DE2617521A1 - Integrierte halbleiterschaltung - Google Patents

Integrierte halbleiterschaltung

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DE2617521A1
DE2617521A1 DE19762617521 DE2617521A DE2617521A1 DE 2617521 A1 DE2617521 A1 DE 2617521A1 DE 19762617521 DE19762617521 DE 19762617521 DE 2617521 A DE2617521 A DE 2617521A DE 2617521 A1 DE2617521 A1 DE 2617521A1
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DE
Germany
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conductivity type
semiconductor
zone
epitaxial layer
isolated
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Ceased
Application number
DE19762617521
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Hiroshi Mochizuki
Kazuo Sato
Hajime Sawazaki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Ceased legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D84/00Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
    • H10D84/60Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of at least one component covered by groups H10D10/00 or H10D18/00, e.g. integration of BJTs
    • H10D84/67Complementary BJTs
    • H10D84/673Vertical complementary BJTs
    • H10W10/031
    • H10W10/30

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  • Bipolar Integrated Circuits (AREA)
  • Bipolar Transistors (AREA)
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19857852B4 (de) * 1997-12-25 2008-12-04 Sony Corp. Halbleitervorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1101096B (it) * 1978-12-22 1985-09-28 Ates Componenti Elettron Perfezionamento al procedimento per produrre dispositivi integrati a semiconduttore e prodotto risultante
JPS5917409A (ja) * 1982-07-21 1984-01-28 Nissan Motor Co Ltd 搬送用ハンガ−
JPS6377144A (ja) * 1986-09-19 1988-04-07 Sanyo Electric Co Ltd 半導体集積回路
JP2835116B2 (ja) * 1989-09-29 1998-12-14 株式会社東芝 電力用icおよびその製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4841675A (enExample) * 1971-09-28 1973-06-18
JPS4842685A (enExample) * 1971-09-30 1973-06-21
JPS5942463B2 (ja) * 1972-09-22 1984-10-15 ソニー株式会社 半導体集積回路装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19857852B4 (de) * 1997-12-25 2008-12-04 Sony Corp. Halbleitervorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung

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FR2309040A1 (fr) 1976-11-19
GB1496306A (en) 1977-12-30
IT1058177B (it) 1982-04-10
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JPS51123577A (en) 1976-10-28

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