DE2556607C2 - Verfahren und Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung

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Description

60
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Kathodenzerstäubung, bei dem ein Glimmentladungsplasma durch ein Magnetfeld, dessen Feldlinien sich von einer Zerstäubungsquelle weg erstrecken, und auf einem gekrümmten Pfad wieder in diese eintreten, in einem als geschlossene Schleife ausgebildeten Tunnel über der Zerstäubungsquelle eingeschlossen wird, sowie ein Kathodenzerstäubungsgerät zur Durchführung dieses
65 Verfahrens.
Ein Verfahren und eine Vorrichtung der eingangs genannten Gattung ist in der US-Patentanmeldung 4 38 482 vom 31. Januar 1974 beschrieben. Das in dieser Druckschrift erläuterte Kathodenzerstäubungsgerät ist nach Art eines Planarmagnetrons aufgebaut, es umfaßt eine Targetplatte als Kathode, eine dazu im Abstand angeordnete Anode und eine ein das Plasma in einem als geschlossene Schleife ausgebildeten Tunnel über der Targetplatte einschließendes Magnetfeld erzeugende Magnetanordnung, deren Feldlinien sich von der Targetplatte weg erstrecken und auf einem gekrümmten Pfad wieder in diese eintreten. Bei einem derartigen Gerät werden unter dem Einfluß des elektrostatischen Feldes zwischen Anode und Kathode Gasionen auf die Targetplatte, also die Kathode zu beschleunigt, wodurch Partikel des Targetplatten-Materials aus der Targetplatte herausgeschlagen werden. Diese herausgeschlagenen Partikel des Targetmaterials lagern sich auf einem geeignet positionierten Substrat ab und bilden dort eine verhältnismäßig gleichmäßige Schicht. Ein Problem besteht bei herkömmlichen Kathodenzerstäu-(bungsgeräten darin, eine gleichmäßige Beschichtung eines Substrats mit dem zerstäubten Material und gleichzeitig eine hohe Zerstäubungsrate zu erzielen. Dies wird bei dem in der obengenannten US-Patentanmeldung beschriebenen Verfahren dadurch erreicht, daß das Plasma über der Targetplatte durch das besonders geformte Magnetfeld in einem ringförmigen Kanal eingeschlossen ist. In diesem Kanal werden die Elektronen des Plasmas unter der Einwirkung des magnetischen und des elektrostatischen Feldes herumgeführt und rufen dadurch eine besonders starke Ionisierung des umgebenden Gases hervor. Die \n großer Zahl erzeugten Ionen des Gases werden wie bekannt von der Targetplatte angezogen und schlagen dort Materialpartikel heraus, die sich auf dem Substrat ablagern können.
Nachteilig ist bei diesem bekannten Verfahren, daß der Erosionsbereich, d. h. derjenige Bereich der Targetplatte aus dem Materialpartikel herausgeschlagen werden, verhältnismäßig klein ist. Er ist hauptsächlich auf denjenigen Teil der Zerstäubungsquelle begrenzt, der unmittelbar unter dem Teil des Magnetfeldes gelegen ist, in dem die Feldlinien parallel zur Targetplatte verlaufen. Das Magnetfeld führt daher zu einer entsprechend der Gestalt des Tunnels schleifenförmigen Erosion der Targetplatte, wobei außerhalb dieser schmalen schleifenförmigen Fläche nur eine unwesentliche Materialabtragung erfolgt.
Wie gefunden wurde, bildet sich in der Targetplatte mit fortschreitender Erosion eine im Querschnitt etwa dreieckige Rinne, deren Breite mit zunehmender Tiefe schnell abnimmt, so daß sich das Erosionsgebiet bei der Zerstäubung sehr rasch durch die gesamte Dicke der Targetplatte hindurch erstreckt und diese daher unbrauchbar wird. Auf diese Weise können in der Praxis tatsächlich nur etwa 38 Gewichtsprozente der Targetplatte zerstäubt werden. Die Targetplatte muß also bereits ersetzt werden, wenn nur ein kleiner Teil ihres Gesamtvolumens für die Zerstäubung genutzt worden ist. Angesichts der teilweise außerordentlich teueren Materialien, die bei der Zerstäubung verwendet werden (Palladium, Titan, Chrom usw.) und der arbeitsintensiven, in kurzen Zeitabständen nacheinander erforderlichen Auswechslung der Targetplatte ist die örtlich eng begrenzte, steile Erosion ein ernstzunehmendes Hindernis für die praktische Anwendbarkeit des an sich
vorteilhaften bekannten Kathodenzerstäubungsverfahrens.
In der DE-OS 22 08 032 ist ein Kathodenzerstäubungsgerät beschrieben, bei dem um eine hohlzylindrische Kathode herum ein Magnet vorgesehen ist, welcher im Inneren der Kathode ein Magnetfeld von bestimmter Geometrie erzeugt Dadurch soll erreicht werden, daß ein besonders großflächiges Substrat mit hoher Gleichmäßigkeit, Dichte und guter Haftung beschichtet werden kann. 1 ο
In der CC-OS 22 43 708 ist ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Hochfrequenz-Kathodenzerstäubung von elektrisch isolierenden Materialien beschrieben. Diese Vorrichtung weist zwei Magnetanordnungen auf, die innerhalb bzw. außerhalb der zylindrischen Kathode !5 angeordnet sind. Diese Magnetanordnungen sind dazu bestimmt, in Zusammenwirkung ein Magnetfeld zu erzeugen, dessen magnetische Kraftlinien möglichst nahe an der zylindrischen Kathode und parallel zu ihr verlaufen. Das so erzeugte Magnetfeld soll eine iPlasmafatle bilden, die die Primärelektronen einschließt Jyind so verhindert, daß sich auf dem elektrisch ■isolierenden Material der Zerstäubungsquelle elektrische Ladungen ansammeln, welche den Aufprall der Ionen auf die Zerstäubungsquelle vermindern bzw. beseitigen.
Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe besteht darin, das Verfahren der eingangs genannten Gattung so zu verbessern, daß sich bei hoher Zerstäubungsrate ein großer Teil des Materials der !Zerstäubungsquelle zerstäuben läßt. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß wenigstens ein Teil des Plasmas während des Zerstäubungsvorgangs magnetisch über die Zerstäubungsquelle hinweg verschoben wird.
Dadurch wird vorteilhafterweise erreicht, daß sich der Erosionsbereich über einen großen Teil der .Zerstäubungsquelle erstreckt und die Tiefenerosion zugunsten der sich über die Fläche der Zerstäubungsquelle erstreckenden Erosion abgebremst wird. Auf diese Weise wird die Lebensdauer der Zerstäubungsquelle beträchtlich erhöht und ein großer Teil des Materials zerstäubt, bis die Erosion durch die Dicke der Zerstäubungsquelle hindurchgedrungen ist.
Es ist zweckmäßig, wenn das Plasma mittels eines im wesentlichen senkrecht zur Zerstäubungsquelle verlaufenden zeitlich veränderlichen Hilfsmagnetfeld bewegt wird. Dieses Hilfsmagnetfeld wirkt auf die außerhalb des eingeschlossenen Plasmas von der Zerstäubungsquelle ausgesandten Elektronen ein und führt diese in verstärktem Maße in den Bereich des eingeschlossenen Plasmas, wo sie zur Erzeugung von Ionen beitragen können. Auf diese Weise wird die Zerstäubungsrate des Verfahrens zusätzlich erhöht.
Bei einem zur Durchführung des beschriebenen Verfahrens geeigneten Kathodenzerstäubungsgerät, mit einer als Targetplatte ausgebildeten Zerstäubungsquelle als Kathode, einer dazu im Abstand angeordneten Anode und mit einer das das Plasma erschließende ' Magnetfeld erzeugenden Magnetfeldanordnung ist zweckmäßigerweise eine weitere, ein Hilfsmagnetfeld erzeugende Hilfsmagnetanordnung vorgesehen.
Im folgenden wird ein Ausführungsbeispiel der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert; es zeigt )5
Fig. 1 eine seitliche Schnittansicht eines Ausführungsbeispiels des beschriebenen Kathodenzerstäubuncseeräts.
F i g. 2 eine Draufsicht des Ausführungsbeispiels,
F i g. 3 eine schematische Darstellung einer Targetplatte und typischer Kathoden-Erosio.nsmuster, wie sie sich bei Geräten nach dem Stand der Technik entwickeln, und
F i g. 4 eine schematische Ansicht einer Targetplatte und des verbesserten Kathoden-Erosionsmusters, das beim Betrieb des beschriebenen Kathodenzerstäubungsgeräts erzielbar ist
In der F i g. 1 ist ein Ausführungsbeispiel eines Kathodenzerstäubungsgeräts der beschriebenen Art dargestellt, das allgemein eine Zerstäubungsquelle in Gestalt einer Targetplatte 10 umfaßt, Magneteinrichtungen 11, Kaihoden-Polstücke 16 bis 18, Kathoden-Kühleinrichtungen 30 bis 35, die Spule 36 mit einer elektrischen Stromversorgung und Verbindungseinrichtungen. Die Targetplatte 10, die eine Quelle von Material wie Kupfer, Titan usw. darstellt, das auf ein ein (nicht dargestelltes) Substrat zerstäubt werden soll, ist vorzugsweise im wesentlichen planar bzw. eben und kann beispielsweise von rechteckiger Gestalt sein. Die Magneteinrichtungen 11 weisen wie dargestellt eine Vielzahl von U-förmigen Permanentmagneten auf, von denen jeder mit einer zentralen Öffnung versehen ist, die eine drehbar gelagerte Schraube 15 aufnehmen kann, wie nachstehend beschrieben. Vorzugsweise ist jede der Magneteinrichtungen 11 in einer Anordnung ausgerichtet, die allgemein im Umriß eine geschlossene Schleifen-Anordnung darstellt. Obwohl bei diesem Ausführungsbeispiel sechs Permanentmagneten verwendet werden (zwei Seitenmagneten sind in der seitlichen Schnittansicht der Fi g. 1 nicht gezeigt), kann irgendeine passende Anzahl von Magneten verwendet werden; sie müssen nicht notwendigerweise in einer im wesentlichen ovalen Konfiguration angeordnet sein. Beispielsweise können die Magneteinrichtungen 11 so verteilt werden, daß im wesentlichen kreisförmige oder rechteckige geschlossene magnetische Schleifen-Pfade gebildet werden, je nachdem, wie es gewünscht ist. Überdies können, obwohl die Magneteinrichtungen 11 als Permanentmagneten dargestellt sind, passende Elektromagneten anstelle der Permanentmagneten verwendet werden, wie es auch in der eingangs genannten US-Anmeldung 4 38 482 dargestellt ist.
Ein Kathoden-Polplatten- bzw. Polschuh-Aufbau wird nun zusätzlich mit Bezug auf Fig.2 erläutert, in welcher ein Kathodenzerstäubungsgerät der beschriebenen Art mit abgenommener Targetplatte 10 dargestellt ist. Das Polstück bzw. die Polplatte 16 besteht vorzugsweise aus einem magnetischen Material, wie heißgewalztem Weicheisen und ist allgemein so gestaltet, daß sie der Geometrie der geschlossenen magnetischen Schleife entspricht, die durch die speziell gewünschte Anordnung der magnetischen Einrichtungen 11 gebildet ist. Somit ist, wie in der Fig.2 dargestellt, die Polplatte 16 mit im wesentlichen ovaler Gestalt geformt, angrenzend an jeden äußeren Schenkel der Magneteinrichtungen 11. Das Polstück 18 kann beispielsweise die Form einer flachen, länglichen Platte annehmen und ist so ausgestaltet, daß es sich über die inneren Schenkel jeder der magnetischen Einrichtungen erstreckt. Das Teil 17, welches eine ähnliche Form wie das Polstück 16 aufweist, besteht aus nichtmagnetischem Material, wie rostfreiem Stahl und verhindert einen Nebenschluß von magnetischen Flußlinien zwischen den Polstücken 16 und 18, um so die Flußlinien in gekrümmter oder gebogener Weise aus der Targetplatte 10 heraus und zu dieser zurückkehrend verlaufen zu
lassen.
Im Teil 17 ist ein Kühlkanal 19 mit einem Einlaß 28 und einem Auslaß 29 geformt, durch welchen zur Kühlung der Targetplatte 10 ein Kühlmittel hindurchfließen kann. Passende Dichteinrichtungen in Gestalt von O-Ringen 22 und 24 sind in bekannter Weise vorgesehen, um den Einschluß des Kühlmittels wie beispielsweise Wasser, im Kanal 19 sicherzustellen, wie es in der F i g. 1 deutlich zu sehen ist.
Wie in der F i g. 2 weiter dargestellt, ist eine Anode 12 in im wesentlichen parallel zu einer Seite des Polstücks 16 und der Targetplatte 10 (Fig. 1) angeordnet. Die spezielle Gestalt der Anode 12 ist nicht kritisch. Sie kann im wesentlichen linear sein und aus einem elektrisch leitenden Material wie Kupfer bestehen. Zusätzlich ist die Anode 12 elektrisch mit einem Anschluß einer passenden Stromversorgung E0 verbunden. Die Stromversorgung Ec kann entweder eine Gleichstrom- oder eine Wechselstromversorgung sein, abhängig davon, ob das Target ein Leiter oder ein Isolator ist. Außerhalb eines Kathodenschirmes 21 und eines Dunkelraum-Schirmes 27, die beide vorzugsweise mit einer äußeren Umhüllung von nichtmagnetischem Material, wie rostfreiem Stahl ausgestattet sind, ist eine Spule 36 angeordnet. Die Spule 36 ist mit einer Wechselstromversorgung 39 (Fig. 1) verbunden; in Abhängigkeit vom Anlegen einer solchen Spannung an die Spule 36 wird ein wechselndes elektromagnetisches Feld erzeugt, das im wesentlichen senkrecht zur Ebene der Targetplatte 10 steht.
Wie in der Fig. 1 dargestellt, ist eine Kathodenbefestigungsplatte 20 zur Halterung der Magneteinrichtungen 11, der Targetplatte 10 und des Kathoden-Polstück-Aufbaus 16 bis 18 vorgesehen. Die Platte 20 ist mit Öffnungen zur Aufnahme von Schrauben 15 ausgestattet die sich durch die Magneteinrichtungen 11 hindurch erstrecken und im Gewindeeingriff mit einem Bolzen 13 stehen, der am Teil 17 des Kathoden-Polstück-Aufbaus angelötet, angeschweißt oder anderweitig befestigt ist. Da die Kathodenplatte 10 beispielsweise durch Schrauben 14 am Polstück 18 befestigt ist welches am Teil 17 angelötet, angeschweißt oder anderweitig befestigt ist, wird durch das Anziehen der Schrauben 15 die Targetplatte 10 fest an der Platte 20 montiert Der Kathodenschirm 21 erstreckt sich im wesentlichen vertikal vom Umfang der Befestigungsplatte 20 weg und bewirkt ein gewisses Ausmaß an elektrostatischer Abschirmung, wie nachstehend beschrieben wird.
Eine Basisplatte 25 ist zur Halterung der Targetplatte 10, der Magneteinrichtungen 11 usw. und zur Aufnahme von elektrischen und Kühlmittel-Verbindungselementen vorgesehen, wie nachstehend beschrieben wird. Zur Anordnung der Platten 20 und 25 im Abstand sind in geeigneter Weise die isolierenden Abstandselemente 23 vorgesehen, da die Platte 20 auf hohem negativen Potential, beispielsweise 900VoIt gehalten wird, wäh- ■·, rend die Platte 25 auf Massenpotential liegt Ein Dunkelraum-Schirm 27, der ein sich vertikal aufwärts ; erstreckendes, aus rostfreiem Stahl geformtes Teil umfassen kann, ist in im wesentlichen umgebender 'ö Beziehung zur Kathodenplatte 10 angeordnet Wie der Fachmann einsehen wird, werden alle Elektronen, die in den Raum zwischen den Schinnen 21 und 27 gestreut wurden, vom Schirm 21 (auf Kathodenpotential) in Richtung auf den Schirm 27 (Masse-Potential) hin -s abgestoßen. Da diese Elektronen gewöhnlich bei niedrigen Energiepegeln, beispielsweise 5 bis 10 eV gestreut werden, ist die Ionisation von Gas im Dunkelraum im wesentlichen ausgeschlossen, wodurch das Zerstäuben ernsthaft eingeschränkt wird, ausgenommen von der freiliegenden oberen Oberfläche der Targetplatte iO.
Um die erforderliche Kühlung der Targetplatte 10 zu schaffen, wird ein passendes Kühlmittel wie Wasser, durch einen Kühlaufbau 30 bis 35 in den Kanal 19 im Teil 17 (F i g. 2) eingeleitet. Der Kühlaufbau umfaßt isolierte Einlaß- und Auslaß-Kühlkanäle 32 und 33, die am Befestigungsblock 26 angebracht sind, welcher seinerseits mittels der Schrauben 26' an der Basisplatte 25 befestigt ist. Die Kanäle 32 und 33 erstrecken sich durch die Schirme 34 und 35 hindurch zu den Verbindungselementen 30 bzw. 31 und ermöglichen somit die Zufuhr eines Kühlfluids zum Einlaß 28, sowie die Abfuhr aus dem Auslaß 29 (F i g. 2). Die Schirme 34 und 35 bestehen vorzugsweise aus einem Material wie rostfreiem Stahl, wobei durch eine starre Verbindung dieser Schirme mit der Basisplatte 25 eine Ablagerung von gestreutem Material auf den Kanälen 32 und 33 im wesentlichen verhindert wird.
Eine isolierte elektrische Versorgungsleitung 40, die ein Koaxial-Kabel sein kann, ist mit dem anderen Anschluß der Stromversorgung Ec verbunden. Die Versorgungsleitung 40 endet an einem herkömmlichen Verbindungselement 37 und erstreckt sich durch eine Öffnung 41 in der Basisplatte 25 hindurch. Der Mittelleiter 42 der Versorgungsleitung 40 ist an der Aufnahmeeinrichtung 43 befestigt, die starr an der Montageplatte 20 befestigt ist. Somit wird ein Kathoden-Potential, das ausreicht, damit eine Zerstäubung stattfindet, über den Leiter 40, die Montageplatte 20, die Schrauben 15, die Bolzen 13, das Teil 17 und die Polstücke 16 und 18 an die Targetplatte 10 geführt.
Überdies ist hier eine Spule 36, die elektrisch mit der Wechselstromversorgung 39 gekoppelt ist, vorzugsweise in umgebender Beziehung zum Target 10 angeordnet und etwa in dessen Ebene gelegen. Die Spule 36 kann hermetisch in einer passenden Umhüllung 44 abgedichtet sein, welche starr am Dunkelraum-Schirm 27 befestigt ist
Vor der Beschreibung des Betriebs des Ausführungsbeispiels des in den F i g. 1 und 2 dargestellten Kathodenzerstäubungsgeräts wird Bezug genommen auf die F i g. 3, welche den magnetischen Fluß H und die für Geräte nach dem Stand der Technik kennzeichnenden Kathoden-Erosionsmuster darstellt Wie bereits erwähnt entspricht die Lage oberhalb der Targetplatte 10, an der die magnetischen Flußlinien allgemein parallel zur Targetplatte verlaufen derjenigen Stelle bzw. Lage in der Targetplatte 10, an der die maximale Erosion stattfindet, wobei während der Kathodenzerstäubung von anderen Teilen der Targetplatte im wesentlichen weniger Kathoden-Erosion erfolgt, wie in tter F i g. 3 dargestellt
'-■ Beim Betrieb des hier beschriebenen verbesserten Kathodenzerstäubungsgeräts sind an die Targetplatte ■ίο und die Anode 12 die vorgenannten Potentiale angelegt Dadurch werden (oberhalb der Kathodenplatfe 10) Elektronen in einer geschlossenen Schleife herumgeführt die der geschlossenen magnetischen Feldschleife entspricht welche durch die Magnetein-Tichtungen 11 aufgebaut wird, wie vorstehend beschließen wurde. Zusätzlich wird die Spule 36 mit einer passenden Wechselspannung versorgt um ein magnetisches Feld zu erzeugen, das im wesentlichen senkrecht zur Ebene der Kathode 10 steht wie durch die Pfeile H0 in Fig.4 dargestellt ist Das magnetische Feld H0
kombiniert sich vektoriell mit dem durch die Magneteinrichtungen 11 erzeugten Magnetfluß (siehe Fig.3) und erzeugt ein resultierendes magnetische Feld Hn das einen Punkt oder einen Bereich aufweist, an dem die Magnetflußlinien allgemein parallel zur Oberfläche der Kathodenplatte 10 verlaufen. Durch Anlegen einer Wechselspannung an die Spule 36 bewegt sich der Punkt oder die Stelle, an dem die resultierenden Magnetflußlinien parallel zur Oberfläche der Platte 10 verlaufen, von einer Seite der Kathodenplatte 10 zur anderen mit einer Geschwindigkeit, die der Frequenz der Stromversorgung 39 entspricht, welche beispielsweise in der Größenordnung von l,0Hz sein kann. Wegen der Translationsbewegung der Stelle der parallel verlaufenden resultierenden Magnetflußlinien bleibt der entsprechende, darunterliegende Punkt oder der Bereich maximaler Kathoden-Erosion nicht mehr stationär, sondern verändert sich in ähnlicher Weise quer über die Kathodenplatte 10, woraus sich ein Erosionsmuster ergibt, wie es typisch in der Fig.4 dargestellt ist. Auf diese Weise wird ein größerer Abschnitt der Kathodenplatte 10, beispielsweise bis zu 50 bis 60% sowohl verfügbar als auch als Zerstäubungsquelle nutzbar bzw. realisierbar. Dadurch wird die nutzbare Lebensdauer irgendeiner bestimmten Targetplatte durch die in der beschriebenen Weise durchge führte Kathodenzerstäubung erhöht.
Eine weitere vorteilhafte Wirkung des im wesentlichen senkrecht zur Kathodenplatte 10 vorgesehenen Hilfs-Magnetfelds beruht darauf, daß die aus der Platte 10 herausgetriebenen Elektronen dazu neigen, einer durch so ein Hilfs-Feld erzeugten elektromagnetischen Kraft ausgesetzt zu sein. Genauer gesagt wirkt die elektromagnetische Kraft auf die von peripheren Bereichen der Kathodenplatte 10 gestreut ausgesandten
l'o Elektronen so ein, daß die Elektronen in den über der Kathode liegenden Bereich zurückkehren. Folglich stehen solche gestreute Elektronen für eine nachfolgende Ionisation des umgebenden Gases zur Verfügung, wodurch wie bereits oben erläutert, die Rate erhöht wird, mit der das Material von der Platte 10 auf ein Substrat zerstäubt wird.
Wie dem mit der Kathodenzerstäubungs-Technologie vertrauten Fachmann geläufig sein dürfte, wird das vorstehend beschriebene verbesserte Gerät in einer Vakuum-Kammer betrieben, welche anfänglich auf einen Druck von ungefähr 10-* Torr evakuiert ist. Daraufhin wird die Kammer mit einem ionisierbaren Gas wie Argon bis zu einem Druck von ungefähr 2,0 · 10-3 bis 2.0-10-2 Torr aufgefüllt, bevor die Stromversorgung der Kathodenplatte 10, der Anode 12 oder der Spule 36 eingeschaltet wird.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
130 249/214

Claims (11)

Patentansprüche:
1. Verfahren iur Kathodenzerstäubung, bei dem ein Glimmentladungsplasma durch ein Magnetfeld, dessen Feldlinien sich von einer Zerstäubungsquelle -3 weg erstrecken und auf einem gekrümmten Pfad wieder in diese eintreten, in einem als geschlossene Schleife ausgebildeten Tunnel über der Zerstäubungsquelle eingeschlossen wird, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens ein Teil des Plasmas während des Zerstäubungsvorgangs magnetisch über die Zerstäubungsquelle hinweg verschoben wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasma parallel zur Oberfläche der Zerstäubungsquelle bewegt wird.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasma in einem ringförmigen Tunnel eingeschlossen wird.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Pfasma ' mittels eines im wesentlichen senkrecht zur Zerstäubungsquelle verlaufenden zeitlich veränderlichen Hilfsmagnetfeldes (H0) bewegt wird.
5. Kathodenzerstäubungsgerät zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorhergehenden -Ansprüche, mit einer als Targetplatte ausgebildeten Zerstäubungsquelle als Kathode, einer dazu im Abstand angeordneten Anode und mit einer das das Plasma einschließende Magnetfeld erzeugenden Magnetanordnung, dadurch gekennzeichnet, daß eine weitere, ein Hilfsmagnetfeld (H0) erzeugende Hilfsmagnetanordnung (36) vorgesehen ist.
6. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Magnetanordnung mit einer Vielzahl von Permanentmagneten (11) ausgestattet ist.
7. Kathodenzerstäubungsgerät nach einem der Ansprüche 5 oder 6, dadu/ch gekennzeichnet, daß die Hilfsmagnetanordnung (36) aus einer die Targetplatte (10) umschließenden Magnetspule besteht.
8. Kathodenzerstäubungsgerät nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Magnetspule kreisförmig ausgebildet ist.
9. Kathodenzerstäubungsgerät nach einem der Ansprüche 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Magnetspule an Wechselspannung angelegt ist.
10. Kathodenzerstäubungsgerät nach einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Targetplatte (10) eben ist.
11. Kathodenzerstäubungsgerät nach einem der Ansprüche 5 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß eine Kühleinrichtung für die Targetplatte (10), die Anode (12) und die Hilfsmagnetanordnung (36) vorgesehen ist.
DE2556607A 1974-12-16 1975-12-16 Verfahren und Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung Expired DE2556607C2 (de)

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