DE2800851A1 - Aetzmittel und dessen verwendung zum aetzen von metall - Google Patents

Aetzmittel und dessen verwendung zum aetzen von metall

Info

Publication number
DE2800851A1
DE2800851A1 DE19782800851 DE2800851A DE2800851A1 DE 2800851 A1 DE2800851 A1 DE 2800851A1 DE 19782800851 DE19782800851 DE 19782800851 DE 2800851 A DE2800851 A DE 2800851A DE 2800851 A1 DE2800851 A1 DE 2800851A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
molybdenum
peroxide
concentration
per liter
etchant
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19782800851
Other languages
English (en)
Inventor
Oleh B Dutkewych
Charles A Gaputis
Michael Gulla
Leonard R Levy
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shipley Co Inc
Original Assignee
Shipley Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shipley Co Inc filed Critical Shipley Co Inc
Priority to DE19782800851 priority Critical patent/DE2800851A1/de
Publication of DE2800851A1 publication Critical patent/DE2800851A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/10Etching compositions
    • C23F1/14Aqueous compositions
    • C23F1/16Acidic compositions
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • H05K3/067Etchants

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Description

  • Ätzmittel und dessen Verwendung zum Ätzen von Metall
  • [Zusatz zu Patent (P 27 00 265.9)] Die Erfindung betrifft ein neues Ätzmittel mit einer synergistischen Kombination aus Wasserstoffperoxid und Molybdän als Oxydationsmitteln in einer sauren Lösung sowie dessen Verwendung zum Ätzen von Metall, insbesondere zur Herstellung einer gedruckten Schalttafel.
  • Die Aktivierung von verhältnismäßig verdünnten Mineralsäuren mit einer Sauerstoff freisetzenden Verbindung ist an sich bekannt und beispielsweise in Platins", Surface Treatment of Metals with Peroxygen Compounds", Band 42, Seite 561 (1955), beschrieben.
  • In dieser Publikation ist angegeben, daß Mineralsäuren, wie Schwefelsäure, Salpetersäure, Essigsäure und Phosphorsäure, mit Sauerstoff freisetzenden Verbindungen, wie Wasserstoffperoxid oder anderen Peroxy-, Persulfat- oder Perborat-Verbindungen aktiviert werden können. Die Sauerstoff freisetzende Verbindung erhöht die Ätzgeschwindigkeit bzw. Ätzrate, so daß die Säurekonzentration herabgesetzt werden kann.
  • Die Aktivierung von verdünnter Schwefelsäure mit Wasserstoffperoxid ist wegen der niedrigen Kosten und der Leichtigkeit der elektrolytischen Kupferruckgewinnung aus dem verbrauchten Ätzmittel vor der Beseitigung desselben höchst attraktiv. Die Brauchbarkeit solcher Wasserstoffperoxid-Ätzlösungen wird jedoch etwas gemindert durch die katalysierte Zersetzung von Wasserstoffperoxid, die durch die geätzten Metallionen oder andere Ubergangsmetallionen in der Lösung hervorgerufen wird, und eine niedrige Ätzgeschwindigkeit bzw.
  • Ätzrate, die in der Regel 0,356 mm (1,4 mils) Kupfer pro 28,35 g (1 ounce) Kupferplattierungsschicht innerhalb von 10 bis 25 Minuten bei 490C (1200F) beträgt. Um die Ätzgeschwindigkeit bzw. Ätzrate zu erhöhen, hat man deshalb konzentriertere Wasserstoffperoxidlösungen verwendet, konzentrierte Peroxidlösungen sind jedoch fUr die Gesundheit und die Sicherheit gefährlich. Außerdem können solche Ätzmittel nicht mit Erfolg in Verbindung mit anderen Zinn-Metallätzresistmaterialien verwendet werden, weil sie Zinn, insbesondere Immersionszinn, angreifen.
  • Um die durch Metallionen katalysierte Zersetzung von Wasserstoffperoxid zu begrenzen, werden bisher eine Reihe von Stabilisatoren verwendet. Eine Vielzahl von solchen Stabilisatoren ist beispielsweise in den US-Patentschriften 3 293 093, 3 341 384, 3 407 141 und 3 668 131 beschrieben. Eine bevorzugte Klasse von Stabilisatoren ist in der US-Patentschrift 3 801 512 beschrieben. Bei den in dieser Patentschrift beschriebenen Stabilisatoren handelt es sich um Arylsulfonsäuren.
  • Obgleich stabilisierte Säurelösungen, die mit Wasserstoffperoxid aktiviert worden sind, besser sind als ihre nicht-stabilisierten Gegenstücke, haben sie dennoch Nachteile, welche ihre Verwendung begrenzen, insbesondere bei der Herstellung von gedruckten Schalttafeln.
  • In dem Hauptpatent (P 27 00 265.9) ist eine stabile, saure Peroxid-Ätzlösung beschrieben, die eine Molybdänverbindung in gelöster Form in einer Menge von 0,1 g pro Liter bis zur Löslichkeitsgrenze der Verbindung enthält, um dadurch die Atzgeschwindigkeit bzw. Ätzrate zu erhöhen.
  • Die in der vorliegenden Zusatzanmeldung beschriebene Erfindung stellt nun eine Weiterentwicklung der in dem Hauptpatent beschriebenen Erfindung dar.
  • Gegenstand der vorliegenden Zusatzanmeldung ist ein neues Ätzmittel, das dadurch gekennzeichnet ist, daß es eine synergistische Kombination von Oxydationsmitteln aus Wasserstoffperoxid und einer Molybdänverbindung (nachfolgend und in den AnsprUchen abgekürzt stets als Molybdön bezeichnet) in einer sauren Lösung enthält. Das Wasserstoffperoxid ergibt eine anhaltende Ätzung mit den vorstehend beschriebenen Vorteilen und Nachteilen. In der Säure/Peroxid-Umgebung ätzt das Molybdän mit einer wesentlich höheren Geschwindigkeit bzw. Rate und dadurch wird die Atzgeschwindigkeit bzw. -rate auf einen fUr die kommerzielle Verwendung geeigneten Wert erhöht.
  • Das Molybdän kann nicht als einziges Oxydationsmittel verwendet werden, weil es schnell verarmt, da es bei fortschreitender Ätzung durch Reduktion in einen Zustand mit einer niedrigeren Valenz UberfUhrt wird. Es ist daher für eine anhaltende Ätzung nicht geeignet.
  • Ohne an irgendeine Theorie gebunden zu sein, wird angenommen, daß die Kombination aus dem Peroxid und dem Molybdän eine synergistische Kombination ist, weil angenommen wird, daß beide Komponenten ätzen, obgleich das Peroxid in der sauren Umgebung noch die zweite Wirkung hat, das Molybdän in einen höheren Valenzzustand zu oxydieren, so daß Metalle in einer angesäuerten Peroxidumgebung geätzt werden können.
  • Es ist bekannt, daß Molybdän in seiner stabilsten Form einen Valenzzustand von +6 hat, der leicht reduzierbar ist zu den niedrigeren Valenzzuständen +5, +4, +3 oder +2. Es ist auch bekannt, daß Molybdän in einer angesäuerten Peroxidumgebung Permolybdat bildet (vgl. "Encyclopedia Britannica", Band 15, Ausgabe 1959, Seiten 682 - 683). Ausgehend von diesen Tatsachen wird nun angenommen, daß das Ätzen nach mehreren Mechanismen abläuft. Zuerst oxydieren das Permolybdat und dos hexavalente Molybdän das geätzte Metall bei gleichzeitiger Reduktion des Molybdäns unter Uberfuhrung desselben in einrn niedrigeren Valenzzustand, bei dem es sich um einen oder mehrere der Valenzzustände +5 bis +2 handeln kann.
  • Auch das Peroxid oxydiert das geätzte Metall nach bekannten Reaktionen. Ferner wird angenommen, daß das Peroxid die zusätzliche Rolle hat, das reduzierte Molybdän wieder zu hexavalentem Molybdän zu oxydieren, das seinerseits in Permolybdat umgewandelt wird. Deshalb wird das fUr die Ätzung verfügbare Molybdän bei fortschreitender Ätzung nicht verbraucht und braucht nur in geringen (zufälligen) Mengen ergänzt zu werden, die ausreichen, um die durch das Ausschleppen verursachten Verluste auszugleichen.
  • Das Peroxid dagegen wird verbraucht und muß in Mengen ersetzt werden, die etwa ausreichen, um das Peroxid zu ersetzen, das durch die Ätzung und durch die Rückoxydation des Molybdäns verbraucht worden ist.
  • Der Peroxidgehalt des Ätzmittels kann innerhalb verhältnismäßig breiter Grenzen, z.B. von 0,1 bis 10 Mol pro Liter Lösung, variieren.
  • Da das Peroxid jedoch ein für die Handhabung verhältnismäßig gefährliches Material ist, wird seine Konzentration vorzugsweise verhältnismäßig niedrig gehalten und sie variiert vorzugsweise zwischen etwa 0,5 und etwa 2,5 Mol pro Liter.
  • Wie oben angegeben, wird die Molybdänverbindung dem Ätzmittel als synergistisches Cooxydationsmittel zusammen mit dem Wasserstoffperoxid zugesetzt, um die Ätzgeschwindigkeit bzw. Ätzrate zu erhöhen. Die jeweils verwendete Molybdänverbindung scheint nicht kritisch zu sein, vorausgesetzt, daß sie in der Lösung genügend löslich ist und in einem Oxydationszustand vorliegt, der Metall in der Ätzmittelumgebung ätzt. Vorzugsweise wird das Molybdän in Form von hexavalentem Molybdän zugegeben, es kann aber auch in einem niedrigeren Valenzzustand zugegeben werden, da das Peroxid es oxydiert unter Uberführung desselben in einen höheren Valenzzustand. Die bevorzugte Molybdänverbindung ist Natriummolybdat. Zu anderen brauchbaren Molybdänverbindungen gehören Ammoniummolybdat und Molybdänsäure.
  • Die Konzentration der Molybdänverbindung ist nicht kritisch, es wurde jedoch gefunden, daß bei der Immersionsätzung tTauchätzung) die Xtzgeschwindigkeit bzw. Ätzrate bei geringen Zusätzen von Molybdän ansteigt und mit steigender Konzentration einen Grenzwert erreicht. Beim Ätzen von Kupfer tritt eine gewisse Erhöhung der Ätzgeschwindigkeit bzw. Ätzrate auf, wenn die Molybdänkonzentration nur 0,01 Mol pro Liter (als Metall) beträgt, und sie steigt schnell an, wenn die Konzentration bis auf etwa 0,1 bis etwa 0,15 Mol pro Liter ansteigt. Die Ätzgeschwindigkeit bzw. -rate nimmt danach weiterhin zu, jedoch mit einer geringeren Geschwindigkeit bis zu einem Maximalwert, der bei einer Konzentration zwischen etwa 0,4 und etwa 1,0 Mol pro Liter erreicht wird, der von zahlreichen Variablen, wie z.B. der Temperatur, dem Peroxidgehalt, dem Gehalt an gelöstem Metall und dgl., abhängt. Beim SprUhätzen tritt eine erhöhte Geschwindigkeit bzw. Rate bei höheren Molybdänkonzentrationen als beim Immersionsätzen (Tauchätzen) auf.
  • Aus den vorstehenden Angaben geht hervor, daß der Molybdängehalt innerhalb breiter Grenzen variieren kann, vorausgesetzt, daß seine Konzentration ausreicht, um die Geschwindigkeit bzw. Rate auf den gewünschten Wert zu erhöhen. Die Konzentration variiert vorzugsweise zwischen 0,01 und 1,0 Mol pro Liter, insbesondere zwischen 0,02 und 0,5 Mol pro Liter.
  • Bezüglich der oben angegebenen Konzentrationen an Peroxid und Molybdän wurde gefunden, daß zur Erzielung einer zufriedenstellenden Ätzung das Molverhältnis von Peroxid zu Molybdön mindestens 1:1, vorzugsweise mindestens 1,2:1betragen sollte. Die obere Grenze dieses Verhältnisses ist von geringerer Bedeutung.
  • Die Art der verwendeten Säure hängt zum Teil von dem zu ätzenden Metall ab. So ist beispielsweise zum Ätzen von Kupfer Schwefelsäure bevorzugt, weil sie wirtschaftlich ist, Kupfer in einer Form liefert, die bequem zurückgewonnen werden kann, und zufriedenstellende Gesamtergebnisse ergibt. Für Titan ist beispielsweise Chlorwasserstoffsäure bevorzugt. Zum langsamen oder schwachen Ätzen kann eine schwache Säure, wie z.B. Essigsäure oder Phosphorsäure, verwendet werden. Außerdem können die Säuren in verschiedenen Kombinationen miteinander verwendet werden. FUr die hier beschriebenen Zwecke ist Schwefelsäure die bevorzugte Saure. Die Konzentration der Säure kann innerhalb breiter Grenzen variieren, vorausgesetzt, daß sie in einer Menge vorliegt, die ausreicht, um den pH-Wert des Ätzmittels auf unterhalb 7 herabzusetzen. Diesbezüglich wurde gefunden, daß zum Ätzen von Kupfer unter Verwendung von Schwefelsäure als Säure die Ätzgeschwindigkeit bzw. Ätzrate nicht merklich erhöht wird, wenn die Säurekonzentration auf mehr als 0,1 n ansteigt. Der Säuregehalt des Ätzmittels variiert vorzugsweise zwischen etwa 0,01 und etwa 2,5 n, insbesondere zwischen etwa 0,5 und etwa 1,5 n.
  • Es sei darauf hingewiesen, daß in einem mit einer Arylsulfonsäure stabilisierten Ätzmittel bei Erhöhung der Molybdänkonzentration bis auf etwa 0,75 Mol pro Liter der normale Peroxidverbrauch verringert wird. Dies läßt vermuten, daß das Molybdän das primäre Ätzmittel ist und daß der Peroxidverbrauch nicht auf die Ätzung, sondern eher auf die Oxydation der reduzierten Form des Molybdäns zurückzuführen ist.
  • Neben der Erhöhung der Ätzgeschwindigkeit bzw. Atzrate scheint das Molybdän den Angriff auf die Lötmittelplatte im Kontakt mit dem geätzten Metall zu hemmen (zu inhibieren). Dies gilt nur fUr solche Ätzmittel, in denen eine Säure verwendet wird, die selbst normalerweise nicht die Lötmittelplatte angreift. So hemmt Molybdän beispielsweise den Angriff der Lötmittelplatte in einem Ätzmittel, in dem Schwefelsäure verwendet wird, es hemmt jedoch nicht den Angriff einer Lötmittelplattierung (Lötmittelplatte), wenn die Schwefelsäure durch Salpetersäure ersetzt wird.
  • Bei der am meisten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung wird das Ätzmittel stabilisiert, um eine katalytische Zersetzung des Peroxids, die durch Metallverunreinigungen hervorgerufen wird, zu verhindern. Obgleich die meisten an sich bekannten Stabilisatoren verwendet werden können, sind die bevorzugten Stabilisatoren Arylsulfonsäuren oder Salze davon, wie in der oben genannten US-Patentschrift 3 801 512 beschrieben. Ein bevorzugter Stabilisator ist Phenolsulfonsäure. Zu anderen Stabilisatoren, die verwendet werden können, gehören Sulfosalicylsäure und Toluolsulfonsäure. Die Konzentration der Sulfonsäure kann von 1 g pro Liter Lösung bis zur Löslichkeitsgrenze des Stabilisators variieren, sie variiert jedoch vorzugsweise zwischen 3 und 30 g pro Liter Lösung.
  • Bei Verwendung des erfindungsgemäßen Ätzmittels zum Ätzen von Kupfer bei 490C (1200F) löst das Bad etwa 70 bis etwa 80 g Kupfer pro Liter. Ein kontinuierlicher Betrieb bis zur Sättigung mit gelöstem Kupfer ist dadurch möglich, daß man die Wasserstoffperoxidkonzentration innerhalb von 50 bis 100 % ihrer Anfangskonzentration in dem Bad hält und jederzeit eine Menge aufrechterhält, die ausreicht, um ein Verhältnis von Peroxid zu Molybdän von mindestens 1:1 aufrechtzuerhalten. Wenn man das Dad auf Raumtemperatur abkühlen läßt, wird die Kristallisation der Kupferverbindungen induziert, die durch Filtrieren in Abhängigkeit von der verwendeten Säure abgetrennt (zurückgewonnen) werden können.
  • Durch Wiedereinstellung der Konzentration der Komponenten der Ätzlösung kann diese wiederverwendet werden.
  • Es sei darauf hingewiesen, daß mit fortschreitender Ätzung an der Grenzfläche zwischen dem Ätzmittel und dem Kupfer, wo die Ätzung stattfindet, sich eine tiefblaue Schicht bildet, welche die Farbe von Molybdän in einem niedrigeren Wertigkeitszustand hat. Dies läßt vermuten, daß das Molybdän durch Oxydation der Kupferschicht reduziert und diese aufgelöst worden ist. Diese tiefbloue Farbe bleibt an der Grenzfläche bestehen, bis das Ätzmittel gerührt wird.
  • Wenn es gerührt wird, verschwindet die Farbe, was vermuten läßt, daß das reduzierte Molybdän durch das Peroxid wieder zu hexavalentem Molybdän rückoxydiert worden ist. Wenn das Peroxid nicht in der Lösung vorhanden ist, schreitet die Ätzung nur fUr einen kurzen Zeitraum fort und danach stoppt die Ätzung. Während die Ätzung erfolgt, wird die gesamte Lösung tiefblau, was zeigt, daß dos Molybdän Kupfer ätzt, es wird jedoch in Abwesenheit des Peroxids nicht rückoxydiert.
  • Die erfindungsgemäßen Ätzmittel werden fUr die gleichen Zwecke wie ähnliche bekannte Ätzmittel verwendet. Sie eignen sich insbesondere fUr die Herstellung von gedruckten Schalttafeln und für die chemische Fräsung. Verfahren zur Herstellung von gedruckten Schalttafeln sind in zahlreichen Publikationen beschrieben, z.B.
  • in Coombs, "PRINTED CIRCUITS HANDBOOK", McGraw-Hill, Publishing Company, New York, 1967, Kapitel 5.
  • In einem typischen Verfahren zur Herstellung von gedruckten Schalttafeln wird ein geeignetes Basismaterial ausgewählt, wie z.B. ein mit Kupfer plattiertes Epoxyharz. An geeigneten Stellen werden Locher in das Brett gebohrt und die Wände der Löcher werden beispielsweise mit Kupfer metallisiert, um einen elektrischen Kontakt zwischen den beiden Oberflächen des Basismaterials herzustellen.
  • Verfahren zur Metallisierung sind an sich bekannt und sie umfassen die Stufen der Reinigung, der Aktivierung (Katalyse) und der stromlosen Kupferabscheidung.
  • Nach der Metallisierung der Löcher wird unter Anwendung eines Verfahrens, das als Musterplattierungsverfahren bekannt ist, ein elektrisches Leitermuster auf dem Kupfer erzeugt durch Aufbringen eines organischen Resistmaterials, bei dem es sich entweder um ein Photoresistmaterial oder um ein Gitter-Resistmaterial handeln kann, je nach Aufbau und Definition. Das Resistmaterial bedeckt das Kupfer, das nicht Teil des elektrischen Leitermusters ist1 rund läßt das Kupfer in Form eines elektrischen Leitermusters frei.
  • Die Dicke des Kupfermusters wird dann erhöht unter Anwendung stromloser und/oder elektrolytischer Kupferbeschichtungsverfahren. Nach der Kupferbeschichtung wird ein anderes Metallätzresistmaterial, beispielsweise ein Lötmittel (Lot)1 auf das Kupfer in dem elektrischen Leitermuster aufgebracht, um diese gegen die anschließend aufgebrachten Ätzmittel zu schUtzen, das organische Resistmaterial wird entfernt, wobei das unerwunschte Kupfer (das nicht Teil des elektrischen Leitermusters ist) freigelegt wird, und das unerwünschte Kupfer wird mit einem geeigneten Ätzmittel für das Kupfer, beispielsweise mit dem hier beschriebenen Ätzmittel, aufgelöst, während das elektrische Leitermuster durch das andere Metallätzresistmaterial gegen das Ätzmittel geschützt ist. In der Regel wird das andere Metallätzresistmaterial nicht nur im Hinblick auf seine Fähigkeit, gegen das Ätzmittel beständig zu sein, sondern auch im Hinblick auf seine Lötbarkeit ausgewählt, so daß die elektrischen Verbindungen direkt auf das Ätzresistmaterial aufgelötet werden können.
  • Eine Alternative zu dem Musterplattierungsverfahren ist ein Verfahren, das als Plattenplattierungsverfahren bekannt ist.
  • Dieses Verfahren ähnelt dem Musterplattierungsverfahren, jedoch mit der Ausnahme, daß das Kupfer vor dem Aufbringen des Resistmaterials bis zur vollen Dicke angereichert (abgeschieden) wird.
  • Die übrigen Stufen sind im wesentlichen die gleichen. Das Verfahren ist weniger vorteilhaft, da es die Abscheidung und Entfernung von größeren Mengen Kupfer umfaßt und daher weniger wirtschaftlich ist.
  • Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele näher erläutert, ohne jedoch darauf beschränkt zu sein.
  • Beispiele 1 - 7 Bestandteil 1 2 3 4 5 6 7 Schwefelsäure (50 %ig)l) (ml) 200 200 200 200 200 200 200 Wasserstoffperoxid (35%ig)(ml)100 100 100 100 100 100 100 Natriummolybdat (g) 0 1 5 10 20 50 100 Phenolsulfonsäure (g) 16 16 16 16 16 16 16 Wasser ad 1 Liter 2) Zeitspanne zum Ätzen von Kupfer bei 240C (750F)(Min.) 73 40 31 26 24 11 11 bei 490C (1200F)(Min.) 13 6 4 3 3 5 8 Wasserstoffperoxidverbrauch während der Ätzung (%) 7,3 3,4 3,3 5,6 4,2 6,4 11 > Batteriequalität oder besser 2) Durch Eintauchen eines mit einem 0,356 mm (1,4 mil) dicken KupferUberzug versehenen Epoxyharzsubstrats einer Größe von 7,6 cm x 7,6 cm (3 inch x 3 inch) in ein Ätzmittel Die vorstehenden Angaben erläutern den Einfluß der Molybdänkonzentration sowohl auf die Ätzgeschwindigkeit bzw. Ätzrate als auch auf den Peroxidverbrauch.
  • Beispiel 8 Das Ätzmittel des Beispiels 5 wurde verwendet zum kontinuierlichen Ätzen von Kupfer, bis der Gehalt an gelöstem Kupfer 70 g pro Liter Uberstieg. Während dieser Zeit wurden Peroxid und Schwefelsäure in dem erforderlichen Maße zugegeben, um eine akzeptable Ätzgeschwindigkeit bzw. Ätzrate bei 490C (1200F) zu erzielen. Danach wurde das Bad auf etwa 21oC (700F) abgekühlt und über Nacht stehen gelassen, wobei während dieser Zeit Kristalle in beträchtlicher Menge entstandtn, die vermutlich aus Kupfersulfatpentahydrat bestanden.
  • Beispiele 9'und 10 Es wurde die Grundzusammensetzung des Beispiels 5 verwendet, wobei diesmal jedoch die Schwefelsäure durch andere Säuren ersetzt wurde. Die verwendeten Säuren, die verwendeten Mengen und die dabei erhaltenen Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle angegeben.
  • Säure Menge Zeitspanne zum Ätzen von 1 g (ml) Kupfer (Min.) bei 24°C(75UF) bei 49 C(120VF) oel Chlorwasserstoffsäure(37%ig) 166 18 6 1/2 Methansulfonsäure (50%ig) 188 9 2 Aus den vorstehenden Angaben geht hervor, daß zum Ätzen von Kupfer die Schwefelsäure auch durch andere Säuren ersetzt werden kann.
  • Beispiel 11 Aus einem mit Kupfer plattierten Epoxyharz G-10-Substrat wurde unter Anwendung der nachfolgenden Stufenfolge eine gedruckte Schalttafel hergestellt: a) Das Substrat wurde gereinigt und an geeigneten Stellen wurden Löcher in das Substrat gebohrt, b) die Wände der Löcher wurden durch stromlose Plattierung, welche die Stufen der Aktivierung (Katalyse) mit einem Aktivator (Katalysator), wie z.t3. dem Catalyst 6F der Firma Shipley Company Inc.lumfaßte, metallisiert, mit einer schwachen Säurelösung beschleunigt und mit Kupfer stromlos plattiert, z.B. mit stromlosem Kupfer CP-74 der Firma Shipley Company Inc., c) es wurde ein positiv arbeitendes Photoresistmaterial, wie z.B. AZ-119, aufgebracht, exponiert und entwickelt, d) bis zur Erzielung der vollen gewünschten Dicke wurde eine Kupfer-Elektroplattierung durchgeführt, e) auf das freiliegende Kupfer wurde Lötmittel (Lot) durch Elektroplattierung aufgebracht, f) das Photoresistmaterial wurde durch Auflösen in einem dafUr geeigneten Lösungsmittel entfernt und g) das freigelegte Kupfer wurde durch Eintauchen der Platte in das Ätzmittel des Beispiels 5 bis zum Auflösen des gesamten unerwunschten Kupfers entfernt.

Claims (18)

  1. PatentansprUche 1. Ätzmittel nach Patent (P 27 OO 265.9), dadurch g e k e n n z e i c h n e t , daß es enthält oder besteht aus einer sauren Lösung einer Oxydationsmittelkombination aus einem Peroxid und Molybdän, wobei das Peroxid in einer zur Oxydation des Molybdäns und zur Erzielung einer anhaltenden Ätzung ausreichenden Menge und das Molybddn in einer zur Erhöhung der Ätzgeschwindigkeit (Ätzrate) bis auf eine Geschwindigkeit (Rate), die höher ist als die durch das Peroxid allein erzielbare Geschwindigkeit (Rate), ausreichenden Menge vorliegen.
  2. 2. Ätzmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis von Peroxid zu Molybdän mindestens 1:1 beträgt.
  3. 3. Ätzmittel nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Peroxidkonzentration zwischen 0,1 und 10 Mol pro Liter und die Molybdänkonzentvation zwischen 0,01 und 1,0 Mol pro Liter variieren.
  4. 4. Ätzmittel nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Peroxidkonzentration zwischen 0,5 und 2,5 Mol pro Liter und die Molybdänkonzentration zwischen 0,02 und 0,5 Mol pro Liter variieren.
  5. 5. Ätzmittel nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß es als Peroxid Wasserstoffperoxid enthält.
  6. 6. Ätzmittel nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß es als Säure Schwefelsdure enthdlt.
  7. 7. Ätzmittel nach den Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß es enthält oder besteht aus einer sauren Lösung einer oxydierenden Kombination aus Wasserstoffperoxid und Molybdän, worin das Peroxid in einer Menge von etwa 0,1 bis etwa 10 Mol pro Liter und das Molybdän in einer Menge von etwa 0,01 bis etwa 1 Mol pro Liter vorliegen und worin das Verhältnis von Peroxid zu Molybdän mindestens 1:1 beträgt.
  8. 8. Ätzmittel nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß es als Säure Schwefelsäure enthalt.
  9. 9. Ätzmittel nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Sdurekonzentration zwischen 0,01 und 2,5 n, die Peroxidkonzentration zwischen 0,1 und 10 Mol pro Liter und die Molybdän konzentration zwischen 0,01 und 1,0 Mol pro Liter variieren.
  10. 10. Ätzmittel nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Säurekonzentration zwischen 0,5 und 1,5 n, die Peroxidkonzentration zwischen 0,5 und 2,5 Mol pro Liter, die Molybdänkonzentration zwischen 0,02 und 0,5 Mol pro Liter variieren und das Verhältnis von Peroxid zu Molybdän mindestens 1,2:1 beträgt.
  11. 11. Ätzmittel nach den AnsprUchen 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß es enthält oder besteht aus einer Oxydationsmittelkombination in einer Schwefelsaurelösung, wobei die Oxydationsmittelkombination enthält oder besteht aus Wasserstoffperoxid und Molybdän und wobei die Schwefelsöurekonzentration zwischen 0,01 und 2,5 Mol pro Liter, die Wasserstoffperoxidkonzentration zwischen etwa 0,1 und etwa 10 Mol pro Liter, die Molybdänkonzentration zwischen etwa 0,02 und etwa 0,5 Mol pro Liter variieren und das Verhältnis von Peroxid zu Molybdän mindestens 1:1 beträgt.
  12. 12. Ätzmittel nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Sd.urekonzentration zwischen 0,5 und 1,5 n, die Peroxidkonzentration zwischen 0,5 und 2,5 Mol pro Liter, die Molybdankonzentration zwischen 0,02 und 0,5 Mol pro Liter variieren und das Verhältnis von Peroxid zu Molybdän mindestens 1,2:1 betrugt.
  13. 13. Verfahren zum Ätzen eines Metalls, dadurch gekennzeichnet, daß man das Metall mit dem Ätzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 12 in Kontakt bringt.
  14. 14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß man das Metall mit dem Ätzmittel nach Anspruch 7 in Kontakt bringt.
  15. 15. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß man das Metall mit dem Ätzmittel nach Anspruch 11 in Kontakt bringt.
  16. 16. Verfahren nach den Anspruchen 13 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß man als Metall Kupfer verwendet.
  17. 17. Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schalttafel, bei dem man auf eine Kupferplattierung ein Resistmaterial aufbringt und das unerwünschte Kupfer durch Ätzen entfernt, dadurch gekennzeichnet, daß man zum Ätzen des unerwUnschten Kupfers das Ätzmittel nach einem der Anspruche 1 bis 12, insbesondere nach Anspruch 11, verwendet, wobei ein Kupfermuster zurückbleibt.
  18. 18. Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß man das Resistmaterial entfernt und auf das zurückbleibende Kupfermuster Lötmittel (Lot) aufbringt.
DE19782800851 1978-01-10 1978-01-10 Aetzmittel und dessen verwendung zum aetzen von metall Withdrawn DE2800851A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19782800851 DE2800851A1 (de) 1978-01-10 1978-01-10 Aetzmittel und dessen verwendung zum aetzen von metall

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19782800851 DE2800851A1 (de) 1978-01-10 1978-01-10 Aetzmittel und dessen verwendung zum aetzen von metall

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2800851A1 true DE2800851A1 (de) 1979-07-19

Family

ID=6029228

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19782800851 Withdrawn DE2800851A1 (de) 1978-01-10 1978-01-10 Aetzmittel und dessen verwendung zum aetzen von metall

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE2800851A1 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2586033A1 (fr) * 1985-08-12 1987-02-13 Psi Star Inc Procede et solution pour l'attaque du cuivre
CN111020585A (zh) * 2019-12-28 2020-04-17 苏州天承化工有限公司 一种硫酸过氧化氢体系的粗化微蚀液及其应用

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2586033A1 (fr) * 1985-08-12 1987-02-13 Psi Star Inc Procede et solution pour l'attaque du cuivre
CN111020585A (zh) * 2019-12-28 2020-04-17 苏州天承化工有限公司 一种硫酸过氧化氢体系的粗化微蚀液及其应用

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE10136078B4 (de) Wässrige Lösung zum kontinuierlichen Mikroätzen von Kupfer oder Kupferlegierung
US4144119A (en) Etchant and process
DE1298383B (de) Verfahren und Mittel zum chemischen Aufloesen von Kupfer
DE2700265A1 (de) Aetzmittel
DE3002166A1 (de) Verfahren zur herstellung von gedruckten schaltungsplatten
DE1621419B2 (de) Mittel und verfahren zum aetzen von metallen insbesondere kupfer
DE19732419A1 (de) Ätzmittel, Verfahren zum Aufrauhen von Kupferoberflächen und Verfahren zum Herstellen von Leiterplatten
CH654597A5 (de) Chemische zubereitung zur entfernung von zinn und zinn/blei-legierungen von der metallischen oberflaeche von substraten.
CH642676A5 (de) Verfahren und mittel zum aufloesen von metallen.
DE1521663A1 (de) AEtzmittel und Verfahren zur Aufloesung von Metallen
DE3430341A1 (de) Verfahren zum loesen von metallen unter verwendung eines glykolethers
DE3430345A1 (de) Verfahren zum loesen von metallen
EP0072456B1 (de) Stripperlösung
DE3139757C2 (de) Verfahren zur Regenerierung von Palladium und Zinn enthaltenden wäßrigen Aktivatorlösungen
DE2412134A1 (de) Mittel und verfahren zum reinigen von zinn-blei-legierungen
DE2800851A1 (de) Aetzmittel und dessen verwendung zum aetzen von metall
CH638567A5 (de) Verfahren zum aufloesen von metallen.
AT395177B (de) Aetzloesung
DE2823068A1 (de) Saure loesung fuer den selektiven angriff von kupfer
DE2536516A1 (de) Verfahren zur stromlosen metallabscheidung auf einem peroxid bildenden substratmetall
CH666055A5 (de) Verfahren zum loesen von metallen unter verwendung von epsilon-caprolactam.
DE3430346A1 (de) Verfahren zum loesen von metallen unter verwendung von pyrrolidon
DE1771064A1 (de) Verfahren zur chemischen Aufloesung von Metall
DE3430342A1 (de) Verfahren zum loesen von metallen unter verwendung eines furanderivats
EP0167949A1 (de) Mittel für die stromlose Abscheidung von Zinn und/oder Blei

Legal Events

Date Code Title Description
8141 Disposal/no request for examination