DE2635275C2 - Verfahren zur Justierung eines scheibenförmigen Substrates relativ zu einer Fotomaske in einem Röntgenstrahlbelichtungsgerät - Google Patents

Verfahren zur Justierung eines scheibenförmigen Substrates relativ zu einer Fotomaske in einem Röntgenstrahlbelichtungsgerät

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FR7723760A FR2360916A1 (fr) 1976-08-05 1977-08-02 Procede pour ajuster un substrat en forme de disque par rapport a un masque photosensible dans un appareil d'exposition au rayonnement x
JP9330377A JPS5318970A (en) 1976-08-05 1977-08-03 Method of aligning relative position of substrate and photo mask
GB3267977A GB1589286A (en) 1976-08-05 1977-08-04 Alignment of a photo-mask with respect to the surface of a substrate body
NL7708652A NL7708652A (nl) 1976-08-05 1977-08-04 Werkwijze voor het justeren van een schijfvormig substraat ten opzichte van een fotomasker, in een inrichting voor het belichten met roentgen- stralen.
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5655041A (en) * 1979-10-11 1981-05-15 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Positioning exposure
JP7497649B2 (ja) * 2020-08-25 2024-06-11 セイコーエプソン株式会社 液体噴射装置、液体噴射装置のメンテナンス方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1804923A1 (de) * 1967-10-27 1969-07-31 Hilger & Watts Ltd Verfahren und Vorrichtung zur Reproduktion eines Musters von einem ebenen Koerper auf einen zweiten ebenen Koerper
US3745358A (en) * 1971-05-10 1973-07-10 Radiant Energy Systems Alignment method and apparatus for electron projection systems
US3743842A (en) * 1972-01-14 1973-07-03 Massachusetts Inst Technology Soft x-ray lithographic apparatus and process
US3742229A (en) * 1972-06-29 1973-06-26 Massachusetts Inst Technology Soft x-ray mask alignment system
DE2460914C2 (de) * 1974-12-21 1983-08-18 Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart Photolithographische Projektionsvorrichtung
US4085329A (en) * 1976-05-03 1978-04-18 Hughes Aircraft Company Hard X-ray and fluorescent X-ray detection of alignment marks for precision mask alignment

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IT1081184B (it) 1985-05-16

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