DE2550929A1 - Verfahren zur herstellung von quarzglasgegenstaenden durch ziehen - Google Patents
Verfahren zur herstellung von quarzglasgegenstaenden durch ziehenInfo
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Description
■-. | -W! D | 2550929 | PHN | .7817 | |
T-TE | 6-1 | 1-1975 | |||
FHT | |||||
12. Ιίον. 1975
"Verfahren zur Herstellung von Quarzglasgegenständen durch
Ziehen"
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung von Quarzglasgegenständen durch Ziehen aus
einer Schmelze.
Aus der schweizerischen Patentschrift
540859 ist ein Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung
langgestreckter Gegenstände a^^s geschmolzenem Quarz bekannt,
nach welchem Ausgangsmaterial aus Siliciumdioxid in Form von Teilchen kontinuierlich mit einer vorbestimmten Geschwindigkeit
in den oberen Teil eines erhitzten Ofens eingeführt wird das Ausgangsmaterial in der oberen erhitzten Zone des Ofens
kontinuierlich in einer Gasatmosphäre von Wasserstoff und Helium in~einem Volumenverhältnis von 40 - 65 $>
Wasserstoff zu 6O - 35 # Helium nnd bei einer 205O0C nicht unterschreiter
den Schmelztemperatur geschmolzen wird, die Erhitzung des
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-2- PHN.7817
6-11-1975
geschmolzenen Materials in der unteren Zone des Ofens mittels
einer gesonderten Erhitzungsvorrichtung fortgesetzt wird, wobei eine Temperatur a\if recht erhalten wird, die niedriger
als die Temperatur von 205O0C im geschmolzenen Material ist,
und das geschmolzene Material kontinuierlich aus der unteren'
Zone des Ofens mittels einer Formgebungsvorrichtung beim
Vorhandensein einer Wasserstoff in einem nichtoxidierenden
Trägergas enthaltenden Atmosphäre gezogen wird.
Der Effekt dieses Verfahrens ist der, dass
ein Quarzglas mit einer erheblich kleineren Anzahl eingeschlossener
Gasblasen als durch herkömmliche Verfahren hergestelltes Quarzglas erhalten wird. Eingeschlossene Gasblasen
ergeben im gezogenen Erzeugnis Kanäle in der Ziehrichtung, wodurch das Quarzglas zur Anwendung als Umhüllung
z.B. von Lampen, die optischen Anforderungen entsprechen " müssen, weniger gut geeignet ist. Der obenbeschriebene Vorgang
wird in einer Atmosphäre durchgeführt, die aus Gasen besteht, die leicht durch das geschmolzene Quarzglas hindurch»
diffundieren und sich gut darin lösen können. Das erhaltene Erzeugnis enthält daher beträchtlich weniger eingeschlossene
Gasblasen und weist ausserdem eine sehr grosse Masshaltigkeit auf.
Die Erfindung bezweckt, auch die verbleidenden Gasblasen aus dem Quarzglas zu eliminieren und auf diese
Weise ein völlig blasenfreies Quarzglas zu erhalten. Bas Auftreten dieser Gasblasen wird darauf zurückgeführt, dass
sich bei der Schmelztemperatur gelbste Gase infolge der Abkühlung während des Ziehvorgangs abscheiden.
609821/0914
-3- PHN.781T
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Diese Aufgabe wird erfindungsgemäss dadurch.
gelöst, dass ein Ausgangsmaterial aus Siliciumdioxid in Fore
von Teilchen verwendet wird, dem Oxide, Hydroxide oder bei Erhitzung in Oxide umzuwandelnde Verbindungen von Kalium
und/oder Magnesium in einer Menge zwischen 50 und 200 χ TO
Molc/i und/oder Calcium, Barium und/oder Strontium in einer
~3 λ Menge zwischen 5 und 200 χ 10 Mol.% zugesetzt sind.
Es sei bemerkt, dassaaus der deutschen Offer.-
legungsschrift 2,205·5^0 ein Verfahren zur Herstellung eines
blasen- und OH-freien Quarzglases bekannt ist, nach dem gemahlener Bergkristall einer Vorbehandlung unterworfen vird,
bevor er zu Quarzglas verschmolzen wird. Diese Vorbehandlung besteht darin, dass die Bergkristallkörner mit einem Salz,
dessen Kation aus IdthJUim, Natrium, Kalium, Magnesium, Calcium
Strontium oder Silber besteht, bei einer Temperatur zwischen 800 und 1700°C und einem Dampfdruck von mindestens 5 mm
Quecksilbersäule und vorzugsweise mehr als 100 mm Quecksilbersaule,
oder mit einem Gemisch solcher Salze in einer mindestens dem vorher bestimmten OH-Gehalt entsprechenden Menge
dotiert wird, die dotierten BergkristallkSrner während einer
Zeitdauer von mindestens 30 Sekunden in einem Reaktionsraum,
der auf eine Temperatur zwischen 800 und 17000C erhitzt
wird und dessen Atmosphäre mit Salzdampf angereichert ist, umgewalzt werden, die umgewälzten Bergkristallkorner mit
einem wasserdampffreien Gas bei einer Temperatur zwischen
800 und 1700oC gespült und die mit Gas gespülten Bergkristallr
korner unter wasserdampffreier Atmosphäre in einem an sich
bekannten Schmelzofen geschmolzen werden.
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Dieses Yesrf ahrens breschräiHact sich wa£ Atis-
gangsmateatriLaOL, das auss gesnahl eraent Bergkris-ftall bestellt:. Bie
genannte Voorfceliamdlung dear Bergfcr^tstallkiasErEEer wi:nä rait einer
Menge Salz; Jim dear Gro sseaaserrdming/ Tran 1 biss ΈΟ ppm dnrehge—
führt. Ouareä&i dHLe; VorbeifaaHdlung werd'en £.n dem ittisgaitgsmaterial
OH-Ioneaa gegeam Kat±on.eiE eines ^er* genannt see Sailzre ausgetauscht,
^si. dient im RaJKTert der Erfindtuig d-uEireÄgeiliEarfeen
-wem eisneia sich. i.rt nicht so grtjsssea fesse
AusgangsiEaterial,, wie Sandt ausgegangen, das
in eiiffieKir waissers-feoJFfgashaltigen Atmosphäre geschmolzen wird.*
Au£ diese Weise wird absichtlich eine grosse Menge Wasserstoff
in die Qiiarzglasschnielzie eingeführt, der bei der
Schmelztemperatur leicht wieder entweichen kann. Bie Zusätze
nach der Erfindung, die viel grosser als nach der genannten
deutschen Offenlegungsschrift sind, bewirken denn auch einem
ganz anderen Effekt, sie verhindern die Bildung von Wasserstoff in Form von Blasen während der Abkühlung beim Formgebungsvergang.
Im nachstehenden Ausführungsbeispiel wurden
einem aus SiO2 bestehenden Gemenge die.Stoffe in der Tabelle
in den dort angegebenen Mengen zugesetzt. Das SiO„-Pulver
wurde mit einer Lösung des Nitrats des betreffenden Kations
benetzt und dann bei 150°C getrocknet. Das Erzeugnis wurde
anschliessend 5 Minuten lang auf eine Temperatur von 100O°C
in Sauerstoff oder in J^ift erhitzt und anschliessend bei
195O°C in einer Wasserstoffatmosphäre erschmolzen.
Um die Entwicklung von Blasen sichtbar zu machen, wurden die Erzeugnisse 15 Minuten lang auf
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PHN.7817 6-11-1975 ·
erhitzt, Xn der nachstehenden Tabelle wird das Ergebnis an
Hand von Bewertungsnoten gezeigt· Die Ziffern gehen von
O bis 100; O bedeutet nahezu keine Blasen, 10 ist das Ergebnis
ohne erfindungsgemassen Zusatz und 100 steht für zahlreiche
Blasen·
Die Tabelle zeigt auf, dass Zusätze von
Na„0 und I-ip° keinen Effekt haben, und dass U-2° in &rSsseren
Mengen sogar einen ungünstigen Einfluss ausübt.
10x10
MOl.
~3
Mol.%
ohne Zusatz | 10 | 10 | 10 |
Li2O | 10 | 10 | 100 |
Na2O | 10 | 10 | 10 |
K0O | 10 | 5 | 1 |
5x1
5Ox10
~3
MgO CaO SrO BaO
10 | 10 | 5 |
10 | 5 | 3 |
5 | 0 | 0 |
1 | 0 | 0 |
609821/0914
Claims (1)
- -£- PHN.78176-11-1975PATENTAWSPRUGIi;Verfahren zur kontinuierlichen Herstellunglanggestreckter Gegenstände aus geschmolzenem Quarz, nach dem Ausgangsmaterial axis Siliciumdioxid in Form von Teilchen kontinuierlich mit einer vorbestimmten Geschwindigkeit in den oberen Teil eines erhitzten Ofens eingeführt wird; das Ausgangsmaterial in der oberen erhitzten Zone kontinuierlich in einer Gasatmosphäre von Wasserstoff und Helium in einem Volumenverhältnis von 40 - 65 % Wasserstoff zu 60 - 35 $ Helium und bei einer 205O0C nicht unterschreitenden Schmelztemperatur geschmolzen wird; die Erhitzung des geschmolzenen Materials in der unteren Zone des Ofens mittels einer gesonderten Erhitzungsvorrichtung fortgesetzt wird, wobei eine Temperatur aufrechterhalten wird, die niedriger als 20500C im geschmolzenen Material ist, und das geschmolzene Material kontinuierlich aus der unteren Zone des Ofens mittels einerS-Formgebungsvorrichtung beim Vorhandensein einer Wasserstoff in einem nichtoxidierenden Trägergas enthaltenden Atmosphäre gezogen wird, dadurch gekennzeichnet, dass ein Ausgangsmaterial aus Siliciumdioxid in Form von Teilchen verwendet wird, dem Oxide, Hydroxide oder bei Erhitzung in Oxide umzuwandelnde Verbindungen von Kalium und/oder Magnesium in einer Menge zwischen 50 und 200 χ 10~3 Mol# und/oder Calcium, Barium und/oder Strontium in einer Menge zwischen 5 und 200 χ \0~J $ zugesetzt sind.609821 /091 A
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Publications (2)
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---|---|
DE2550929A1 true DE2550929A1 (de) | 1976-05-20 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013149882A1 (de) | 2012-04-05 | 2013-10-10 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur herstellung eines formkörpers aus elektrogeschmolzenem synthetischem quarzglas |
DE102012008123A1 (de) | 2012-04-25 | 2013-10-31 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers auselektrogeschmolzenem synthetischem Quarzglas |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2498599A (en) * | 1948-06-09 | 1950-02-21 | Donald L Werner | Gas vent |
US2944563A (en) * | 1957-10-22 | 1960-07-12 | Blasio James J De | Safety oil tank |
JPS55100231A (en) * | 1979-01-19 | 1980-07-31 | Hitachi Ltd | Production of optical fiber base material |
NL7903842A (nl) * | 1979-05-16 | 1980-11-18 | Philips Nv | Werkwijze voor het bereiden van gedoteerd kwartsglas en daaruit vervaardigde voorwerpen. |
EP0029590B1 (de) * | 1979-11-21 | 1984-03-21 | Hitachi, Ltd. | Verfahren zum Herstellen optischen Glases |
JPS62212234A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-18 | Nippon Sanso Kk | ガラスの製造法 |
US4828593A (en) * | 1986-02-28 | 1989-05-09 | Japan Oxygen Co., Ltd. | Process for the production of glass |
DE3771963D1 (de) * | 1986-02-28 | 1991-09-12 | Nippon Oxygen Co Ltd | Verfahren zur herstellung von glas. |
DE69722213T2 (de) * | 1996-07-16 | 2004-04-08 | Toyota Jidosha K.K., Toyota | Optische fasern hergestellt unter verwendung von quarzglas mit ultraniedrigem verlust |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH540859A (de) * | 1971-04-22 | 1973-08-31 | Gen Electric | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung eines länglichen Körpers aus geschmolzenem Quarz |
DE2205560B2 (de) * | 1972-02-07 | 1974-04-04 | Heraeus-Schott Quarzschmelze Gmbh, 6450 Hanau | Verfahren zum Herstellen von blasenfreiem und OH-freiem Quarzglas und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4913842A (de) * | 1972-05-20 | 1974-02-06 |
-
1937
- 1937-02-27 US US128208A patent/US2134050A/en not_active Expired - Lifetime
-
1974
- 1974-11-18 NL NL7414977A patent/NL7414977A/xx not_active Application Discontinuation
-
1975
- 1975-11-10 US US05/630,534 patent/US4013436A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-11-13 DE DE2550929A patent/DE2550929C2/de not_active Expired
- 1975-11-14 CA CA239,642A patent/CA1071409A/en not_active Expired
- 1975-11-15 JP JP50137682A patent/JPS5173017A/ja active Granted
- 1975-11-17 BR BR7507615*A patent/BR7507615A/pt unknown
- 1975-11-18 FR FR7535174A patent/FR2291159A1/fr active Granted
-
1980
- 1980-12-31 BE BE0/203374A patent/BE886931Q/fr not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH540859A (de) * | 1971-04-22 | 1973-08-31 | Gen Electric | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung eines länglichen Körpers aus geschmolzenem Quarz |
DE2205560B2 (de) * | 1972-02-07 | 1974-04-04 | Heraeus-Schott Quarzschmelze Gmbh, 6450 Hanau | Verfahren zum Herstellen von blasenfreiem und OH-freiem Quarzglas und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Glas-Email-Keramo-Technik, 1960, S. 41 * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013149882A1 (de) | 2012-04-05 | 2013-10-10 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur herstellung eines formkörpers aus elektrogeschmolzenem synthetischem quarzglas |
DE102012008123A1 (de) | 2012-04-25 | 2013-10-31 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers auselektrogeschmolzenem synthetischem Quarzglas |
DE102012008123B4 (de) * | 2012-04-25 | 2014-12-24 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers aus elektrogeschmolzenem synthetischem Quarzglas |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2550929C2 (de) | 1983-11-17 |
BR7507615A (pt) | 1976-08-03 |
NL7414977A (nl) | 1976-05-20 |
FR2291159A1 (fr) | 1976-06-11 |
JPS5173017A (en) | 1976-06-24 |
JPS571491B2 (de) | 1982-01-11 |
FR2291159B1 (de) | 1979-01-19 |
CA1071409A (en) | 1980-02-12 |
US4013436A (en) | 1977-03-22 |
BE886931Q (fr) | 1981-04-16 |
US2134050A (en) | 1938-10-25 |
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