JP5171636B2 - スパッタターゲット利用改善 - Google Patents
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Description
本出願は、2005年12月13日に出願された、米国仮特許出願第60/749,789号の利益を主張するものであり、その内容は参照により全体として本明細書に組み込まれる。
本発明はプラズマスパッタリングまたはスパッタエッチング作業におけるターゲット利用改善に関する。より詳細には、より大きい比率の原料を利用して基板をコーティングすることができるような、スパッタリング原料(すなわち、スパッタ「ターゲット」)のより均一な利用改善に関する。
スパッタコーティング装置は一般的に既知である。典型的な装置では、エネルギー放電を使用して、不活性ガス、例えばアルゴンの原子を励起してイオン化ガスまたはプラズマを形成する。エネルギープラズマは、磁場の印加によりスパッタターゲットの表面に導かれる(加速される)。スパッタターゲットは、典型的には矩形スラブまたはシートまたはプレートの形態で提供される。プラズマは、ターゲットの表面に衝撃を与え、それによってその表面を腐食させ、ターゲット材料を放出させる。その後、放出されたターゲット材料は金属またはプラスチックまたはガラスなどの基板上に蒸着され、基板上にターゲット材料の薄膜コーティングを提供し得る。この工程はまた、プラズマ放電を支持するの磁場を使用するのでマグネトロンスパッタリングと呼ばれることもある。
スパッタリング装置は、中央領域と、前記中央領域の何れかの端に位置付けられる2つの端領域を有するスパッタターゲットが動作時にその上に配置される磁気アセンブリを含む。磁気アセンブリはターゲット上方に磁場を生成するのに効果的である。磁気アセンブリは中央磁石アレンジメントを囲む外側磁石フレームを有する。外側磁石フレームは、中央磁気アレンジメントの何れかの側に位置付けられる第1および第2の長手方向に延びる磁気側方向部材と、フレームの対向する長手方向端に位置付けられそれらを画成する第1および第2の磁気端部材とを含む。第1の磁気端部材はターゲットの第1の長手方向端領域上方の磁場において非静止変調を生成するのに効果的である。
び第2の長手方向端領域とを有するターゲット表面を備えたスパッタターゲットを設ける工程と、ターゲット表面上方に磁場を生成する工程と、磁場によりターゲット表面にプラズマを導き、それによりプラズマがターゲット表面に衝撃を与え、腐食する工程と、ターゲット表面の第1の端領域上方の磁場を変調して、それによりその第1の端領域におけるターゲットの腐食の集中を広げる工程とを含む。
本明細書で使用されるように、「磁石」および「磁気部材」という用語は、当技術分野で既知の従来の永久磁気ならびに磁極および対応する磁場を生成するのに効果的な、他の任意の既知または従来構造もしくは装置、例えば、界磁コイルまたは従来の電磁石を含む。
100HzからkHzの範囲内のAC電源で動作され得る。ACとDC源の組み合わせまたは重複もまた可能である。)
中央磁石アレンジメント14は好適には、長手方向に延び、各長手方向軸回りに回転可能である、反対に極性配向された1対の棒磁石を含む。これは、図2および図3aを参照すると最も良く分かる。「反対に極性配向される」とは、1対のうち第1の磁石、例えば磁石14aは北極が上方を向き、ターゲット20に向かうように配向され、1対のうち第2の磁石、例えば磁石14bは北極が下向き、ターゲット20から離れるように配向される。すなわち、1対の磁石14aおよび14bは回転範囲全体に亘って共通の極(北または南)が常に反対の方向を向くように、各長手方向軸回りの回転に対して配置される。中央磁気アレンジメント14は図2に示すような1対の磁石14aおよび14bを有し得るか、または複数対の反対に配向される磁石を有し得る。中央磁気アレンジメント14の磁石はトンネル磁場15が、上記で説明されるようにターゲット表面に対して側方向にシフトされ得、全体が参照により本明細書に組み込まれる特許第5,399,253号においてさらに詳細に記載される。しかしながら、それらはすでに説明されたように、ターゲットの長手方向端領域の磁場にほとんど影響を及ぼさない。中央磁気アレンジメント14における磁石の動作(回転)についてはすでに、‘253特許において詳細に記載され、ここではさらに記載しない。回転可能磁石14a、14bに加えて、代替配置が中央磁気アレンジメント14において採用され、上記磁場における側方向シフトを達成し得る。例えば、非回転可能永久磁石は、同様の影響を有して側方向、前後に平行移動され得るが、回転可能な構成が好適である。
に示される)などの駆動機構に連結される。図3および図3aから理解されるように、駆動機構は駆動ギア104を回転させると、そのギア104は今度は伝達ギア103を回転させ、伝達ギア103は今度は磁気ギア102a、102bを回転させる。図示される実施形態では、磁石ギア102a、102bはともに同じ方向に回転し、伝達ギア103としては反対方向となる。
キャリッジ45(磁気端部材18)およびターゲット20下方の中央磁石アレンジメント14の磁石14a、14bの同期反対移動動作に基づいた変調磁場に応じたターゲット20上方のプラズマ配向のシミュレーションを平面図で示す。図4aから分かるように、このシミュレーションでは、プラズマループの端部(ターゲットの長手方向端領域に位置付けられる)は、キャリッジ45(ファントムで示される)が図に対して下方位置にある場合は図の下方にシフトされ、同時にプラズマループの中央部分は磁石14a、14bの回転位置に応じて図の上方にシフトされる。このように、プラズマループの端および中央部分は、上述の同期反対移動モードの動作に従って、同じ周波数で反対方向に変調される。図4bは、キャリッジ45が中心に位置付けられて、また磁石14a、14bは図4aとは逆方向に半分回転された瞬間のシステムを図示する。図4cは図4aと反対の場合を図示し、今度はキャリッジ45および磁石14a、14bの双方が移動の周期に沿って上向きシフトおよびそのループの中央部分の下向きシフトが生じている。
範囲にある。また、側方向部材16および17および端部材18および19における磁石の極性は同一である。選択された設定において、このマグネトロン構成は約350Gのターゲットの上に磁場を生成する。当然のことながら、キャリッジ45または側方向部材16および17における磁石の磁気強度および数の観点からの詳細設計は、特定用途、ターゲット材料料、サイズ、寸法などに基づいて変更または最適化され、当業者によって選択され得る。
a)ならびに従来の停滞した端領域磁場(図6b)を使用した各ターゲットに対して作成されて、これらの図のデータを生成した。従来の構成(6b)に対する結果は、端領域腐食が中央領域腐食よりずっと深く、ターゲット寿命を制限することを示す。これに対して、変調場端領域構成の端領域腐食は中央領域腐食よりほんの少し深いだけで、それによりターゲット寿命およびターゲット利用が増加する。端領域は全ターゲット面積の極一部でしかないので、端領域における局部的ターゲット利用の少しの増加でさえも、ターゲット20全体の全ターゲット利用に対して大きな影響力を与える。静止磁場は一定に保たれ(磁石の強度、それゆえに磁場の強度は変化しない)、変調のみが導入されるので、中央領域の腐食は影響されない。プラズマ特性およびひいては膜蒸着特性は高品質に維持され得る。
Claims (20)
- 中央領域と第1および第2の長手方向端領域を有するスパッタターゲット(20)が動作時にその上に配置される磁気アセンブリ(10)を含み、前記磁気アセンブリ(10)は前記ターゲットの上方に磁場を生成するのに効果的であり、前記磁気アセンブリは中央磁石アレンジメント(14)を囲む外側磁石フレーム(12)を有し、前記外側磁石フレーム(12)は、中央磁気アレンジメント(14)の何れかの側に位置付けられる第1および第2の長手方向に延びる磁気側方向部材(16、17)と、前記フレームの対向する長手方向端に位置付けられそれらを画成する第1および第2の磁気端部材(18、19)とを含み、前記第1および第2の長手方向に延びる磁気側方向部材(16、17)に対して可動の前記第1の磁気端部材(18)は前記ターゲットの前記第1の長手方向端領域上方の前記磁場において非静止変調を生成するのに効果的である、スパッタリング装置。
- 前記第2の磁気端部材(19)は、前記第1および第2の長手方向に延びる磁気側方向部材(16、17)に対して少なくとも横方向に可動であって、前記ターゲットの前記第2の長手方向端領域上方の前記磁場において非静止変調を生成するのに効果的である、請求項1に記載のスパッタリング装置。
- 前記中央磁気アレンジメント(14)は前記外側磁石フレーム(12)に対して移動可能であり、前記ターゲットの前記中央領域上方の前記磁場において非静止変調を生成するのに効果的である、請求項1または2に記載のスパッタリング装置。
- 前記中央磁気アレンジメント(14)は、反対に極性配向され、長手方向に延びる1対の永久磁石(14a、14b)であって、各長手方向軸回りに回転可能で、それにより前記ターゲットの前記中央領域上方の前記磁場において側方向シフトを生じるのに効果的である永久磁石を含む、請求項3に記載のスパッタリング装置。
- 前記第1の磁気端部材(18)は、前記可動中央アレンジメント(14)に動作可能に連結されて、前記第1の磁気端部材(18)は可動中央アレンジメント(14)と同期に移動して、それにより前記ターゲットの前記中央領域および前記第1の端領域上方の前記磁場の同期変調を生成する、請求項3に記載のスパッタリング装置。
- 前記第1の磁気端部材(18)は、前記回転可能磁石(14a、14b)が反対方向に交互に回転されると、前記回転可能磁石(14a、14b)の回転と同一の周波数で同調して振動するように、前記回転可能磁石(14a、14b)に動作可能に連結されており、それにより前記ターゲットの前記中央領域および前記第1の端領域上方の前記磁場の同相変調を生成する、請求項4に記載のスパッタリング装置。
- 前記第1の磁気端部材(18)と前記回転可能磁石(14a、14b)は動作可能に連結されて、前記第1の磁気端部材(18)と前記中央領域上方の前記磁場の振動側方向シフトとの間の同期反対移動を達成する、請求項6に記載のスパッタリング装置。
- 前記第1の磁気端部材(18)は、前記ターゲット(20)に対して少なくとも側方向または長手方向に移動されるように適応された永久磁石を含む、請求項1に記載のスパッタリング装置。
- 前記永久磁石は少なくとも1つのトラック(46)上において側方向に摺動可能なキャリッジ(45)上に支持される、請求項8に記載のスパッタリング装置。
- 前記第1の磁気端部材(18)は電磁石を含み、磁場変調は前記電磁石に供給される電力または電圧を変調することにより達成され得る、請求項1に記載のスパッタリング装置。
- 請求項1から10のいずれかのスパッタリング装置を用いるスパッタリング方法であって、前記方法は、
中央領域と、中央領域の何れかの端に位置付けられた第1および第2の長手方向端領域とを有するターゲット表面(22)を備えたスパッタターゲット(20)を設ける工程と、
前記ターゲット表面(22)上方に磁場を生成する工程と、
前記磁場により前記ターゲット表面(22)にプラズマを導いて前記プラズマが前記ターゲット表面(22)を腐食する工程と、
前記第1と第2の長手方向に延びる磁気側方向部材(16、17)に対して少なくとも前記第1の磁気端部材(18)を動かすことによって前記ターゲット表面(22)の前記第1の端領域上方の前記磁場を変調して、それによりその前記第1の端領域における前記ターゲットの腐食の集中を広げる工程と、を含むスパッタリング方法。 - 前記第1と第2の長手方向に延びる磁気側方向部材(16、17)に対して第2の磁気端部材(19)を動かすことによって前記ターゲット表面の前記第2の端領域上方の前記磁場を変調して、それによりその前記第2の端領域における前記ターゲットの腐食の集中を広げる工程をさらに含む、請求項11に記載のスパッタリング方法。
- 前記ターゲット(20)は、前記ターゲット表面上方に前記磁場を生成するための磁気アセンブリ(10)の上に配置され、前記磁気アセンブリ(10)は中央磁石アレンジメント(14)を囲む外側磁石フレーム(12)を有し、前記外側磁石フレーム(12)は、中央磁気アレンジメント(14)の何れかの側に位置付けられる第1および第2の長手方向に延びる磁気側方向部材(16、17)と、前記フレームの対向する長手方向端に位置付けられそれらを画成する第1および第2の磁気端部材(18、19)とを含み、前記第1の磁気端部材(18)は、前記ターゲット表面の前記第1の端領域上方の前記磁場において前記変調を生成するのに効果的である、請求項11または12に記載のスパッタリング方法。
- 前記第1の磁気端部材(18)は永久磁石を含み、前記方法は、前記永久磁石の交互の側方向の動きが前記ターゲット表面の前記第1の端領域上方の前記磁場の側方向変調を生じさせるように、前記第1の磁気端部材(18)を側方向に振動させる工程をさらに含む、請求項13に記載のスパッタリング方法。
- 前記ターゲット(20)は陰極であるかまたはその一部を形成し、前記方法は、前記陰極と前記ターゲット表面(22)の上方に位置付けられてそれから離間した陽極との間に電圧を印加して、その間に電気アーク放電を生成し、それにより前記陰極と前記陽極との間に存在する不活性ガスから前記プラズマを生成する工程をさらに含む、請求項11から14のいずれかに記載のスパッタリング方法。
- 前記中央磁気アレンジメント(14)は前記外側磁石フレーム(12)に対して移動可能であり、前記ターゲットの前記中央領域上方の前記磁場において非静止変調を生成するのに効果的である、請求項13から15のいずれかに記載のスパッタリング装置。
- 前記中央磁気アレンジメント(14)は、反対に極性配向され、長手方向に延びる1対の永久磁石(14a、14b)を含み、前記方法は、前記長手方向に延びる永久磁石(14a、14b)を各長手方向軸回りに回転させて、それにより前記ターゲットの前記中央領域上方の前記磁場において側方向シフトを生じる工程をさらに含む、請求項16に記載のスパッタリング方法。
- 前記第1の磁気端部材(18)は前記可動中央アレンジメント(14)に動作可能に連結され、前記第1の磁気端部材(18)は可動中央アレンジメント(14)と同期して移動し、それにより前記ターゲットの前記中央領域および前記第1の端領域上方の前記磁場の同期変調を生成する、請求項16に記載のスパッタリング方法。
- 前記第1の磁気端部材(18)は、ターゲット表面の中央領域上方の磁場の振動側方向シフトに対して同期の反対移動で振動される、請求項13から18のいずれかに記載のスパッタリング方法。
- 前記ターゲット表面(22)上方の前記磁場は、前記ターゲット(20)の下方に生成されそこを貫通するトンネル磁場の形状をしており、前記トンネル磁場は上方から見るとリングまたは楕円形状を有する、請求項11から19のいずれかに記載のスパッタリング方法。
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