FR2360916A1 - Procede pour ajuster un substrat en forme de disque par rapport a un masque photosensible dans un appareil d'exposition au rayonnement x - Google Patents
Procede pour ajuster un substrat en forme de disque par rapport a un masque photosensible dans un appareil d'exposition au rayonnement xInfo
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Abstract
L'invention concerne un procédé pour ajuster un substrat en forme de disque par rapport à un masque photosensible dans un appareil d'exposition au rayonnement X. Selon ce procédé divisant une exposition au rayonnement X pour ajuster des marques 20 d'un masque photosensible 5 sur des marques 2 portées par un substrat 1 à l'aide d'une source de rayonnement X 4, on modifie et on adapte le grandissement transversal de la projection centrale en déplaçant la source de rayonnement 4 d'une position 41 à une position 40 avec variation de sa distance par rapport au masque 5. Application notamment aux procédés de fabrication de composants à semi-conducteurs et de circuits intégrés.
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