DE2721250A1 - Optoelektronisch gekoppelte halbleiteranordnung - Google Patents
Optoelektronisch gekoppelte halbleiteranordnungInfo
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 52
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 22
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 3
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 claims description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 3
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 15
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 11
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 7
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 6
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 5
- 239000006023 eutectic alloy Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 229910017401 Au—Ge Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910015365 Au—Si Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910020220 Pb—Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/12—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto
- H01L31/16—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto the semiconductor device sensitive to radiation being controlled by the light source or sources
- H01L31/167—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto the semiconductor device sensitive to radiation being controlled by the light source or sources the light sources and the devices sensitive to radiation all being semiconductor devices characterised by at least one potential or surface barrier
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- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/8338—Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/83385—Shape, e.g. interlocking features
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/0132—Binary Alloys
- H01L2924/01322—Eutectic Alloys, i.e. obtained by a liquid transforming into two solid phases
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1203—Rectifying Diode
- H01L2924/12036—PN diode
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1204—Optical Diode
- H01L2924/12041—LED
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
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- H01L2924/1204—Optical Diode
- H01L2924/12042—LASER
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- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1301—Thyristor
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/156—Material
- H01L2924/15786—Material with a principal constituent of the material being a non metallic, non metalloid inorganic material
- H01L2924/15787—Ceramics, e.g. crystalline carbides, nitrides or oxides
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/191—Disposition
- H01L2924/19101—Disposition of discrete passive components
- H01L2924/19102—Disposition of discrete passive components in a stacked assembly with the semiconductor or solid state device
- H01L2924/19103—Disposition of discrete passive components in a stacked assembly with the semiconductor or solid state device interposed between the semiconductor or solid-state device and the die mounting substrate, i.e. chip-on-passive
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- H01L2924/30—Technical effects
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Description
Optoelektronisch gekoppelte Halbleiteranordnung
Die Erfindung bezieht sich auf eine optoelektronisch gekoppelte Halbleiteranordnung, die gewöhnlich Photokoppler
genannt wird, insbesondere auf Verbesserungen beim optischen Aufbau einer solchen Anordnung.
Ein Photokoppler hat allgemein einen derartigen Aufbau, daß ein mit einem Eingangsanschluß verbundenes Lichterzeugungsbauelement
gegenüber einem mit einem Ausgangsanschluß verbundenen Lichtempfangsbauelement oder lichtempfindlichen
Bauelement angeordnet ist. Im Photokoppler wird ein dem Eingangsanschluß zugeführtes elektrisches
Signal einmal durch das Lichterzeugungsbauelement in
8l-(A226O-O2)-TSl
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Licht umgewandelt, um zum Lichtempfangsbauelement übertragen
zu werden, wo das Licht wieder in das ursprüngliche elektrische Signal umgewandelt wird, um am Ausgangsanschluß
aufzutreten. Daher ist der Photokoppler insofern vorteilhaft, als sich der Eingang und der Ausgang elektrisch voneinander
isolieren lassen. Der Photokoppler mit diesem Vorteil wird weithin als Signalübertragungsmittel zwischen
zwei gekoppelten Schaltkreisen verwendet, bei denen eine Notwendigkeit zur Verhinderung gegenseitiger elektrischer
Störung besteht.
Es ist ganz natürlich, daß eines der wichtigsten Erfordernisse für einen solchen Photokoppler ein befriedigender
Wirkungsgrad der Photokopplung ist, und zur Erreichung eines möglichst hohen Photokopplungswirkungsgrades ist es
wesentlich, den optischen Aufbau des Photokopplungsmittels zwischen dem Lichterzeugungsbauelement und dem Lichtempfangsbauelement
zu verbessern.
Obwohl einige bisher bereits zwecks Verbesserung des optischen Aufbaus der Photokopplungseinrichtung zwischen
dem Lichterzeugungsbauelement und dem Lichtempfangsbauelement gemachte Vorschläge für die Verbesserung des Photokopplungswirkungsgrades
bis zu einem gewissen Ausmaß erfolgreich waren, führten die bekannten Vorschläge zu einem
komplizierten Aufbau der Photokopplungseinrichtung und zu einer unvermeidlich damit verbundenen unerwünschten Verringerung
der Massenhersteilbarkeit.
Das als Lichtquelle des Photokopplers verwendete Lichterzeugungsbauelement
wird in zwei Typen unterteilt, nämlich den Typ, bei dem die Lichtabstrahlungsoberflache parallel
zum lichterzeugenden PN-Übergang liegt, und den Typ, bei dem die Lichtabstrahlungsoberfläche im rechten Winkel zum
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lichterzeugenden PN-Übergang liegt. Zur Vereinfachung der
Erklärung sollen der erstere und der letztere Typ weiter als Lichterzeugungsbauelement des vertikal strahlenden Typs
bzw. als Lichterzeugungsbauelement des horizontal strahlenden Typs bezeichnet werden. Das Lichterzeugungsbauelement
des horizontal strahlenden Typs hat eine besondere Helligkeitsverteilung in seiner Lichtabstrahloberfläche, und
daher läßt sich ein Photokoppler mit einem sehr hohen Photokopplungswirkungsgrad herstellen, wenn das Lichterzeugungsbauelement
dieses Typs gegenüber dem Lichtempfangsbauelement in derartiger Relativstellung angeordnet wird,
daß die Helligkeitsverteilung der Lichtabstrahloberfläche des ersteren zur Lichtempfindlichkeitsverteilung des letzteren
paßt. Trotz der obigen Tatsache wurde das Lichterzeugungsbauelement des vertikal strahlenden Typs bisher am
meisten verwendet. Einer der Gründe hierfür beruht darauf, daß das lichterzeugende Bauelement des horizontal strahlenden
Typs einen komplizierten Montageaufbau erfordert, der zur Massenproduktion nicht geeignet ist.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine
neue optoelektronisch gekoppelte Halbleiteranordnung zu entwickeln, mit der die erwähnten Nachteile überwunden werden
und die sowohl die gewünschte Verbesserung des Photokopplungswirkungsgrades als auch die gewünschte Verbesserung
der Massenproduzierbarkeit ermöglicht.
Gegenstand der Erfindung, womit diese Aufgabe gelöst wird, ist eine optoelektronisch gekoppelte Halbleiteranordnung
mit einem Lichterzeugungshalbleiterbauelement, einem Lichtempfangshalbleiterbauelement, einem Träger der beiden
Halbleiterbauelemente und Anschlußleiterbahnen auf dem Träger in Verbindung mit den Elektroden der Halbleiterbauelemente,
mit dem Kennzeichen, daß der Träger ein Paar parallel verlaufender Oberflächen zum Tragen der Halbleiterbauelemen-
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te und einen zwischen den parallelen Oberflächen erstreckten optischen Pfad zum optoelektronischen Koppeln der
beiden Halbleiterbauelemente miteinander aufweist und daß jedes der Halbleiterbauelemente mit wenigstens zwei starren Elektroden mit zu den parallelen Oberflächen des Trägers parallelen Oberflächen versehen ist, welche Elektroden elektrisch und mechanisch an einer ihrer parallelen
Oberflächen durch Lot mit leitenden Verbindungsschichten verbunden sind, die an bestimmten Stellen einer der
parallelen Oberflächen des Trägers freiliegen.
Nach einer Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß das Lichterzeugungshalbleiterbauelement eine Lichterzeugungsbaueinheit mit wenigstens einem Lichterzeugungselementplättchen des horizontal strahlenden Typs und einem
Paar von blockartigen, auf den gegenüberliegenden Elektrodenträger-Oberflächen des Plättchens montierten Elektroden
darstellt.
Nach einer anderen Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß das Lichtempfangshalbleiterbauelement eine
Halbleiterunterlage mit wenigstens einem darin ausgebildeten Lichtempfangsbauelement darstellt, wobei der Träger
eine auf der Halbleiterunterlage vorgesehene elektrische Isolierschicht aufweisen kann.
Nach einer anderen Ausführungsart der Erfindung ist vorgesehen, daß das Lichtempfangshalbleiterbauelement eine
Halbleiterunterlage mit wenigstens einem darin ausgebildeten Lichtempfangsbauelement darstellt und der Träger eine durch
übereinanderschichten und gegenseitiges Befestigen einer ersten keramischen Unterlage mit wenigstens einer mittigen
Ausnehmung zur Aufnahme der Lichterzeugungsbaueinheit und einer zweiten keramischen Unterlage mit an bestimmten Stellen ihrer Oberfläche freiliegenden leitenden Verbindungs-
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schichten erhaltene Keramikbasis aufweist, wobei die Lichterzeugungsbaueinheit auf der Keramikbasis montiert
ist und die Halbleiterunterlage an der Keramikbasis zum Empfang des von der Lichterzeugungsbaueinheit abgestrahlten
Lichts befestigt ist.
Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen 5 bis 10 gekennzeichnet.
Die Erfindung wird anhand der in der Zeichnung veranschaulichten Ausführungsbeispiele näher erläutert; darin
zeigen:
Fig. 1 eine schematische Ansicht des Aufbaus einer elektrischen Schaltanordnung mit einem bekannten
Photokoppler, bei dem ein Lichterzeugungsbauelement des horizontal strahlenden Typs verwendet ist;
Fig. 2 ein Diagramm zur Veranschaulichung des Unterschiedes in der Helligkeitsverteilung zwischen
einem Lichterzeugungsbauelement des vertikal strahlenden Typs und einem Lichterzeugungsbauelement
des horizontal strahlenden Typs;
Fig. 3 eine schematische Schnittdarstellung eines
Ausführungsbeispiels des Photokopplers gemäß der Erfindung;
Fig. 4 eine vergrößerte, teilweise geschnittene
Perspektivansicht der Lichterzeugungsbaueinheit des in Fig. 3 gezeigten Photokopplers;
Fig. 5 eine schematische Teilschnittdarstellung eines anderen Ausführungsbeispiels des Photokopplers
gemäß der Erfindung; und
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Fig. 6 eine schematische Teilschnittdarstellung eines weiteren Ausfllhrungsbeispiels des Photokopplers
gemäß der Erfindung.
Zum besseren Verständnis der Erfindung soll vor deren näherer Beschreibung zunächst der Aufbau einer Schaltungsanordnung
mit Verwendung eines bekannten Photokopplers erläutert werden, der von einem Lichterzeugungsbauelement
des horizontal strahlenden Typs Gebrauch macht.
Gemäß Fig. 1 weist ein Lichtempfangsbauelement 1 oder ein Kontaktelement in einer solchen Schaltungsanordnung
ein Paar von N -Emitterbereichen 10 und 11, einen N+-Kollektorbereich
12 und einen P-Basisbereich 13 auf. Ein Lichterzeugungsbauelement 2 oder ein Betätigungselement in der
Schaltungsanordnung weist einen N-Bereich 20 und einen P-Bereich 21 auf, die durch Dotieren eines Plättchens aus
Galliumarsenid mit Tellur bzw. Zink gebildet sind. Dieses Betätigungselement 2 ist also eine Injektionslaserdiode
aus Galliumarsenid. Die Laserwirkung dieser Diode ist derart, daß die Diode kohärentes Licht einer Infrarotwellenlänge
von 8400 8 mit einem Bündeldivergenzwinkel unter 4° bei einem Wirkungsgrad nahe 100 % abstrahlt, wenn
Strom durch die Diode mit einer Stromdichte von 10 000 bis 100 000 A/cm fließt. Diese Schaltungsanordnung wird beispielsweise
durch Umgeben der Bauelemente mit herkömmlichen Metall-Glas-Kopfstücken oder durch Anbringung einer solchen
Schaltungsanordnung auf einer Keramikplatte oder ähnlichen elektrisch isolierenden Basis und anschließende Anbringung
von Elektrodenzuführungen 31 bis 34 an der Unterlage montiert.
Bei einem ein Lichterzeugungsbauelement des horizontal strahlenden Typs verwendenden typischen bekannten Photo-
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koppler wurde allgemein ein Lichterzeugungselementplättchen in einer an der Oberfläche einer Basis mit mehrlagigen
Keramikunterlagen gebildeten Ausnehmung befestigt, und Elektrodenschichten des Lichterzeugungselementplättchens
wurden durch Drahtverbindung über Zuleitungen zu auf der Keramikbasis vorgesehenen leitenden Verbindungsschichten
angeschlossen. So traf man tatsächlich beim Verbinden der Elektrodenschichten des Lichterzeugungselementplättchens
mit den leitenden Verbindungsschichten auf der Basis mittels der Drahtverbindung nach Lageeinstellung des Lichterzeugungselementplättchens
relativ zur Unterlage mit einem darauf ausgebildeten Lichtempfangsbauelement äußerste Schwierigkeiten
an. Diese Schwierigkeiten wurden insbesondere noch ausgeprägter wegen der Notwendigkeit, daß das Lichterzeugungselementplättchen
und die Unterlage mit dem darauf ausgebildeten Lichtempfangsbauelement in enger Nähe zueinander (allgemein
innerhalb eines Abstandes von weniger als 1 mm) angeordnet werden müssen, um den Photokopplungswirkungsgrad zu
verbessern. Es war daher die übliche Praxis, daß die Unterlage mit dem darauf ausgebildeten Lichtempfangsbauelement
und das Lichterzeugungselementplättchen in der genannten gegenseitigen Lage nach Vollendung der elektrischen Verdrahtung
befestigt werden. Jedoch ist dies unter dem Gesichtspunkt einer Massenproduktion sehr unbefriedigend, da
die Anbringung der elektrischen Verdrahtung, und die Befestigung der Elemente in gesonderten Schritten durchgeführt
werden. Weiter werden viele Arbeitsstunden zum Zusammenbau der Lichterzeugungsbaueinheit durch Verbinden des
Lichterzeugungsbauelements mit der elektrischen Verdrahtung benötigt, und DrahtbruchstÖlungen, Unterbrechungsströrungen
und andere Störungen können während der Einstellung der Lichterzeugungsbaueinheit
in einer bestimmten Lage aufgrund mechanischer Stöße oder ähnlicher Kräfte leicht auftreten,
die ggf. auf die Lichterzeugungsbaueinheit einwirken.
Es wurden bereits einige Vorschläge im Bestreben zur
Verbesserung der Massenproduzierbarkeit gemacht. Nach diesen
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Vorschlägen werden die elektrisehe Verdrahtung für das
Lichterzeugungsbauelement und die für das Lichtempfangsbauelement in zueinander parallelen Ebenen, d. h. in der
gleichen Richtung angeordnet. Jedoch sind diese Vorschläge unter dem Gesichtspunkt der Verbesserung des Photokopplungswirkungsgrades nicht immer befriedigend. Bei einem der Vorschläge nach dem Stand der Technik wird die optische Kopplung zwischen dem Lichterzeugungsbauelement und dem Lichtempfangsbauelement durch Reflexion des von der Seitenoberfläche des Lichterzeugungsbauelements abgegebenen Lichts
und Lenkung des reflektierten Lichts zum Lichtempfangsbauelement erreicht. Obwohl diese Lösung im Sinne der Vermeidung einer unerwünschten Verringerung der Massenproduzierbarkeit aufgrund komplizierten elektrischen Verdrahtens wirksam ist, muß hier ein Lichtreflektor hoher Präzision genau
angeordnet werden, und daher ergibt auch das mit dieser bekannten Lösung offenbarte Verfahren eine unerwünschte
Verringerung der Massenproduzierbarkeit. Außerdem führt der verlängerte Lichtpfad zwischen dem Lichterzeugungsbauelement und dem Lichtempfangsbauelement zu Lichtabsorptionsund -streuverlusten, die eine unerwünschte Verringerung des
Photokopplungswirkungsgrades zur Folge haben.
Es sollen nun bevorzugte Ausführungsbeispiele des Photokopplers gemäß der Erfindung im einzelnen beschrieben werden, der die Fehler der bekannten Anordnungen überwindet.
Fig. 2 ist eine graphische Darstellung der Helligkeitsverteilungscharakteristik eines Lichterzeugungsbauelements
des horizontal strahlenden Typs im Verhältnis zu der eines Lichterzeugungsbauelements des vertikal strahlenden Typs.
Man ersieht aus der HelligkeitsVerteilungskurve A in Fig. 2, daß die vom Lichterzeugungsbauelement des vertikal strahlenden Typs abgegebene Lichtstärke angenähert über ihre ganze
zum PN-Übergang parallele Oberfläche gleichmäßig ist. Dage-
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gen hat, wie man anhand der Helligkeitsverteilungskurve B in Fig. 2 erkennt, die vom Lichterzeugungsbauelement des
horizontal strahlenden Typs abgegebene Lichtstärke einen Spitzenwert in der Nähe des PN-Übergangs im P-Bereich,
und dieser Spitzenwert ist weit größer als der des Lichterzeugungsbauelements des vertikal strahlenden Typs.
Fig. 3 ist eine schematische Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels des Photokopplers gemäß der Erfindung.
Gemäß Fig. 3 weist der Photokoppler eine keramische Basis, die durch fest verbundene Beschichtung einer keramischen
Unterlage 42 mit einer weiteren keramischen Unterlage 44 mit einer mittigen öffnung erhalten ist, ein in der mittigen
öffnung der Keramikunterlage 44 der Keramikbasis aufgenommene Lichterzeugungsbaueinheit 40 und eine Lichtempfangsbauelement-Tragunterlage
50 auf, die an der Keramikunterlage 44 der Keramikbasis zum Empfang des von der Lichterzeugungsbaueinheit
40 ausgestrahlten Lichts befestigt ist. (Nicht dargestellte) gedruckte leitende Verbindungsschichten sind
auf der Oberseite der Keramikunterlage 44 unter Erstreckung von der fixierten Stelle der Unterlage 50 zu einem Paar von
Zuführungsstiften 46 bzw. 48 vorgesehen. Ein Photothyristor 50a ist in einer Hauptoberfläche der Unterlage 50 so ausgebildet,
daß sein Durchlaßspannungsblockier-PN-übergangsteil
mit von der Lichterzeugungsbaueinheit 40 abgestrahltem Licht bestrahlt oder ausgelöst werden kann. Die Elektrodenschichten
des Photothyristors 50a sind elektrisch gegenüber der Unterlagenoberfläche durch eine Schicht eines elektrischen Isolierstoffs,
wie z. B. SiOp» isoliert. Man erkennt in Fig. 3» daß die Unterlage 50 an ihrer nach unten gekehrten Oberseite
mit der Oberseite der Keramikunterlage 44 verbunden ist, so daß die Kathoden- und Anodenschichten des Photothyristors
50a elektrisch mit den zu den Zuführungsstiften 46 bzw. 48 führenden gedruckten leitenden Verbindungsschichten
verbunden werden können.
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Die Lichterzeugungsbaueinheit 40 ist an der Oberseite der Keramikbasis 42 innerhalb der mittigen Ausnehmung
der Keramikunterlage 44 befestigt, und ein lichtdurchlässiges, elektrisch isolierendes Harzmaterial, wie z. B. ein Silikonharz
oder Epoxyharz, ist zur Wärmeaushärtung in die mittige Ausnehmung der Keramikunterlage 44 und den Hohlraum zwischen
den Unterlagen 50 und 44 eingefüllt.
Fig. 4 veranschaulicht deutlich den Aufbau der Lichterzeugungsbaueinheit
40 und die Art ihrer Befestigung. Gemäß Fig. 4 weist die Lichterzeugungsbaueinheit 40 ein Infrarotlichtemissionsdiodenplättchen
60 aus GaAs und ein Paar von blockartigen Elektroden 66 und 68 aus beispielsweise Kupfer
auf, die fest mit den gegenüberliegenden parallelen Oberflächen des Lichtemissionsdiodenplättchens 60 durch ein Paar
von Metallschichten 62 bzw. 64 verbunden sind, die einen ohmschen Kontakt an den Verbindungsflächen sichern. Ein praktisches
Verfahren .zur Herstellung dieser Lichterzeugungsdiodeneinheit 40 soll später im einzelnen beschrieben werden.
Mit der Anode und der Kathode des Diodenplättchens 60 in der Lichterzeugungsdiodeneinheit 40 verbundene gedruckte leitende
Verbindungsschichten 70 und 72 sind auf der Oberseite der unteren Keramikunterlage 42 unter Erstreckung bis zu
Stellen vorgesehen, an denen (nicht dargestellte) den Zuführungsstiften 46 und 48 nach Fig. 3 analoge Diodenelektrodenzuführungsstifte
montiert sind. Der Unterlagenoberflächenteil, auf dem die gedruckten leitenden Verbindungsschichten 70 und 72 nicht vorgesehen sind, ist mit einer
Glasschicht 78 abgedeckt, während die Unterlagenoberflächenteile
mit diesen gedruckten leitenden Verbindungsschichten 70 und 72 darauf mit Glasschichten 80 bzw. 82 bedeckt sind.
Die Elektroden 66 und 68 der Lichterzeugungsdiodeneinheit 40 sind an der entgegengesetzten, zur Lichtabstrahloberfläche
S1 parallelen Oberfläche mit den zugehörigen leitenden Verbindungsschichten
70 und 72 durch Lotschichten 74 bzw. 76 fest verbunden.
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Beim Betrieb der in den Fig. 3 und 4 gezeigten Anordnung
strahlt das Lichterzeugungsdiodenplättchen 60 Licht im Ansprechen auf die Auslösung seines Lichtabstrahl-PN-Uberganges
durch die Elektroden 66 und 68 aus, und das abgestrahlte Licht durcheilt eine Minimalentfernung zum Bestrahlen der
Verarmungsschicht des Durchlaßspannungsblockier-PN-Ubergangsteils
des gegenüber der Lichtabstrahloberfläche S1 des
Diodenplättchens 60 angeordneten Photothyristors 50a. Der Photokopplungswirkungsgrad wird in diesem Fall hauptsächlich
durch den Abstand zwischen dem Lichterzeugungs-PN-übergang und dem Lichtempfangs-PN-Übergang und der Montagegenauigkeit
der Diode Ί0 und der Unterlage 50 bestimmt. Der Photokopplungswirkungsgrad
bei der in Fig. 3 und 4 gezeigten Anordnung ist hoch, da der obige Abstand bedeutend kleiner gemacht
werden kann, und es läßt sich eine Montagetoleranz in der Größenordnung von 100 ,um erreichen. Daher wird
der Photothyristor 50a wirksam ausgelöst, um durch den optischen Ausgang der Lichterzeugungsdiode 60 angeschaltet zu
werden.
Es soll nun ein beispielsweises Verfahren zur Herstellung der in Fig. 3 und 4 dargestellten Anordnung kurz beschrieben
werden.
Die Schritte der Herstellung der Lichterzeugungsbaueinheit 40 umfassen die Herstellung einer Lichterzeugungsdiodenplatte
aus mit Si dotiertem GaAs nach einem Flüssigphasenwachstumsverfahren und das Schleifen der P-Schicht und der
N-Schicht der Diodenplatte auf Dicken von 80 ,um bzw. 120 ,um.
Dann werden ohmschen Kontakt liefernde Schichten von Au-Zn und Au und eine Legierungsschicht aus Au-Ge auf der P-Schicht
der Diodenplatte durch Vakuumverdampfung abgeschieden, und in gleicher Weise werden ohmschen Kontakt liefernde Schichten
aus Au-Ge-Ni und Au und eine Legierungsschicht aus Au-Ge
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auf der N-Schicht der Diodenplatte durch Vakuumverdampfung abgeschieden. Anschließend wird ein Paar von Elektroden
ergebenden Platten aus Kupfer von etwa 500 »um Dicke auf die auf der P-Schicht und der N-Schicht der Diodenplatte
vorgesehenen Vakuumaufdampfschichten aufgelegt und einer Legierungsbehandlung bei einer Temperatur von etwa 390 0C
in einer N2-Inertgasatmosphäre unterworfen, um die Kupferelektroden
fest mit den gegenüberliegenden Hauptoberflächen der GaAs-Diodenplatte zu verbinden. Die Diodenplatte wird
anschließend in Plättchen zerteilt, deren jedes eine Oberfläche von etwa 1JOO /Um χ 400 .um aufweist, und die Teilungsoberflächen der Plättchen werden dann einem Schleifvorgang
unterworfen. Dann wendet man auf jedes Plättchen mit den geschliffenen Oberflächen eine Xtzbehandlung zu deren Reinigung
an, wodurch man eine in Fig. 1 vergrößert dargestellte Lichterzeugungsbaueinheit lO erhält. Von den geschliffenen
Oberflächen S1 und S2 wird die Lichtabstrahloberfläche S1
vorzugsweise besonders fein poliert.
Die so hergestellte Lichterzeugungsbaueinheit 1JO wird
auf einer unteren Keramikunterlage 12 angeordnet, wobei man dazwischen Lotschichten 71 und 76 aus Pb-Sn-Lot einfügt,
wie Fig. 1 zeigt. Diese untere Keramikunterlage 12 wurde bereits mit gedruckten leitenden Verbindungsschichten 70 und
72 versehen, und deren Oberfläche wurde bereits mit Glasschichten 78, 80 und 82 gemäß Fig. 1 abgedeckt. Nach Anordnung
der Lichterzeugungsbaueinheit lO auf der unteren Keramikunterlage 12 wird eine Wärmebehandlung bei einer
Temperatur von etwa 320 0C in einer Np-Inertgasatmosphäre
durchgeführt, um die blockartigen Kupferelektroden 66 und mit den leitenden Verbindungsschichten 70 und 72 über die
Lotschichten 71 bzw.76 an der der Lichtabstrahloberfläche S1
gegenüberliegenden Oberfläche S2 fest zu verbinden.
Eine einen Photothyristor tragende Unterlage 50 aus
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Silizium wird dann mit der Oberseite nach unten gekehrt auf einer oberen Keramikunterlage 41 mittels der gesteuerten
Zusammenfalle"collapse")verbindungstechnik entsprechend Fig. 3 befestigt. Ein lichtdurchlässiges, wärmehärtendes
elektrisches Isolierharzmaterial, wie z. B. ein Silikonharz oder Epoxyharz, wird dann in den Hohlraum zwischen
den Unterlagen 50 und M gefüllt und ausgehärtet, um eine lichtdurchlässige, elektrisch isolierende Harzschicht 52
entsprechend Fig. 3 zu schaffen und so den gewünschten Photokoppleraufbau zu erhalten.
Es ist aufgrund der obigen Beschreibung des ersten Ausführungsbeispiels
der Erfindung klar, daß die elektrische Verbindung auf der Oberfläche des Lichterzeugungsbauelements
des horizontal strahlenden Typs, die parallel zur die elektrische Verbindungsschicht tragenden Oberfläche des
Lichtempfangsbauelements ist, vorgenommen werden kann. Daher lassen sich der Bauelementbefestigungsvorgang und der Vorgang
der elektrischen Verbindung gleichzeitig durchführen, wodurch eine sehr hohe Massenproduktionsgeschwindigkeit gesichert
wird. Weiter ergibt sich aufgrund der Tatsache, daß die gegenüberliegenden Oberflächen des Lichterzeugungsdiodenplättchens
6o durch die blockartigen Kupferelektroden 66 und 68 geschützt sind, eine verringerte Möglichkeit von
mechanischen Schäden am Plättchen 60 während der Stadien des Transports, der Montage und der Befestigung der Lichterzeugungsbaueinheit
^O, wodurch diese Vorgänge erleichtert werden und die Ausbeute erheblich gesteigert wird.
Der Photokoppler gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung kann nicht nur mit hohem Photokopplungswirkungsgrad,
wie oben beschrieben, arbeiten, sondern er weist auch eine ausgezeichnete Wärmeabstrahlkapazität auf, da
die mit den gegenüberliegenden Seiten des Plättchens des Lichterzeugungsbauelements verbundenen blockartigen Kupfer-
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elektroden auch als Wärmeabführorgan wirken. Das hervorragende Maß der Wärmeabstrahleignung der Lichterzeugungsbaueinheit
bringt die Vorteile, daß sich die Steuerleistung für das Lichterzeugungsbauelement steigern läßt,
daß die brauchbare Lebensdauer des Lichterzeugungsbauelements erhöht werden kann und daß sich auch die gewünschte
Verläßlichkeit sichern läßt. Es wurde praktisch bestätigt, daß Sättigung mit einem Strom von 80 mA bei der
Lichterzeugungsbaueinheit auftrat, in der die Erfindung nicht angewandt wurde, während Sättigung bis zu einem
Stromwert von 130 mA bei der Lichterzeugsbaueinheit gemäß der Erfindung nicht auftrat, und die Anwendung der Erfindung
konnte so das Niveau der Steuerleistung erheblich steigern.
Fig. 5 ist eine schematische Schnittdarstellung eines
Teils eines anderen Ausführungsbeispiels des Photokopplers gemäß der Erfindung.
Gemäß Fig. 5 sind gedruckte leitende Verbindungsschichten 92 und 9^ zum elektrischen Anschluß an ein Lichterzeugungsbauelement
auf der Unterseite einer Keramikunterlage 90 mit einer zentralen Ausnehmung vorgesehen, und
die Oberflächenteile der Keramikunterlage 90 ohne die leitenden Verbindungsschichten sowie die Oberflächenteile
mit den leitenden Verbindungsschichten sind mit Glasschichten 96 und 98 abgedeckt. (Nicht dargestellte) gleichartige
gedruckte leitende Verbindungsschichten zum elektrischen Anschluß an ein Lichtempfangsbauelement sind auch auf der
Unterseite der Keramikunterlage 90 vorgesehen. Eine ein Lichtempfangsbauelement tragende Unterlage 100 aus Silizium
weist einen in einer deren Hauptoberfläahen ausgebildeten Photothyristor 100a auf. Diese Unterlage 100 ist
mit der Keramikunterlage 90 durch Lotschichten II6 und II8
in solcher gegenseitiger Zuordnung verbunden, daß die genannte Hauptoberfläche gegenüber der zentralen Ausnehmung
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der Keramikunterlage 90 angeordnet ist. Eine lichtdurchlässige, elektrisch isolierende Schicht, wie z. B. eine
SiO2~schicht 106, bedeckt die Oberseite der Siliziumunterlage
100, und im Vakuum aufgedampfte leitende Verbindungsschichten 108 und 110 aus beispielsweise Au sind
auf dieser Isolierschicht 106 abgeschieden, um von der Montagestelle des Lichterzeugungsbauelements zu den
Lotschichten 116 und 118 zu reichen. Der Photothyristor 100a weist eine Anodenschicht 102 und eine Kathodenschicht
104 auf, die sich ebenfalls auf der Isolierschicht 106
von (nicht gezeigten) Stellen erstrecken. Die leitenden Verbindungsschichten 108 und 110, die sich auf der die
Oberseite der Siliziumunterlage 100 bedeckenden Isolierschicht 106 erstrecken, sind elektrisch mit den gedruckten
leitenden Verbindungsschichten 92 und 94 auf der Keramikunterlage
90 durch die Lotschichten 116 und 118 zwecks elektrischer Verbindung mit anderen auf der Keramikunterlage
90 vorgesehenen leitenden Verbindungsschichten oder Schaltungsteilen verbunden. Die Oberflächenteile
der Isolierschicht 106 ohne die darauf gebildeten leitenden Verbindungsschichten und die Oberflächenteile der
leitenden Verbindungsschichten 108 und 110 sind mit elektrisch isolierenden Schichten 112 und 114 aus einem
Material, wie z. B. SiO2 abgedeckt. Diese Isolierschichten
112 und 114 können durch Abscheiden aus einer Dampfphase erzeugt werden, öffnungen sind in diesen Isolierschichten
112 und 114 gebildet, um einen Teil der leitenden Verbindungsschichten 108 und 110 freizulegen, und Eutektikumlegierungsschichfeen
120 und 122 sind in diesen Offnungen zur Befestigung einer Lichterzeugungsbaueinheit an
der Siliziumunterlage 100 angeordnet.
Die Lichterzeugungsbaueinheit weist ein Lichterzeugungsdiodenplättchen
124 aus GaAs und ein Paar von blockartigen Elektroden 126 und 128 aus Silizium mit niedrigem
Widerstand (d. h. hoher Verunreinigungskonzentration) auf*
die mit den gegenüberliegenden Oberflächen des Dioden-
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plättchens 121I durch eutektische Legierungsschichten aus
Au-Si fest verbunden sind. Das Verfahren zur Herstellung dieser Lichterzeugungsbaueinheit ist ähnlich dem im Zusammenhang mit Fig. 4 beschriebene!. Beispielsweise umfassen
die Schritte der Herstellung der Lichterzeugungsbaueinheit die Abscheidung von ohmschen Kontakt ergebenden und legierenden Schichten aus Au auf den gegenüberliegenden Oberflächen einer Diodenplatte, das Auflegen von Elektroden
bildenden Siliziumplatten auf die auf den gegenüberliegenden Oberflächen der Diodenplatte abgeschiedenen, ohmschen Kontakt ergebenden und legierenden Schichten, die
Anwendung diner Legierungsbehandlung der eutektischen Legierung von Au-Si bei einer Temperatur von etwa 38O 0C
in einer Inertgasatmosphäre und dann die Aufteilung des Plattenlaminats in einzelne Plättchen. In der so erhaltenen Lichterzeugungsbaueinheit sind die blockartigen
Elektroden 126 und 128 mit den leitenden Verbindungsschichten 108 und 110 durch die ternär-eutektischen Legierungsschichten 120 und 122 aus Au-Ge-Si mechanisch
und elektrisch fest verbunden. Eine solche elektrische Verbindung kann vorgesehen werden, indem man vorab eine
Schicht aus Au-Ge auf den mit den blockartigen Siliziumelektroden 126 und 128 elektrisch zu verbindenden Teilen
der leitenden Verbindungsschichten 108 und 110 abscheidet und eine Erhitzung zum Schmelzen der Schicht aus Au-Ge
zwecks Verbindung der blockartigen Siliziumelektroden und 128 mit den leitenden Verbindungsschichten 108 bzw.
110 vornimmt. Die ternäre Eutektikumslegierung aus Au-Ge-Si wird vorzugsweise zur festen Verbindung der Lichterzeugungsbaueinheit mit der das Lichtempfangsbauelement tragenden Siliziumunterlage 100 verwendet, da die blockartigen
Siliziumelektroden 126 und 128 mit dem Diodenplättchen durch die binäre eutektische Au-Si-Legierung verbunden
sind« Daher kann die Verwendung der ternären eutektischen
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Au-Ge-Si-Legierung rait einem niedrigeren Schmelzpunkt als
dem der binären eutektischen Au-Si-Legierung eine unerwünschte Trennung der die Lichterzeugungsbaueinheit bildenden
Teile verhindern.
Der Photokoppler nach dem zweiten Ausführungsbeispiel der Erfindung gemäß Fig. 5 weist ähnliche Vorteile und
Merkmale wie die des ersten, anhand der Fig. 3 und Ί beschriebenen
Ausführungsbeispiels auf. Außerdem hat er einen solchen Vorteil, daß der Abstand zwischen der Lichterzeugungsbaueinheit
und der das Lichtempfangsbauelement tragenden Unterlage weiter verringert und die Lage der
Lichterzeugungsbaueinheit mit hoher Genauigkeit zwecks Erreichens einer weiteren Verbesserung des Photokopplungswirkungsgrades
bestimmt werden können, da sich dieser geringe Abstand ohne Berücksichtigung der Genauigkeit der Zerteilung
der Platte zum Erhalten der Lichterzeugungsbaueinheit bestimmen läßt. Beim ersten und beim zweiten Ausführungsbeispiel der Erfindung wird die Lichterzeugungsbaueinheit
durch Aufteilen eines Plattenlaminats zu Plättchen erhalten. Dieser Aufteilungsvorgang kann im Fall des zweiten Ausführungsbeispiels
mit den Siliziumelektroden leichter als im Fall des ersten Ausführungsbeispiels mit den Kupferelektroden
durchgeführt werden.
Fig. 6 ist eine schematische Schnittdarstellung eines Teils noch eines weiteren Ausführungsbeispiels des Photokopplers
gemäß der Erfindung.
Gemäß Fig. 6 sind drei Photothyristoren 130a, 130b und
130c in einer Reihenanordnung in einer der Hauptoberflächen einer Lichtempfangsbauelement-Trägerunterlage 130 aus Silizium
ausgebildet, und diese Hauptoberfläche der Unterlage ist mit einer lichtdurchlässigen, elektrisch isolierenden
Schicht 132 aus einem Material, wie z. B. SiO2 bedeckt. Eine
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Lichterzeugungsbaueinheit ist auf einer Hauptoberfläche einer Keramikunterlage 134 befestigt. Gedruckte leitende Verbindungsschichten
136, 138, 140 und 142 sind auf dieser Hauptoberfläche der Keramikunterlage 131J vorgesehen, und die
Oberflächenteile dieser leitenden Verbindungsschichten sowie die Oberflächenteile der Keramikunterlage 134 ohne darauf
ausgebildete leitende Verbindungsschichten sind mit einer Glasschicht 146 bedeckt. Die das Lichtempfangsbauelement
tragende Siliziumunterlage 130 und die Keramikunterlage sind in einem vorbestimmten, sehr kleinen Abstand einander
gegenüber angeordnet, der durch (nicht dargestellte) Befestigungsmittel erreicht wird.
Man erhält die Lichterzeugungsbaueinheit durch abwechselndes Schichten dreier Lichterzeugungsdiodenplatten
aus GaAs mit Polaritäten P-N bzw. N-P bzw. P-N zusammen mit Elektroden ergebenden Kupferplatten, Verbinden der Kupferelektroden
mit den Diodenplatten durch Legierungsbehandlung zum Erhalten eines Plattenlaminats und anschließendes Aufteilen
dieses Plattenlaminats zu Plättchen. So ist die Lichterzeugungsbaueinheit von einem Reihenaufbau, in dem
Diodenplättchen 156, 158 und I60 aus GaAs zwischen vier blockartigen Kupferelektroden 162, 164, I66 und I68 entsprechend
Fig. 6 eingefügt sind. Diese blockartigen Elektroden 162 bis 168 sind durch Lotschichten 148, 150, 152
und 154 mit den entsprechenden leitenden Verbindungsschichten
136, 138, l40 und 142, wie dargestellt, fest verbunden. Beim Verbinden der blockartigen Elektroden 162 bis I68 mit den
entsprechenden leitenden Verbindungsschichten 136 bis 142 ist es wesentlich, daß der jeweilige Lichterzeugungs-PN-übergang
der Lichterzeugungsdiodenplättchen 156, 158 und richtig zu den zugehörigen Photothyristoren 130a, 130b und
130c ausgerichtet ist. Diese Ausrichtung läßt sich erfindungsgemäß leicht erreichen. In Fig. 6 sind die leitenden Verbindungsschichten 136 und 140 mit der Kathode der Dioden-
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plättchen 156, 158 und l6o verbunden, während die leitenden
Verbindungsschichten 138 und 1^2 mit der Anode dieser Diodenplättchen
verbunden sind. Mit anderen Worten sind die drei Lichterzeugungsdioden in der Lichterzeugungsbaueinheit
zum Arbeiten parallel miteinander angeordnet, obwohl sie aufbaumäßig in einer Reihe angeordnet sind.
Der Aufbau des in Fig. 6 dargestellten Photokopplers hat gleichartige Vorteile und Merkmale wie die im Zusammenhang
mit Fig. 3 und k beschriebenen. Dieser Aufbau ist besonders
brauchbar, wenn eine Verbesserung im Integrationsgrad erwünscht ist.
Nachdem bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung im einzelnen beispielsweise beschrieben wurden, ist es offenbar,
daß die Erfindung auf die bestimmten Ausführungsbeispiele nicht beschränkt ist und verschiedene Änderungen und
Varianten ohne Verlassen des Bereichs der Erfindung vorgenommen werden können. Beispielsweise können anstelle von
Kupfer und Silizium, die in den Ausführungsbeispielen als Material zur Bildung der blockartigen Elektroden angegeben
sind, irgendwelche anderen geeigneten Materialien verwendet werden, die Metalle, wie z. B. Al, Ag und Mo, und Halbleiter
niedrigen Widerstandes, wie z. B. Ge und GaAs umfassen. Der zur Herstellung des Lichterzeugungsbauelements verwendete
Halbleiter und das zur Herstellung der blockartigen Elektroden verwendete Material sind vorzugsweise untereinander gleich,
um die Wärmebeanspruchung möglichst gering zu halten, die aufgrund des Unterschiedes zwischen den Wärmeausdehnungskoeffizienten
der Materialien der Elektroden und des Lichterzeugungsbauelements auftreten würde. Diese Geringhaltung
der Wärmebeanspruchung ist zur Verbesserung der Beständigkeit der Lichterzeugungsbaueinheit gegenüber Wärme vorteilhaft.
Weiter ist es, obowhl eine Lichterzeugungsdiode aus GaAs und ein Photothyristor als Lichterzeugungsbauelement
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- JG -
bzw. Lichtempfangsbauelement angegeben wurden, klar, daß
auch irgendwelche anderen geeigneten Lichterzeugungsbauelemente und Lichtempfangsbauelemente anstelle der genannten verwende
t werden können.
Aus der ausführlichen Beschreibung des Photokopplers gemäß der Erfindung ersieht man, daß eine der Seitenflächen
der mit den gegenüberliegenden Seiten eines Lichterzeugungsdiodenplättchens des horizontal strahlenden Typs verbundenen
blockartigen Elektroden zur Vornahme der Befestigung des Lichterzeugungsbauelements und gleichzeitig zur Verbindung
desselben zwecks elektrischen Anschlusses ausgenutzt wird. Daher lassen sich der gewünschte Anstieg des Photokopplungswirkungsgrades
und die gewünschte Verbesserung der Massenproduzierbarkeit beide befriedigend erreichen, so daß man
einen Photokoppler mit einem sehr guten Betriebsverhalten erhält, der zu geringen Kosten hergestellt werden kann.
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Claims (10)
1.)Optoelektronisch gekoppelte Halbleiteranordnung mit
einem Lichterzeugungshalbleiterbauelement, einem Lichtempfangshalbleiterbauelement,
einem Träger der beiden Halbleiterbauelemente und Anschlußleiterbahnen auf dem
Träger in Verbindung mit den Elektroden der Halbleiterbauelemente, dadurch gekennzeichnet,
daß der Träger (z. B. 42, 44) ein Paar parallel verlaufender Oberflächen zum Tragen der Halbleiterbauelemente
(z. B. 40, 50) und einen zwischen den parallelen Oberflächen erstreckten optischen Pfad zum optoelektronischen
Koppeln der beiden Halbleiterbauelemente (z. B. 40, 50) miteinander aufweist und daß jedes der Halbleiterbauelemente
(z. B. 40) mit wenigstens zwei starren Elektroden (z. B. 66, 68) mit zu den parallelen Oberflächen des
Trägers parallelen Oberflächen versehen ist, welche Elektroden (z. B. 66, 68) elektrisch und mechanisch
an einer ihrer parallelen Oberflächen durch Lot (z. B. 74, 76) mit leitenden .Verbindungsschichten (z. B. 70, 72)
verbunden sind, die an bestimmten Stellen einer der parallelen Oberflächen des Trägers (z. B. 42, 44) freiliegen.
2. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Lichterzeugungshalbleiterbauelement
eine Lichterzeugungsbaueinheit (z. B. 40) mit wenigstens einem Plättchen (60; 124) des horizontal strahlenden Typs
und einem Paar von blockartigen, auf den gegenüberliegenden, Elektrodenträger-Oberflächen des Plättchens (60; 124)
montierten Elektroden (66, 68; 126, 128) darstellt.
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ORIGINAL INSPECTED
3. Halbleiteranordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Lichtempfangshalbleiterbauelement eine
Halbleiterunterlage (100) mit wenigstens einem darin ausgebildeten Lichtempfangsbauelement (100a) darstellt und
der Träger eine auf der Halbleiterunterlage (100) vorgesehene elektrische Isolierschicht (106) und eine keramische
Unterlage (90) mit einer mittigen Ausnehmung zur Aufnahme der Lichterzeugungsbaueinheit (124, 126, 128)
aufweist, daß die Lichterzeugungsbaueinheit elektrisch und mechanisch an einer ihrer parallelen Oberflächen
durch Lot (120, 122) mit den an bestimmten Stellen der elektrischen Isolierschicht (106) auf den Lichtempfangsbauelement
-Tragoberflächen der Halbleiterunterlage (100) freiliegenden leitenden Verbindungsschichten (108, 110)
zum Erreichen der optoelektronischen Kopplung zwischen dem Lichtempfangsbauelement (100a) und dem Lichterzeugungsbauelement
verbunden ist und daß die starren Elektroden (102, 104) des Lichtempfangshalbleiterbauelements (100a)
elektrisch und mechanisch durch Lot mit den an bestimmten Stellen der keramischen Unterlage (90) freiliegenden leitenden
Verbindungsschichten verbunden sind.
4. Halbleiteranordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Lichtempfangshalbleiterbauelement eine
Halbleiterunterlage (50) mit wenigstens einem darin ausgebildeten Lichtempfangsbauelement (50a) darstellt und
der Träger eine durch Ubereinanderschichten und gegenseitiges Befestigen einer ersten keramischen Unterlage (44)
mit wenigstens einer mittigen Ausnehmung zur Aufnahme der Lichterzeugungsbaueinheit (40) und einer zweiten keramischen
Unterlage (42) mit an bestimmten Stellen ihrer Oberfläche freiliegenden leitenden Verbindungsschichten (70, 72)
erhaltene Keramikbasis aufweist, wobei die Lichterzeugungs baueinheit (40) auf der Keramikbasis (42, 44) montiert
ist und die Halbleiterunterlage (50) an der Keramikbasis
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(42, 44) zum Empfang des von der Lichterzeugungsbaueinheit (40) abgestrahlten Lichts befestigt ist.
5. Halbleiteranordnung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Ausnehmung mit einem lichtdurchlässigen,
elektrisch isolierenden Harz (52) gefüllt ist.
6. Halbleiteranordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die blockartigen Elektroden (126, 128) aus
einem halbleitenden Material bestehen, das dem Material des Plättchens (124) gleichartig ist.
7. Halbleiteranordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die blockartigen Elektroden (66, 68) aus
einem leitenden Material bestehen.
8. Halbleiteranordnung nach Anspruch 5» dadurch gekennzeichnet,
daß das lichtdurchlässige Isolierharz (52) ein Epoxyharz ist.
9. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Halbleiterbauelemente (ζ. Β. 4θ, 50) elektrisch
und mechanisch mit den leitenden Verbindungsschichten
(z. B. 70, 72) auf den parallelen Oberflächen des Trägers (z. B. 42, 44) mit einer Montagetoleranz von weniger als
100 /Um verbunden sind.
10. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Lichterzeugungshalbleiterbauelement eine
Lichterzeugungsbaueinheit mit einer Mehrzahl von Lichterzeugungsbauelementplättchen
(156, 158, 160) des horizontal strahlenden Typs darstellt, die abwechselnd mitblockartigen
Elektroden (162, 164, 166, 168) in einem P-N/N-P/P-N-Polaritätsmuster geschichtet sind, und daß das Licht-
7 η fnU 6 / 1 1 3 4
empfangshalbleiterbauelement eine Halbleiterunterlage
(130) mit einer Mehrzahl von darin ausgebildeten, den Plättchen (156, 158, 160) entsprechenden Lichtempfangsbauelementen
(130a; 130b, 130c) aufweist.
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Applications Claiming Priority (1)
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Country | Link |
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OD | Request for examination | ||
D2 | Grant after examination | ||
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