DE2600138C2 - Einrichtung auf der Basis der akustischen Oberflächenwellen mit einem zur Übertragung der akustischen Oberflächenwellen dienenden Trägerkörper aus piezoelektrischem Material und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents
Einrichtung auf der Basis der akustischen Oberflächenwellen mit einem zur Übertragung der akustischen Oberflächenwellen dienenden Trägerkörper aus piezoelektrischem Material und Verfahren zu ihrer HerstellungInfo
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Description
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12. Einrichtung nach einem der Ansprüche 8 bis 11
und Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Eingangs- und Ausgangswandler als Interdigitalwandler
ausgebildet sind.
13. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 sowie
8 bis 12 und/oder Anspruch 7, gekennzeichnet durch die Ausbildung als Filter mit umschaltbarer Bandmittenfrequenz
in der Weise, daß die Enden der Übertragungsbahn für die OberflächenweUen am Trägerkörper (74) Wandler (80, 82) aufweisen, die
durch ihre Beschallung mit entsprechend bemessenen Reaktanzen (76, 78) als Reflektoren für die
OberflächenweUen dienen und daß entlang der Übertragungsbahn für die OberflächenweUen zwischen
den reflektorisch wirkenden Wandlern (80,82) mehrere, jeweils einzeln durch Schalter (88) mit der
Filter-Eingangsschaltung verbindbare Eingangswandler (86) und ein an die Filter-Ausgangsschaltung
(92) angeschlossener Ausgangswandler (84) vorgesehen sind.
14. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 sowie
8 bis 12 und/oder Anspruch 7, gekennzeichnet durch
die Ausbildung als frequenzbestimmender Bestandteil von Oszillatoren in der Weise, daß zwischen den
Wandlern auf der Oberfläche des Trägerkörpers Gittermuster vr/gesehen sind, durch welche stehende
akustische Oberflächenwellen herbeigeführt werden.
15. Verfahren zur Herstellung einer Einrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß auf dem Trägerkörper aus piezoelektrischem Werkstoff zunächst die
Wandler aufgebracht werden und anschließend auf der die Wandler tragenden Oberfläche des Trägerkörpers
und auch über den Wandlern eine Siliziumdioxidschicht abgelagert wird.
16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet,
daß das Ablagern der Siliziumdioxidschicht durch Sputtern im Hochfrequenzfeld von einer Auftreffelektrode
aus geschmolzener Kieselerde durchgeführt wird.
17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet,
daß das Sputtern bei einer Temperatur von etwa 15O0C in einer Atmosphäre von im wesentlichen
reinem Sauerstoff geschieht.
18. Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet,
daß das Sputlern mit einer Geschwindigkeit von 200 r;m/h bis 1000 nm/h durchgeführt wird.
Die Erfindung bezieht sich auf eine Einrichtung auf der Basis der akustischen Oberflächenwellen mit einem
zur Übertragung der akustischen Oberflächenwellen dienenden Trägerkörper aus piezoelektrischem Material
und auf ein Verfahren zur Herstellung einer derartigen Einrichtung. Eine solche Einrichtung bildet bekanntlich
die Grundlage für die Verwirklichung von Verzögefungseinriehtungen, Filtern und Oszillatoren
nach dem Oberflächenwellenprinzip.
Verzögerungseinrichtungen auf der Basis der akustischen Oberflächenwellen sind in der Radartechnik und
auf dem Gebiete der Nachrichtenübertragung seit geraumer Zeit in Gebrauch. In der einfachsten Form enthalten
solche Verzögerungseinrichtungen einen Trägerkörper aus piezoelektrischem Material, an welchem
mindestens zwei mit der Oberfläche des Trägerkörpers
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gekoppelte Wandler angesetzt sind. DieWandler sind in der Regel als Interdigitalwandler ausgebildet, d. h. sie
enthalten ineinandergreifende Gruppen von Leiterfingern, welche an der Oberfläche des piezoelektrischen
Trägerkörpers Oberflächenwellen anregen bzw. aus der Oberfläche solche Wellen detektieren.
Die Verzögerungszeit, weiche von Verzögerungseinrichtungen dieser Art herbeigeführt wird, ist diejenige
Zeit, welche eine Oberflächenwelle für die Ausbreitung von dem Eingangswandler zu dem Ausgangswandler
benötig?. Diese Größe ist für viele Anwendungsbereiche der Einrichtung wesentlich. Beispielsweise ändert
sich bei Verwendung der Einrichtung als frequenzbestimmender Bestandteil eines Oszillators die Ausgangsfrequenz
dieses Oszillators invers zur Änderung der VerzögerungszeiL
Aus eintr Anzahl von Gründen ist die Verzögerungszeit einer die Ausbreitung akustischer Oberflächenwellen
ausnützenden Verzögerungseinrichtung eine Funktion von der Temperatur. Diese Funktion von der Temperatur
kann entweder positiv oder negativ 'T;in. Die
überwiegende Mehrzahl der piezoelektrischen Werkstoffe, die für den Trägerkörper in Betracht kommen,
hat jedoch einen positiven Temperaturkoeffizienten der Verzögerungszeit. Die Funktion ist ferner im allgemeinen
nicht linear, da viele unterschiedliche Faktoren die Abhängigkeit der Verzögerungszeit von der Temperatur
bestimmen. Mathematisch kann die Abhängigkeit der Verzögerungszeit von der Temperatur für irgendeine
Einrichtung oder ein bestimmtes Material als Taylor'sche Reihe entwickelt werden. Der erste nicht konstante
Ausdruck, nämlich der einer linearen Temperaturabhängigkeit entsprechende Ausdruck der Taylor'schen
Reihenentwicklung wird als Temperaturkoeffizient erster Ordnung bezeichnet. Der nächste Ausdruck
der Taylor'schen Reihe ist der Temperaturkoeffizient zweiter Ordnung und gibt Änderungen zweiten
Grades der Verzögerungszeit abhängig von der Temperatur an.
Ein Quarz mit ST-Schnitt, wie er in der US-Patentschrift 38 18 382 beschrieben ist, besitzt bei Raumtemperatur
einen Temperaturkoeffizienten erster Ordnung vom Betrag Null und einen Temperaturkoeffizienten
zweiter Ordnung von etwa 31 ■ 10~9l/(K)2. Für viele
Anwendungsfälle reicht dieser Temperaturkoeffizient des Quarzes mit ST-Schnitt aus. Der elektromechanische
Kopplungsfaktor eines aus einem Quarz mit ST-Schnitt gefertigten Trägerkörpers ist jedoch ziemlich
niedrig. Für manche Zwecke werden größere elektromechanische Kopplungsfaktoren zur Erzielung einer
größeren Bandbreite benötigt, als sie mit einem Quarz
mit ST-Schnitt erreicht werden können.
Werkstoffe mit größeren elektromechanischen Kopplungsfaktoren, jedoch auch größeren Temperaturkoeffizienten
der Verzögerungszeit als beim Quarz mit ST-Schnitt machen andere Maßnahmen erforderlich,
um eine ausreichende Temperaturstabilität der Verzögerungszeit zu erreichen. Oft verwendete man zu diesem
Zweck einen Thermostaten. Selbstverständlich sind solche Systeme unhandlich, teuer und können in vielen
Fällen nicht verwendet werden, beispielsweise in Flugkörpern, bei welchen der Raumbedarf und der Leistungsverbrauch
eines Thermostaten nicht tragbar sind.
Man hat auch schon die Übertragung akustischer Oberflächenwellen ausnützende Einrichtungen und unter
anderem auch Verzögerungseinrichtungen mit mehreren Schichten aus piezoelektrischem und nichtpiezoelektrischem
Werkstoff m't dem Ziel entwickelt, bei solchen
Einrichtungen temperaturunabhängige Laufzeiten bzw. Verzögerungszeiten zu erreichen. Einrichtungen
dieser Art sind beispielsweise in der US-PS 37 86 373 beschrieben und besitzen eine piezoelektrische Schicht
aus ZnO, welche auf einem nichtpiezoelektrischen Trägerkörper aufgebracht ist, der aus geschmolzener Kieselerde
besteht. Mit Einrichtungen dieser Art wurden viele Schwierigkeiten beseitigt, die bei den bis dahin bekannten
Einrichtungen aufgetreten sind. Es ist jedoch verhältnismäßig schwierig, ZnO-Schichten hoher Qualität
auf geschmolzener Kieselerde abzulagern und daher ist es wünschenswert, die Probleme hinsichtlich des Temperaturkoeffizienten
auf eine weniger kostspielige Art zu lösen.
Die Veröffentlichung »Applied Physics Letters«, Vol. 19, No.8. (15. Oktober 1971) Seiten 279 und 280
befaßt sich mit dem Problem, den elektromechanischen Kopplungsfaktor von Wandlern bei Einrichtungen nach
dem Oberfläehenwellenprinzip zu verSrssern. Dies ge-
^o schieht dadurch daß eine Sili/.iumdioxv^schicht auf die
am Trägerkörper vorgesehene Interdigitaistruktur des Wandlers aufgebracht wird. Der Trägerkörper besteht
dabei aus einem Liihiumniobatkristall mit V-Z-Schnitt.
Diese Veröffentlichung bietet dem einschlägigen Fachmann jedoch keinen Weg zur Überwindung der Schwierigkeit,
der man sich beim Entwurf der in der obengenannten US-PS 37 86 373 beschriebenen Verzögerungsvorrichtung
gegenübersah und die darin bestand, daß man bei einer Verzögerungseinrichtung nach dem
Oberflächenwellenprinzip entweder einen niedrigen elektromechanischen Kopplungsfaktor der Wandler in
Kauf nehmen mußte, wenn die Einrichtung eine niedrige Temperaturdrift besitzen sollte oder eine größere Temperaturabhängigkeit,
wenn der Werkstoff einen größeren Kopplungsfaktor der Wandler aufweisen sollte.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Einrichtung auf der Basis der akustischen Oberf!ächenwellen
mit einem zur Übertragung der akustischen Oberflächenwellen dienenden Trägerkörper aus piezoelektrischeri
Material so auszubilden, daß der Temperaturkoeffizient der Laufzeit möglichst nahe bei Null liegt, und
daß gleichzeitig ein hoher elektromechanischer Kopplungsfaktor der auf dem piezoelektrischen Trägerkörper
aufgebrachten Wandler erzielt werden soll, um die Einrichtung auch für solche Anwendungsfälle geeignet
zu machen, in denen ein breitbandiges Frequenzverhalten gefordert wird. Der Temperaturkoeffizient erster
Ordnung soll vorzugsweise gleich Null sein und der Temperaturkoeffizient der Laufzeit soll insgesamt so
niedrig sein, daß im FaI! der Ausbildung der Einrichtung als Verzögerungseinrichtung, Filter oder als frequenzbestim-nender
Bestandteil eines Oszillators besondere Temperaturstabilisierungsmaßnahmen nicht erforderlich
sind.
Ausgehend von einer Einrichtung auf der Basis der akustischen Oberflächenwelien mit einem zur Übertragung
der akustischen Obcri'ächcnwcHen dienenden
Trägerkörper aus piezoelektrischem Material, auf den zur Kompensation des Temperaturkoeffizienten der
Laufzeit eine Schicht aus nichtleitendem Material aufgebracht ist. wird die vorstehend beschriebene Aufgabe
dadurch gelöst, daß bei Verwendung von Lithiumtantalat oder Lithiumniobnt als piezoelektrisches Material
des Trägerkörpers die Schicht aus nichtleitendem Material in an sich bekannter Weise aus Siliziumdioxid besteht
und die Dicke dieser Schicht so gewählt ist, daß der Temperaturkoeffizient der Laufzeit innerhalb eines vorbestimmten
Bereiches liest.
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Die Einrichtung kann so ausgelegt sein, daß der Temperaturkoeffizient
erster Ordnung des Trägerkörpers durch einen gleich grollen jedoch mit entgegengesetztem
Vorzeichen versehenen Temperaturkoeffizienten erster Ordnung für die Siliziiimdioxidschicht kompensiert
wird, so daß der resultierende Temperaturkoeffizient erster Ordnung der Verzögerung einen Minimalwert bzw. den Wert Null besitzt. Zur Einkopplung oder
Auskopplung der Oberflächenwellen in den bzw. aus dem Trägerkörper sind jeweils ein oder mehrere Wandler
vorgesehen.
Falls der Trägerkörper aus Lithiumtuntalat besteht,
wird die Siliziumdioxidschicht vorzugsweise gleichförmig mit einer Schichtdicke aufgebracht, die etwa der
halben Wellenlänge der Obcrflächenwellcn gleich ist. Falls der Triigerkörper hingegen aus Uthiumniobat besteht,
ist die Dicke der Sili/iunidioxidschicht vorzugsweise
iiniiM-srhiodlii-h. um die Umwandlung der Obcrflächenwellcn
in Körperschwingungen und die damit verbundenen hohen Einfügungsdäntpfungswerte zu verhindern.
In einer Verzögerungseinrichtung, welche jeweils Wandler an jedem Ende aufweist, hat die Siliziumdioxidschicht
im Bereich der Wandler, die von der Schicht überdeckt werden, vorzugsweise eine Starke von etwa
dem 0,1 fachen der Wellenlänge der Oberflächen wellen. Der mittlere Teil der Siliziumdioxidschicht besitzt eine
Stärke von etwa dem OJfachen der Wellenlänge der Oberflächenwellen und nimmt von diesem Bereich in
der Stärke ab. um in die dünneren Schichtbereiche überzugehen. Der mittlere Teil nimmt etwa 55% des linearen
Abstandes zwischen den Wandlern ein.
Als Verzögerungseinrichtungen ausgebildete Einrichtungen nach der Erfindung finden vorteilhafterweise in
Radaranlagen und Nachrichtenübertragungsanlagen Verwendung. Bei der Anwendung als dispersive Verzögerungsleitung
in Radaranlagen mit Impulskompression wird die Einrichtung mit schräggestellten Wandlern versehen.
Für solche Wandler ist neben der Schrägstellung bekanntlich charakteristisch, daß der Abstand zwischen
den Leiterfingern und deren Länge sich entlang dem Wandler ändert, damit die vorgeschriebene Frequenzabhängigkeit
der Laufzeit erreicht wird.
Bei der Ausgestaltung der Einrichtung nach der Erfindung als umschaltbarer frequenzbestimmender Bestandteil
eines Oszillators oder eines Filters mit stufenweise veränderbarer Bandmittenfrequenz ist eine Vielzahl
von Wandlern vorgesehen, welche in bestimmten gegenseitigen Abständen entlang der Übertragungsbahn für die Oberflächenwellen auf dem Trägerkörper
angeordnet sind. Die an den Enden der Übertragungsbahn befindlichen Wandler sind mit Reaktanzen abgeschlossen,
die dem Betrag nach dem Imaginärteil der Wandler-Eingangsimpedanz gleich sind, aber entgegengesetztes
Vorzeichen aufweisen, wodurch sie reflektierend wirken. Die Wandler entlang der Übertragungsbahn sind jeweils durch Schalter mit der Eingangs- bzw.
Ausgangsschaltung verbindbar, so daß nur Signale mit der durch die Schalter wählbaren Bandmittenfrequenz
von der Eingangs- auf die Ausgangsschaltung übertragen werden.
Die als Verzögerungseinrichtung bemessene Einrichtung nach der Erfindung läßt sich auch ohne weiteres als
angezapfte Verzögerungsleitung ausbilden, wobei Signale von einer Anzahl von Punkten längs des piezoelektrischen
Trägerkörpers durch Wandler abgenommen werden und nach geeigneten Signalverarbeitungsvorgängen
und entsprechender Gewichtung jeweils wieder einander überlasen werden.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Einrichtung gemäß der Erfindung sowie ein Verfahren zur Herstellung einer
Einrichtung gemäß der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche, auf die hiermit zur Verkürzung der
Beschreibung ausdrücklich verwiesen wird.
Im folgenden sei die Erfindung anhand der Zeichnungen
näher erläutert. Es stellt dar
F i g. I eine teilweise im Schnitt gezeichnete perspektivische Ansicht einer als Verzögerungseinrichtung dienenden
Einrichtung nach der Erfindung auf der Basis der akustischen Oberflächenwellen
Fig. 2 einen Schnitt durch die Einrichtung gemäß
Fig. I entsprechend der in Fig. 1 angedeuteten Schnittebene 2-2,
π F i g. 3 einen Schnitt durch eine die Übertragung akustischer
Oberflächenwellen ausnützenden Einrichtung, deren Trägerkörper aus Lithiumniobat besteht,
Fig. 4 eine graphische Darstellung, in welcher der
Temperaturkoeffizient der Verzögerung über dem
>o Wert hk für einen Trägerkörper aus Lithiumtantalat
aufgetragen ist,
Fig. 5 eine graphische Darstellung, in welcher der
Temperaturkoeffizient der Verzögerung über dem Wert hk für einen Trägerkörper aus Lithiumniobat aufgezeichnet
ist,
F i g. 6 eine graphische Darstellung, in welcher die Frequenzänderung über der Temperatur für eine Einrichtung
mit einem Lithiumtantalatträgerkörper aufgetragen ist,
jo F i g. 7 eine graphische Darstellung, in welcher die
Ausgangsfrequenz über der Temperatur für eine Einrichtung gemäß Fig. 3 aufgetragen ist. welche im Mitkopplungspfad
eines Oszillators eingefügt ist,
F i g. 8 eine graphische Darstellung, in welcher der elektromechanische Kopplungsfaktor k2 über dem Wert hk für eine Einrichtung mit einem Lithiumtantalatträgerkörper aufgezeichnet ist.
F i g. 8 eine graphische Darstellung, in welcher der elektromechanische Kopplungsfaktor k2 über dem Wert hk für eine Einrichtung mit einem Lithiumtantalatträgerkörper aufgezeichnet ist.
Fi g. 9 eine Aufsicht, teilweise aufgeschnitten, von einer
als dispersive Verzögerungsleitung dienenden Einrichtung mit schräggestellten Wandlern,
Fig. 10 ein Blockschaltbild einer Impulskompression
anwendenden Radaranlage mit einer Verzögerungseinrichtung gemäß F i g. 9.
Fig. Il eine teilweise aufgeschnitten gezeichnete
Aufsicht eines die Ausbreitung akustischer Oberflächenwcllen benutzenden Filters mit wählbaren Bandmittenfrequenzen
des Durchlaßbereiches,
Fig. 12 ein Blockschaltbild einer Oszillatorschaltung,
in welcher eine Einrichtung mit den Eigenschaften gemaß F ig. 8 Verwendung findet und
Fig. 13 ein Blockschaltbild eines Teiles eines Nachrichtenübertragungssystems
mit einer als mehrfach angezapfte Verzögerungsleitung ausgebildeten Einrichtung
nach der Erfindung.
In F i g. 1 ist teilweise aufgeschnitten eine perspektivische Darstellung einer als Verzögerungsleitung dienenden
Einrichtung 10 gezeigt, in welcher die Ausbreitung akustischer Oberflächenwellen ausgenützt wird und
welche die vorstehend kurz umrissenen Merkmale aufweist. Die Basis der Einrichtung bildet ein Trägerkörper
16 aus piezoelektrischem Material, auf welchem die Verzögerungseinrichtung aufgebaut ist. Die Dicke des
Trägerkörpers 16 beträgt vorzugsweise ein Vielfaches der Wellenlänge der akustischen Wellen, welche sich
b5 über die Oberfläche hin ausbreiten. Signale, welche von
einer Eingangssignalquelle 12 bereitgestellt werden, erfahren durch einen Eingangswandler 20 eine Umwandlung
ven der elektrischen in die mechanische Form und
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werden als akustische Oberflächenwellen eingespeist,
die sich längs der Oberfläche des Trägerkörpers 16 in Richtung auf einen Ausgangswandler 22 hin ausbreiten.
Sowohl der Eingangswandler 20 als auch der Ausgangswandler 22 werden durch ineinandergreifende Leiterfinger
gebildet, deren Länge und deren gegenseitiger Abstund ·;οη der Frequenz und der Bandbreite der F.ingangssignalc
abhängig sind. Die Wandler 20 und 22 sind somit als Interdigitalwandler ausgebildet.
Als piezoelektrisches Material für die Hf «teilung des
Trägerkörpers 16 wird ein Lithiumniobatkristall mit KZ-Schnitt oder Lithiumtantalatkristall mit YZ-Schnitt
verwendet. Diese Werkstoffe ermöglichen bekanntlich die Verwirklichung von Interdigitalwandlern für Oberflächenwellen
mit außerordentlich günstigen elektromechanischen Kopplungsfaktoren. Lithiumniobat und
Lithiumtantalat eignen sich auch deswegen besonders pul. weil ihrp ynko?nn?ns!crten Temner2t!irkoeii!zisnten
der Verzögerung etwas unter den Werten für die meisten piezoelektrischen Materialien liegen, die bisher
für die Herstellung von Verzögerungseinrichtungen auf der Basis der akustischen Oberflächenwellen verwendet
wurden.
Auf der Oberfläche des Trägerkörpers 16 ist eine Siliziumdioxidschicht
14 abgelagert, welche sowohl mit der Oberfläche des Trägerkörpers als auch mit den Eingangs-
und Ausgangswandlern 20 bzw. 22 in Berührung steht. Lithiumniobat. Lithiumtantalat und die übrigen, in
der Einrichtung verwendeten, nichtpiezoelektrischen Werkstoffe besitzen einen positiven Temperaturkoeffizienten
erster Ordnung der Verzögerung, während der Temperaturkoeffizient für Siliziumdioxid negativ ist.
Die Dicke der Siliziumdioxidschicht 14 im Verhältnis zur Wellenlänge der über die Oberfläche des Trägerkörpers
16 sich ausbreitenden akustischen Wellen bestimmt die resultierende Wirkung der Siliziumdioxidschicht
14 auf die Ausbreitungsgeschwindigkeit der Oberflächenwellen. Es hat sich herausgestellt, daß durch
sorgfältige Wahl der Dicke der Siliziumdioxidschicht 14 in bezug auf die Wellenlänge der Oberflächenwellen der
Temperaturkoeffizient erster Ordnung der Verzögerung der Einrichtung praktisch zu Null gemacht werden
kann. Wird als Trägerkörper Lithiumtantalat verwendet, so hat aus den nachfolgend angegebenen Gründen
die Siliziumdioxidschicht 14 vorzugsweise eine gleichförmige Stärke, wie in den Fig. 1 und 2 gezeigt ist. Im
Falle eines Trägerkörpers aus Lithiumniobat ist die Siliziumdioxidschicht 14 vorzugsweise ungleichförmig dick.
In den F i g. 4 und 5 sind für die in den F i g. 2 bzw. 3
gezeigten Einrichtungen experimentell gewonnene Kurven aufgezeichnet, welche den Verlauf des Temperaturkoeffizienten
der Verzögerung abhängig von dem Wert hk angeben, wobei Λ die Filmdicke der Siiiziumdioxidschicht
bedeutet, während
"3T
ist, worin mit Λ die Wellenlänge der Oberflächenwellen
bezeichnet ist Für eine Einrichtung mit einem Lithiumtantalatträgerkörper ist der Temperaturkoeffizient erster
Ordnung der Verzögerung gleich Null, wenn hk etwa drei beträgt Für eine Einrichtung mit einem Lithiumniobatträgerkörper
nimmt der Temperaturkoeffizient der Verzögerung den Wert Null an, wenn hk etwa
2,3 beträgt Im Falle des Trägerkörpers aus Lithiumtantalat führt also eine Siliziumdioxidschicht in einer Stärke
von etwa
-υ % o,5A
In
In
'> zu einem Tcnipcraiurkocffizicntcn erster Ordnung der
Verzögcrungs/cil von Null. Wird der Trägerkörper der
Einrichtung aus Lilhiiimniobai hergestellt, so /eigen
Versuche, daß bei einer Sili/iumdioxid.schicht konstanter
Dicke ein großer Teil der Energie der angeregten
ίο Oberflächenwellen in die inneren Bereiche des Trägerkörpers
abwandert und als Volumenwellen innerhalb des Trägerkörpers auftritt, so daß ein großer Teil der
angeregten Oberflächenwellenenergie nicht zum interdigitalen Ausgangswandler gelangen kann. Diese
Schwierigkeit kann beseitigt werden und ein großer Teil der Oberflächenwellenenergie kann erhalten bleiben,
wenn die Siliziumdioxidschicht in solcher Weise abgelagert wird, daß sie eine ungleichförmige Dicke besitzt.
Bei der bevorzugten Ausführungsform einer Einrichtung mit Lithiumniobatträgerkörper gemäß Fig. 3 besitzt
der mittlere Bereich 36 der Siliziumdioxidschicht eine Stärke von annähernd dem 0,7fachen der Wellenlänge
der Oberflächenwellen und nimmt etwa 55% des Abstandes zwischen dem Eingangswandler und dem
Ausgangswandler längs der Oberfläche des Trägerkörpers 30 ein. Die Teile 32 und 34 der Siliziumdioxidschicht,
welche über dem Eingangswandler und dem Ausgangswandler liegen, haben vorzugsweise eine Dikke
entsprechend dem 0,1 fachen der Wellenlänge der Oberflächenwellen. Die Enden oder Ränder des Mittelbereiches
36 der Siliziumdioxidschicht sind abgeschrägt, so daß sie in die Bereiche oder Schichtteile 32 bzw. 34
verlaufend übergehen.
Um bei Einrichtungen nach der Erfindung sich durch Messungen davon zu überzeugen, ob ein niedriger Temperaturkoeffizient
der Verzögerungszeit erzielt worden ist. empfiehlt es sich zur Überprüfung der erreichten
Ergebnisse die Einrichtungen nach den Fig. 2 und 3 in bekannter Weise in den Mitkopplungspfad von Oszillatoren
einzufügen. In einer derartigen Schaltung macht sich jede Änderung der Verzögerungszeit der Einrichtung
in der Ausgangsfrequenz der Oszillatorschaltung bemerkbar. Die Ergebnisse sind in den F i g. 6 und 7 für
Lithiumtantalat bzw. Lithiumniobat als Trägerkörper dargestellt, wobei in jedem Falle die Wellenlänge der
Oberflächenwellen 10, 16 Mikron beträgt. Für eine Einrichtung
mit Lithiumtantalatträgerkörper verläuft die Frequenzänderung abhängig von der Temperatur im
Diagramm nahezu horizontal und die Änderung beträgt
so über den gesamten Temperaturbereich von — 200C bis
+ 70"C weniger als 20 · 10-J Promille oder weniger als
I ■ >0~J Promillc/°C. Für ein Gerät mit Lithiumniobatträgerkörper
ist die tatsächliche Frequenz über der Temperatur zusammen mit einer Angabe der proportio-
nalen Änderung aulgetragen, wobei der Verlauf für einen
Bereich von — 200C bis +25° C im Diagramm nahezu
horizontal ist und die Änderung nur etwa 1 ■ 10-3 Promille je 0C beträgt. Diese Temperaturkoeffizienten
sind ganz bedeutend niedriger als die von nicht kompensierten Lithiumtantalatirägerkörpern und Lithiumniobatträgerkörpern,
welche Koeffizienten von 35 · ΙΟ-3 Promille/°C bzw. 90 · 10-3 promille/°C aufweisen.
Zumindest im Falle der Einrichtung mit Lithiutntantalatträgerkörper
wird durch die zusätzlich vorgesehene Siliziumdioxid-Temperaturkompensationsschicht
auch der elektromechanische Kopplungsfaktor k2 verbessert. F i g. 8 zeigt eine graphische Darstellung, in wel-
26 OO
ίο
eher der Kopplungsfaktor k 2 über dem Wert hk aufgetragen
ist. Aus der graphischen Darstellung ist zu ersehen, daß in dem Bereich praktischer Werte von hk der
Kopplungsfaktor k2 sich von einem Wert von etwa
0,7% für eine Anordnung ohne Siliziumdioxidschicht bis zu einem Wert von 1,2% für hk = 3 vergrößert. Auch
der Kopplungsfaktor der Wandler einer Einrichtung nach der Erfindung mit Lithiumniobatträgerkörper ist
— wie aufgrund der Abhandlung in der Zeitschrift »Applied Physics Letters« Vol. 19, No. 8 (15. Oktober
1971) Seiten 279 und 280 erwartet werden kann — vergleichsweise
hoch und wurde experimentell zu mindestens 5,4% bestimmt.
F i g. 9 zeigt eine nach den Lehren der Erfindung verwirklichte
Verzögerungseinrichtung 40. welche als lineare dispersive Verzögerungsleitung ausgebildet ist.
Die Eingangs- und Ausgangswandler 44 bzw. 46 sind mit Bezug auf die Mittellinie der Einrichtung symmetrisch
schräggestellt. Die Leiterfinger am unteren Ende mit
Bezug auf die in der Zeichnung dargestellten Lage haben größeren Abstand voneinander als die Leiterfinger
am oberen Ende der Wandlerelemente. Die Leiterfinger mit dem größeren gegenseitigen Abstand sprechen auf
die tieferen Frequenzen an und die Leiterfinger mit dem geringeren gegenseitigen Abstand erfahren eine Anregung
durch höhere Frequenzen. Aufgrund dieser geometrischen Anordnung haben die Oberflächenwellen
mit den niedrigeren Frequenzen einen kürzeren Ausbreitungsweg vom Eingangs- zum Ausgangswandler
turänderungen -vürde eine Verschiebung der verschiedenen Komponenten des Ausgangssignales mit sich
bringen.
Bei vielen Radaranlagen, etwa bei der in F i g. 10 vereinfacht dargestellten Anlage, wird die Geschwindigkeit eines Zielobjektes unter Auswertung des Dopplereffektes bestimmt, welcher eine Frequenzverschiebung der Echosignale gegenüber der Frequenz oder dem Frequenzspektrum der Sendesignale verursacht. Änderungen des Frequenzspektrums der Eingangswellen aufgrund von Temperaturänderungen treten in der Radaranlage als Fehler der gemessenen Geschwindigkeit des Zielobjektes in Erscheinung. Ein hoher Grad von Frequenzstabilität in bezug auf Temperaturänderungen.
Bei vielen Radaranlagen, etwa bei der in F i g. 10 vereinfacht dargestellten Anlage, wird die Geschwindigkeit eines Zielobjektes unter Auswertung des Dopplereffektes bestimmt, welcher eine Frequenzverschiebung der Echosignale gegenüber der Frequenz oder dem Frequenzspektrum der Sendesignale verursacht. Änderungen des Frequenzspektrums der Eingangswellen aufgrund von Temperaturänderungen treten in der Radaranlage als Fehler der gemessenen Geschwindigkeit des Zielobjektes in Erscheinung. Ein hoher Grad von Frequenzstabilität in bezug auf Temperaturänderungen.
wie sie bei Einrichtungen nach der Erfindung erreicht wird, schaltet die vorstehend genannten Fehler weit£,>
hend aus.
Die mit der linear dispersiven Verzögerungsleitung 40 erzeugten Ausgangssignaie werden von der in
Fig. 10 dargestellten Radar-Sende- und Empfangseinheit 56 ausgesendet, an Zielobjekten reflektiert, wieder
empfangen und dann einer Impulskompressionseinheit 60 zugeführt, um wieder in die schmale, aber hohe Amplitude
aufweisende Impulsform zurückverwandelt zu werden. Die Impulskompressionseinrichtung 60 kann
entsprechend aufgebaut sein, wie die linear dispersive Verzögerungsleitung 40, doch liegen die Leiterfinger
mit dem geringsten gegenseitigen Abstand hier am unteren Ende der Wandler und die Leiterfinger mit dem
und werden daher weniger verzögert als Wellen höhe- 30 größten gegenseitigen Abstand liegen am oberen Ende
rer Frequenz. Diese Wirkung auf Signale, welche vom Eingangswandler zum Ausgangswandler übertragen
werden, wird bekanntlich als dispersivcs Verzögerungsverhalten bezeichnet. Die Mittelachse jedes Wandlers
kann auch nichtlinear ausgebildet sein, so daß sich ein nichtlineares dispersives Verzögerungsverhalten ergibt,
wenn dies gewünscht wird.
Über dem Eingangswandler 44 und dem Ausgangswandler 46 sowie über den zwischen diesen Wandlern
der Wandler. Die rekonstruierten Impulse werden dann in ein Sichtgerät eingespeist, um von einer Bedienungsperson
beobachtet und ausgewertet zu werden.
Fig. 11 zeigt eine Einrichtung nach der Erfindung, die
j5 als Filter nach dem Oberflächenprinzip ausgebildet ist.
Filter mit dieser Wirkungsweise sind in der US-PatentschrSii 38 31 ! ί δ beschrieben. An jedem Ende des piezoelektrischen
Trägerkörpers 74 sind Wandler 80 und 82 vorgesehen, die jeweils mit Reaktanzen abgeschlossen
liegenden Oberflächenbereichen des Trägerkörpers 50 40 sind, die dem Betrag nach dem Imaginärteil der Wand
liegt eine Siliziumdioxidschicht 52. Die Dicke dieser Siliziumdioxidschicht
ist so gewählt, daß die Einrichtung insgesamt einen Temperaiurkoeffizienten erster Ordnung
der Verzögerung von Null besitzt oder einen minimalen Gesamuemperaturkoeffizienten aufweist.
Eine hohe Temperaturstabilität ist bei linear dispersiven Verzögerungsleitungen notwendig, die in Anordnungen
zur Impulskompression und zur Impulsdehnung verwendet werden, etwa in Radaranlagen gemäß dem
vereinfachten Blockschaltbild nach Fig. 10. Die linear
dispersive Verzögerungsleitung 40, etwa die in Fig.9
gezeigte Einrichtung, wird durch einen durch den Impulsgenerator 50 erzeugten Impuls angeregt. Dieser Impuls,
welcher sich in gleicher Weise sämtlichen Leiterringern des Eingangswandlers mitteilt, bewirkt, daß an
den Ausgangsanschlüssen des Ausgangswandlers Ausgangssignale zu Zeiten auftreten, welche von der
Verzögerungszeit abhängig ist, die zwischen den verschiedenen Teilen des Eingangswandlers 44 und des
Alisgangswandlers 46 jeweils eingeführt wird. Nachdem die Fouriertransformation eines Inipulsverlaufes ein flaches
Frequenzspektrum ist, erscheint das Ausgangssignal mit einer Frequenz, die sich sinusförmig ändert,
wobei die Anfangsfrequenz und die Endfrequenz durch den maximalen Abstand der Leiterfinger bzw. dem minimalen
Abstand der Leiterfinger des Eingangs- und Ausgangswandlerelementes bestimmt sind. Eine Änderung
der Verzögerungszeiten aufgrund von Temperaler-Eingangsimpedanz gleich sind, aber entgegengesetztes
Vorzeichen aufweisen, wodurch sie Oberfläehenwellen reflektieren, welche dort auftreffen. Die Eingangswandler 86 sind mittels äußerer Schalter 88 wahlweise
mit einer Eingangsschaltung 90 verbindbar. Ein Ausgangswandler 84, welcher etwa in der Mitte der Einrichtung
liegt, ist mit einer Ausgangsschaltung 92 gekoppelt. Wie in der oben angeführten Patentschrift ausgeführt
ist, wird die Frequenz der Signale, welche zwischen der Eingangsschaltung und der Ausgangsschaltung übertragen
werden, durch den Abstand zwischen den Wandlern, die Länge der Leiterfinger der Wandler und durch
die Auswahl der Wandler bestimmt, die mit der Eingangsschaltung gekoppelt werden. Eingang und Ausgang
der Schaltung können vertauscht werden, wobei das Übertragungsverhalten der Einrichtung unverändert
bleibt.
Ein umschaltbares Filter gemäß F i g. 11 ist in der Oszillatorschaltung
nach Fig. 12 anwendbar, deren Ausgangsfrequenz wahlweise auf verschiedenen Werten
einstellbar ist. Das iimschaltbare Riter 70 und der Frequenzwählschalter
88 sind in einer Mitkopplungssehlcife mit dem Oszillatorverstärker 94 und dem Bandpaßfilter
98 vorgesehen. Der Verstärkungsfaktor des Oszillatorverstärkers 94 ist so hoch gewählt, daß die Anordnung
schwingt Das Bandpaßfilter 98 beseitigt unerwünschte Komponenten in der Ausgang<;schwingung.
Der Pufferverstärker 96 dient zur Erzielung der erfor-
26 OO
ierlichen Rückwirkungsfreiheit und verstärkt das letztlich
abgegebene Ausgangssignal. Frequenzumschaltba- t Oszillatoren dieser Art eignen sich zur Verwendung
bei Funkanlagen mit zwei Übertragungsrichtungen, wobei es vorteilhaft ist, rasch von einer Betriebsfrequenz
zur anderen umschalten zu können. Für Funkanlagen dieser Art werden aufgrund der gesetzlichen Bestimmungen
hohe Anforderungen an die Frequenzstabilität gestellt. Durch Verwendung einer Einrichtung nach den
Lehren der Erfindung mit einer Siliziumdioxidschicht 72, welche über dem Trägerkörper 74 und den Wandlern
80, 82, 84 und 86 angeordnet ist, wobei die Dicke der Siliziumdioxidschicht 72 so gewählt ist, daß der Temperaturkoeffizient
erster Ordnung der Verzögerung zu Null wird, können die Forderungen hinsichtlich Frequenzstabilität
bei solchen Oszillatoren eingehalten werden.
Als frequenzbestimmender Bestandteil von Oszillatoren können auch verschiedene andere Ausführungsformen
von Einrichtungen nach der Erfindung dienen. Bei einer solchen Einrichtung ist ein Trägerkörper aus piezoelektrischem
Material vorgesehen, bei welchem an einander gegenüberliegenden Enden einer Oberfläche
des Trägerkörpers Eingangs- und Ausgangswandler angeordnet sind. Zwischen den Wandlern befinden sich
zwei Gruppen von Gittermustern, welche durch Einätzen von Rillen in den Trägerkörper senkrecht zur Ausbreitungsrichtung
der über die Oberfläche laufenden Wellen gebildet sind. Die Rillen jeder Gruppe von Gittermustern
haben einen Abstand von einer halben Wellenlänge bei der Oszillatorfrequenz und in der Mitte
zwischen den beiden Wandlern ist ein Raum von einem Viertel der Wellenlänge der Oberflächenwellen freigelassen.
Ober den Wandlern den Gittermustern und der Oberfläche des piezoelektrischen Trägerkörpers ist in
der hier vorgeschlagenen Weise eine Siliziumdioxidschicht abgelagert. Der Eingangswandler ist mit dem
Ausgang eines Verstärkers verbunden, während der Ausgangswandler an den Eingang dieses Verstärkers
angeschlossen ist, so daß eine Mitkopplungsschleife entsteht. Wenn die Verstärkung des Verstärkers zur Selbsterregung
ausreicht, so bilden sich stehende Wellen in jeder Gruppe von Gittermustern, wobei eine akustische
Kopplung zwischen den Gittcrmuslcrn und den Wandlern auftritt. Bei entsprechender Wahl der Dicke der
Siliziumdioxidschicht ist die in dieser Weise aufgebaute Oszillatorschaltung außerordentlich temperaturstabil.
Viele Oszillatoren, welche bisher in ein Gehäuse mit konstanter Temperatur untergebracht werden mußten,
können nun ohne ein solches Gehäuse betrieben werden.
F i g. 13 zeigt die Ausgestaltung der Einrichtung nach
der Erfindung als angezapfte Verzögerungsleitung 102, wie sie in Signalverarbeitungsschaltungen für Nachrichtenübertragungssysteme
als Transversalfilter oder als Transversalentzerrer Verwendung findet Die angezapfte
Verzögerungsleitung weist einen einzigen Eingangswandler an dem einen Ende eines piezoelektrischen
Trägerkörpers auf, welcher über seine Länge hin eine Reihe von Wandlern zur Verwirklichung der Anzapfungen
trägt, welche im passenden Abstond voneinander vorgesehen sind. Am Ausgang der Verzögerungsleitung
102 befindet sich ein Wandler der mit der äußeren Belastung 108 verbunden ist, die den Wandler mit
Widerstandsanpassung abschließt, so daß dieser Wandler die ganze Oberflächenwellenenergie absorbiert, welche
das Ende der Verzögerungsleitung erreicht, wodurch Reflexionen zum Eingang der Einrichtung hin
vermieden werden. Bei der Schaltung gemäß Fig. 13
sind die Anzapfungen jeweils mit Bewertungswiderständen 104 verbunden, deren AusgangsanschlUsse mit
einer Summationsschaltung 106 verbunden sind. Bei
Schaltungsanordnungen dieser Art für Signaiverarbeitungs- und Nachrichtenübertragungssysteme muß die
Phasendifferenz zwischen den Ausgangssignalen an allen Anzapfungen außerordentlich genau konstant gehalten
werden. Verschiebungen oder Änderungen der
ίο Phasenunterschiede zwischen den Anzapfungen machen
die Einrichtung unbrauchbar. Durch eine nach den Lehren der Erfindung entworfene Einrichtung wird ein
hoher Grad der Stabilität der Verzögerungszeiten in bezug auf die Temperatur erreicht, wie dies bei Signal-Verarbeitungseinrichtungen
in Nachrichtenübertragungssystemen moderner Bauart gefordert wird.
Einrichtungen nach der Erfindung lassen sich in der Weise herstellen, daß zunächst die Interdigitalwandler
auf einem piezoelektrischen Trägerkörper aus Lithiumniobat oder Lithiumtantalat abgelagert werden, was in
bekannter Weise nach photolithographischen Verfahren geschehen kann. Vorzugsweise verwendet man als
Werkstoff für die Wandler Aluminium. Danach wird über dem Trägerkörper und den Wandlern die Siliziumdioxidschicht
aufgebracht. Es hat sich gezeigt, daß dieses Ablagern der Siliziumdioxidschicht zweckmäßig
durch Hochfrequenzsputtern (Glimmlichtentladungsbeschichtung im Hochfrequenzfeld) von einer Auftreffelektrode
aus geschmolzener Kieselerde bei einer Temperatur von etwa 150cC mit einer Geschwindigkeit zwischen
200 nm/h und 1000 nm/h in reiner Sauerstoffumgebung durchgeführt wird.
Hierzu 6 Blatt Zeichnungen
Claims (11)
1. Einrichtung auf der Basis der akustischen Oberflächenwellen mit einem zur Übertragung der akustischen
OberflächenweUen dienenden Trägerkörper aus piezoelektrischem Material, auf den zur
(Compensation des Temperaturkoeffizienten der Laufzeit eine Schicht aus nichtleitendem Material
aufgebracht ist, dadurch gekennzeichnet,
daß bei Verwendung von Lithiumtantalat oder Lithiumniobat als piezoelektrisches Material des Trägerkörpers
(16,30,50,74) die Schicht (14; 32,34,36; 52;
72) aus nichtleitendem Material in an sich bekannter Weise aus Siliziumdioxid besteht und die Dicke dieser
Schicht so gewählt ist, daß der Temperaturkoeffizient der Laufzeit innerhalb eines vorbestimmten
Bereiches liegt.
2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, i&B sie durch einen die vorgeschriebene
Verzögerungszeit ergebenden Abstand zwischen dem Eingangswandler (20; 44) und dem Ausgangswandler
(22; 46) als Verzögerungsleitung dient.
3. Einrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß sich bei Verwendung von Lithiumniobat
als Trägerkörper (JO) die Stärke der Siliziumdioxidschicht (32,34,36) über die Oberfläche des
Trägerkörpers (30) hin ändert.
4. Einrichtung nach Anspruch 1 oder 2. dadurch gekennzeichnet, daß bei Verwendung von Lithiumtantalat
als Trägerkörper (16, 50, 74) die Stärke der Siliziumdioxidschichi (14, 52-, 72) über die Oberfläche
des Trägerkörpers (IS, 50,74) hin gleich bleibt.
5. Einrichtung nach einem ,.ier Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß die Wandler (20, 22; 44, 46; 80, 82, 86) auf der die Siliziumdioxidschicht
tragenden Oberfläche des Trägerkörpers aufgebracht sind.
6. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der Siliziumdioxidschicht
(14; 32, 34, 36; 52; 72) so gewählt ist. daß der Temperaturkoeffizient erster Ordnung der
Laufzeit bzw. Verzögerungszeit im wesentlichen gleich Null ist.
7. Einrichtung nach Anspruch 5 oder 6. dadurch gekennzeichnet, daß die Siliziumdioxidschicht (14;
32, 34, 36: 52; 72) auch die Wandler (20, 22; 44, 46;
80,82,86) überdeckt.
8. Einrichtung nach einem der Ansprüche 4 bis dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der Siliziumdioxidschicht
(14; 52; 72) etwa der halben Wellenlänge der OberflächenweUen entspricht.
9. Einrichtung nach einem der Ansprüche 3 oder bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß ein bestimmter
Bereich (36) der Siliziumdioxidschicht größere Dicke als daran angrenzende Bereiche (32, 43) bzw. als die
die Wandler überdeckenden Bereiche besitzt.
!0. Einrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der eine größere Dicke aufweisende
Bereich (36) der Siliziumdioxidschicht etwa 55% der t>o
Länge des Trägerkörpers (30) überdeckt.
11. Einrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,
daß die Dicke der die Wandler überdeckenden Bereiche (32, 34) der Siliziumdioxidschicht
etwa Vio der Wellenlänge der Oberflächen- b5
wellen beträgt, während die Dicke des die größere Stärke aufweisenden Bereiches (36) etwa 7A0 der
Wellenlänge der OberflächenweUen mißt.
25
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1976
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Also Published As
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