DE10144579C2 - Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Fein- bis Mikrostrukturen und/oder komplexen Mikrosystemen - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Fein- bis Mikrostrukturen und/oder komplexen MikrosystemenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Fein
- bis Mikrostrukturen und/oder komplexen Mikrosystemen durch
schichtweisen Aufbau in und aus einer photoaushärtbaren Flüs
sigkeit zwischen zwei Begrenzungsflächen, wobei die einzelnen
Schichten durch Belichtung der Flüssigkeit durch eine der
Schicht-Topographie entsprechende Maske hindurch gebildet wer
den und der Abstand zwischen den Begrenzungsflächen sukzessive
um die jeweilige Schichtdicke vergrößert wird, sowie eine Vor
richtung zur Durchführung des Verfahrens.
Ein derartiges Verfahren bzw. eine derartige Vorrichtung ist
aus der DB 44 20 999 C2 bekannt. Hilfe der dort offenbarten
Technik ist es möglich, die obengenannten Mikrostrukturen durch
feinste Schichtbildung in ausgezeichneter Auflösung herzustel
len.
Darüber hinaus ist es aus der US 5 143 817 A bekannt, integrale
3-dimensionale Objekte aus photoaushärtbaren Schichten
herzustellen, wobei die Schichten durch einen abnehmbaren fle
xiblen transparenten Film hindurch entwickelt werden, wobei
eine Seite des Films in Kontakt mit der aushärtbaren Flüssig
keit ist und die andere Seite mit einer festen transparenten
Platte, welche den Film führt und hält.
Mit Hilfe der vorbekannten Technik ist es jedoch nicht möglich,
derartige Mikrostrukturen in größerer Stückzahl herzustellen,
da in jeder Vorrichtung jeweils nur eine Mikrostruktur gene
riert werden kann.
Daher hat der Erfinder in DE 195 39 039 C2 eine Lösung
vorgeschlagen, wie eine Vielzahl von Strukturen gleichzeitig
generiert werden kann. Ausgehend von einer Vorrichtung nach DE 44 20 996 C2
ist hier der Strahlungsquelle eine
Strahlteileinrichtung nachgeordnet, wodurch die Teilstrahlen
nebeneinander auf eine der Platten gerichtet auf die mit
dieser Platte parallele Flüssigkeitsoberfläche fokussiert sind.
Somit können parallel nebeneinander gleichartige
Mikrostrukturen zeitgleich generiert werden, wobei jedoch die
Anzahl der zu generierenden Strukturen immer noch begrenzt ist.
Es ist aus dem Stand der Technik (DE 197 21 170 A1) bekannt,
mit Hilfe des "Rotationsdruckverfahrens" strukturierte Folien
bzw. Filme aus thermoplastischen, strahlungshärtbaren
Kunststoffen auf einer Trägerfolie zu erzeugen.
Schließlich ist es aus der WO 96/22874 A1 bekannt, mit Hilfe
eines Walzenteilpaares, bei dem eine Walze lichtdurchlässig ist
und in ihrem inneren eine Lichtquelle aufweist, die Poren der
Oberfläche einer thermoplastischen porösen Folie, die zwischen
den Walzen hindurchgeführt wird, zu schließen, wobei die
Oberfläche des porösen Materials aufgeheizt wird, und zwar
durch die aus der Walze kommende Lichtstrahlung.
Somit handelt es sich bei diesen Verfahren nicht um den
schichtweisen Aufbau von Mikrostrukturen, sondern um die
thermische Behandlung von Oberflächen.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren
und eine Vorrichtung anzugeben, mit dem/der beliebig viele
Mikrostrukturen in Serie hergestellt werden können.
Die Erfindung löst dieses Aufgabe mit den Merkmalen des
des Patentanspruchs 1.
Beim erfindungsgemäßen Verfahren sind im Extremfall genau so
viele Walzenpaare in Reihe hintereinander angeordnet wie
Schichten in der Strukturen generiert werden sollen. Alternativ
kann aber auch ein Walzenpaar, bei dem bei jedem Durchlauf der
Abstand um die Schichtdicke erhöht wird, vorgesehen sein. Der
Aufbau der Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens äh
nelt dabei bekannten Vorrichtungen der aus der Drucktechnik.
Genau wie auf dem Gebiet der Drucktechnik ermöglicht das erfin
dungsgemäße Verfahren beliebig große "Auflagen".
Die photoaushärtbare Flüssigkeit kann sich dabei ähnlich wie im
obengenannten Stand der Technik lediglich auf den Bereich zwi
schen den beiden Grenzflächen (im Walzenspalt) beschränken. Das
erfindungsgemäße Verfahren ist jedoch auch in einem mit der
photoaushärtbaren Flüssigkeit gefüllten Becken durchführbar.
Anders als beim Verfahren gemäß Stand der Technik müssen die
Strukturen auf Substratträgerfolie aufgebaut werden, die mit
dem Bauteil eine größere Haftung eingeht als mit der in der Re
gel antihaftend beschichteten Walze, durch die die Belichtung der
Flüssigkeitsoberfläche erfolgt. Diese Walze wird im folgenden
Belichtungswalze genannt.
Die Belichtungswalze besteht aus einem für elektromagnetische
Wellen (UV-Licht, Laser, etc) durchlässigen Material wie z. B.
Quarzglas. Die Generierung der jeweiligen Schicht in ihrer ge
wünschten Topographie geschieht dabei durch eine Maske, die das
Negativ dieser Topographie darstellt. Diese Maske kann entweder
auf der Belichtungswalze selbst aufgebracht, beispielsweise
aufgedampft sein. Hier zu bietet sich die aus der Mikroelektro
nik bekannte Chrom-Glas-Maske an, die auch in Graukeilform vor
liegen kann, wodurch durch einen definierten Lichtdurchlässig
keitsgradienten beispielsweise auch optische Linsen generiert
werden können.
Eine Alternative hierzu wird darin gesehen, daß in der Belich
tungswalze zwischen Lichtquelle und Walzenoberfläche ein sta
tionärer Belichtungsschlitz angeordnet ist und die Maske als
unterhalb des Schlitzes an der Oberfläche der Belichtungswalze
vorbeigeführtes Folienband ausgebildet ist. Diese Belichtungs
folie mit für elektromagnetische Wellen durchlässigen und un
durchlässigen Bereichen gemäß der zu generierenden Schichttopo
graphie wird synchron mit der Substratträgerfolie zwischen Be
lichtungswalze und Belichtungsschlitz geführt.
Der Belichtungsschlitz hängt dabei in seiner Breite vom Walzen
durchmesser, vom zu belichtenden Material und von der Umfangs
geschwindigkeit der Walze ab.
Mit Hilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens können durch den
Einsatz verschiedener aushärtbarer Flüssigkeiten zwischen den
jeweiligen Walzenpaaren Strukturen erzeugt werden, die genau
definierte physikalische, d. h. z. B elektrische bzw. optische
Eigenschaften aufweisen.
Um bei der Erzeugung von Strukturen mit unterschiedlichsten Ei
genschaften noch freier zu sein, schlägt das erfindungsgemäße
Verfahren vor, dass zusätzliche Folien mit physikalischen
und/oder chemischen Eigenschaften, die von denen der ausgehär
teten Schichten abweichen, parallel zwischen die Walzen zuge
führt und mit der oberen Schicht und der folgenden Schicht ver
klebt werden; so können z. B. zwischen den Schichten auch elek
trisch leitende Schichten aufgebaut werden. Die mit elektrisch
leitenden Materialien strukturiert beschichteten Folien werden
dabei ebenfalls mittels mit elektromagnetischen Wellen polyme
risierbarem Kunststoff strukturiert verklebt. Dabei wird die
Verklebung wieder durch eine auf der Belichtungswalze ange
brachte Maske oder alternativ mit der oben beschriebenen Be
lichtungsfolie realisiert.
Die Verklebung mit der Struktur kann aber auch mit anderen Kle
betechniken realisiert werden. Beispielsweise durch eine Folie,
die mit einem Kleber beschichtet ist, wobei dieser Kleber eben
falls strukturiert aufgebracht werden kann, indem man die Be
schichtungstechniken des Offset-Drucks übernimmt.
Die auf- oder eingebrachten Folien können auch andere Funktio
nen realisieren. So ist es denkbar, die Elastizität der ein-
bzw. aufgebrachten Folie bezüglich ihrer Federwirkung auszunut
zen. Weiterhin ist es denkbar, Folien mit besonderen magneti
schen oder chemischen Eigenschaften (basisch, neutral, sauer,
hydrophil oder hydrophob) gezielt einzusetzen.
Bei einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung
ist vorgesehen, daß die zwischen einem Walzenpaar generierte
Schicht in einem nachfolgenden Schritt zum Entfernen der nicht
ausgehärteten Substanz gespült wird und in einem nachfolgenden
Walzenpaar eine Auffüllung der von der nicht ausgehärteten Sub
stanz befreiten Bereiche durch Materialien oder fertige Bau
teile mit abweichenden physikalischen, chemischen und/oder bio
logischen Eigenschaften durchgeführt wird.
Werden die von der nicht ausgehärteten Substanz befreiten Be
reiche durch eine andere Substanz gefüllt, kann diese Substanz
auch durch andere Aushärtungsmechanismen ausgehärtet werden,
z. B. durch Sauerstoffentzug, Verdunstung von Lösungsmitteln
oder Wärme.
Hierbei ist es mitunter erforderlich, daß nach dem Reinigungs
vorgang (Spülvorgang) ein Trocknungsvorgang angeschlossen wird.
Werden Bauteile zugeführt, so kann dies dadurch geschehen, daß
sie auf einer Folie haftend ähnlich wie bereits oben beschrie
ben einem Walzenpaar zugeführt werden. Die Bauteile werden in
die wie oben beschrieben erzeugte Kavitäten eingelegt, mittels
strukturierter Verklebung befestigt und an einer sogenannten
Schälwalze durch Schälung von ihrem ursprünglichen Träger be
freit.
Ein weiterer Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens ist darin
zu sehen, daß die in Massen produzierten Mikrostrukturen oder
Systeme in einfacher Weise weiterverarbeitet werden können, da
die Strukturen auf der Substratfolie in hoher Ordnung, Ausrich
tung der Lage und Abstand der Bauteile vorliegen, wodurch diese
Ordnung bei der Weiterverarbeitung z. B durch Zuführung gegurte
ter Bauteile ausgenutzt werden kann.
Mit Hilfe des erfindungsgenmäßen Verfahrens ist es jedoch nicht
nur möglich, auf der Substratfolie diskrete Strukturen bzw.
Bauteile zu generieren, es können darüber hinaus auch mi
krostrukturierte Folien selbst erzeugt werden, wobei entweder
auf der Folie eine strukturierte Oberfläche erzeugt werden kann
(Lotosblumeneffekt, Haifischhaut, oder Folien für Flachbild
schirme) oder aber in sich mikrostrukturierte Folien, wobei
nach dem Auftrag dieser Mikrostruktur auf der Trägerfolie an
schließend diese Trägerfolie wieder entfernt wird.
Im letzten Walzenpaar können beispielsweise die Strukturen mit
einer adhäsiven Folie überzogen werden, die beim Transport und
vor der Weiterverarbeitung als Verpackung zum Schutz gegen äu
ßere Einflüsse ausgelegt sein soll.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von Zeichnungen darge
stellt und näher erläutert.
Es zeigen:
Fig. 1 Walzenpaar bei der Erzeugung einer ersten Substrat
schicht,
Fig. 2 Walzenpaar gemäß Fig. 1 mit Maskenfolie,
Fig. 3 Walzenpaar bei der Erzeugung der zweiten Schicht,
Fig. 4 Walzenpaar und Zuführvorrichtung von einzulegenden
Bauteilen,
Fig. 5 Walzenpaar mit Zuführung einer Folie.
In den Fig. 1 bis 5 ist jeweils ein Walzenpaar dargestellt
und allgemein mit dem Bezugszeichen 1 versehen. Für die erfin
dungsgemäße Vorrichtung muß man sich n dieser Walzenpaare in
Reihe zueinander geschaltet vorstellen, wobei n abhängig ist
von der Strukturhöhe bzw. von den Eigenschaften, die eine der
artige Struktur haben soll. Alternativ kann aber auch ein Wal
zenpaar vorgesehen sein, bei dem bei jedem Durchlauf der Ab
stand der Walzen um die Schichtdicke erhöht wird.
In der Fig. 1 ist das erste Walzenpaar 1 innerhalb der Vorrich
tung dargestellt. Es besteht (wie im Prinzip die anderen Wal
zenpaare auch) aus einer aus für elektromagnetische Wellen
durchlässigem Material bestehenden Belichtungswalze 2 und einer
Gegenwalze 3, die zwischen sich einen Walzenspalt 4 lassen. In
der Belichtungswalze 2 ist eine elektromagnetische Wellen aus
sendende Quelle 5 (UV-Quelle, Laser etc.) angeordnet. Zwischen
Lichtquelle 5 und dem Walzenspalt 4 befindet sich in der Walze
2 ein stationärer Belichtungsschlitz 6. Durch den Walzenspalt
hindurchgeführt wird eine Substratträgerfolie 7, zwischen wel
cher und der Belichtungswalze 2 eine durch Adhäsionskräfte ge
haltene photoaushärtbare Flüssigkeit 8 vorgesehen ist. Auf der
Oberfläche der Belichtungswalze 2 ist eine Maske
(beispielsweise Chrom-Glas-Maske) aufgetragen, die ein Negativ
zur Schicht-Topographie der zu erzeugenden ersten Schicht dar
stellt.
Die Flüssigkeit 8 wird mit Hilfe der Lichtquelle 5 durch den
Belichtungsschlitz 6 belichtet. Dort wo das Licht in die Flüs
sigkeit eindringen kann (d. h. von der Maske nicht ausgeblendet
wird), polymerisiert die Flüssigkeit und wird fest. Hierdurch
entsteht die erste Schicht 9 der zu generierenden Struktur.
In der Fig. 2 ist eine an sich gleiche Vorrichtung dargestellt.
Hier ist die Maske aber nicht auf der Oberfläche der
Belichtungswalze 2 aufgetragen, sondern wird in Form einer
Belichtungsfolie 10 zwischen Belichtungsschlitz und Flüssig
keitsoberfläche hindurchgeführt.
In der Fig. 3 ist ein dem in den Fig. 1 und 2 dargestellten
Walzenpaar 1 nachgeordnetes Walzenpaar 1' dargestellt, durch
welches die zweite Schicht 9' auf der ersten Schicht 9 in gleicher
Weise generiert wird wie diesbezüglich in Fig. 1 und 2 be
schrieben. Die Substanz zur Erzeugung der zweiten Schicht 9'
kann dabei gleich sein wie die Substanz der ersten Schicht 9,
kann aber auch aus anderem Material mit abweichenden Eigen
schaften bestehen.
In der Fig. 4 ist wiederum ein Walzenpaar 1" dargestellt, an
dem bereits mit einer Mulde versehene zuvor generierte Struktu
ren 11 ankommen und dort mit von einer Spule 12 zugeführten
(beispielsweise) Bauteilen 13 bestückt werden. Die Bauteile 13
haften auf einer Folie 14. Nach dem Einlegen der Bauteile 13 in
die Mulden der Struktur 11 werden diese mittels eines Schälmes
ser 16 von der Folie 14 abgeschält. Zum Befestigen der Teile 13
in den Mulden können Klebetechniken angewandt werden, bei denen
ebenfalls mit photoaushärtbaren Substanzen gearbeitet wird, und
zwar in der Art und Weise wie oben beschrieben.
Schließlich ist in Fig. 5 ein abschließendes Walzenpaar 1'''
dargestellt, in dem die fertigen Strukturen 11 zum Schutz und
zum Transport mit einer Deckfolie 15 abgedeckt werden. Auch
hierbei kann mittels des obengenannten Verfahrens eine Verkle
bung der Folie mit den Strukturen 11 erfolgen.
Abhängig von chemikalischen, physikalischen und biologischen
Eigenschaften können ähnlich wie in Fig. 5 dargestellt auch bei
der Produktion, d. h. bei der Generierung der Strukturen 11 Fo
lien zugeführt werden, die dann einzelne Schichten der Struktur
bilden.
Claims (17)
1. Verfahren zur Herstellung von Fein- bis Mikrostrukturen
und/oder komplexen Mikrosystemen durch schichtweisen Auf
bau in und aus einer photoaushärtbaren Flüssigkeit zwi
schen zwei Begrenzungsflächen, wobei die einzelnen Schich
ten durch Belichtung der Flüssigkeit durch eine der
Schicht-Topographie entsprechende Maske hindurch gebildet
werden und der Abstand zwischen den Begrenzungsflächen
sukzessive um die jeweilige Schichtdicke vergrößert wird,
dadurch gekennzeichnet,
daß die einzelnen Schichten (9, 9') der aufzubauenden
Struktur (11) zwischen jeweils zwei sich gegenüberste
henden gegenläufigen, die Begrenzungsflächen bildenden
Walzen (2, 3) eines Walzenpaares (1, 1', 1", 1''') generiert
werden und der Walzenabstand (4) der Walzen (2, 3) des jeweili
gen Walzenpaares (1, 1', 1", 1''') durch die Dicke der zu bil
denden Schicht (9, 9') und der Dicke der bereits vor
handenen Schichten gegeben ist, wobei die erste Schicht
(9) auf einer zwischen den Walzen (2, 3) hindurchfahrenden
Substratträgerfolie (7) aufgebracht wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die zwischen einem Walzenpaar (1, 1', 1", 1''') generierte
Schicht (9, 9') in einem nachfolgenden Schritt zum Entfer
nen der nicht ausgehärteten Substanz gespült wird und in
einem nachfolgenden Walzenpaar eine Auffüllung der von der
nicht ausgehärteten Substanz befreiten Bereiche durch
lichtaushärtbare Materialien mit abweichenden physikalischen,
chemischen und/oder biologischen Eigenschaften
durchgeführt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß auf der Substratfolie (7) diskrete Strukturen bzw.
Komplex-Systeme in großer Stückzahl erzeugt werden.
4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß mikrostrukturierte Endlos-Folien erzeugt werden, wobei
Folien mit einer mikrostrukturierten Oberfläche und/oder
Folien gebildet werden, bei denen nach Erzeugung der mi
krostrukturierten Oberfläche die Substratfolie (7) wieder
entfernt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß die der Schicht-Topographie entsprechende Maske auf
der Belichtungswalze (2) aufgetragen ist.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß die der Schicht-Topographie entsprechende Maske auf
einer synchron mit der Substratfolie (7) vor der
Belichtungswalze (2) vorbeigeführten Folie (10) mit für
elektromagnetische Wellen durchlässigen und undurchlässi
gen Bereichen vorgesehen ist.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Flüssigkeit (8) auf den Spalt (4) zwischen den
Walzen (2, 3) begrenzt ist und durch ihre Oberflächenspan
nung gehalten wird.
8. Verwendung eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis
7, bei dem zusätzliche Folien (15) mit physikalischen
und/oder chemischen Eigenschaften, die von denen der ausgehärteten
Schichten (9, 9') abweichen, parallel zwischen
die Walzen (2, 3) geführt und mit der darunter liegenden
und der darüber folgenden Schicht verklebt werden.
9. Verwendung eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis
7, bei der die zwischen einem Walzenpaar (1, 1', 1") gene
rierte Schicht (9, 9') in einem nachfolgenden Schritt zum
Entfernen der nicht ausgehärteten Substanz gespült wird
und in einem nachfolgenden Walzenpaar eine Auffüllung der
von der nicht ausgehärteten Substanz befreiten Bereiche
durch Bauteile (13) mit abweichenden physikalischen, che
mischen und/oder biologischen Eigenschaften durchgeführt
wird.
10. Verwendung nach Anspruch 9, bei der die Bauteile (13) auf
einer Folie (14) haftend zugeführt werden und nach ihrer
Positionierung mittels Abschälung von der Folie (14) be
freit werden.
11. Vorrichtung zur Herstellung von Fein- bis Mikrostrukturen
und/oder komplexen Mikrosystemen durch schichtweisen
Aufbau in und aus einer photoaushärtbaren Flüssigkeit
zwischen zwei Begrenzungsflächen, wobei die einzelnen
Schichten durch Belichtung der Flüssigkeit durch eine der
Schicht-Topographie entsprechende Maske hindurch gebildet
werden und der Abstand zwischen den Begrenzungsflächen
sukzessive um die jeweilige Schichtdicke vergößert wird,
nach einem der Ansprüche 1 bis 10, gekennzeichnet durch
mindestens ein Walzenpaar (1, 1', 1", 1'''), bei dem der Abstand zwischen den Walzen (2, 3) veränderbar ist und sich in dem Spalt (4) zwischen den Walzen (2, 3) die photoaushärtbare Flüssigkeit befindet, wobei jeweils eine Walze (2) des Walzenpaares (1, 1', 1", 1''') (Belichtungswalze) aus einem für elektromagnetische Wellen durchlässigen Material besteht, wobei in dieser Walze (2) eine elektromagnetische Wellen aussendende Quelle (5) (Lichtquelle) angeordnet ist, und wobei die Oberfläche der Belichtungswalze (2) nicht haftend ausgebildet ist,
eine jeder Belichtungswalze (2) zugeordneten Maske (10) mit für elektromagnetische Wellen durchlässigen und undurchlässigen Bereichen, sowie
durch eine durch das mindestens eine Walzenpaar (1, 1', 1", 1''') hindurchgeführte Substrat-Trägerfolie (7) als Basis für die zu generierenden Strukturen (11).
mindestens ein Walzenpaar (1, 1', 1", 1'''), bei dem der Abstand zwischen den Walzen (2, 3) veränderbar ist und sich in dem Spalt (4) zwischen den Walzen (2, 3) die photoaushärtbare Flüssigkeit befindet, wobei jeweils eine Walze (2) des Walzenpaares (1, 1', 1", 1''') (Belichtungswalze) aus einem für elektromagnetische Wellen durchlässigen Material besteht, wobei in dieser Walze (2) eine elektromagnetische Wellen aussendende Quelle (5) (Lichtquelle) angeordnet ist, und wobei die Oberfläche der Belichtungswalze (2) nicht haftend ausgebildet ist,
eine jeder Belichtungswalze (2) zugeordneten Maske (10) mit für elektromagnetische Wellen durchlässigen und undurchlässigen Bereichen, sowie
durch eine durch das mindestens eine Walzenpaar (1, 1', 1", 1''') hindurchgeführte Substrat-Trägerfolie (7) als Basis für die zu generierenden Strukturen (11).
12. Vorrichtung nach Anspruch 11,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Maske auf der Oberfläche der Belichtungswalze (2)
aufgebracht ist.
13. Vorrichtung nach Anspruch 11,
dadurch gekennzeichnet,
daß in der Belichtungswalze (2) zwischen Lichtquelle (5)
und Walzenoberfläche ein stationärer Belichtungsschlitz
(6) angeordnet ist und die Maske als unterhalb des Schlit
zes (6) an der Oberfläche der Belichtungswalze (2) vorbei
geführtes Folienband (10) ausgebildet ist.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 oder 13,
dadurch gekennzeichnet,
daß mehrere Walzenpaare in Reihe hintereinander angeordnet
sind.
15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 14,
dadurch gekennzeichnet,
daß zwischen einzelnen Walzenpaaren (1, 1', 1''') Spülvor
richtungen angeordnet sind.
16. Verwendung einer Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11
bis 15,
bei der zwischen den Walzenpaaren (1, 1', 1", 1''') Folienwic
kel (12, 15) angeordnet sind, deren Folien als Träger für
eine Klebstoffschicht und/oder elektronische und/oder
mechanische und/oder optische und/oder biologische Bau
teile (13) ausgebildet sind.
17. Verwendung einer Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11
bis 15, bei der zwischen den Walzenpaaren (1, 1', 1", 1''')
Folienwickel angeordnet sind, wobei die Folien definierte
physikalische bzw. chemische Eigenschaften aufweisen.
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- 2001-09-11 DE DE10144579A patent/DE10144579C2/de not_active Expired - Lifetime
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8381 | Inventor (new situation) |
Inventor name: GOETZEN, REINER, DIPL.-ING, 47239 DUISBURG, DE |
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R082 | Change of representative |
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R071 | Expiry of right |