DE2634138A1 - Verfahren und vorrichtung zur herstellung filmbeschichteter grundplatten - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zur herstellung filmbeschichteter grundplatten

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DE2634138A1 DE19762634138 DE2634138A DE2634138A1 DE 2634138 A1 DE2634138 A1 DE 2634138A1 DE 19762634138 DE19762634138 DE 19762634138 DE 2634138 A DE2634138 A DE 2634138A DE 2634138 A1 DE2634138 A1 DE 2634138A1
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Description

TlEDTKE - BüHLING - KlNNE - GrUPE
Dipl.-Chem. Bühling OO Dipl.-Ing. Kinne
IJO Dipl.-Ing. Grupe
Bavariarlng 4, Postfach 20 24 8000 München
Tel.:(0 89)53 96 53-56
Telex:5 24 845tipat
cable. Germaniapatent München
29. Juli 1976
B 7.511/case AFP-163
Hitachi Chemical Company Limited Tokyo, Japan
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung filmbeschichteter Grundplatten
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung filmbeschichteter Grundplatten und eine Vorrichtung zum Aufbringen einer Filmschicht auf Grundplatten in einem kontinuierlichen Arbeitsvorgang,
Üblicherweise besteht beim Aufbringen eines Filmes1 wie etwa einer filmartigen Schicht aus lichtempfindlichem Material auf eine konvex-konkave Oberfläche einer Grundplatte wie etwa einer gedruckten Leiterplatte für gedruckte Schaltungen ein Problem darin, daß unvermeidlich Zwischenräume zwischen der Grundplatte und der Filmschicht verbleiben. Dieser Nachteil scheint dem üblichen Verfahren, das unter atmosphärischem Druck durchgeführt wird, eigen zu sein. Wenn eine Filmschicht auf eine konvex-konkave Oberfläche wie diejenige einer gedruckten Leiterplatte,
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Dresdner Bank (München) Kto. 3939 844 Postscheck (München) Kto. 670-43-804
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die relativ tiefe Schaltungsreliefteile in sehr dichter Anordnung aufweist, aufgebracht wird, so verursacht das übliche Wärme- und Druck-Beschichtungsverfahren unvermeidlich die Mitführung und das Eindringen von Luft zwischen die Verbindungsflächen, wodurch sich ein unzureichender Kontakt mit den Oberflächen der Reliefteile ergibt.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, ein Verfahren zur Herstellung filmbeschichteter Grundplatten, die frei von eingeschlossenen'Luft- oder anderen Gasbestandteilen sind, sowie eine kontinuierlich arbeitende Vorrichtung zum Aufbringen eines Filmes auf eine Grundplatte zu schaffen.
Zur Lösung dieser Aufgabe wird erfindungsgemäß ein Beschichtungsverfahren vorgeschlagen, bei dem ein Film erwärmt und auf eine Grundplatte in einem Vakuum von 200 mm Hg oder weniger aufgepresst wird. Der nachstehend so bezeichnete Film ist ein Polyesterfilm, ein filmartiges lichtempfindliches Material oder dergleichen, Das filmartige lichtempfindliche Material weist z.B. eine laminierte, schichtartige Struktur auf, wie sie in Fig. 1 dargestellt ist, wobei mit der Bezugszahl 1 eine Schicht aus einem lichtempfindlichen Material bezeichnet ist, die zwischen einer flexiblen dünnen Tragschicht 2 und einem Schutzfilm 3 eingeschlossen ist. Der Schutzfilm kann auch entfallen. Die Dicke der lichtempfindlichen Schicht beträgt im wesentlichen 30 bis i60/tm.
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Die im Rahmen der Erfindung verwendbare Grundplatte schließt kupferplattierte, laminierte oder geschichtete Platten, Platten mit ausgebildeten Reliefteilen, aufgerauhte Kupferplatten ohne Reliefteile, Metallplatten mit konvex-konkaven Oberflächen, gedruckte Leiterplatten oder dergleichen ein.
Das lichtempfindliche Harz oder Kunstharz, das die filmartige lichtempfindliche Schicht bildet, sollte vorzugsweise widerstandsfähig gegenüber Wärme, Lösungsmitteln und Chemikalien und außerdem elektrisch isolierend bzw. nichtleitend sein, wobei diese Eigenschaften diejenigen sind, die für die Lötabdeckimg bzw. für die Lötschutzschicht oder Lötschutzmasse erforderlich sind). Darüber hinaus muß das lichtempfindliche Kunstharz einen Film bei Raumtemperatur bilden und bei dem unter Zuführung von Wärme und Druck erfolgenden Beschichtungsverfahren chemisch stabil sein, wobei es außerdem erforderlich ist, daß das Harz oder Kunstharz ein Haftvermögen oder eine Klebewirkung an der festen Oberfläche, an der es befestigt wird, aufweist. Einige Beispiele für ein derartiges lichtempfindliches Harz oder Kunstharz, das vorzugsweise als Lötabdeckung oder Lötschutzmasse verwendbar ist, lassen sich den japanischen Patentanmeldungen 8031-1-5/73, 10£06!j./73, 5111/7Ij-, 5i12/7il· und 5113/714- entnehmen. Die in diesen Patentanmeldungen angegebenen Stoffe umfassen!
A: photo-polymerisierbare ungesättigte Verbindungen ) mit zumindest zwei endständigen Äthylenresten,
B: einen Sensibilisator zum Einleiten der Polymerisation der ungesättigten Verbindungen durch Lichteinwirkung oder Lichtstrahlung,
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C: lineare hochmolekulare Verbindungen mit licht- oder wärmereaktionsfähigen Radikalen bzw. Resten in Seitenketten,
D: Verbindungen mit zumindest zwei Epoxyresten, und E: ein Aushärtungsmittel für Epoxy-Verbindungen,
sodaß die Stoffe eine hochwertigere Schutzschicht oder Abdeckung ergeben, wenn sie durch Belichtung, Entwicklung und Erwärmung verarbeitet worden sind.
Außerdem ist auch ein Stoff verwendbar, der
A: photo-polymerisierbare ungesättigte Verbindungen mit zumindest zwei endständigen Äthylenresten,
B: einen Sensibilisator zum Einleiten der Polymerisation der ungesättigten' Verbindungen durch Lichteinwirkung oder Lichtstrahlung, und
C: lineare hochmolekulare Verbindungen mit Tetrahydrofurfurylresten und Carboxylresten in Seitenketten aufweist.
Die Erfindung ist nicht auf die Verwendung der obengenannten lichtempfindlichen Harze oder Kunstharze beschränkt, sondern es können auch andere lichtempfindliche Harze oder Kunstharze Verwendung finden. Die zweckmäßige Dicke der lichtempfindlichen Schicht ist unterschiedlich, und zwar nicht nur entsprechend den für den Schutzfilm oder Abdeckfilm erforderlichen Eigenschaften, sondern auch entsprechend der Form der konvex-konkaven Ausbildung der festen Oberfläche, auf die die lichtempfindliche Schicht aufgebracht wird,
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wie etwa entsprechend der Dicke und Dichte der Schaltungsanordnung im Falle einer gedruckten Leiterplatte. Wenn die Niveaudifferenz zwischen den konkaven und den konvexen Oberflächen groß ist und eine hohe Dichte dieser Flächen vorliegt, ist im allgemeinen eine dickere lichtempfindliche Schicht erforderlich. Für die Lötabdeckung oder Lotschutzschicht eignet sich im wesentlichen eine Dicke zwischen 30 bis
Zur Ausbildung einer lichtempfindlichen Schicht auf einer flexiblen dünnen Tragschicht kann jedes üblifhe Verfahren verwendet werden.-Entsprechend einem üblichen Verfahren wird ein lichtempfindliches Harz oder Kunstharz gleichmäßig in einem organischen Lösungsmittel wie Methylethylketon, Toluol oder dergleichen gelöst und die Lösung auf die flexible dünne Tragschicht durch Aufstreichen mittels eines Streichmessers oder Spachtels, durch Walzbeschichten, usw. aufgebracht, worauf die aufgebrachte Schicht anschließend getrocknet wird. Vorzugsweise beträgt der Lösungsmittelrest bzw. Lösungsmittelrückstand in der lichtempfindlichen Schicht weniger als ein Gewichtsprozent.
Die erfindungsgemäß verwendete flexible dünne Tragschicht muß eine ausreichende Widerstandsfähigkeit gegenüber Wärme und Lösungsmitteln entsprechend den Erfordernissen des Herstellungsverfahrens des lichtempfindlichen Materials aufweisen und darüber hinaus auch transparent sein. Außerdem ist es erforderlich, daß die Haft- oder Klebewirkung zwischen der dünnen Tragschicht und der lichtempfindlichen Schicht schwächer als zwischen der lichtempfindlichen Schicht und einer Grundplatte wie etwa einer gedruckten Leiterplatte ist, nachdem die lichtempfindliche Schicht
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belichtet bzw. dem Licht ausgesetzt worden ist. Zweckmäßige Beispiele für die flexible dünne Tragschicht sind Polyester- und Polyamidfilme oder dergleichen. Diese dünnen Tragschichten können leicht von der auf den gedruckten Leiterplatten ausgebildeten lichtempfindlichen Schicht entfernt werden, Die Dicke der flexiblen dünnen Tragschicht ist nicht speziell vorgeschrieben, sollte jedoch unter Berücksichtigung des Gesichtspunktes einer einfachen Handhabung und der Kosten für die Ausbildung der lichtempfindlichen Schicht auf der dünnen Tragschicht vorzugsweise 20 bis \±0jUm betragen. ··. ·
Erfindungsgeraäß erfolgt die Pilmbeschichtung der Grundplatten in einem Vakuum, das unter 2oo mm Hg, vorzugsweise 60 mm Hg, liegt. Der Wert oder das Niveau des Vakuums wird entsprechend der Art des die lichtempfindliche Schicht bildenden lichtempfindlichen Materials (insbesondere entsprechend der Dicke der Schicht und entsprechend dem Fliessvermögen der Schicht bei Erwärmung), entsprechend dem Grad der Erwärmung und des Andruckes während der Beschichtung sowie entsprechend der Niveaudifferenz und der Dichte der konvexen und konkaven Teile einer festen Oberfläche, auf die die lichtempfindliche Schicht aufgebracht wird, verändert. Trotz bzw. ungeachtet dieser Bedingungen beträgt das Vakuum weniger als 200 mm Hg, vorzugsweise weniger als 60 mm Hg, bevor durch die Evakuierung der Atmosphäre eine merkliche Wirkung erzielt wird. Die Erwärmung während des Beschichtungsverfahrens sollte vorzugsweise auf einem zwischen 50 C bis 160 C liegenden Temperaturwert gehalten werden, bei dem das Kunstharz weich und geschmeidig gemacht wird, ohne daß eine Schädigung oder Verminderung seiner Eigenschaften eintritt. Es wird empfohlen, daß sowohl das lichtempfindliche Material vor der Beschichtung und dem Andrücken
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als auch die feste Oberfläche, auf die die Beschichtung aufgebracht wird, vorgewärmt werden.
Beschichtung in einem Vakuum kann erfolgen, indem eine übliche Laminier- oder Verbundschichtmaschine, wie z.B. die von der Firma E. I. du Pont de Nemours and Company hergestellte Latniniermaschine A-2l^, in einen Vakuumbehälter eingebracht wird, wobei die Laminier- oder Verbundschichtmaschine üblicherweise dazu verwendet wird, ein filmartiges lichtempfindliches Material für eine Ätzung zur Ausbildung einer Schaltungsanordnung oder eine Plattierungsabdeckung bzw. Plattierungsschutzschicht auf eine kupferüberzogene bzw. kupferbeschichtete Platte aufzubringen, und indem ein lichtempfindliches Material und eine Grundplatte in die Laminier- oder Verbundschichtmaschine eingeführt werden, die Vakuumkammer evakuiert wird und die Laminier- oder Verbundschichtmaschine derart betrieben wird, daß die Grundplatte mit dem aufgebrachten lichtempfindlichen Material durch die Laminierungs- oder Beschichtungswalzen geführt wird.
Zur Erleichterung und Verbesserung des in einem Vakuum durchzuführenden BeSchichtungsverfahrens wird erfindungsgemäß eine kontinuierlich arbeitende Beschichtungsvorrichtung geschaffen, die eine Evakuiereinrichtung zur Evakuierung des Innenraumes der Vorrichtung, eine in der Vorrichtung vorgesehene Filmzuführeinrichtung, zumindest einen Satz Grundplatten-Zuführrollen oder -walzen zur Zuführung einer Grundplatte von außen in das Innere der Vorrichtung, zumindest einen Satz Druckrollen oder -walzen zum. . Aufbringen eines Films auf die Grundplatte, zumindest einen Satz Schichtplatten- Abführwalzen oder -Abführrollen zum Abführen oder Abtransport einer be-
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schichteten Platte aus dem Inneren der Vorrichtung nach außen, wobei die Grundplatten-Zuführwalzen und die Schichtplatten-Abführwalzen in Gleitkontakt mit Gummiauskleidungen stehen, die in einer Wandstruktur oder Wandkonstruktion der Vorrichtung enthalten sind, um die Luftdichtigkeit bzw. den luftdichten Abschluß des Inneren der Vorrichtung aufrecht zu erhalten, und eine Antriebseinrichtung, die zumindest mit einer der genannten Walzen in Eingriff steht, umfaßt.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung umfaßt die kontinuierlich kqfcreibbare Beschichtungsvorrichtung eine Evakuiereinrichtung zur Evakuierung des Innenraumes der Vorrichtung, zumindest einen Satz Pilmzuführwalzen zur Zuführung eines Films von außen in das Innere der Vorrichtung, zumindest einen Satz Grundplatten-Zuführwalzen zur Zuführung einer Grundplatte von außen in das Innere der Vorrichtung, zumindest einen Satz. Druckwalzen zum Aufbringen des Filmes auf die Grundplatte, zumindest einen Satz Schichtplatten-Abführwalzen zum Abtransport bzw. Abführen der beschichteten Platte aus dem Inneren der Vorrichtung nach außen, wobei die Filmzuführwalzen, die Grundplatten-Zuführwalzen und die Schichtplatten-Abführwalzen in Gleitkontakt mit Gummiauskleidungen stehen, die in einer Wandstruktur oder Wandkonstruktion der Vorrichtung enthalten sind, um die Luftdichtigkeit bzw. den luftdichten Abschluß des Innenraumes der Vorrichtung aufrecht zu erhalten, und eine mit zumindest einer der genannten Walzen in Eingriff stehenden Antriebseinrichtung.
Folgende Einrichtungen der erfindungsgemäßen Beschickungsvorrichtung sind von besonderer Wichtigkeit;
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. eine Evakuiereinrichtung zur Evakuierung des Innenraumes der Vorrichtung. "
2. eine Beschichtungseinrichtung zur Herstellung einer beschichteten Platte, die
a) zumindest einen Satz Beschichtungswalzen zum Aufbringen eines Filmes auf eine Grundplatte und Zusammendrücken des Filmes und der Grundplatte zur Bildung einer beschichteten Platte innerhalb der Vorrichtung,
b) zumindest einen Satz Grundplatten-Zuführwalzen zur Zuführung der Grundplatte von außen in das Innere der Vorrichtung, die in Gleitkontakt mit einer Wandstruktur oder Wandkonstruktion der Vorrichtung stehen, und
c) zumindest einen Satz Schichtplatten-AbfUhrwalzen zum Abführen oder Abtransport der beschichteten Platte, die aus dem Film und der Grundplatte besteht, welche durch die Druckwalzen zusammengedrückt sind, aus dem Inneren der Vorrichtung nach außen, wobei die Walzen in Gleitkontakt mit der Wandkonstruktion der Vorrichtung stehen, aufweist, und
3. eine mit zumindest einer der genannten Walzen in Eingriff stehende Antriebseinrichtung.
Diese Vorrichtungen und Mechanismen sind in Funktionsund Wirkverbindung angeordnet, um die Grundplatte durch die Grundplatten-Zuführwalzen in den von der Evakuiereinrichtung evakuierten Innenraum der Vorrichtung einzuführen, einen Film auf die Grundplatte mittels der Druckwalzen aufzubringen und die beschichtete Platte durch die Schichtplatten-Abführwalzen aus dem Inneren der Vorrichtung nach außen abzuführen oder zu transportieren.
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Zumindest eine der Grundplatten-Zuführwalzen, Schichtplatten-Abführwalzen und Druckwalzen der Anordnung steht mit der Antriebseinrichtung oder dem Antrieb ame chani smus
in Eingriff. Vorzugsweise stehen die Grundplatten-Zuführwalzen und die Schichtplatten-Abführwalzen direkt mit der Antriebseinrichtung in Eingriff, jedoch können sie auch indirekt über weitere, von der Antriebseinrichtung direkt angetriebene Walzen angetrieben werden.
Wenn im Innenraum der Vorrichtung keine Filmzuführeinrichtung vorgesehen ist,' so ist zumindest ein Satz. Filmzuführwalzen zur Zuführung eines Filmes von außen in das Innere der Vorrichtung erforderlich.
Wenn der PiIm einen Schutzfilm trägt, ist eine Schutzfilm-Aufwickelrolle an der Innenseite bzw. im Innenraum der Vorrichtung vorgesehen oder es ist zumindest ein Satz Schutzfilm-Abführwalzen vorgesehen, um den Schutzfilm aus dem Inneren der Vorrichtung nach außen abzuführen, wobei die Walzen in Gleitkontakt mit der Wandstruktur bzw. der Wandkonstruktion der Vorrichtung stehen, um die Luftdichtigkeit bzw. den luftdichten Abschluß des Inneren der Vorrichtung aufrecht zu erhalten.
Die beschriebenen Walzen, wie die Grundplattenzuführwalzen, die Schichtplatten-Abführwalzen, die Film-Zuführwalzen und die wahlweise vorgesehenen Schutzfilm-Abführwalzen sind mit Gummibelägen versehen. Die Härte dieser Gummibeläge sollte vorzugsweise in einem Bereich von 15 der Shore-Härte A bis 70 der Shore-Härte D, insbesondere in einem Berei-ch von 30° bis 70° der Shore-Härte A, liegen.
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Die Dicke der Gummibeläge sollte vorzugsweise 1-60mm, insbesondere 5-3Omm, betragen. Weist das Gummi eine größere Härte als 70° der Shore-Härte D auf, so ist es derart hart, daß sich beim Hindurchführen der Grundplatte, der beschichteten Platte, des Films oder des Schutzfilms ( im folgenden, mit Grundplatte, usw. bezeichnet) durch die Walzen Zwischenräume an beiden Seiten der Grundplatte, usw. bilden und dadurch der luftdichte Abschluß der Vorrichtung unterbrochen wird. Wenn andererseits das Gummi weicher als 15 der Shore-Härte A ist, so ist es zu weich, um ein Vakuum innerhalb der Vorrichtung wirksam aufrecht erhalten zu können. Sind die Gummibeläge dicker als 50mm, so läßt sich ebenfalls ein Vakuum innerhalb der Vorrichtung nicht wirksam aufrecht erhalten, während Beläge, die dünner als 1mm sind, die Bildung von Zwischenräumen an beiden Seiten der Grundplatte, usw. verursachen.
Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Herstellungfilm.beschichteter Grundplatten sind in der Zeichnung dargestellt und werden im folgenden näher beschrieben.
Es zeigen:
Fig. 1 einen Schnitt durch ein filmartiges lichtempfindliches Material, das erfindungsgemäß verwendet wird,
Fig. 2 eine Seitenansicht einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen kontinuierlich betreibbare BeSchichtungsvorrichtung,
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Pig. 3 einen vertikalen Schnitt einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Beschichtungsvorrichtung, wobei eine Pilmzufuhreinrichtung an der Innenseite bzw. im Innenraum der Vorrichtung angeordnet ist,
Pig. Ij. einen axialen Schnitt der Grundplatten-Zuführwalzen oder Schichtplatten-Abführwalzen und ihrer Einfassung,
Fig. 5 einen Querschnitt der Grundplatten-Zuführwalzen oder: Schichtplatten-Abführwalzen und ihrer Einfassung,
Fig. 6 eine Pig. S ähnelnde Darstellung, die die Art der Zu- oder Abführung einer Grundplatte durch die Walzen veranschaulicht,
Fig. 7 eine Seitenansicht der Grundplatten-Zuführwalzen bei der Zuführung einer Grundplatte, und
Fig. 8 einen vertikalen Schnitt einer weiteren Ausführungsform der erfindungsgemäßen Beschichtungsvorrichtung, die an der Innenseite bzw. im Innenraum keine Filmzuführeinrichtung aufweist.
In Fig. 2 ist eine Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Herstellung filmbeschichteter Grundplatten veranschaulicht, die e ine Beschichtungsvorrichtung l|, ein Gestell oder einen Gestellrahmen f>, eine Antriebseinrichtung 6 und eine Evakuiereinrichtung aufweist. Die Be s chi chtung s vorrichtung Ij. ist in ein luftdichtes Gehäuse eingeschlossen, dessen Innenraum
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von der Evakuiereinrichtung 7 evakuiert wird. Die Antriebseinrichtung 6 befindet sich mit den in der BeSchichtungsvorrichtung k enthaltenen Grundplatten-Zuführwalzen mittels einer Endloskette oder eines Endlosgurtes 8 in Eingriff. Die Grundplatten-Zuführwalzen und die Schichtplatten-Abführwalzen der Beschichtungsvorrichtung sind miteinander über eine Endloskette oder einen Endlosgurt 9 verbunden. In Pig. 3 ist die Beschichtungsvorrichtung Ij. in Form eines vertikalen Schnittes veranschaulicht. Wie Fig* 3 zu entnehmen ist, weist die Beschichtungsvorrichtung Grundplatteri^Zuführwa'lzen 10, Schichtplatten-Abführwalzen 11 und Druckwalzen 1? auf. Eine Filmzuführrolle 13 trägt einen aufgewickelten Film 1Ij.. Wenn der Film 1ij. einen Schutzfilm trägt, wird der Schutzfilm von einer Schutzfilm-Aufwickelrolle 1£ aufgewickelt. Eine Grundplatte wird mittels der Grundplatten-Zuführwalzen 10 in drs Innere der Vorrichtung geführt und durch die Druckwalzen 12 geleitet, wo sie mit dem Film 11; beschichtet wird, der von der Filmzuführrolle 13 zugeführt wird. Die derart beschichtete Platte wird sodann aus der Vorrichtung mittels der Schichtplatten-Abführwalzen 11 herausgeführt. Bei der in Fig. 3 dargestellten Ausführungsform der Erfindung werden die Lager 16 für die Druck» walzen 1 2 von Führungsstangen 17 geführt, die selektiv von einem Nocken oder einer Nockenscheibe 18 nach unten bewegt werdeno Wenn die Führungsstangen 17 nach unten bewegt werden, wird die obere Druckwalze mit ä©r von Federn 1 9 ausgeübten Federkraft gegen die untere Druckwalze gepreßt. Die Grundplatten-Zufünrwalsen und die Schichtplatten-Abführwalzen 11 stehen in Gleit= kontakt mit der Wand 12 des Gehäuses über Gleitelemente 21, die in den Wandaufbau eingegliedert sind. Die Gleit elemente oder Auskleidungen 21 weisen einen Innendurehmesser aufp &βτ kleiner als der
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der Grundplatten-Zuführwalzen 1 O oder Schichtplatten-Abführwalzen 11 ist, wobei die Differenz der Durchmesser durch elastische Expansion und Kontraktion der Gummibel'äge der Walzen kompensiert und dadurch ein luftdichter Abschluß der Innenseite der Wandstruktur 20 gewährleistet wird. Der Innendurchmesser der Gleitelemente 21 ist 0,3 bis 0,5 mm kleiner als der Außendurchmesser der Walzen 10 oder 11. Die Gleitelemente 21 bestehen aus Kohlenstoff, Tetrafluorkohlenstoff-Harz oder dergleichen, um einen weichen, glatten Gleitkontakt zwischen den Walzen und den Gleitelementen- zu erzielen. Die Antriebseinrichtung 6 kann zumindest mit einer der Grundplatten-Zuführwalzen 10, der Schichtplatten-Abführwalzen 11 und der Druckwalzen 12 in Eingriff oder Verbindung stehen. Alternativ können auch sämtliche Walzen jeweils einzeln mit der Antriebseinrichtung in Eingriff oder Verbindung stehen. Wenn die Antriebseinrichtung lediglich mit einer der Walzen in Verbindung oder Eingriff steht, sind die e inzelnen Walzen durch Ketten oder Gurte miteinander verbunden. Das Gehäuse oder die Wandstruktur 20 kann aus mehreren Komponenten oder Bauteilen bestehen, die von Schrauben 22 zusammengehalten werden. Trägt der Film einen Schutzfilm, so wird der Schutzfilm auf die Schutzfilm-Aufwickelrolle 15 aufgewickelte In Pig. 3 bezeichnen die Bezugszahl 23 ein Tragteil, die Bezugszahl 2lj- eine Nockenwelle und die Bezugszahl 25 Schraubenmuttern.
In Fig. J4. sind die Grundplatten-Zuführwalzen 10 oder Schichtplatten-Abführwalzen 11 und die Gleitelemente 21 in Form eines axialen Schnittes veranschaulicht· Wie Fig. I+ zu entnehmen ist, stehen die Walzen 10 oder 11 und die Gleitelemente 21. an ihren TJmfangsteilen sowie an den gegenüberliegenden Endteilen
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miteinander in Gleitkontakt. Zwischen den Endgleitelementen und Seitenabdeckungen 26 sind Dämpfungselemente 27 a\is Gummi oder dergleichen angeordnet. Zwischen den Seitenabdeckungen 26 und einer Welle 29 der Walzen 10 oder 11 befinden sich Lager 28. An der Welle 29 sind 0-Ringe unter von Stopfbuchsen 31 aufgebrachtem Druck angebracht, wodurch Dichtungen für die Welle 29 erhalten werden« Die beiden Walzen sind durch Zahnräder 32 miteinander verbunden, von denen eines über ein Kettenrad 3h angetrieben wird, das seinerseits von der Antriebseinrichtung 6 mittels der Kette 8 angetrieben wird. Wenn andere Walzen mittels der Walzen 10 oder 11 angetrieben werden, sind andere Kettenräder an der Welle 29 vorgesehen.
Pig. 5 stellt einen Querschnitt der Grundplatten-Zuführwalzen 10 oder Schichtplatten-Abführwalzen undder umgebenden Struktur daro Die Pig. 6 und 7 stellen einen Querschnitt bzw. eine Vorderansicht der Grundplatten-Zuführwalzen 10 oder der Schichtplatten-Abführwalzen 11 und der umgebenden Struktur dar, die die Art und Weise der Zu- bzw. Abführung der Grundplatte oder der Schichtplatte durch die Walzen veranschaulichen. Wie den Fig. zu entnehmen ist, stehen die Platte und die Walzen in engem Kontakt miteinander, während die Platte durch die Walzen geführt wird, wodurch ein luftdichter Abschluß der wandstruktur der Beschichtungsvorrichtung aufrecht erhalten wird.
Fig. 8 stellt einen Querschnitt einer weiteren Ausführungsform der BeSchichtungsvorrichtung dar, die keine an der Innenseite bzw. im Innenraum der Vorrichtung angebrachte Filmzuführeinrichtung aufweist.
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Diese Ausführungsform der Erfindung weist eine Drei-Walzen-Anordnung auf, die Walzen 37, 38 und 39 enthält, die untereinander in Gleitkontakt über Gummibeläge einer ähnlichen Struktxir wie diejenige der Grundplatten-Zuführwalzen und der Schichtplatten-Abführwalzen stehen. Der Film wird bei der Einführung zwischen den Walzen 37 und 38 hindurchgeführt, wobei dann, wenn der Film einen Schutzfilm trägt, dieser Schutzfilm zwischen den Walzen 38 und 39 hindurch wieder abgeführt wird. Diese drei Walzen stehen mittels einer Zahnradanordnung untereinander in Verbindung, um eine synchronisierte Drehung zu erzielen, und werden von der Antriebseinrichtung entweder direkt über eine Kette oder einen Gurt oder indirekt über weitere Walzen und Ketten oder Gurte angetrieben. Die Walze 39 kann entfallen, wenn der Film keinen Schutzfilm trägt oder der Schutzfilm vor Einführung des Filmes in die Beschichtungsvorrichtung entfernt wird. Die weiteren Bestandteile der Vorrichtung entsprechen denjenigen der ersten Ausführungsform der Erfindung. Wenn die Filmzuführeinrichtung nicht innerhalb des Gehäuses der Beschichtungsvorrichtung angebracht ist, ist die Kapazität einer Filmspule oder Filmrolle nicht durch eine bestimmte Bedingung eingeschränkt, so dai3 die Dauer des kontinuierlichen Betriebes der Vorrichtung \-/illkürlich verlängert werden kann. Außerdem kann die Größe der Beschichtungs vorrichtung verringert werden.
Im folgenden soll die Herstellung filmbeschichteter Grundplatten anhand eines Beispiels erläutert werden.
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Beispiel:
Tetrahydrofurfurylmethacrylat - N - η Butoxy-methylacrylamid - Methylinethacrylat
(2O/fj/75 Gewichtsprozent) Copolymer ...,UO Gewichts teile Pentaerythritoltriacrylat ....30 Gewichtsteile
Epoxyharz (ECN-12Ö0, Chiba Co.) ....25 Gewichtsteile Bortrifluoridmonoäthylamin-Komplex .... 2, ^Gewichtsteile Benzophenon ....2,7Gewichtsteile
Michler's Keton ....0,3Gewichtsteile
ρ - Methoxyphenol ....0,6Gewichtsteile
reines Viktoriabläi -1BO ' ....0,1 Gewichtsteile Methyläthylketon ....120Gewichtsteile
Aus den genannten Bestandteilen wurde eine lichtempfindliche Flüssigkeit hergestellt und auf
einen Polyäthylenterephthalatfilm einer Dicke von
2$ylira mittels eines Streichmessers oder eines
Spachtels aufgebracht. Der mit dem lichtempfindlichen Material beschichtete Film wurde dann
getrocknet, und es wurde ein Film mit einer
100^m dicken lichtempfindlichen Schicht erhalten.
Dieses Filmmaterial wurde außerdem mit einem
ZSjuaa. dicken Polyäthylenfilm unter Druckeinwirkung
beschichtet, wodurch schließlich ein lichtempfindliches Material bzw. ein lichtempfindlicher
Film hergestellt wurde.
Durch Verwendung der Vakuum-Beschichtungsvorrichtung gemäß Figo 2 wurde dieses lichtempfindliche Material auf eine gitterartige Schaltungsoder Leiterplatte, die Metallinien oder Metallbahnen von jeweils 200^m Breite und 20/im
Dicke in einem Abstand von jeweils 200/um aufweist
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bei einem Vakuum von 60mm Hg, einer Beschichtungstemperatur von 8o C und einer BeSchichtungsgeschwindigkeit von 1 m/min aufgebracht.
Als Ergebnis folgte die quf die Leiterplatte aufgebrachte lichtempfindliche Schicht genau der konvexkonkaven Oberfläche der Platte und es konnte kein Eindringen von Luft festgestellt werden. Daraufhin wurde die beschichtete Platte einer Lichtprojektion durch eine Negativmaske ausgesetzt, und zwar einem Lichtstrahl von 9000 /^/cm2
für zwei Minuten, iririem eine' 3 KW-Höchstspannuhgsquecksilberdampflampe verwendet wurde. Unmittelbar danach wurde die Platte auf eine Temperatur von
80 G für fünf Minuten erwärmt und anschließend abgekühlt. Danach wurde der Polyäthylenterephthalatfilm entfernt und eine Sprühentwicklung während einer Dauer von zwei Minuten vorgenommen, indem 1, 1, 1-Trichloräthan aufgesprüht wurde. Danach
wurde die Platte für zwei Stunden auf 130 C erwärmt. Als Ergebnis wurde ein der Negativmaske mit hoher Genauigkeit entsprechender dauerhafter Schutzfilm erhalten, der sich als Lotschutzschicht bzw. Lötabdeckung als ausreichend effektiv und wirksam erwies.
Zum Zwecke des Vergleichs wurde das voraufgehend beschriebene lichtempfindliche Material auf die gleiche Leiterplatte aufgebracht, indem ein übliches Laminier- oder Verbundschichtgerät (das von der Firma E.I. du Pont de Nemours and Company hergestellte Laminiergerät k-?h) verwendet wurde, und zwar wurde die Beschichtung bei atmosphärischem Luftdruck, einer Beschichtungstemperatur von 80 C und einer Beschichtungsgeschwindigkeit von 1 m/min vorgenommen.
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Die auf diese Weise erhaltene beschichtete Platte wies zahlreiche Lufteinschlüsse auf, so daß der Kontakt zwischen der lichtempfindlichen Schicht und der Platte unzureichend war. Das Produkt erwies sich als ungeeignet hinsichtlich einer Verwendung als Lötschutzsöhicht bzw. Lötabdeckung,
Es ist somit ersichtlich, daß sich mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens und der erfindungsgemäßen Vorrichtung eine feste, hermetische Schichtverbindung zwischen einem filmartigen lichtempfindlichen Material, und einer konvexkonkaven festen Oberfläche herstellen läßt, wodurch sich in einem einfach und leicht durchführbaren Verfahren eine lichtunempfindliche Deck- oder Schutzschicht als mit höher Genauigkeit verwendbare Lötschutzschicht oder Lötabdeckung erhalten werden kann.
Die Erfindung kann selbstverständlich, obwohl sie voraufgehend unter Bezugnahme auf das Beispiel des Aufbringens eines Filmes auf eine konvexkonkav geformte feste Oberfläche einer gedruckten Leiterplatte für eine gedruckte Schaltung beschrieben wurde, auch für jeden anderen Zweck der Beschichtung einer Grundplatte mit einem Film Verwendung finden. Das für den Film verwendete Material kann daher entsprechend dem Zweck der Beschichtung unterschiedlich sein, und die Erfindung ist daher nicht auf das Aufbringen einer lichtempfindlichen Schicht beschränkt. Z.B. kann die Erfindung zum Aufbringen eines im Handel erhältlichen filmartigen lichtempfindlichen Materials, wie z.B. des von der Firma E.I. du Pont de Nemours and Company hergestellten Materials "Riston", auf eine chemisch aufgerauhte Oberfläche einer kupferüberzogenen Platte oder Leiterplatte zur Verwendung
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als Ätzschutzschicht oder Ätzabdeckung angewendet werden. Üblicherweise tritt bei einem solchen Verfahren oft das Problem auf, daß sich die lichtempfindliche Schicht aufgrund eines unzureichenden Kontaktes mit der festen Grundoberfläche ablöst und entfernt wird. Bei Anwendung der Erfindung wird dieser Nachteil wirksam vermieden. Die Erfindung kann auch dazu verwendet werden, ein filmartiges lichtempfindliches Material auf eine konvexkonkav geformte Oberfläche einer festen Platte aufzubringen, um ein Endprodukt herzustellen, das ein kompliziertes Muster'oder Schema für Anzeigeoder Darsteilungszwecke aufweist.
Obwohl die kontinuierlich betriebsfähige Beschichtung svorrichtung gemäß der Erfindung eine Grundplatten-Einlaßöffnung, eine Schichtplatten-Auslaßöffnung und eine wahlweise vorgesehene Film-Einlaßöffnung aufweist, kann der Innenraum der Vorrichtung wirksam evakuiert werden, sodaß der Film fest und hermetisch auf die Grundplatte aufgebracht werden kann, ohne daß sich zwischen Film und Grundplatte Lufteinschlüsse bilden.
Erfindungsgemäß wird somit ein vorteilhaftes Verfahren zur Herstellung filmbeschichteter Grundplatten vorgeschlagen, bei dem ein Film auf eine konvex-konkav geformte feste Oberfläche in einem Vakuum aufgebracht wird, um einen festen, hermetischen Kontakt zwischen dem Film und der festen Oberfläche zu erzielen. Darüberhinaus wird erfindungsgemäß eine Vorrichtung zur Herstellung filmbeschichteter Grundplatten vorgeschlagen, die ein luftdicht abgeschlossenes Gehäuse aufweist, in welchen Beschichtungsdruckrollen angeordnet sind,
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wobei die Zuführung und der Abtransport von Materialien wie einer Grundplatte und einem zur Beschichtung dienenden Film durch luftdicht abschließende Walzenanordnungen, die in der Wandstruktur des luftdicht abschließenden Gehäuses enthalten sind, erfolgen.
Obwohl die Erfindung voraufgehend unter Bezugnahme auf vorzugsweise verwendete Ausführungsformen beschrieben wurde, ist ersichtlich, daß noch weitere Abwandlungen und Ausgestaltungen der beschriebenen und dargestellten Ausführungsformen der Erfindung im Rahmen des Erfindungsgedankens denkbar sind.
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Claims (11)

  1. -U,- B 7511
    Patentansprüche
    Verfahren zum Beschichten einer Grundplatte mit einem Film, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung in einem unter dem Wert 200 mm Hg liegenden Vakuum durchgeführt wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, daß der Film (1lj) aus einem filmartigen lichtempfindlichen Material (1,2,3) besteht.
  3. 3· Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, daß die Grundplatte eine gedruckte Leiterplatte ist.
  4. !{.. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Vakuum unter dem Wert 60 mm Hg liegt.
  5. 5· Verfahren zur Herstellung einer mit einem filmartigen lichtempfindlichen Material beschichteten gedruckten Leiterplatte, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung in einem unter dem Wert 60 mm Hg liegenden Vakuum diirchgeführt wird.
  6. 6. Vorrichtung zur kontinuierlichen Durchführung einer Vakuum-Beschichtung, gekennzeichnet durch eine Evakuiereinrichtung (7) zum Evakuieren des Innenraumes der Vorrichtung, durch eine im Inneren der Vorrichtung vorgesehene Filmzuführeinrichtung (13, II4., 15), durch zumindest einen
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    Satz Grundplatten-Zuführwalzen (10) zur Zuführung einer Grundplatte von außen in das Innere der Vorrichtung, durch zumindest einen Satz Druckwalzen (12) zum Aufbringen eines Filmes auf die Grundplatte, durch zumindest einen Satz Schichtplatten-Abführwalzen (11) zum Abführen einer beschichteten platte aus dem Inneren der Vorrichtung nach außen, wobei die Grundplatten-Zuführwalzen (10) und die Schichtplatten-Abfuhrwalzen (11) in Gleitkontakt mit Gummiauskleidungen (21 ) stehen, die in den Wandaufbau (20) der Vorrichtung eingegliedert sind, und durch eine Antriebseinrichtung (6), die sich mit zumindest einer der Walzen in Eingriff befindet.
  7. 7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet» daß die Grundplatten-Zuführwalzen (10) und die Schichtplatten-Abführwalzen (11) mit Gummibelägen versehen sind, die" eine Dicke von 5>-3Omm und eine im Bereich der Werte 30 bis 70 der Shore-Härte A liegende Härte aufweisen.
  8. 8. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Grundplatten-Zuführwalzen (10) und die Schichtplatten-Abfuhrwalzen (11) mit Gummibelägen versehen sind, die eine Dicke von 1-60mm und eine dem Wert 15 der Shore-Härte D entsprechende Härte aufweisen.
  9. 9· Vorrichtung zur kontinuierlichen Durchführung einer Vakuum-Beschichtung, gekennzeichnet durch eine Evakuiereinrichtung (7) zum Evakuieren des Innenraumes der Vorrichtung, durch zumindest einen Satz Filmzuführwalzen (37, 38) zur Zuführung eines Filmes von aussen in das Innere der Vorrichtung,
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    durch zumindest einen Satz Grundplatten-Zuführwalzen (10) zur Zuführung einer Grundplatte von aussen in das Innere der Vorrichtung, durch zumindest einen Satz Druckwalzen (12) zum Aufbringen des Filmes auf die Grundplatte, durch zumindest einen Satz Schichtplatten-Abführwalzen (11) zum Abführen einer beschichteten Platte aus dem Inneren der Vorrichtung nach aussen, wobei die Filmzuführwalzen (37, 38), die Grundplatten-Zuführwalzen (10) und die Schichtplatten-Abführwalzen (11 ) in Gleitkontakt mit Gummiauskleidungen (21) stehen, die· in einer Wandstruktur (20) der Vorrichtung enthalten sind, und duroii eine Antriebseinrichtung (6), die sich zumindest mit einer der Walzen in Eingriff befindet.
  10. 10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die FiImzufuhrwalzen (37, 38), die Grundplatten-Zuführwalzen (10) und die Schichtplatten-Abführwalzen (11) mit Gummibelägen versehen sind, die eine Dicke von £-30mm und eine im Bereich der Werte 30 .bis 70 der Shore-Härte A liegende Härte aufweisen.
  11. 11. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Filmzuführwalzen (37, 38), die Grundplatten-Zuführwalzen (10) und die Schichtplattenabführwalzen (11) mit Gummibelägen versehen sind, die eine Dicke von 1-60mm und eine.im Bereich der Werte 15 der Shore-Härte A bis 70 der Shore-Härte D liegende Härte aufweiseno
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GB (1) GB1547881A (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0215358A2 (de) * 1985-08-30 1987-03-25 Hitachi Chemical Co., Ltd. Verfahren und Vorrichtung mit Ein- und Ausgangsbehandlungskammern zum Laminieren unter reduziertem Druck
EP0271621A1 (de) * 1984-10-25 1988-06-22 528569 Ontario Limited Vorrichtung zum Kaschieren von Glasplatten mit Kunststoffolie
WO1995031885A1 (en) * 1994-05-18 1995-11-23 Amedeo Candore Lamination of dry-film photoresist for forming a conformable solder mask on a printed circuit board

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2119705A (en) * 1982-04-01 1983-11-23 Jerobee Ind Inc Method for press laminating dry film photo resist
JPS60120355A (ja) * 1983-11-29 1985-06-27 エム・アンド・ティ−・ケミカルズ・インコ−ポレ−テッド 感光性樹脂を用いる高解像光透明画像形成方法およびその装置
US4681649A (en) * 1985-04-15 1987-07-21 Fazlin Fazal A Multi-layer printed circuit board vacuum lamination method
DE3737945A1 (de) * 1987-11-07 1989-05-24 Anger Wolfgang Vakuum-laminator
US4992354A (en) * 1988-02-26 1991-02-12 Morton International, Inc. Dry film photoresist for forming a conformable mask and method of application to a printed circuit board or the like
DE4018177A1 (de) * 1990-06-07 1991-12-12 Anger Electronic Gmbh Verfahren zum laminieren von platten und vorrichtung zur durchfuerhrung des verfahrens
EP1009206A3 (de) * 1998-12-02 2003-01-15 Ajinomoto Co., Inc. Verfahren zur Vakuumlaminierung eines Klebefilms
JP3394215B2 (ja) * 1999-07-29 2003-04-07 株式会社 日立インダストリイズ フィルム減圧貼り合わせ装置
EP1117006A1 (de) * 2000-01-14 2001-07-18 Shipley Company LLC Fotoresist mit verbesserter Fotogeschwindigkeit
WO2003101707A1 (en) * 2002-05-29 2003-12-11 Npp Packaging Graphics Specialists, Inc. Vacuum laminator
US20070251663A1 (en) * 2006-04-28 2007-11-01 William Sheldon Active temperature feedback control of continuous casting
US7549797B2 (en) * 2007-02-21 2009-06-23 Rosemount Aerospace Inc. Temperature measurement system
DE102008006390A1 (de) * 2008-01-28 2009-07-30 Tesa Ag Verfahren zur Verklebung von flexiblen Leiterplatten mit Polymermaterialien zur partiellen oder vollständigen Versteifung
CN102756532B (zh) * 2012-06-15 2014-10-01 宿迁亿泰自动化工程有限公司 柔性电路板的本压系统
CN112172115A (zh) * 2020-07-20 2021-01-05 泉州台商投资区飞翔机械设计服务中心 一种贴膜玻璃生产用真空自动贴膜装置及其贴膜方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2993824A (en) * 1957-05-31 1961-07-25 Richaudeau Francois Marc Marie Process for the preparation of films with a view to their reproduction by printing
NL302012A (de) * 1963-08-14
CA757597A (en) * 1963-12-30 1967-04-25 L. Mees John Method for making printed circuits
JPS4518324Y1 (de) * 1966-12-19 1970-07-27
US3545363A (en) * 1968-07-15 1970-12-08 Charles W Bricher Developing container
US3640543A (en) * 1969-11-04 1972-02-08 Republic Steel Corp Seal for moving strip
FR2123089B1 (de) * 1970-12-11 1974-08-23 Saint Gobain
JPS48100201A (de) * 1972-04-04 1973-12-18
JPS49103167A (de) * 1973-02-08 1974-09-30
JPS5513341A (en) * 1978-07-12 1980-01-30 Yaskawa Denki Seisakusho Kk Water supply system

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
NICHTS-ERMITTELT *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0271621A1 (de) * 1984-10-25 1988-06-22 528569 Ontario Limited Vorrichtung zum Kaschieren von Glasplatten mit Kunststoffolie
EP0215358A2 (de) * 1985-08-30 1987-03-25 Hitachi Chemical Co., Ltd. Verfahren und Vorrichtung mit Ein- und Ausgangsbehandlungskammern zum Laminieren unter reduziertem Druck
EP0215358A3 (en) * 1985-08-30 1988-06-01 Hitachi Chemical Co., Ltd. Method and device employing input and output staging chamber devices for reduced pressure lamination
WO1995031885A1 (en) * 1994-05-18 1995-11-23 Amedeo Candore Lamination of dry-film photoresist for forming a conformable solder mask on a printed circuit board

Also Published As

Publication number Publication date
DE2634138B2 (de) 1978-12-14
US4101364A (en) 1978-07-18
JPS5252703A (en) 1977-04-27
DE2634138C3 (de) 1983-12-22
JPS593740B2 (ja) 1984-01-25
GB1547881A (en) 1979-06-27

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