DE2558409C2 - Verfahren zur Wiedergabe von Bildern und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens - Google Patents
Verfahren zur Wiedergabe von Bildern und Vorrichtung zur Durchführung des VerfahrensInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 sowie auf eine
Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 6.
Es ist bekannt, daß tiefgreifende Änderungen der optischen Eigenschaften von Flüssigkristallen nicht nur
dadurch erzielt werden können, daß an sie elektrische Felder angelegt werden (elektrooptische Effekte),
sondern auch dadurch daß sie Temperaturänderungen ausgesetzt werden (thermooplische Effekte). Diese
thermooptischen Effekte sind in verschiedenen bekannten Vorrichtungen zur Wiedergabe von Bildern
angewendet worden.
Ein aus der US-PS 37 96 999 bekanntes Verfahren besteht darin, daß eine Zelle gebildet wird, indem
zwischen zwei lichtdurchlässigen Platten eine gleichmäßig orientierte und somit vollkommen lichtdurchlässige
dünne Schicht aus einem sich im smektischen Zustand befindlichen Material angebracht wird. Diese Zelle wird
punktweise von einem Lichtbündel abgetastet, das im allgemeinen im nahen Infrarotbereicli gewählt ist und
von dem das zu schreibende Bild übertragenden Videosignal intensitätsmoduliert ist. Wenn die von dem
Lichtbündel zu einem Punkt übertragene Energie ausreichend war, um das die Zelle bildende Material
vom smektischen Zustand in den flüssigen isotropen Zustand überzuführen, dann entsteht an dieser Stelle bei
der Rückkehr des Materials in den ursprünglichen smektischen Zustand eine ungeordnete Struktur, die
diesen Punkt der dünnen Schicht streuend macht; andererseits behalten die Punkte, an denen die
Lichtenergie des modulierten Lichtbündels nicht ausreichend war, um die Verschmelzung herbeizuführen, die
gleichmäßig geordnete Struktur bei und bleiben lichtdurchlässig. Das Bild wird auf diese Weise in Form
von streuenden Punkten auf lichtdurchlässigem Grund geschrieben.
Es ist möglich, in ausgewählter Weise einen Teil des gespeicherten Bildes zu löschen. Zu diesem Ziel wird an
die Schichtanordnung ein elektrisches Gleichfeld oder vorzugsweise ein Wechselfeld angelegt, während das
Lichtbündel unter erneuter Abtastung der Zelle diejenigen Punkte, die gelöscht werden sollen, wieder in
den flüssigen isotropen Zustand versetzt. Bei der anschließenden Rückkehr in den smektischen Zustand
richtet das Feld die Moleküle aus, die wieder die ursprüngliche geordnete lichtdurchlässige Struktur
annehmen.
Dieses Verfahren erfordert die Verwendung einer Hochleistungsstrahlungsquelle, da die Wärmemenge
bedeutend ist, die sie zu den streuend zu machenden Punkten aer Schicht übertragen muß. Tatsächlich
erfolgt der Übergang vom smektischen Zustand in den flüssigen Zustand niemals direkt, sondern unter
Zwischenschaltung des nematischen Zustands; die zu durchlaufende Temperaturspannung ist daher beträchtlieh,
und außerdem müssen die gebundenen Wärmemengen der Änderung vom smektischen Zustand in den
nematischen Zustand und vom nematischen Zustand in den flüssigen isotropen Zustand geliefert werden.
Zur Reduzierung der an die Lichtquelle gestellten Leistungsanforderungen ist aus der US-PS 38 36 243
bekannt, das sich im smektischen Zustand befindliche Materia! durch eine Mischung von Materialien im
nematischen Zustand und im cholesterischen Zustand zu ersetzen. Der Obergang in den flüssigen isotropen
Zustand erfolgt dann direkt. Jedoch ist das selektive Löschen des Bildes nicht mehr möglich, da sich diese
Mischungen, wenn sie einem elektrischen Feld ausgesetzt werden, unabhängig von jeglicher Erwärmung
wieder ausrichten, d. h. daß das angelegte elektrische Feld die gesamte Schicht wieder ausrichtet, was eine
Gesamtlöschung ergibt.
Aus »Appl. Phys. Lett.«, 19 (1971), S. 241-242, geht
hervor, daß die Intensität des von einer dünnen Schicht aus einem mesomorphen, in der smektischen Phase
befindlichen Materials durchgelassene Licht modifiziert werden kann, indem an diese Schicht eine Gleich- oder
Wechselspannung angelegt wird; ferner geht aus dieser Druckschrift hervor, daß der beschriebene Effekt zur
Molekülorientierung unter der Einwirkung eines elektrischen Feldes angewendet werden kann.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs geschilderten Art zur Wiedergabe
von Bildern zur schaffen, bei dem die zum Erzeugen des Bildes in der Schicht aus dem den
smeklischen Zustand aufweisenden Material notwendige Energie sehr gering ist, sowie eine Vorrichtung zur
Durchführung d'eses Verfahrens anzugeben.
Die erfindungsgemäße Lösung der der Erfindung zugrunde liegenden Aufgabe ist in bezug auf das
Verfahren im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 und in bezug auf die Vorrichtung im
kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 6 angegeben. Beim erfindungsgemäßen Verfahren und bei der
erfindungsgemäßen Vorrichtung ist die benötigte Energie so gering, daß es möglich ist, gleichzeitig alle
Punkte des Bildes zu erzeugen, das in seiner Gesamtheit auf die Schicht projiziert wird und nicht Punkt für Punkt
geschrieben wird. Das dadurch erhaltene Bild kann entweder in seiner Gesamtheit oder auch an ausgewählten
Stellen gelöscht werden, was ermöglicht, es teilweise zu ändern, ohne daß es insgesamt gelöscht werden muß.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.
Die Erfindung wird nun anhand der Zeichnung beispielshalber erläutert. Es zeigt
Fig. 1 die Strukturänderungen einer Materialschicht als Folge von örtlichen Erwärmungen gemäß dem
erfindungsgemäßen Verfahren und
Fig.2 eine schematische Darstellung einer Vorrichtung
zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens.
Die smektische Struktur teilt sich in zwei Gruppen, nämlich die smektische Struktur A und die smektische
Struktur C, die beide durch die Anordnung der langen Moleküle gemäß paralleler, gleich weit voneinander
entfernter Ebenen gekennzeichnet sind; in der ersten Struktur (A) sind die Achsen der langen Moleküle
senkrecht zu diesen Ebenen ausgerichtet, während sie in der zweiten Struktur (C) mehr oder weniger gegen diese
Ebenen geneigt sind.
Wie in den anderen mesomorphen Zuständen äußern sich die Änderungen der gleichmäßigen Ausrichtung
einer im smektischen Zustand btfindlichen dünnen Schicht vom optischen Standpunkt aus durch eine
Änderung der Lichtdurchlässigkeit. Wenn die dünne Schicht mit gleichmäßiger Orientierung vollkommen
lichtdurchlässig ist, bringt die Erzeugung von Bereichen, die bestimmte Orientierungen aufweisen, im inneren
der Schicht das gleichzeitige Auftreten eines streuenden Zustandes mit sich, der umso ausgeprägter ist, je stärker
die Unterschiede der Orientierung sind.
Wie bereits erwähnt worden ist, ist kein Material bekannt, das einen direkten Übergang aus dem
smektischen Zustand in den flüssigen isotropen Zustand aufweist. Außerdem z:igt sich bei der Erhöhung der
Temperatur eines im smektischen Zustand befindlichen Materials die Existenz einer ersten Übergangstemperatur,
bei der das Material vom smektischen Zustand in den nematischen Zustand übergeht, sowie einer zweiten
Übergangstemperatur, bei der das Material aus dem nematischen Zustand in den flüssigen isotropen Zustand
übergeht.
Es ist bekanni. daß es wie in den anderen mesomorphen Zuständen möglich ist, den das Material
mit smektischer Struktur bildenden langen Molekülen eine vorbestimmte Orientierung bezüglich der Wände
aufzuprägen, die die dünne Schicht einschließen, indem diese Wände vor der Einführung des mesomorphen
Materials einer entsprechenden Oberflächenbehandlung unterzogen werden. Zur Ausrichtung der Moleküle
parallel zu den Wänden kann auf diesen durch Aufdampfen unter flachem Einfallswinkel eine dünne
Siliziummonoxidschicht aufgebracht werden; sie können auch mit einem dünnen Film eines Oberflächenbehandlungsmittels
wie M.A.P. (n-Methyl-3-aminopropyltrimethoxysilan) überzogen werden, oder es kann das
Polierverfahren von Chatelain angewendet werden. Eine zum Träger senkrechte Ausrichtung der Moleküle
könnte auch mittels anderer Arten von Oberflächenbehandlungsmitteln wie D.M.O.A.P. (Chlorid von m-n-DiiTiethyl-n-octadecyl-3-aminopropyltrimethoxysilan)
erhalten werden.
Es ist auch bekannt, daß die Moleküle, die die mesomorphe Zustände aufweisenden Materialien bilden,
unter dem Einfluß eines elektrischen Feldes unter gewissen Umständen stark polarisiert«'· und somit einer
Ausrichtung zugänglich sind. Es wird zwischen Molekülen mit positiver dielektrischer Anisotropie, bei denen
die induzierte Polarisationskomponente längs der Molekülachse größer als die Komponente senkrecht zu
der Achse ist und die die Neigung zeigen, sich parallel
zum angelegten elektrischen Feld auszurichten, sowie Molekülen mit negativer dielektrischer Anisotropie, bei
denen die Komponente in Richtung der Achse kleiner als die Komponente senkrecht zur Achse ist und die die
Neigung zeigen, sich senkrecht zum Feld auszurichten, unterschieden.
Beim Stand der Technik wird diese Wirkung des elektrischen Feldes dazu verwendet, die gleichmäßige
Orientierung einer dünnen Schicht im smektischen Zustand teilweise oder ganz zu erhalten; zu diesem
Zweck wird die Temperatur der auszurichtenden Zone
in der dünnen Schicht bis zum Übergang des Materials in den nematischen oder flüssigen isotropen Zustand
angehoben. Das beim Abkühlen bis zum smektischen Zustand an die dünne Schicht angelegte elektrische Feld
bewirkt eine gleichmäßige Ausrichtung der Moleküle.
Dieser Zustand der gleichmäßigen Ausrichtung, der die entsprechende Zone lichtdurchlässig macht, bleibt
bestehen, wenn die Anlegung des Feldes aufhört. Aus Arbeiten, die in den Laboratorien der Anmeldenn
ausgeführt worden sind, ist auch bekannt, daß gewisse Materialien, die einen smektischen Zustand A aufweisen,
insbesondere Materialien der Gruppe der Diphenylnitrile mittels eines angelegten Feldes in einen
Zustand der gleichmäßigen Ausrichtung gebracht werden können, ohne daß es notwendig ist, sie einen
anderen Zustand, etwa den nematischen oder flüssigen isotropen Zustand durchlaufen zu lassen. In allen Fällen
kann das elektrische Feld ein Gleichfeld oder ein Wechselfeld sein, wobei jedoch vorzugsweise ein
Wechselfeld gewählt wird, damit die elektrochemischen Wirkungen, die das Material verändern, auf ein
Minimum verringert werden.
Neue Untersuchungen, die in den Laboratorien der Anmelderin ausgeführt worden sind, führten zu den
folgenden Ergebnissen, die in der hier beschriebenen Erfindung angewendet werden: Wenn eine dünne
Schicht aus einem einen smektischen Zustand aufweisenden Material, die zwischen zwei Wänden angebracht
ist, die einer entsprechenden Oberflächenbehandlung zur Aufprägung einer gleichmäßigen Ausrichtung der
Moleküle des Kristalls behandelt worden sind, und die dann, wie oben angegeben wurde, einem elektrischen
Feld ausgesetzt wird, das die Umorientierung der Gesamtheit der Moleküle gemäß einer senkrecht zu der
von den Wänden aufgeprägten Richtung ermöglicht, auf eine Temperatur erwärmt wird, die geringfügig unter
der Temperatur des Obergangs smeklisch-nematisch liegt, dann richten sich die Moleküle spontan wieder
entsprechend der ursprünglich von den Wänden aufgeprägten Orientierung aus. Wenn nur gewisse
Abschnitte der smektischen Schicht erwärmt werden, erfolgt die Umonentierung nur in diesen Bereichen, und
es ist festzustellen, daß die Verbindungszone zwischen den umorientierten Bereichen und den anderen
Bereichen das Licht sireui. Insbesondere gilt, daß bei
einer ausreichend punktfüiungen Ausgestaltung des
erwärmten Bereichs dieser vollständig von der Obergangszone eingenommen wird, so daß der gesamte
Punkt wie ein streuender Punkt erscheint Dies läßt sich beobachten, solange der Durchmesser des erwärmten
Bereichs nicht den drei- bis vierfachen Wert der Dicke der Schicht überschreitet
Bei dem hier zu beschreibenden Verfahren wurden diese Ergebnisse dazu verwendet, in eine dünne Schicht
aus einem smektischen Kristall ein Bild in Form von aneinander grenzenden streuenden Punkten zu schreiben.
Das Aufzeichnen von Halbtönen kann durch Variieren des Abstandes der Punkte oder des Punktdurehmessers
erhalten werden.
F i g-1 zeigt in sehr schematischer Form die
Strukturänderungen einer Schicht aus einem Material im smektischen Zustand, das diese Strukturänderungen
durch örtliche Erwärmungen erfahren hat, sowie die räumliche Verteilung der Energie (beispielsweise der
Lichtenergie), die diese Strukturänderungen mit sich gebracht hat.
Im unteren Teil der Figur ist eine dünne Schicht 1 eines smektischen Materials mit positiver dielektrischer
Anisotropie dargestellt. Ein auf die Wände der in der Figur nicht dargestellten lichtdurchlässigen Platten, die
ίο die Schicht einschließen, aufgebrachtes Oberflächenbehandlungsmittel
(beispielsweise M.A.P.) erzeugt Oberflächenkräfte, die die in der Figur in Form kleiner
Stäbchen dargestellten Moleküle parallel zur Schichtebene auszurichten trachten. Ein zur Schichtebene
senkrechtes elektrisches Feld h hat ermöglicht, die Moleküle gleichmäßig senkrecht zu den Wänden
auszurichten; diese Ausrichtung ist in den Bereichen 10 erkennbar. Diese Bereiche, die keiner Erwärmung
ausgesetzt sind, haben ihre gleichmäßige Ausrichtung beibehalten; sie sind lichtdurchlässig, im Gegensatz
dazu haben die Moleküle in den Bereichen 11 und 12. die
einer vorübergehenden Erwärmung ausgesetzt worden sind, also einer Erwärmung, die die Viskosität
herabsetzt, die Neigung gezeigt, sich wieder parallel zu den Wänden auszurichten. Diese Wiederausrichtung ist
in der Mitte des breitesten Bereichs 11 vollkommen, und der Anschluß zwischen den zwei Ausrichtungen,
nämlich der parallelen und der senkrechten, erfolgt über eine makroskopisch ungeordnete, sogenannte fokalkonische
Struktur, die das Licht streut. Wenn der erwärmte Bereich ausreichend schmal ist, was für den
Bereich 12 gilt, erscheint nur die fokalkonische Struktur.
Die zwei Bereiche 11 und 12 erscheinen in Form von streuenden Punkten, wobei der Durchmesser des Punkts
11 größer als der des Punktes 12 ist.
Die im oberen Teil der Fig. 1 angegebenen Kurven
Cl und C2 zeigen die räumliche Verteilung der Lichtintensität, die die Erwärmung der Schicht 1
hervorgerufen hat. Bei der Kurve Cl ist die verwendete
Lichtintensität für die zwei Bereiche 11 und 12 gleich, jedoch bedeckt sie beim Bereich 11 eine größere Fläche
als beim Bereich 12. Im Gegensatz dazu haben in der Kurve C2 die Lichtintensitäten mit verschiedenen
Werten gleich große Bereiche beleuchtet Auf Grund der thermischen Streuung im Inneren der Schicht ist das
umgeordnete Volumen umso größer, je höher die Lichtintensität ist. Das gleiche Ergebnis könnte erhalten
werden, wenn an Punkte gleicher Ausdehnung eine gleiche Wärmemenge pro Zeiteinheit im Verlauf
kürzerer oder längerer Zeitperioden angelegt wird.
Fig.2 zeigt ein Ausführungsbeispiel einer erfindüngsgcir.äßer.
Vorrichtung, die das Schreiben eines Bildes in eine dünne Schicht aus einem Material in der
smektischen Phase ermöglicht
Eine dünne Schicht aus Octylnitril-4,4'-diphenyl mit
einer Dicke von etwa 20 μπι ist zwischen zwei parallelen
Glasplatten 20 und 21 eingeschlossen, die mit Hilfe der Beilagstücke 30 und 31 im gewünschten Abstand
voneinander gehalten werden. Auf den Innenflächen der
Platten dienen zwei gleichmäßige Oberzüge 40 und 41 aus Zinnoxid mit gleichem spezifischen Widerstand als
lichtdurchlässige Elektroden. Sie sind ihrerseits mit einem MA.P.-Film 50 und 51 überzogen, der die
Grenzfläche zwischen dem Zinnoxid und der dünnen Schicht 1 bildet Zwischen die zwei Enden jeder
Elektrode 40 und 41 ist eine gleiche einstellbare • Potentialdifferenz mit Hilfe von zwei gleichen Spannungsquellen
401 und 411 und zwei gekoppelten
Regelwiderständen 402 und 412 angelegt. Auf diese Weise fließt durch die zwei Elektroden ein Strom mit
einstellbarer Stärke, der auf Grund des Joule-Effekts ermöglicht, die Temperatur der dünnen Schicht 1 unter
Beibehaltung einer konstanten Potentialdifferenz beiderseits dieser dünnen Schicht einzustellen. Ein
Wechselspannungsgenerator 410 ermöglicht das Anlegen einer einstellbaren Spannung mit einer Frequenz
von etwa 10 kHz an die Elektroden 40 und 41.
Das zu projizierende Bild wird von einem Diapositiv 6 gebildet. Dieses Diapositiv wird in einen herkömmlichen
Projektor eingeführt, der eine Lichtquelle 60, einen Kondensator 61 und ein Projektionsobjektiv 62 enthält
und das Abbild des Diapositivs 6 in der Ebene der dünnen Schicht 1 erzeugt.
Das Diapositiv 6 kann von einem zuvor gerasterten Bild erzeugt sein: in diesem Fall kann es direkt in die
dünne Schicht eingeschrieben werden. Zum Einschreiben eines nicht gerasterten Bildes wird ein beispielsweise
auf einer Photoplatte aufgezeichnetes Raster 63 unmittelbar beim Diapositiv 6 angeordnet: die Weite
dieses Rasters ist derart bemessen, daß das in die Ebene der Schicht 1 projizierte Rasterbild eine Weite in der
Größenordnung der Schichtdicke von etwa 20 μΐη hat.
Die Einstellwiderstände 402 und 412 sind so eingestellt, daß die Temperatur der Schicht in der Nähe
von 2b°C gehalten wird. Das Octylnitril-4,4'-diphenyl,
dessen Übergangsiemperaturen vom festen in den smektischen Zustand und vom smektischen in den
nematischen Zustand 200C bzw. 32°C betragen, wird
somit im smektischen Zustand gehalten.
Bei gelöscht gehaltener Lichtquelle 60 wird für eine sehr kurze Zeitdauer, die einige Millisekunden nicht
überschreitet, mittels des Generators 410 eine Wechselspannung in der Größenordnung von 40 V zwischen die
Elektroden 40 und 41 angelegt. Das auf diese Weise geschaffene, senkrecht zur Ebene der Schicht 1
verlaufende elektrische Feld, bewirkt eine parallel zur Feldrichtung verlaufende Ausrichtung der Moleküle,
deren dielektrische Anisotropie positiv ist. Die auf diese Weise in eine gleichmäßige Ausrichtung gebrachte
Schicht 1 ist gleichmäßig lichtdurchlässig.
Nun wird die Lichtquelle 60 eingeschaltet, so daß das
Bild des Diapositivs 6 in die Ebene der Schicht 1 projiziert wird. Der im nahen Infrarotbereich liegende
Spektralanteil des projizierten Lichts wird von dem die Elektroden 40 und 41 bildenden Zinnoxid absorbiert,
und die freigesetzte Wärme wird auf die angrenzende Schicht 1 übertragen. In den erwärmten Abschnitten
kippen die Moleküle um und versuchen sich parallel zu den Wänden auszurichten. Das projizierte Bild ist auf
diese Weise ein Mittel zum selektiven Erwärmen der Schicht. Auf Grund des Rasters 63 besteht es aus einer
Aneinanderreihung von Leuchtpunkten mit konstantem Abstand, gleicher Ausdehnung und veränderlicher
Intensität, was dem in Fig.2 durch die Kurve CT.
dargestellten Fall entspricht Es setzt sich in der Schicht 1 in die Form von streuenden Punkten um. deren
Abstand konstant ist und deren Durchmesser umso größer ist, je heller der Leuchtpunkt im projizierten Bild
ist und je höher die von der Schicht somit erreichte Temperatur in der Mitte des Punkts ist Die Einschreibschwelle
hängt von der Zeitdauer ab, für die die Projektion des Bildes zugelassen wird. Die Umordnung
der Moleküle zeigt sich, sobald die Temperatur des Punkts 29°C übersteigt und sie erfolgt umso schneller,
je mehr sich die_ Temperatur dem Wert 32°C entsprechend dem Übergang vom smektischen in den
nematischen Zustand annähert. Wenn eine Belichtungszeit in der Nähe einer Sekunde angenommen wird, hat
die der Schicht zuzuführende Energie einen Wert in der Größenordnung von Millijoule/cm2, und zwar etwa
4 Nanojoulc pro Punkt.
Das auf diese Weise eingeschriebene Bild kann für eine Dauer aufbewahrt werden, die mehrere Wochen
überschreiten kann. Es ist möglich, das Bild in selektiver Weise zu löschen. Zu diesem Zweck werden die zu
löschenden Punkte auf eine Temperatur zwischen 29 und 32°C erwärmt, während an die Elektroden 40 und
41 mit Hilfe des Generators 410 eine Spannung in der Größenordnung von 10 V angelegt wird. Das auf diese
Weise angelegte elektrische Feld bewirkt eine Umordnung der Moleküle der erwärmten Punkte parallel zur
Feldrichtung, so daß die Punkte wieder lichtdurchlässig werden. Die Erwärmung der zu löschenden Punkte kann
dadurch erzielt werden, daß das Diapositiv 6 durch eine lichlundurchlässige Maske ersetzt wird, bei der die in
der dünnen Schicht zu löschenden Bereiche lichtdurchlässig sind. Das Raster 63 wird dann zurückgezogen, und
die Lichtquelle 60 wird eingeschaltet, während die Schicht 1 der Wirkung des elektrischen Feldes
ausgesetzt wird. Es ist auch möglich, in der das Diapositiv 6 enthaltenden Ebene bei zurückgezogenem
Diapositiv 6 und bei zurückgezogenem Raster 63 sowie bei gelöschter Lichtquelle 60 eine punktförmige
Lichtquelle anzubringen, so daß das Objektiv 62 auf die Schicht 1 einen Lösch-Lichtfleck projiziert. Dieses
Verfahren kann auch zum Schreiben durch Überschreiben von Informationen über ein bereits eingeschriebenes
Bild angewendet werden; die Wechselspannung wird dann nicht mehr zwischen die Elektroden angelegt,
und das Raster wird wieder an seine Stelle gebracht.
Zum vollständigen Löschen des geschriebenen Bildes wird die Schicht 1 wieder in ihren gleichmäßig
lichtdurchlässigen Zustand gebracht, in dem so verfahren wird, wie oben angegeben wurde, nämlich dadurch,
daß die Lichtquelle 60 ausgeschaltet wird, und daß mit Hilfe des Generators 410 eine Spannung in der
Größenordnung von 40 V an die Elektroden 40 und 41 angelegt wird. Im Rahmen der Erfindung ist es möglich,
zur Bildung der dünnen Schicht 1 ein Material zu verwenden, das einen smektischen Zustand A aufweist,
ohne daß es dabei, wie insbesondere die Materialien der Gruppe der Diphenylnitrile, die Fähigkeit hat, in einen
gleichmäßigen Ausrichlzustand ohne Durchgang durch einen anderen Zustand versetzt zu werden. Zur
gleichmäßigen Ausrichtung der Schicht 1 wird die Einstellung der gekoppelten Einstellwiderstände 402
und 412 verändert so daß die Spannung an den Klemmen der Elektroden 40 und 41 so erhöht wird, daß
die Temperatur der Schicht i vorübergehend auf eine leicht über der Übergangstemperatur vom smektischen
in den nematischen Zustand des verwendeten Materials liegende Temperatur erhöht wird; dann wird an die
Schicht mittels des Generators 410 eine Spannung in der Größenordnung von 1 V pro Mikron der Schichtdicke
angelegt während mit Hilfe einer neuen Einstellung der gekoppelten Einstellwiderstände die Schichttemperatur
wieder abgesenkt wird, damit die Rückkehr des Materials in den smektischen ^Zustand erreicht wird. Das
Einschreiben erfolgt also in Übereinstimmung mit dem zuvor beschriebenen Vorgang. Zur Erzielung einer
selektiven Löschung wird so vorgegangen, wie oben angegeben wurde, doqh muß die Intensität der zum
Löschen verwendeten Lichtquelle ausreichend sein, um die zu löschenden Punkte vom smektischen Zustand in
den nemutischen Zustand überzuführen; die an die
Schicht angelegte Spannung hat immer noch einen Wert in der Größenordnung von Volt pro Mikron der
Schichtdicke.
Es können auch Materialien verwendet werden, die einen smektischen Zustand C aufweisen, obgleich die
gleichmäßige Ausrichtung der Schicht 1 dabei wesentlich schwieriger zu erzielen ist.
Das Hauptinteresse an dem beschriebenen Verfahren und an der Vorrichtung zu dessen Durchführung ist
zwar in der sich aus der großen Empfindlichkeit des Verfahrens ergebenden Möglichkeit begründet, ein Bild
in seiner Gesamtheit zu schreiben, doch ist es ebenso möglich, die Information Punkt für Punkt in der Schicht
zu speichern, indem diese mittels eines von einem Videosignal modulierten Laserslrahlenbündels abgestrahlt
wird. In diesem Fail kann die Rasterung des Bildes beispielsweise dadurch erhalten werden, daß der
Videomodulation eine zweite Modulation überlagert wird, mit der die Intensität des Abtastbündels mit fester
Frequenz getastet wird. Der Schreibtakt ist zwar langsam (er liegt beispielsweise in der Größenordnung
von 50 ms pro Punkt, was die Minimalzeil ist, die bei den derzeit bekannten Materialien notwendig ist, um den
Übergang der Moleküle von einer Ausrichtung zur anderen ohne angelegtes elektrisches Feld zu ermöglichen),
doch erlaubt das Verfahren die Verwendung von Strahlenbündel mit einer Intensität, die etwa tausendmal
geringer als die bei bekannten Vorrichtungen angewendete Intensität ist.
In der obigen Beschreibung sind die Vorrichtungen zum selektiven Erwärmen, die das Schreiben des Bildes
in der Schicht ermöglichen, im wesentlichen als optische Vorrichtung angegeben worden, bei denen die von
einem räumlich modulierten Lichtstrahlenbündel transportierte Energie zur Einwirkung gebracht wird. Im
Rahmen der Erfindung ist es auch möglich, als Mittel
zum selektiven Erwärmen der Schicht I eine Matrix aus widcrstandsbehaftcten Elementen zu verwenden, die
mittels Multiplexieren gesteuert werden. Diese Matrix ist dabei mit den cntsprccherden Stromzuführungcn
direkt auf eine der Trägerplatten, beispielsweise auf der Trägerplatte 20 zwischen der Platte und der Elektrode
40 aufgebracht, von der sie mit I lilfc eines dünnen Films
isoliert ist, der beispielsweise aus Siliciumoxid besteht.
Zusammenfassend läßt sich feststellen, daß das beschriebene Verfahren und die Vorrichtung zu dessen
Durchführung insbesondere für das schnelle Speichern einer Information in Form eines Bildes geeignet ist, das
mit Hilfe eines herkömmlichen optischen Diapositivs projiziert wird, und es wird dadurch ermöglicht, dieses
Bild anschließend verschiedenen graphischen Behandlungen zu unterziehen, nämlich eine selektive Löschung,
das Wiedereinschreiben anderer Daten an den gelöschten Stellen sowie ein Überschreiben: ferner wird die
Gesamtiöschung möglich, damit eine andere Information gespeichert werden kann.
Das gespeicherte Bild kann auf einen Schirm projiziert werden, indem Vorrichtungen verwendet
werden, wie sie für das Projizieren von Bildern bekannt sind, die in Form von streuenden Punkten auf
lichtdurchlässigem Grund geschrieben sind. Gleichzeitig kann die Rasterung des Bildes beseitigt werden, indem
das herkömmliche Verfahren des Ausfilterns räumlicher Frequenzen angewendet wird. Wenn eine Belichtungsquelle verwendet werden soll, die zur Projektion auf
einen Schirm mit großen Abmessungen ausreichend stark ist, dann wird die von der Quelle abgegebene
Strahlung in Wellenlängenbereichen gewählt, die weder von den Elektroden noch von dem die dünne Schicht
bildenden Material absorbiert werden.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (9)
1. Verfahren zur Wiedergabe von Bildern in Form streuender Punkte in einer dünnen Schichi aus einem
einen smektischen Zustand aufweisenden mesomorphem
Material unter Anwendung eines thermo-optischen Effekts, mit einem nichtselektiven Löschschritt,
in dessen Verlauf die gesamte Schicht einem ersten gleichmäßigen elektrischen Feld senkrecht
zur Ebene dieser Schicht ausgesetzt wird, das den das mesomorphe Material bildenden Molekülen eine
erste Orientierung verleiht, und einem Schreibschritt, in dessen Verlauf die zu schreibenden Punkte
vorübergehend einer selektiven Schreiberwärmung unterzogen werden, und bei dem die die Schicht
einschließenden Wände einer solchen Oberflächenbehandlung unterzogen werden, daß den Molekülen
ahne Vorhandensein eines elektrischen Feldes eine einheitliche zweite Orientierung verliehen wird,
wobei eine der beiden Orientierungen parallel zur Ebene der Schicht verläuft, dadurch gekennzeichnet,
daß die zweite Orientierung senkrecht auf der ersten Orientierung steht, daß die gesamte
Schicht während des Schreibschritts im smektischen Zustand gehalten wird und daß die selektive
Schreiberwärmung die zu schreibenden Punkte von einer ersten Temperatur, bei der die Moleküle ihre
vom elektrischen Feld hervorgerufene erste Orientierung beibehalten, auf eine zweite Temperatur, bei
der die Moleküle spontan die von den Wänden hervorgerufene zweite Orientierung annehmen,
erwärmt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei einem zusätzlichen selektiven
Löschschritt, bei dem die zu löschenden Punkte zeitweise einer selektiven Löscherwärmung unterzogen
werden, die gesamte Schicht gleichzeitig einem zweiten elektrischen Feld ausgesetzt wird, das
parallel zum ersten Feld verläuft.
3. Verfahren nach Anspruch I1 dadurch gekennzeichnet,
daß während des nichtselektiven Löschschritts keine Erwärmung der Schicht vorgenommen
wird.
4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichi während des nichtselektiven
Löschschritts keiner Erwärmung unterzogen wird, daß das zweite elektrische Feld einen Wert hat,
der wenigstens gleich der Hälfte des Werts des ersten elektrischen Feldes ist, und daß die beim
selektiven Löschen durchgeführte Erwärmung die zu löschenden Punkte von der ersten Temperatur
auf die zweite Temperatur anhebt.
5. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht während des nichtselektiven
Löschschritts gleichmäßig erwärmt wird, daß die gleichmäßige Erwärmung und die selektive Löscherwärmung
wenigstens einen Teil der Schicht von der ersten Temperatur bei smektischem Zustand auf
eine dritte Temperatur bei nematischem Zustand anheben und daß die beiden elektrischen Felder mit
gleichem Wert wenigstens während der Dauer der Rückkehr der erwärmten Punkte von der dritten
Temperatur auf die zweite Temperatur angelegt werden.
6. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet
durch eine dünne Schicht aus mesomorphem Material, zwei lichtdurchlässige Elektro-
den, die die Schicht einschließen und an die wenigstens eine elektrische Spannung anlegbar ist,
die in der Schicht ein erstes elektrisches Feld erzeugt, wobei die Elektroden auf ihren mit der
Schicht in Kontakt stehenden Oberflächen so behandelt sind, daß dem mesomorphen Materiai die
zweite Orientierung verliehen wird, Einrichtungen zum nichtselektiven Erwärmen der Schicht, die diese
zumindest auf der ersten Temperatur halten, und erste selektive Erwärmungseinrichtungen zur Erzielung
der selektiven Schreiberwärmung.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtungen zum nichtselektiven
Erwärmen der Schicht auch zum Hervorrufen der gleichmäßigen Löscherwärmung ausgebildet sind.
8. Vorrichtung nach Anspruch 6, gekennzeichnet durch zweite selektive Erwärmungseinrichtungen.
9. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Erwärmungseinrichtungen zum
selektiven Erwärmen der Schicht optische Einrichtungen sind, die auf die dünne Schicht gleichzeitig die
Gesamtheit der die wiederzugebenden Bilder darstellenden Punkte projizieren.
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