ATA267887A - Vorrichtung zum exponieren eines halbleitersubstrates gegen ein strahlungsmuster - Google Patents

Vorrichtung zum exponieren eines halbleitersubstrates gegen ein strahlungsmuster

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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106480412A (zh) * 2015-08-24 2017-03-08 圆益Ips股份有限公司 基板处理装置及基板处理方法

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT401588B (de) * 1993-12-13 1996-10-25 Thallner Erich Vorrichtung zum ausrichten von zwei ebene flächen aufweisenden gegenständen auf parallellage
AT404523B (de) * 1997-02-03 1998-12-28 Thallner Erich Verfahren zum ausrichten von insbesondere scheibenförmigen halbleitersubstraten und vorrichtung zur durchführung des verfahrens
AU5653699A (en) 1999-09-20 2001-04-24 Nikon Corporation Parallel link mechanism, exposure system and method of manufacturing the same, and method of manufacturing devices
DE10128712C2 (de) * 2001-06-13 2003-06-18 Erich Thallner Vorrichtung mit mindestens zwei Säulen, entlang derer ein Bauteil vertikal verfahrbar ist
DE10139586C2 (de) * 2001-08-11 2003-11-27 Erich Thallner Plattenförmiges Justierelement

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2605940C3 (de) * 1976-02-14 1979-07-26 Karl Suess Kg, Praezisionsgeraete Fuer Wissenschaft Und Industrie, 8046 Garching Maskenjustier- und -belichtungsgerät
DE2723902C2 (de) * 1977-05-26 1983-12-08 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur Parallelausrichtung und Justierung der Lage einer Halbleiterscheibe relativ zu einer Bestrahlungsmaske bei der Röntgenstrahl-Fotolithografie
US4198159A (en) * 1978-12-29 1980-04-15 International Business Machines Corporation Optical alignment system in projection printing
US4344160A (en) * 1980-05-02 1982-08-10 The Perkin-Elmer Corporation Automatic wafer focusing and flattening system
DD231149A1 (de) * 1984-10-05 1985-12-18 Zeiss Jena Veb Carl Einrichtung zur positionierung der oberflaeche eines werkstueckes

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106480412A (zh) * 2015-08-24 2017-03-08 圆益Ips股份有限公司 基板处理装置及基板处理方法
CN106480412B (zh) * 2015-08-24 2019-02-05 圆益Ips股份有限公司 基板处理装置及基板处理方法

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