BE857539A - Procede pour ajuster un substrat en forme de disque par rapport a un masque photosensible dans un appareil d'exposition au rayonnement x - Google Patents

Procede pour ajuster un substrat en forme de disque par rapport a un masque photosensible dans un appareil d'exposition au rayonnement x

Info

Publication number
BE857539A
BE857539A BE179952A BE179952A BE857539A BE 857539 A BE857539 A BE 857539A BE 179952 A BE179952 A BE 179952A BE 179952 A BE179952 A BE 179952A BE 857539 A BE857539 A BE 857539A
Authority
BE
Belgium
Prior art keywords
disc
adjusting
exposure apparatus
shaped substrate
ray exposure
Prior art date
Application number
BE179952A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Publication of BE857539A publication Critical patent/BE857539A/fr

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
BE179952A 1976-08-05 1977-08-05 Procede pour ajuster un substrat en forme de disque par rapport a un masque photosensible dans un appareil d'exposition au rayonnement x BE857539A (fr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19762635275 DE2635275C2 (de) 1976-08-05 1976-08-05 Verfahren zur Justierung eines scheibenförmigen Substrates relativ zu einer Fotomaske in einem Röntgenstrahlbelichtungsgerät

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BE857539A true BE857539A (fr) 1977-12-01

Family

ID=5984815

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BE179952A BE857539A (fr) 1976-08-05 1977-08-05 Procede pour ajuster un substrat en forme de disque par rapport a un masque photosensible dans un appareil d'exposition au rayonnement x

Country Status (7)

Country Link
JP (1) JPS5318970A (fr)
BE (1) BE857539A (fr)
DE (1) DE2635275C2 (fr)
FR (1) FR2360916A1 (fr)
GB (1) GB1589286A (fr)
IT (1) IT1081184B (fr)
NL (1) NL7708652A (fr)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5655041A (en) * 1979-10-11 1981-05-15 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Positioning exposure

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1804923A1 (de) * 1967-10-27 1969-07-31 Hilger & Watts Ltd Verfahren und Vorrichtung zur Reproduktion eines Musters von einem ebenen Koerper auf einen zweiten ebenen Koerper
US3745358A (en) * 1971-05-10 1973-07-10 Radiant Energy Systems Alignment method and apparatus for electron projection systems
US3743842A (en) * 1972-01-14 1973-07-03 Massachusetts Inst Technology Soft x-ray lithographic apparatus and process
US3742229A (en) * 1972-06-29 1973-06-26 Massachusetts Inst Technology Soft x-ray mask alignment system
DE2460914C2 (de) * 1974-12-21 1983-08-18 Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart Photolithographische Projektionsvorrichtung
US4085329A (en) * 1976-05-03 1978-04-18 Hughes Aircraft Company Hard X-ray and fluorescent X-ray detection of alignment marks for precision mask alignment

Also Published As

Publication number Publication date
DE2635275C2 (de) 1984-09-06
DE2635275A1 (de) 1978-02-09
NL7708652A (nl) 1978-02-07
FR2360916B1 (fr) 1982-05-21
GB1589286A (en) 1981-05-07
FR2360916A1 (fr) 1978-03-03
JPS5318970A (en) 1978-02-21
IT1081184B (it) 1985-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BE828479A (fr) Procede et appareil pour etablir une plaque d&#39;impression a partir d&#39;un substrat poreux
FR2504696B1 (fr) Procede et dispositif pour l&#39;exposition a la lumiere de substances photosensibles, appelees photoresists
FR2325988A1 (fr) Procede et dispositif pour le traitement d&#39;information pour la fabrication d&#39;une forme d&#39;impression
ITRM910113A0 (it) Dispositivo per il riscaldamento dell&#39;immagine impiegando una pellicolaa azionata da un elemento ruotabile
BE855977A (fr) Procede et appareil de montage de dispositifs sur un substrat
DK74278A (da) Vandfremkaldelig litografisk trykplade med dobbelt lysfoelsom belaegning
BE871760A (fr) Procede de fabrication de circuits resistifs a pellicule epaisse
FR2300678A1 (fr) Dispositif d&#39;impression pour imprimantes rapides
FR2398330B1 (fr) Procede de fabrication par voie photographique d&#39;un stencil pour serigraphie
BE858942A (fr) Procede d&#39;impression a demi-tons et film d&#39;impression pour sa mise en oeuvre
FR2317669A1 (fr) Procede pour relier des guides d&#39;ondes lumineuses individuels
BE843981A (fr) Procede pour relier des guides d&#39;ondes lumineuses individuels
BE857539A (fr) Procede pour ajuster un substrat en forme de disque par rapport a un masque photosensible dans un appareil d&#39;exposition au rayonnement x
FR2354009A1 (fr) Procede et appareil pour produire des images sur une surface sensibilisee
FR2319145A1 (fr) Procede d&#39;impression photogra
FR2436679B1 (fr) Dispositif de positionnement de plaques d&#39;impression lithographique
BE866917A (fr) Procede pour la fabrication d&#39;une plaque pour impression planographique
FR2295452A2 (fr) Procede et dispositif de projection d&#39;images sur une plaquette semiconductrice
ATA267887A (de) Vorrichtung zum exponieren eines halbleitersubstrates gegen ein strahlungsmuster
FR2347706A1 (fr) Nouveau procede photographique d&#39;impression en couleurs sur divers substrats
FR2341630A1 (fr) Procede de revetement d&#39;un substrat par coagulation
BE842316A (fr) Procede pour masquer des signaux de parole a l&#39;aide de matrices orthogonales
BE836004A (fr) Procede permettant d&#39;imprimer des signes sur un support
FR2311332A1 (fr) Dispositif de montage d&#39;un appareil de photographie d&#39;imprimes
FR2338509A1 (fr) Procede et appareillage pour le positionnement a plans paralleles d&#39;une plaque de semi-conducteur pour un cliche photographique