesentlich andere Eigenschaften. Daher ist eine höhere
Schuttdichte bevorzugt, im allgemeinen eine solche
oberhalb 20% der geschmolzenen Dichte (21,45 g/cm ) oder oberhalb etwa 5 g/cm ·
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Es wurde eine weitere Paste aus einem Material hergestellt, das in vieler Hinsicht zufriedenstellend
zu sein schien, jedoch eine Platinreinheit von weniger als 97,4% aufwies; es wurde gefunden, daß beim
Brennen die folgenden Ergebnisse erhalten wurden:
Maximaltemperatur ( C) TCR (ppm/ C)
1035 3236
1235 3717
1540 3758
Aufgrund der Kenntnisse aus der Massivdraht-Wicklungs-Thermometerindustrie
war die Bedeutung der Platinreinheit für den TCR-Wert bereits bekannt. Es scheint,
daß für Dickschicht-Widerstandsthermometer die Reinheit des Platins 99,9+% betragen sollte, wenn ein
hoher TCR-Wert von 3850 ppm/ C oder mehr gewünscht wird. Dieses Material hat, wie gefunden wurde,eine
2
Oberflächengröße von 2,3 m /g und eine Schüttdichte von 5,27 g/cm und wäre im übrigen zufriedenstellend. Die GroßehverteiliKignach dem Mahlen in der Druckerfarbenmühle, bestimmt mit dem Coulter-Counter, betrug 90 Gew.-% weniger als 3,6 Mikron, 50 Gew.-% weniger als 1,3 Mikron und 10 Gew.-% weniger als 1,4 Mikron.
Oberflächengröße von 2,3 m /g und eine Schüttdichte von 5,27 g/cm und wäre im übrigen zufriedenstellend. Die GroßehverteiliKignach dem Mahlen in der Druckerfarbenmühle, bestimmt mit dem Coulter-Counter, betrug 90 Gew.-% weniger als 3,6 Mikron, 50 Gew.-% weniger als 1,3 Mikron und 10 Gew.-% weniger als 1,4 Mikron.
Daraus ist der Schluß zu ziehen, daß die Teilchengrößenverteilung wichtig ist für die Erzielung einer Paste,
die in zufriedenstellender Weise durch Siebdruck aufgedruckt werden kann (d.h. welche die Sieböffnungen
passieren kann), während die Oberflächen größe und
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as
die Teilchen-dichte- wertvolle Indikatoren für den wahrscheinlichen Erfolg bei der Herstellung von
Dickschicht-Widerstandsthermometern mit einem hohen TCR von 3850 ppm/°C darstellen.
Fig. 1 und 2 der beiliegenden Zeichnungen beziehen sich auf die gleiche Ausführungsform und darin werden
gleiche Elemente mit .der gleichen Bezugsziffer bezeichnet. Der Keramikzylinder 10, der bei einer
Ausführungsform etwa 2,5 cm lang ist und einen Durchmesser von etwa 0,5 cm hat, stellt ein Substrat dar.
Erfindungsgemäß wird eine Bahn 12 aus hochreinem
Platin auf die Oberfläche des Zylinders 10 aufgedruckt. An die jeweiligen Enden der Bahn 12 werden
Elektrodenanschlüsse 14 aus einem hochreinen Platindraht angeschweißt.
Die Bahn (der Weg) 12 ist eine Schicht aus Platin mit einer Dicke von etwa 0,010 mm. Die Bahn stellt
somit einen dünnen Streifen dar und hat einen merklichen Widerstand. Die dargestellte Ausführungsform hat einen Widerstand von 100 0hm. Insbesondere
wird die Bahn 12 auf den Punkt abgestimmt, auf dem genau 100 Ohm zwischen den Anschlüssen 14 an dem
Eispunkt (0°C) erzielt we'rdaa. Bei der dargestellten Ausführungsform sind die Stege (Abschnitte) 12 L
der gefalteten Bahn 12 etwa ]£5 cm lang und die
Breite des Streifans der die -Bahn 12 darstellt, beträgt
etwas weniger als 0,2 mm. Der unbeschichtete Abstand zwischen benachbarten Stegen (Abschnitten)
12 L beträgt ebenfalls etwa 0,2 mm. Wie vorstehend
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erläutert, besteht die Bahn (der Weg) 12 aus einer Vielzahl von Stegen (Abschnitten) 12 L, die durch
Endsegmente 12 E miteinander verbunden sind. Die endständigen Stegsegmente 12 T sind beträchtlich
dicker als der Rest der Stegsegmente 12 L und bei einer Ausführungsform weeds, sie am Anfang mit einer
Breite von etwa 0,6 mm aufgedruckt. Ein Streifen 12 S wird, wie dargestellt, unterhalb der unteren
Abschnitte der Enden 12 E aufgedruckt und er steht durch Verzweigungen 12 B mit 5 der Enden 12 E in
Verbindung. Dieser Streifen 12 S wird als Kurzschlußbügel bezeichnet, weil er dazu dient, diejenigen
Stege 12 L, über die er sich erstreckt, zu umgehen (und damit auszuschalten). Wo jedoch die
Verzweigungen 12 B geöffnet sind, wie durch die Spalten 16 angezeigt, ist der Kurzschlußbügel 12 S
unwirksam in Bezug auf die Umgehung der damit verbundenen Stege 12 L. Bei der in Fig. 2 dargestellten
Ausführungsform sind 5 Verzweigungen 12 B dargestellt, von denen jedoch zwei geöffnet sind, so daß nur 4 der
Stege 12 L umgangen werden.
Eine andere, jedoch ähnliche Konfiguration ist in der Fig. 3 dargestellt. Die Vielzahl der Stege (Abschnitte)
ist unter einem Winkel zu der Achse des Zylinders angeordnet. Es können verkürzte Verlängerungen von etwa
der Hälfte der Endsegmente vorgesehen sein, wie dargestellt. Bei dieser Anordnung haben die Stege bzw. Abschnitte
eine Vielzahl von verschiedenen Längen und
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- 7ft'-
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daher auch verschiedene Widerstände, Wenn diese Verlängerungen durch Trimmen geöffnet werden, nimmt
der Widerstand in ungleichmäßigen Inkrementen zu, je nach—dem, welches spezielle Segment geöffnet wird.
In dem Muster gemäß Fig. 2 kann jede geöffnete
Verlängerung den gesamten Bahnwiderstand um etwa 8 Ohm erhöhen. Bei der anderen Konfiguration gemäß
Fig. 3 kann der Bahnwiderstand in Stufen erhöht werden, die innerhalb des Bereiches von etwa IO Ohm bis
etwa 5 Ohm liegen. So wurden beispielsweise bei dem systematischen Öffnen aller Verlängerungen die folgenden
Änderungen des Bahnwiderstandes aufgezeichnet: 7,3 Ohm, 6,7 Ohm, 5,8 Ohm, 5,5 Ohm, 4,3 Ohm, 3,5 Ohm,
2,5 Ohm, 4,8 Ohm, 1,0 Ohm und 0,5 Ohm. Dies erlaubt eine grobe Abstimmung zur Erhöhung des Widerstandes
bis auf etwa 0,5 Ohm des gewünschten Wertes von 100 Ohm für ein fertiges Widerstandsthermometer. Die
Schlußabstimmung wird erzielt durch Verringerung der
Breite der breiten Endstege oder durch Einschneiden eines Schlitzes in einen verbreiterten Endstab, wie
in der Fig. 3 dargestellt.
Das Verfahren zur Herstellung des Produkts ist von besonderer Bedeutung für die Erreichung der erfindungsgemäßen
Ziele. Die gefaltete rechteckige Bahn ist ein kontinuierlicher Streifen aus sehr reinem
Platin, der auf die Oberfläche des Zylinders 10 auf-
80 9 8 29/0960
28Q172Q
gedruckt worden ist, und er ergibt aufgrund seiner Reinheit einen hohen Widerstands-Temperaturkoeffizienten
(TCR), insbesondere einen durchschnittlichen TCR-Wert von 3850 ppm/°C über den Temperaturbereich
von O bis 100 C. Wenn der Gesamtwiderstand zwischen den beiden Anschlußklemmen 14 etwa 100 0hm beträgt,
so führt jeweils eine Temperaturänderung von 1 C zu einer Änderung des Widerstandes von 0,385 Ohm.
Diese messbare Änderung des Widerstandes stellt ein genaues Maß für alle kleinen Temperaturänderungen
dar.
Zur Herstellung eines Formkörpers, wie er in Fig. 1 dargestellt ist, wurde eine Paste, die Platinpulver
mit einer Reinheit von 99,9% und von Verunreinigungen freies Borsilikat glas enthielt, in Mischung mit
einem organischen Träger gemahlen. Der teilchenförraige
Anteil enthielt 4 Gew.-% Glasfritte, bezogen
auf das Gesamtgewicht von Platin und Glasfritte.
Bei dem organischen Träger handelte es sich um eine Kombination aus etwa 15 Gewichtsteilen Äthylcellulose' und
etwa 85 Gewichtsteilen But ylcabito lace tat. Das Acetat wirkte als Lösungsmittel und die ,Cellulose
wirkte als Eindickungsmittel. Die dabei erhaltene Paste bestand zu etwa 80 Gew.-% aus Platin- und
Glasfrittenteilchen und zu etwa 20 Gew.-% aus dem organischen Träger. Beim Mischen ergaben diese Komponenten
eine Paste, die mittels Seidensiebdruck
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unter Verwendung einer konventionellen Rotatipnsdruckvorrichtung
auf das Keramiksubstrat IO aufgedruckt wurde. Nach dem Aufbringen wurde die
Paste bei diner Maximaltemperatur von 1450 C gebrannt (um eine ausreichende Bindung des dicken
Filmstreifens an dem Substrat zu erzielen) und es können bis zu 6 Stunden bei der Maximaltemperatur
erforderlich sein, um den erforderlichen TCR-Wert zu entwickeln.
Auf dem Platinfilm wurde ein glasartiger Glasurüberzug
(Borsilikat' mit unbedeutenden Mengen an Blei, Wismut, Zinn und anderen bekannten Verunreinigungen)
aufgebracht, um ihn zu schützen. Der glasartige Glasurüberzug wurde so ausgewählt, das er bei
etwa 1150°C, d.h. weit unterhalb der Brenntemperatur des Films,schmolz. Es wurde festgestellt, das der
dicke Filmstreifen 12 während des Glasierungsverfahrens
an dem Substrat 10 haften blieb, auch wenn die Schmelztemperatur des aufgebrachten Glasurüberzugs
oberhalb der Schmelztemperatur der in der dicken Filmpaste verwendeten Glasfritte lag* Es wird angenommen,
daß durch Verwendung dieser bei verhältnismäßig hoher Temperatur schmelzenden Oberflächenglasur
eine größere Sicherheit erzielt wird, daß der Platinstreifen 12 dimensionsmäßig fixiert bleibt, und dadurch
eine größere Sicherheit erzielt wird, daß seine Betriebseigenschaften stabil bleiben.
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Der Widerstandsteniperaturkoeff izient (TCR) des aufgebrannten Films betrug 3850 ppm/ C. Außerdem wurde
die Stabilität des Widerstandsthermometers durch Einführen des Thermometers in einen Ofen für einen
Zeitraum von etwa 24 bis etwa 72 Stunden bei einer Temperatur von etwa 500 bis 800 C,Herausnehmen des
Thermometers und Messen des Widerstandes bei 0 C bestimmt· Das Verfahren wurde für insgesamt 1500
Stunden wiederholt. Dabei wurde gefunden, daß die Widerstandsänderung in entsprechenden C weniger
als 1 C betrug und daß sie in vielen Fällen 0,1 bis 0,5 C betrug, was zeigt, daß es sich dabei um
einen verhältnismäßig stabiles Thermometer handelt.
Die Erfindung wurde zwar vorstehend unter Bezug nähme
auf bevorzugte Ausführungsformen erläutert, es ist jedoch für den Fachmann selbstverständlich,
daß sie darauf keineswegs beschränkt ist, sondern daß diese in vielfacher Hinsicht abgeändert und
modifiziert werden können, ohne daß dadurch der Rahmen der vorliegenden Erfindung verlassen wird.
309829/0960
Leerse ite
Claims (13)
- PATENTANWÄLTE A. GRÜNECKERDlPl. KJOH. KINKELDEYDH-INGW. STOCKMAIROR-ING ■ A.;F.'CAt-TcCH)K. SCHUMANNDR fWH MAX - CuPL-PHYSP. H. JAKOBCKPL tWGG. BEZOLDDft FFR NAT D(PL CHEM.8 MÜNCHEN 22MAXIMILIANSTRASSE 43P 12281PatentansprücheLl Verfahren zur Herstellung eines Films mit einem elektrischen Widerstand, der sich mit der Temperatur gleichmäßig ändert, dadurch gekennzeichnet, daß man(a) eine Paste herstellt, die enthält oder besteht aus Platinpulver, einer im wesentlichen von Verunreinigungen freien Glasfr it te und einem organischen Träger, wobei das Platin eine Reinheit von mindestens 99,9% hat,(b) diese Paste in Form eines durchgehenden dicken Filmstreifens auf ein Keramiksubstrat aufträgt und(c) diesen Streifen ausreichend lange und bei einer ausreichend hohen Temperatur brennt, um den aufgetragenen Streifen mit dem Substrat zu verbinden und einen TGR von mindestens etwa 3 850 ppm/ C in dem gebranntenFilm zu erzeugen.
ftflQfiy'Q/DQeftTELEFON (08β) 32 28 ea TELEX OS-dÖsMo" ^ ' TELeSsfÄMME MONAPAT TELEKOPIERERORIGINAL INSPECTED2 b O 17 20 - 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Paste verwendet, die nicht mehr als 10 Gewichtsprozent Fritte, bezogen auf das Gesamtgewicht der Feststoffe, enthaltend daß man das Brennen bei einer Temperatur von mindestens etwa 1450 C durchführt.
- 3. Verfahren nach Anspruch 1 und/oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Platin eine Schüttdichte von mehr als etwa 5 g/cm aufweist und daß man eine Paste verwendet, die etwa 4 bis etwa 8 Gewichtsprozent Fritte enthält, und daß man das Brennen bei einer Temperatur von mindestens etwa 1500°C durchführt.
- 4. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1-3, dadurch gekennzeichnet, daß man außerdem auf den aufgebrannten Streifen eine glasartige Überglasur aufbringt.
- 5. Verfahren zur Herstellung eines Widerstandsthermometers, dadurch gekennzeichnet , daß man(a) eine Paste herstellt, die enthält oder besteht aus Platinpulver, einer im wesentlichen von Verunreinigungen freien Glasfritte und einem organischen Träger, wobei das Platin eine Reinheit von mindestens 99,9% aufweist und eine Teilchengröße hat, die sich für die Herstellung eines Films mit einer elektrischen Kontinuität nach dem809829/0960Brennen unter dem in dem nachfolgenden Abschnitt (c) angegebenen Bedingungen eignet, und wobei die Paste etwa 4 bis etwa 8 Gewichtsprozent Glasfritte, bezogen auf das Gesamtgewicht der Feststoffe, enthält,(b) diese Paste in Form eines durchgehenden dicken Filmstreifens auf ein Keramiksubstrat aufträgt und(c) den Streifen bei einer Temperatur von mindestens 1 450 C für eine Zeitspanne brennt, die ausreicht, um in dem gebrannten Film einen TGR von mindestens 3 850 ppm/ C und eine derart hohe Stabilität zu erzeugen, daß die Widerstandsänderung
beträgt.änderung in äquivalenten C weniger als 1 C - 6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß man zum Auftrag der Paste den Streifen in Form einer gefalteten Bahn (Weges) mit Stegen und Endsegmenten aufbringt, wobei die Endsegmente alternierende Stege an ihren alternierenden Enden miteinander verbinden, einen Kurzschlußbügelstreifen in einem Abstand von einem Teil der Endsegmente aufbringt, einen Satz von Verlängerungsstraifen aufbringt, von denen jeder jeweils eines der Endsegmente mit dem Kurzschlußbügel verbindet, undeinen Endsteg der Bahn in einer Breite, die wesentlich größer ist als der Rest der Stege, aufbringt.8 0 9 8 ? ^ / 0 S R Π
- 7. Verfahren nach Anspruch 5 und/oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß man außerdem jeweils eine der Verlängerungen zu einem Zeitpunkt öffnet, zu dem ein Bahnwiderstand erreicht ist, der in der Nähe von und unterhalb eines vorher festgelegten Wertes liegt,dann die Breite des Endsteges so einstellt, daß der Bandwiderstand bis auf den vorher festgelegten Wert ansteigt,
- 8. Verfahren nach mindestens einer der Ansprüche 5-7, dadurch gekennzeichnet, daß die Stege im wesentlichen gleiche Länge und gleichen elektrischen Widerstand haben.
- 9. Verfahren nach mindestens einer der Ansprüche 5-7, dadurch gekennzeichnet, daß die Stege eine Vielzahl von Längen und elektrischen Widerständen aufweisen.
- 10. Wider standähermo meter, g ekennzeichn e t durchein im wesentlichen zylindrisches Keramiksubstrat (10),eine gefaltete durchgehende Platinstreifen-Widerstandsbahn(l2) auf dem Substrat (10), wobei die Bahn (12) aus einer Vielzahl von Stegsegmenten (12 L) besteht, die durch Endsegmente (12 E) miteinander verbunden sind,
einen Kurzschlußbügel -Platinstreifen (12 S), der einen809829/0960Abstand von einem Teil der Endsegmente (12einen Satz von Platinstreifen-Verlängerungen, von denen jede eine Verbindung zwischen jex«;eils einem der Endsegmente (12 E) und dem Kurzschlußbügel (12 S) herstellt, undmindestens ein endständiges Stegsegment (12T) mit einer Breite, die wesentlich größer ist als die Breite der meisten Stege (12 L). - 11. Widerstandsthermometer nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Bahn (12) aus Platin mit einer Reinheit von mindestens 99,9% besteht und daß das Thermometer einen TCR von etwa 3 850 ppm/ C aufweist.
- 12. Widerstandsthermometer nach Anspruch 10 und/oder 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Stege (12 L) im wesentlichen gleiche Längen und gleiche elektrische Widerstände aufweisen.
- 13. Widerstandsthermometer nach Anspruch 10 und/oder 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Stege (12 L) eine Vielzahl von Längen und elektrischen Widerständen aufweisen.809829/0960ORIGINAL INSPECTED
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Legal Events
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8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |