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Zerstäubungsvorrichtung
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Die Erfindung betrifft eine Zerstäubungsvorrichtung zum Herstellen
eines metallischen Überzugs auf der Oberfläche eines Werkstückes, das in der Nähe
einer Anode der Vorrichtung in einer Gasatmosphäre niedrigen Drucks angeordnet ist,
unter Ausnutzung einer Kathodenzerstäubung.
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Im allgemeinen begleitet in Zerstäubungsvorrichtungen eine Kathodenzerstäubung
die auftretende Glimmentladung, es handelt sich hierbei um die Erscheinung, daß
das Material einer Kathode in metallische Atome oder eine Masse von Metallatomen
durch die Beschießung mit Gasionen vergast wird, wobei im allgemeinen ein Teil der
Atome gestreut wird. Die auf diese Weise gestreuten metailischen Atome haften auf
der Oberfläche eines Werkstücks, das in Nähe der Anode angeordnet ist und bilden
auf dem Werkstück einen metallischen Film.
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Ein charakteristisches Merkmal dieser Zerstäubung besteht darin, daß
je niedriger der Druck einer Gasatmosphäre ist, in der die Zerstäubung durchgeführt
wird, desto kleiner die Anzahl der Möglichkeiten für die von der Kathode emittierten
Metallatome ist, mit den restlichen Molekülen zwischen den Elektroden zusammen zu
stoßen und umso feiner wird gleichzeitig der überzug aus einem metallischen Film,
der durch den Niederschlag der Metallatome erhalten wird, die direkt das Werkstück
erreichen. Dies bedeutet, daß der Druck der Gasatmosphäre so niedrig wie möglich
sein soll, um die Qualität des niedergeschlagenen Metallfilms auf dem Werkstück
zu verbessern.
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Bei herkömmlichen Zerstäubungsvorrichtungen dieser Art werden die
Bedingungen für eine wirksame Durchführung der Zerstäubung bei einer Glimmentladung
experimentell bestimmt durch die Beschaffenheit
und den Zustand
eines Gases und des eingesetzten Kathodenmaterials, und insbesondere muß der Gasdruck
auf einem bestimmten -2 Wert in der Größenordnung von 1 - 2 x 1o Torr in der Gleichstrom-Glimmentladung
im allgemeinen gehalten werden, damit die Glimmentladung als solche auftritt. Somit
ist die Absenkung des Gasdruckes nach unten hin begrenzt.
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Des weiteren ist zu berücksichtigen, daß bei herkömmlichen Zerstäubungsvorrichtungen
die vom Target während der Zerstäubung emittierten Elektronen mit der Anode kollidieren,
wodurch die Temperatur dieser ansteigt und ebenso die Temperatur des nahe der Anode
angeordneten Werkstückes infolge der von der Anode abgestrahlten Wärme. Aus diesem
Grund muß die Wärmestabilität des Werkstücks bei der Zerstäubung berücksichtigt
werden.
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Aufgabe der Erfindung ist es, eine Zerstäubungsvorrichtung zu schaffen,
bei der die Zerstäubung in einer Gasatmosphäre sehr niedrigen Druckes in elektromagnetischer
Weise erfolgt, bei der des weiteren die Dickenverteilung des niedergeschlagenen
Metallfilms auf dem Werkstück gleichmäßig ist und bei der eine ausgezeichnete Kühlung
erzielt wird, so daß die Zerstäubung bei niedrigen Temperaturen durchgeführt werden
kann. Im Rahmen dieser Aufgabe soll ein Target gleichmäßig zerstäubt werden und
der Aufbau eines vorgesehenen Permanentmagneten ebenso wie seine Handhabung einfach
sein, so daß keine Schwierigkeiten während des Zerstäubens auftreten.
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Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Anode und
die Kathode koaxial zueinander angeordnet sind, daß ein Magnet so in der Kathode
untergebracht ist, daß die Richtung eines Magnetfeldes im rechten Winkel die Richtung
eines elektrischen Feldes kreuzt, und daß in einem Elektrodenraum Magnetfeldlinien
von der Kathode ihren Anfang nehmen und zu dieser zurückkehren, um die Elektronen
zu umschließen, die von der Kathode in den Elektrodenraum emittiert werden, wodurch
eine Zerstäubung in einer Gasatmosphäre von extrem kleinem Druck auftritt.
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Bei dieser Anordnung ist ein Magnet in einem Target untergebracht,
so daß die von dem Magneten ausgehenden Magnetkraftlinien von der Oberfläche des
Targets ihren Anfang nehmen und zu diesem in einem Elektrodenraum zurückkehren.
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Ein kennzeichnendes Hauptmerkmal der Zerstäubungsvorrichtung nach
der Erfindung besteht darin, daß in einer zylindrischen Kathode und den hierzu koaxial
angeordneten Anodenelektroden-ein Magnetfeld senkrecht zu einem elektrischen Feld
erzeugt wird, wodurch die Driftbewegung der Elektronen so beeinflußt wird, daß die
Elektronen die Anode nicht erreichen, falls sie nicht ihre Energie durch Zusammenstöße
mit Gasmolekülen verlieren. Um zu erreichen, daß die Driftbewegung der Elektronen
in einem bestimmten Bereich auftritt, ist ein einzelner oder eine Anzahl von Magneten,
die ein radiales Magnetfeld herstellen, parallel zu dem Target oder der Kathode,
das heißt senkrecht zu dem elektrischen Feld, angeordnet.
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Mit der Erfindung werden die Vorteile erzielt, daß ein Metallfilm
auf einem Werkstück in einem Hochvakuum, das niedriger als 2 -3 x lo - Torr bei
einer Gleichstromentladung ist, aufgebracht werden kann, daß der Temperaturanstieg
des Werkstücks gering ist, wobei der Hauptgrund für den Temperaturanstieg des Werkstücks
der Elektronenfluß in die Anode, die zeitweilig als eine Basisplatte dient, ist,
daß ferner die Niederschlagsrate des Metallfilms hoch ist, was seinen Grund darin
hat, daß wegen des geringen Temperaturanstiegs des Werkstücks eine große elektrische
Leistung an die Zerstäubungsvorrichtung angelegt werden kann und daher eine entsprechend
hohe Niederschlagsrate erhalten wird. Als weiterer Vorteil kommt hinzu, daß der
Aufbau des Targets einfach ist. Da die elektrische Entladung in einem Hochvakuum
erfolgt, kann die Isolation des Targets einfach gestaltet werden. So ist es beispielsweise
nicht erforderlich, eine Abschirmung des Dunkelraums und dergleichen vorzusehen.
Die Entladung erfolgt nur an der Stelle, an der sich das elektrische und magnetische
Feld orthogonal kreuzen. Daher wird die Kathode mit dem Niederschlagsmaterial nur
in dem Bereich bedeckt, in dem die Entladung auftritt.
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Als weiterer Vorteil kommt noch hinzu, daß die Kühlung einer Elektrode
leicht durchgeführt werden kann. So kann die Kathode mit Wasser mit einer herkömmlichen
Wasserkühlung gekühlt werden, wenn ein Permanentmagnet verwendet wird. Ein oder
mehrere Stäbe, die parallel zu der Kathode und senkrecht zu der Richtung der Driftbewegung
der Elektronen angeordnet sind, werden als Anoden verwendet. Falls diese Anoden
durch rohrförmige Anoden ersetzt werden, können diese leicht mit Wasser gekühlt
werden. Da die Energie der Elektronen gering ist, wenn sie die Anoden erreichen,
ist die notwendige Wassermenge für die Kühlung der Anode relativ gering.
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Die Erfindung wird im folgenden unter Bezugnahme auf die Zeichnungen
näher beschrieben, wobei in der Beschreibung für die gleichen Bauteile die gleichen
Bezugszahlen verwendet werden. Es zeigen: Figuren Ia und 1b - eine Schnittansicht
und eine Schnittdraufsicht einer ersten Ausführungsform einer Zerstäubungsvorrichtung
nach der Erfindung, Figuren 2a und 2b - eine Schnittansicht und eine Schnittdraufsicht
einer zweiten Ausführungsform der Zerstäubungsvorrichtung nach der Erfindung, Figur
3 - eine Schnittansicht einer dritten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Zerstäubungsvorrichtung,
Figur 4 - eine graphische Darstellung der Verteilung der Dicke eines Metallfilms,
der mittels der Zerstäubungsvorrichtung nach den Figuren la und 1b auf einem Werkstück
niedergeschlagen wurde, Figur 5 - eine weitere graphische Darstellung der Verteilung
der Dicke eines Metallfilms, der mit Hilfe der Zerstäubungsvorrichtung, die in Figur
3 dargestellt ist, auf einem Werkstück niedergeschlagen wurde, Figur 6 - eine Schnittansicht
einer vierten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Zerstäubungsvorrichtung, und
Figur
7 - eine vergrößerte Schnittansicht eines Targets während des Zerstäubens, das einen
in den Figuren la und 1b gezeigten Magneten einschließt.
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Die in den Figuren 1a und 1b gezeigte Ausführungsform einer Zerstäubungsvorrichtung
umfaßt eine Grundplatte 1 und eine zylindrische Abdeckung 2, die hermetisch und
abnehmbar auf der Grundplatte 1 mittels einer Dichtung 1o1 befestigt ist, um zusammen
mit dieser einen Vakuumbehälter 3 zu bilden. In diesem Behälter 3 sind koaxial ein
Target oder eine Kathode 4, Anoden 5 und Werkstücke 6 angeordnet.
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Das Target 4 wird durch Plattieren, Galvanisieren oder Spritzen der
äußeren Oberfläche eines Zylinders 8 aus nichtmagnetischem Material mit einem Targetmaterial
41, wie beispielsweise Chrom, erhalten. Der Zylinder 8 ist über einen Isolator 7
auf dem zentralen Teil der Grundplatte 1 befestigt. Eine weitere Möglichkeit der
Herstellung des Targets 4 besteht darin, einen Draht oder Streifen aus Targetmaterial
41, wie z.B. Molybdän oder Wolfram, um den Zylinder 8 aufzuwickeln. Falls der Zylinder
8 aus einem Material wie beispielsweise Aluminium, Kupfer oder rostfreiem Stahl
besteht, ist keine Vorbehandlung, wie voranstehend erwähnt, notwendig, das heißt
der Zylinder kann dann ohne jede weitere Bearbeitung als Target 4 eingesetzt werden.
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Bei dieser Ausführungsform sind die Anoden 5 stabförmige Elektroden,
die auf der Grundplatte 1 vorgesehen sind. Diese stabförmigen Elektroden 5 sind
derart angeordnet, daß sie das Target 4 umgeben. Die Werkstücke 6 ihrerseits umschließen
die Elektroden 5.
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Im Zylinder 8 ist ein zylindrischer Magnet 9 vorgesehen, der längs
seiner Achse eine Durchführung derart aufweist, daß die Richtung des Magnetfelds
H des Magneten 9 senkrecht die Richtung des elektrischen Feldes E zwischen den Elektroden
4 und 5 kreuzt.
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Dichtungen 1o sind zwischen der Grundplatte 1 und dem Isolator 7 und
zwischen diesem und dem Boden des Zylinders 8 derart angebracht,
daß
das Innere des Zylinders luftdicht abgeschlossen ist Eine Kühlwasser-Einlaßrohrleitung
12 zum Einleiten von Kühlwasser W in den Zylinder 8 und eine Kühlwasser-Auslaßrohrleitung
11 für das Abfließen des Kühlwassers W aus dem Zylinder 8, wie aus Figur 1a ersichtlich,
treten durch die Grundplatte 1 in das Innere des Zylinders 8 ein, wobei sich die
Auslaßleitung 11 durch die Durchführung des Magneten 9 derart erstreckt, daß das
Kühlwasser in dem Zylinder 8 so zirkuliert, daß es das Target 4 kühlt, dessen Temperatur
normalerweise durch die Bombardierung mit Gas ionen ansteigt.
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In der Grundplatte 1 sind des weiteren eine Luftansaugöffnung 14,
die mit einer Vakuumpumpe 13 verbunden ist, und eine Gaszuführungsöffnung 17, die
mit einem Gaszylinder 15 über ein Regelventil 16 in Verbindung steht, vorgesehen.
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Die Wirkungsweise der Zerstäubungsvorrichtung ist folgende: Zuerst
ist die Vakuumpumpe 13 in Betrieb, um den Vakuumbehälter 3 zu evakuieren. Anschließend
wird der Vakuumbehälter 3 mit dem Gas aus dem Gaszylinder 15 gefüllt, wobei das
Gas in dem Vakuumbehälter 3 während der gesamten Betriebszeit auf einem vorgegebenen
Druck durch Einstellen des Regelventils 16 des Gaszylinders 15 gehalten wird. Anschließend
wird, sobald diese Bedingungen eingestellt sind, eine geeignete Erregerspannung
V zwischen dem Target 4 und den Anoden 5 angelegt, um zwischen diesen Elektroden
eine Glimmentladung zu erhalten, bei der das schon voranstehend beschriebene Kathodenzerstäubungsphänomen
auftritt, bei dem die zerstäubten Targetatome auf den Oberflächen der Werkstücke
6 haften und auf diesen niedergeschlagen werden, so daß sie auf dem einzelnen Werkstück
einen fest haftenden Film bilden.
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Bei dieser Betriebsweise bewirkt das Magnetfeld H des Magneten 9 eine
Kraft F längs den Elektroden 4 und 5, die in Form von koaxialen Zylindern vorgesehen
ist, um auf die Elektronen einzuwirken, die von dem Target 4 durch das Beschießen
mit Gasionen emittiert werden, mit dem Ergebnis, daß die Elektronen in einem
Raum,
definiert durch das elektrische Feld, gebildet durch die Elektroden 4 und 5 und
durch das magnetische Feld des Magneten 9 eingeschlossen sind, wobei dieser Raum
im folgenden als 'Elektrodenraum' bezeichnet wird. Die Elektronen werden längs der
Elektroden bewegt. Es ist offensichtlich, daß mit einer Steigerung der Dichte der
Elektronen im Elektrodenraum und damit einer stärker verlaufenden Glimmentladung
die Zerstäubung stärker wirksam wird.
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Dies bedeutet, daß beispielsweise bei einer Reduzierung des Drukkes
in dem Vakuumbehälter 3 von 1 x lo 2 auf einen Wert in der Größenordnung von 1 x
1o 4 Torr die Zerstäubung mit hoher Wirksamkeit durchgeführt werden kann. Des weiteren
wird dann in der erfindungsgemäßen Zerstäubungsvorrichtung der Anteil der Elektronen,
bezogen auf die von der Kathode emittierten Elektronen, der mit den Werkstücken
zusammenstößt erheblich reduziert, und der Temperaturanstieg der Werkstücke somit
erheblich herabgesetzt.
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Die Wirkungsweise der zweiten Ausführungsform der Zerstäubungsvorrichtung
nach der Erfindung, die in den Figuren 2a und 2b gezeigt ist, ist die gleiche wie
diejenige der ersten Ausführungsform, die voranstehend beschrieben wurde.
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Bei der zweiten Ausführungsform ist eine Werkstückhalterung 18 zentral
in dem Vakuumbehälter 3 angeordnet, die aus einem nichtmagnetischen isolierten Material
besteht, und ein Target 42 und ein Hohlzylindermagnet 91, die beide zylindrisch
sind, umgeben die Werkstückhalterung 18. Das Target 42 weist äußere und innere Wände
auf, die eine zylindrische Kammer 19 bilden, in der der Magnet 91 angeordnet ist
und durch die Kühlwasser W durch eine Einlaß- und Auslaßrohrleitung 12 bzw. 11 zirkuliert.
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Das Werkstück 6 wird, wie in den Figuren 2a und 2b dargestellt, auf
der Werkstückhalterung 18 aufgebracht. Da im vorliegenden Fall die Oberfläche des
Targets 42 größer als die Fläche des Werkstücks ist, erfolgt das Dickenwachstum
des metallischen Films auf dem Werkstück wesentlich rascher als bei der ersten Ausführungsform.
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Dies ist eines der Hauptmerkmale der zweiten Ausführungsform.
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Die bisher beschriebenen erfindungsgemäßen Zerstäubungsvorrichtungen
zeigen die Vorteile, daß die Zerstäubung mit großer Wirksamkeit auch in einer Gasatmosphäre
von extrem niedrigen Druck erzielt wird und daß daher ein feiner metallischer Überzug
auf dem Werkstück niedergeschlagen wird. Des weiteren besitzen die Zerstäubungsvorrichtungen
gemäß der Erfindung einen hohen Kühleffekt, und dadurch ist es möglich, einen metallischen
Film auch auf Materialien, wie beispielsweise Papier, Kunststoff und synthetischem
Harz auszubilden, die geringe thermische Stabilität besitzen.
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Bei den voranstehend beschriebenen Ausführungsformen wurde ein Gleichstrom-Zerstäubungsverfahren
angewandt, jedoch wird darauf hingewiesen, daß die Erfindung nicht darauf oder dadurch
beschränkt ist. Dies bedeutet, daß auch eine Hochfrequenz-Zerstäubungsmethode, unter
Verwendung einer hochfrequenten elektrischen Quelle bei allen Ausführungsbeispielen
der Erfindung eingesetzt werden kann.
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Die in Figur 3 gezeigte dritte Ausführungsform der erfindungsgemäßen
Zerstäubungsvorrichtung ist ähnlich zu der ersten Ausführungsform aufgebaut, mit
der Ausnahme, daß eine Vielzahl von kleinen Magneten 92 im Target 4 angeordnet sind,
so daß die Verteilung der Dicke des auf einem Werkstück 6 niedergeschlagenen metallischen
Films gleichmäßig ist.
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In einer Zerstäubungsvorrichtung mit einem zylindrischen Magneten,
wie er beispielsweise in den Figuren la und 1b gezeigt ist, bildet ein Teil des
Magneten 9 eine Zerstäubungsquelle. Aus diesem Grund ist die Dicke eines metallischen
Films, wie in Figur 4 dargestellt, ungleichmäßig. Diese Tatsache wurde aufgrund
von verschiedenen Experimenten bekannt.
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Zur Überwindung dieser Schwierigkeit, die bei der ersten Ausführungsform
auftreten kann, wird der einzelne zylindrische Magnet 9, der in den Figuren 1a und
1b gezeigt ist, in eine Anzahl von zylindrischen Magneten 92 unterteilt, die eine
entsprechende Anzahl
von Zerstäubungsquellen bilden, wodurch die
Verteilung der metallischen Atome, die durch Zerstäubung emittiert werden, gleichmässig
über das gesamte Targetmaterial verläuft.
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Die dritte Ausführungsform ist im wesentlichen ähnlich im Aufbau und
in der Betriebsweise zu der ersten Ausführungsform nach den Figuren la und 1b. Die
Magnete 92 sind in geeigneten Abständen längs dem Targetmaterial 41 räumlich angeordnet.
Insbesondere sind die Magnete 92, die nahe dem Ober- und dem Bodenteil des Targetmaterials
vorgesehen sind, in relativ kurzen Abständen voneinander angeordnet und gleichzeitig
diejenigen Magnete, die sich im Mittelteil befinden, durch relativ große Abstände
voneinander getrennt, so daß die Verteilung der metallischen Atome, die durch Zerstäubung
emittiert werden, über das gesamte Targetmaterial gleichförmig ist und somit die
Dichte der emittierten Metallatome im Elektrodenraum gleichmäßig ist. Dementsprechend
wird auch die Verteilung der Dicke eines auf einem Werkstück 6 niedergeschlagenen
metallischen Films gleichförmig. Dadurch ist es möglich, daß die Größe, insbesondere
die Höhe eines Werkstücks 6, das mit der dritten Ausführungsform der Zerstäubungsvorrichtung
bearbeitet wird, größer gewählt werden kann als bei einem Werkstück, das durch die
herkömmlichen Zerstäubungsvorrichtungen oder der ersten und zweiten Ausführungsform
der Erfindung behandelt wird.
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Ebenso wie bei der ersten und zweiten Ausführungsform der Erfindung
weist die in Figur 3 gezeigte Zerstäubungsvorrichtung den Vorteil auf, daß die Zerstäubung
mit großer Wirksamkeit selbst in einer Gasatmosphäre von extrem niedrigen Druck
erreicht wird und daß ein feiner metallischer Film auf einem Werkstück niedergeschlagen
wird.
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Eine weitere, vierte Ausführungsform der erfindungsgemäßen Zerstäubungsvorrichtung
ist in Figur 6 dargestellt und ist ähnlich im Aufbau zu derjenigen nach Figur 1a,
mit der Ausnahme, daß ein Magnet 93 in dem Target 4 vorgesehen ist, der längs der
Achse des Targets 4 bewegt wird, um die Gleichförmigkeit in der Dicke eines
auf
einem Werkstück 6 niedergeschlagenen Metall films zu erhalten und ebenso die Gleichförmigkeit
des Verbrauchs an Material des Targets 4 oder 41 im Elektrodenraum.
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In der Zerstäubungsvorrichtung nach Figur 1a und ib ist der Teil des
Targets 4, in dem der Magnet angeordnet ist, die Zerstäubungsquelle. Wenn angenommen
wird, daß die an die Zerstäubungsvorrichtung angelegte elektrische Leistung konstant
gehalten wird, ist die Rate der Zerstäubung des Targets 4 proportional zu der Stärke
des Magnetfeldes H und zu der senkrechten Richtung des Magnetfeldes H mit dem elektrischen
Feld E auf der Oberfläche des Targets oder mit anderen Worten, von der Genauigkeit,
mit der ein rechter Winkel zwischen dem Magnet- und dem elektrischen Feld eingehalten
wird. Daher ist der Verbrauch an Target 4 infolge der Zerstäubung, wie in Figur.
7 gezeigt, auf den zentralen Teil des Targets konzentriert, wo das Zentrum des Magneten
9 angeordnet ist, d.h. der zentrale Teil des Targets wird zerstrahlt. Je mehr die
Zerstäubung voranschreitet, desto mehr steigt der Verbrauch an. Das bedeutet, daß
der zentrale Teil des Targets 4 rascher als die übrigen Teile verbraucht wird. Daher
ist es notwendig, das Target 4 zu ersetzen, wenn der zentrale Teil des Targetmaterials
verbraucht ist. Anderenfalls wird die Zerstäubungsrate absinken, was zu einer Herabsetzung
der Wirksamkeit der Zerstäubungsvorrichtung führt.
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Dementsprechend ist auch die Betriebszeit des Targets 4 in einer derartigen
Zerstäubungsvorrichtung kurz, und somit im erheblichen Umfang unwirtschaftlich.
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Des weiteren ist festzustellen, daß die Dicke eines auf einem Werkstück
6 niedergeschlagenen Metallfilms in jenem Bereich grösser ist, der dem zentralen
Teil des Targets gegenüberliegt, als in den übrigen Teilen, da der zentrale Teil
wesentlich stärker durch die Zerstäubung abgetragen wurde, als die übrigen Teile.
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Daher ist es unmöglich, einen metallischen Film gleichmäßiger Dicke
auf dem Werkstück durch die Verwendung der in Figur la -dargestellten Zerstäubungsvorrichtung
niederzuschlagen.
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Die in Figur 6 dargestellte Zerstäubungsvorrichtung soll diese Schwierigkeit,
die der Zerstäubungsvorrichtung nach Figur 1a anhaftet, überwinden.
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In dieser Zerstäubungsvorrichtung (Figur 6) ist die Länge des Magneten
93 kürzer als die Länge L des Targets 4 und dieser Magnet 93 wird vertikal oder
längs dem Target 4 manuell, durch einen motorbetriebenen Mechanismus oder durch
einen hydraulischen Mechanismus bewegt.
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Bei einer derart aufgebauten Zerstäubungsvorrichtung wird während
eines Zerstäubungsvorgangs der Magnet 93 zumindest die Hälfte des Hin- und Herwegs
längs dem Target 4 mit fortschreitender Zerstäubung geführt. Wenn der Magnet 93
auf diese Weise bewegt wird, wird auch der Teil des Targets 4, in welchem die Zerstäubung
am weitesten fortgeschritten ist, gleichfalls bewegt. Daraus resultiert, daß die
Oberfläche des Targets 4 gleichförmig abgebaut wird und daher ein metallischer Film
gleichförmiger Dicke auf einem Werkstück 6 erhalten wird.
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In der Zerstäubungsvorrichtung nach Figur 6 wird das Phänomen, daß
das Target lokal zerstäubt wird, wie dies bei herkömmlichen Zerstäubungsvorrichtungen
oder bei der ersten und zweiten Ausführungsform der Erfindung der Fall ist, nicht
beobachtet, was gleichbedeutend damit ist, daß das Target gleichmäßig verbraucht
wird und dementsprechend auch wirkungsvoll und wirtschaftlich genutzt wird. Hinzu
kommt noch, daß die Dicke des auf einem Werkstück niedergeschlagenen Metallfilms
gleichmäßig ist.
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Somit kann mit der Zerstäubungsvorrichtung nach Figur 6 der Niederschlag
eines Metallfilms in ökonomischer Weise mit ausgezeichneten Ergebnissen erhalten
werden. Dabei ist diese Zerstäubungsvorrichtung insbesondere für das Aufbringen
eines Metallfilms auf einem relativ langen Werkstück geeignet.
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Hinzu kommt noch, da der Magnet 93 beweglich ist, daß die Verteilung
des Magnetfeldes im Elektrodenraum steuerbar ist, wodurch
die
Zerstäubung an jeder gewünschten Stelle des Targets wirksam werden kann und somit
die Verteilung der Dicke eines Metallfilms auf einem Werkstück je nach Wunsch und
Bedarf geregelt werden kann.
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