DE2530684A1 - Verfahren und vorrichtung zum dielektrischen lichtwellenleitern - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zum dielektrischen lichtwellenleiternInfo
- Publication number
- DE2530684A1 DE2530684A1 DE19752530684 DE2530684A DE2530684A1 DE 2530684 A1 DE2530684 A1 DE 2530684A1 DE 19752530684 DE19752530684 DE 19752530684 DE 2530684 A DE2530684 A DE 2530684A DE 2530684 A1 DE2530684 A1 DE 2530684A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- glass
- double crucible
- gas
- crucible
- glass rod
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 35
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 71
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 52
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 claims description 19
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 10
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 9
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 claims description 7
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 7
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 5
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 claims description 4
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 4
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 3
- 239000012494 Quartz wool Substances 0.000 claims description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 2
- 210000004907 gland Anatomy 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 5
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012681 fiber drawing Methods 0.000 description 1
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 1
- -1 for example Chemical class 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N nickel(II) oxide Inorganic materials [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/225—Refining
- C03B5/2252—Refining under reduced pressure, e.g. with vacuum refiners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/022—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from molten glass in which the resultant product consists of different sorts of glass or is characterised by shape, e.g. hollow fibres, undulated fibres, fibres presenting a rough surface
- C03B37/023—Fibres composed of different sorts of glass, e.g. glass optical fibres, made by the double crucible technique
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/08—Bushings, e.g. construction, bushing reinforcement means; Spinnerettes; Nozzles; Nozzle plates
- C03B37/085—Feeding devices therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/225—Refining
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft Verfahren, zum Betrieb eines Doppel-Tiegels
zum Ziehen von dielektrischen Lichtwellenleitern und Einrichtungen mit einem Doppel-Tiegel.
Ein solches Verfahren zur Herstellung von dielektrischen Lichtwellenleitern
besteht darin, eine ummantelte Faser aus einem Doppeltiegel zu ziehen. Der Doppeltiegel besteht aus einem äußeren Tiegel mit einer
Ziehdüse und aus einem in ihm angeordneten inneren Tiegel, der ebenfalls mit einer Ziehdüse versehen ist. Die beiden Tiegel werden mit den
beiden für den Kern bzw. für den Mantel der dielektrischen Lichtwellen-
41-(85 379)-Bgn-r (7)
50988 5/094^
leiter zu verwendenden Glasarten gefüllt, und dann kann der dielektrische
Lichtwellenleiter aus dem Tiegel in üblicher Weise gezogen werden. Eine der Hauptschwierigkeiten bei der Verwendung von Doppeltiegeln für
die Herstellung von dielektrischen Lichtwellenleitern ist, das Entstehen von Gasblasen im Glas zu verhindern. Denn das Vorhandensein von Gasblasen
in dem gezogenen dielektrischen Lichtwellenleiter bewirkt beträchtlich größere Absorption im Lichtleiter. Blasenbildendes Gas kann
in dem im Doppeltiegel befindlichen geschmolzenen Glas schon eingeschlossen sein oder kann während des Ziehvorganges durch Elektrolyse,
die in den Ziehdüsen des Doppeltiegels auftritt, entstehen.
Es hat sich gezeigt, daß man, indem man den Doppeltiegel mit einem
nichtoxidierenden, inerten Gas umgibt, elektrolytische Blasenbildung weitgehend verhindern und dielektrische Licht wellenleiter mit sehr
verbesserten Übertragungseigenschaften erzielen kann. Ein typisches hierfür geeignetes Gas ist Kohlendioxid. Das Einschließen von Gas kann
man verringern, indem man das Füllen des Tiegels und das Schmelzen des Glases unter Vakuum vornimmt; durch dieses Verfahren werden infolge^des
geringeren Druckes große Mengen Gasblasen ausgeschieden. Aber es hat sich gezeigt, daß so ausgeschiedenes Gas dann, wenn der
Außenluftdruck wiederhergestellt wird, sich leichter auflöst als schon eingeschlossenes Gas.
Man kann ferner das Einschließen von Gas dadurch verringern, daß man die Glasstange, die man einführt, um den Doppeltiegel zu speisen,
nur langsam einführt; dann wird sich - so nimmt man an - die Glasschmelzen-Oberfläche
positiv krümmen, d. h. an der Glasstange nach oben ziehen. Wenn man die Glasstange so einführt, daß sie in den Glas-
SQ9885/0948
schmelzen-Spiegel an immer derselben Stelle eintaucht, also nicht etwa
wie üblich spiralig wandert, kann man die Menge eingeschlossenen Gases nochmals verringern.
Die Erfindung gibt erstens an ein Verfahren zum Ziehen von dielektrischen
Lichtwellenleitern aus einem Doppeltiegel, das dadurch gekennzeichnet ist, daß durch Umgeben des Doppeltiegels mit nichtoxidierendem
Gas elektrolytische Blasenbildung verhindert wird.
Die Erfindung gibt zweitens an ein Verfahren zur Zufuhr von Glas in einen beheizten Doppeltiegel für das Ziehen von dielektrischen Lichtwellenleitern,
das dadurch gekennzeichnet ist, daß eine Glas stange langsam in eine im Doppeltiegel befindliche Glasschmelze so eingeführt wird,
daß an der Stelle, wo die Glasstange in die Glasschmelze eintritt, kein Gas in die Glasschmelze hineingezogen wird.
Die Erfindung gibt drittens an ein Verfahren zur Zufuhr von Glas in
einen Doppeltiegel für das Ziehen von dielektrischen Licht Wellenleitern,
das gekennzeichnet ist durch langsames Einführen einer Glasstange in eine Glasschmelze im Doppeltiegel und durch Führen der Glasstange
derart, daß der Punkt, in welchem eine Achse der Glas stange durch die Oberfläche der Glasschmelze hindurchgeht, in bezug auf die zur Oberfläche
der Schmelze quere Bewegung in Euhe bleibt.
Und die Erfindung liefert viertens eine Einrichtung zum Ziehen von
dielektrischen Lichtwellenleitern, die gekennzeichnet ist durch einen Doppeltiegel,
der in einem Behälter eingeschlossen ist, ferner durch Vorrichtungen für gasdichten Abschluß dieses Behälters, ferner durch eine
E09885/094Ö
Vorrichtung zum Beheizen des Doppeltiegels, weiterhin durch Führungen,
welche seitliche Bewegung der in den Doppeltiegel einzuführenden Glasstangen verhindern, sowie durch ein Rohr für Gaszufuhr in den Behälter
·
Ausführungsbeispiele der Erfindung seien anhand der beiliegenden Zeichnung beschrieben. Diese zeigt in
Fig. 1 die Vorbereitung von Glasstangen für Verwendung zum Speisen
eines Doppeltiegels,
Fig. 2 eine erfindungsgemäße Einrichtung mit Doppeltiegel zum
Ziehen von dielektrischen Lichtwellenleitern im Schnitt,
Fig. 3 eine erfindungsgemäße Füllvorrichtung für halb-fortlaufendes
Füllen eines Doppeltiegels,
Fig. 4 eine Vorrichtung zum Trocknen von Gas für die in Fig. 3
gezeichnete Vorrichtung,
Fig. 5 die typische Beziehung zwischen Zähigkeit und Temperatur
für Soda-Boro-Silikat-Gläser.
Eine der Hauptschwierigkeiten bei der Herstellung von dielektrischen
Lichtwellenleitern mittels Doppeltiegels ist, das Entstehen von Gasblasen in der Glasschmelze zu verhindern. Dies erfordert beträchtliche
Sorgfalt beim Einführen des Glases in den Doppeltiegel während des Ziehvorganges· Außerdem muß elektrolytische Bildung von Gasblasen
509885/094Ö
verhindert werden. Anfangs kann man beide Abteile des Doppeltiegels
füllen, indem man kurze stangenförmige Stücke derjenigen Glasarten,
aus denen der Kern bzw· der Mantel hergestellt werden sollen, in die
Abteile einführt. Natürlich sind die Stücke des Mantelglases in das äußere Abteil und die Stücke des Kernglases in das innere Abteil einzuführen.
Diese Glasstangen bereitet man, indem man sie aus der Glasschmelze hochzieht. Dieses Verfahren ist in Fig. 1 dargestellt.
Nachdem das geschmolzene Glas 4 etwa 24 Stunden lang im Tiegel 5 geklärt worden ist, nimmt man es aus dem Glasschmelzofen heraus
und läßt es sich auf etwa 800 C (bei typischem Natron-Boro-Silikat-Glas)
abkühlen? bei dieser Temperatur beträgt seine Zähigkeit 10
bis 10 Poise. Über der Schmelze wird in einem Abstand von mindestens
1 cm vom Spiegel der Schmelze ein Wasser-Kingbehälter 2 angebracht .
Eine Glas- oder Quaarz-rStange wird in die Schmelze abgesenkt und
dann mit gesteuerter Geschwindigkeit gehoben, so daß sie einen Strang 3 aus der Glasschmelze hochzieht. Der Wasser-Ringbehälter bewirkt,
daß dieser hochgezogene Glasstrang ziemlich schnell erstarrt. Übliche Ziehgeschwindigkeit liegt zwischen 2 m/h bei dicken Strängen und 1 m/h
für dünne Stränge. Natürlich ist der Durchmesser der gezogenen Stränge abhängig von der Ziehgeschwindigkeit und von der Zähigkeit des geschmolzenen
Glases.
Der so bereitete und erstarrte Strang wird in Stangen gewünschter Länge geteilt, und diese Stangen werden in Quarzglas-Rohren gelagert,
durch die trockener Stickstoff hindurchströmt. Der trockene Stickstoff
609885/Ο94Θ
- ti -
ist gefiltert; seine Strömungsgeschwindigkeit ist üblicherweise etwa
100 Zentimeter pro Minute. Dies hält die Oberfläche der Stangen trokken und hilft, zu verhindern, daß die schließlich erzeugten dielektrischen
Lichtwellenleiter Wasser enthalten; und es verhindert Verschmutzung der Stangen durch andere Unreinigkeiten wie z.B. Übergangsmetalle
usw.
Eine der Ursachen des Entstehens von Blasen in dielektrische Lichtwellenleitern
ist eine elektrolytische Reaktion, die in der Nähe der Ziehdüsen des Doppeltiegels auftritt. Diese Wirkung kann man verhindern, indem
man das den Doppeltiegel umgebende Gas frei von Sauerstoff hält. Dies kann man erreichen, indem man den Doppeltiegel mit Kohlendioxid
oder einem anderen inerten Gas wie z.B. Stickstoff oder Argon umgibt; auch kann man zusätzlich ein den Sauerstoff aufzehrendes Gas wie z. B.
Kohlenmonoxid anwenden. Einzelheiten der Strömungsgeschwindigkeiten etc. für dieses Verfahren werden weiter unten in dieser Beschreibung erörtert
werden.
Wenn dem Doppeltiegel Glas während eines Glasfaserzieh-Arbeitsvorganges
zugeführt werden soll, muß sichergestellt werden, daß während des Glaszufuhr-Vorganges keine Gasblasen im Glas entstehen. Dies
kann man dadurch sicherstellen, daß man das Einschließen von Gas verhindert. Man kann das Einschließen von Gas wesentlich verringern, indem
man die Glasstangen in die Glasschmelze nur langsam einführt. Üblicherweise wird bei einer Stange, deren Durchmesser zwischen 3 und
10 mm, meistens 6 bis 8 mm beträgt, eine Zufuhrgeschwindigkeit von
15 bis 30 mm Stangenlänge je Minute angewendet. Bei dieser Geschwindigkeit
wird, so glaubt man, die Oberfläche der Glasschmelze sich im-
S09885/094Q
^. 253068A
mer positiv krümmen, d. h. an der Stange hochziehen. Wenn man jedoch
wesentlich größere Zufuhrgeschwindigkeit anwendet, kann sich die Oberfläche der Glasschmelze an der Stange nach unten verformen,
und dann werden dort, wo die Glasschmelzen-Oberfläche mit der Oberfläche der Stange zusammentrifft, Gasblasen mitgerissen und eingeschlossen.
Bei diesen langsamen Zufuhrgeschwindigkeiten wird die Glasstange zu der Zeit, da sie in die Glas schmelzen-Oberfläche eintaucht,
im wesentlichen geschmolzen sein. Daher wird, wenn keine Vorbeugemaßnahmen getroffen werden, die Glasstange beim Eintauchen
in die Glasschmelzen-Oberfläche die Form einer Schraubenspirale anzunehmen suchen und sich über sich selbst zusammenfalten; auch dieser
Vorgang wird dazu führen, Gas einzuschließen. Diese Schraubenbildung kann man verhindern, indem man Führungen vorsieht, welche
die Glasstange im wesentl ichen lotrecht zur Schmelzen-Oberfläche halten. Diese Führungen sind natürlich in genügendem Abstand von der
Schmelzen-Oberfläche anzuordnen.
Schließlich besteht ein weiteres Verfahren, die Menge der im Glas bei der anfänglichen Füllung des Doppeltiegels entstehenden Gasblasen zu
verringern, darin, das Gas im Vakuum zu schmelzen. Man ordnet den Doppeltiegel in einem gas leeren Raum an und erhitzt die Glasstangen im
Doppeltiegel langsam, so daß die Glasoberflächen getrocknet und entgast
werden, und dann läßt man die Glasstangen schmelzen. Das Schmelzen des Glases im Vakuum bewirkt, daß viele Gasblasen freigegeben werden.
Aber wenn das Glas, solange es noch geschmolzen ist, wieder dem Druck der äußeren Umgebung ausgesetzt wird, dann lösen sich diese
Gasblasen schnell auf. Dies wirkt sich in Bildung einer wesentlich blasenfreien Schmelze aus.
509885/0940
Eine Einrichtung mit Doppeltiegel, in der die erörterten Verfahren
ausgeführt werden können, ist in Fig. 2 dargestellt. Ein Doppeltiegel mit einem inneren Abteil 6 und einem äußeren Abteil 7 ist in einem
senkrecht-zylindrischen Ofen mit einer aus Quarz bestehenden Zylinderwand 9 angeordnet. Der Doppeltiegel ruht auf einem Zylinder 13
aus Quarz, der auf einer Bodenplatte 15 steht. Auf dem Quarz-Zylinder
13 sind sechs Quarz-Platten 10 angeordnet, deren jede in der Mitte
ein Loch hat; diese Löcher nehmen zur Oberseite dieses Plattenstapels hin ab. Die zweite Platte von oben hat einen Schlitz, in dem ein Thermoelement
11 angeordnet ist, das die an der Ziehdüse 8 des Doppeltiegels
herrschende Temperatur anzeigt. Oben auf dem Stapel der Platten 10 steht ein zweiter Quarz-Zylinder 12; auf diesem ruht der Doppeltiegel
unmittelbar auf. Den oberen Rand des Zylinders 12 überlappt ein Flansch des Doppeltiegels. Der Stapel der Platten 10 wirkt wie eine
Wärmesperre, welche Wärmestrahlung nach unten verhindert; dies hilft verhüten, daß der gezogene dielektrische Lichtwellenleiter wieder
schmilzt. Die Bodenplatte 15 ist auf der Ofenwand 9 mittels eines kreisrund profilierten Ringes 14 angebracht, der zwischen der Bodenplatte
15 und einer Ringplatte 16 mittels Schrauben 18 gepreßt wird. Die Bodenplatte 15 und die Ringplatte 16 sind wassergekühlt; das Wasser
fließt durch Rohre 17. Oben auf dem Ofenwand-Zylinder 9 ist eine Abdeckplatte 20 befestigt mittels eines kreisrund profi lierten Ringes
19, der zwischen der Abdeckplatte 20 und einer Ringplatte 21 mittels Schrauben 23 gepreßt wird. Auch diese Abdeckplatte 20 und Ringplatte
21 sind mittels Wassers gekühlt, das in Rohren 22 fließt. Durch die Abdeckplatte 20 gehen ein Gaszufuhrrohr 24 sowie zwei zur Führung
der Glasstangen beim Füllen des Doppeltiegels dienende Führungsrohre 26; diese Führungsrohre sind mittels kegeliger Stopfen 25 auf kegeligen
509385/0940
-Q-
Sitzen abgedichtet. Statt dessen können Ladevorrichtungen, die weiter
unten beschrieben werden, angebracht werden. Der Doppeltiegel selbst besteht vorzugsweise aus Platin, kann aber auch aus Quarz bestehen.
Die Bodenplatte 15 ist in ihrer Mitte mit einem Loch 32 versehen, durch das der dielektrische Lichtwellenleiter während des Ziehvorganges
hindurchgeht. Dieses Loch kann mittels eines Topfes 30, der mit einem kreisrund profilierten Dichtungsring 31 versehen ist, verschlossen
werden. Ein Topf ist gewählt, damit etwa aus dem Doppeltiegel abtropfendes Glas im Topf aufgefangen wird und sich nicht im Loch auftürmen
kann. Der Ofen wird durch Wicklungen 27 geheizt, welche die zylindrische Ofenwand 9 umgeben und aus 90 % Platin und 10 % Rhodium
bestehen.
Wie schon erwähnt, wird elektrolytische Blasenbildung an der Düse 8 des Doppeltiegels dadurch verhindert, daß dieser von Kohlendioxid
und Kohlenmonoxid umgeben ist. Das Gas wird dem Doppeltiegel durch das Rohr 24 zugeführt, das mit der in Fig. 4 dargestellten Gasversorgungsleitung
verbunden ist. Es werden das Kohlendioxid von einer Flasche 33 über ein Ventil 35 und einen (nicht gezeichneten) Mengenzähler
und das Kohlenmonoxid von einer Flasche 34 über ein Ventil 36 und einen (nicht gezeichneten) Mengenzähler in eine Leitung 37, in der sich
diese Gase mischen, und von dort durch ein Molekularsieb 38 und danach durch ein mit Quarzwolle gefülltes Rohr 48 geführt. Dieses Rohr
wird in einem Ofen 39 auf etwa 300 C erwärmt. Das Gas strömt dann
durch einen Filter von 0,25 Mikron Porengröße und von dort in das Gaszufuhrrohr 24 der in Fig. 2 gezeigten Einrichtung. Das Molekularsieb
wird vor Betriebsbeginn durch trockenen Stickstoff, der in umgekehrter Stromrichtung durch das Sieb geführt wird, aufgeheizt. Das Gas
hat, nachdem es durch das Molekularsieb geflossen ist, einen Wasser-
509885/0940
gehalt, dereinem Taupunkt von etwa -60 C entspricht. Der Zweck
des beheizten Rohres 48 ist, Carbonyle, die im Kohlenmonoxid vorhanden sein könnten, zu entfernen. Diese Carbonyle entstehen durch
Wechselwirkung zwischen Übergangsmetallen, wie z«, B. Nickel, und
Kohlenmonoxid unter Druck.
Wenn die in Fig. 2 gezeigte Einrichtung in Betrieb ist, dann ist es
wichtig, daß die Bodenplatte 15 und die Abdeckplatte 20 nicht gleichzeitig zur Außenluft hin offen sind. Denn wenn das geschähe, dann würde
das im Ofenrohr 9 befindliche inerte Gas sehr schnell durch Kaminwirkung verlorengehen. Zum Beispiel ergeben, wenn die Stopfen 25 in
Geschlossen-Stellung sind und die Bodenplatte offen, d. h. der Topf 30
weggenommen ist, im Ofenrohr 9 ein Kohlendioxid-Strom von 1600 ml/ min ein Gas von 150 ppm Sauerstoff, aber ein Kohlendioxid-Strom von
500 ml/min ein Gas von 1500 ppm Sauerstoff. Wenn einem Kohlendioxidstrom von 500 ml/min 5 % Kohlenmonoxid beigemischt wird,
-9 dann wird im Ofen 9 ein Sauerstoff-Teildruck von 10 at Sauerstoff
erzielt. Wenn unter diesen Bedingungen, d. h. bei 5 % Kohlenmonoxid im Kohlendioxid-Strom von 500 ml/min und bei offenem Boden, das
Einfüll-Loch in der Abdeckplatte 20 halb offen, d.h. einer der Stopfen
25 abgenommen ist, dann enthält das im Ofenrohr 9 befindliche Gas 18,5 % Sauerstoff; wenn die Abdeckplatte 20 wieder verschlossen wird,
sinkt der Sauerstoffgehalt wieder auf einen Teildruck von 10 at. Aus diesen Zahlen ist zu erkennen, wie wesentlich es ist, daß die Bodenplatte
15 und die Abdeckplatte 20 des Ofens 9 nicht gleichzeitig offen sein sollen.
Wenn die Bodenplatte und die Abdeckplatte beide geschlossen sind
509885/0940
und ein Kohlendioxid-Strom von 1600 ml/min und ein Kohlenmonoxid-Strom
von etwa 50 ml/min verwendet werden, dann ist der Sauerstoff-Teildruck etwa 10 at.
"Während der Doppeltiegel gefüllt wird, ist die Abdeckplatte 20 offen
und die Bodenplatte 15 geschlossen. Während dieses Betriebsabschnittes beträgt der Gasstrom 2 l/min Kohlendioxid und 50 ml/min
Kohlenmonoxid.
Während eine Faser aus dem Doppeltiegel gezogen wird, ist die Abdeckplatte 20 der in Fig. 2 gezeigten Einrichtung geschlossen und
der Topf 30 weggenommen. Bei diesem Betriebszustand Wrd ein Strom
von 500 ml/min Kohlendioxid verwendet, der 5 % Kohlenmonoxid enthält.
Bei Benutzung der beschriebenen Einrichtung wird für das Ziehen der dielektrischen Lichtwellenleiter meistens eine Ziehgeschwindigkeit
von 0,1 bis 0,2 m/sec angewendet; jedoch kann man die Ziehgeschwindigkeit
zwischen 0,05 m/sec und 7 m/sec verändern. Die Glas-Zähig-
3 5
keit ist meistens für das Mantelglas 10 bis 10 Poise und für das Kern-
2 5
glas 10 bis 10 Poise. In Fig. 5 sind für Natron-Bohrung-Silikatgläser
die meist verwendeten Zähigkeiten in Abhängigkeit von der Temperatur für drei Glasarten dargestellt. Daraus ist ersichtlich, daß übliche Betriebste
liegen.
triebstemperaturen für den Doppelkegel im Bereich von 800 C bis 900 C
Wenn das Glas in den Doppeltiegel eingefüllt und geschmolzen ist, kann man einen Faserzieh-Vorgang beginnen. Das geschieht, indem man
509885/0940
einen Glasklumpen sich bilden und von selbst infolge der Schwerkraft
sich absondern läßt; dieser Tropfen wird ausgezogen und an eine Trommel angeheftet, die mit geeigneter Geschwindigkeit, welche die gewünschte
Ziehgeschwindigkeit ergibt, gedreht wird. Oder aber es geschieht, indem man einen aus Quarz bestehenden Ziehstab in den Mund
des Doppeltiegels einsteckt und wieder herauszieht; mit ihm bringt man einen Faden geschmolzenen Glases heraus, und dieser wird wieder
an eine sich drehende Trommel angeheftet.
Nach Gebrauch der Einrichtung muß der Doppeltiegel, ehe er mit einem anderen Glasarten-Satz benutzt wird, gründlich gereinigt werden
. Das Verfahren dieser Reini gung besteht aus folgenden Schritten: .
1) Man hält den Doppeltiegel in der in Fig. 2 gezeigten Einrichtung
auf seiner Temperatur und läßt das Glas aus ihm heraustropfen;
2) dann nimmt man den Tiegel aus der in Fig. 2 gezeigten Einrichtung
heraus, kehrt ihn um und setzt ihn in einen heißen Ofen, so daß
weiteres Glas aus ihm herauslaufen kann;
3) dann entfernt man das restliche Glas, indem man den Doppeltiegel
mit einer kochenden Mischung von etwa 80 % Schwefelsäure und etwa 20 % Flußsäure ausätzt;
4) alle Quarz-Gegenstände reinigt man durch Beizen in verdünnter Flußsäure;
5) alle Einrichtungsgegenstände, die vom Laboratoriumspersonel gehandhabt werden müssen, fast man nur mit Handschuhen an;
509885/0940
6) schließlich wäscht man alle gereinigten Gegenstände in endionisiertem
Wasser und trocknet sie in einem Ofen.
Um .die Glasstangen in den Doppeltiegel - sei es unter Vakuum,
sei es unter inertem Gas - ohne Unterbrechung einfüllen zu können, kann man die in Fig. 3 gezeigte Füllvorrichtung benutzen. Diese Vorrichtung
besteht aus einem langen zylindrischen Rohr 40, das mit einem Anschlußrohr 41 versehen ist, welches entweder zur Zufuhr von
Gas oder zur Entleerung der Kammer dient. Das untere Ende des Zylinders
weist einen kegeligen Rohransatz 42 auf, der auf irgendeinen der kegeligen Sitze 25 aufgesetzt werden kann. Das obere Ende des
Zylinders ist mit einem gasdicht aufsetzbaren Deckel 43 versehen, der eine Gleit-Stoffbuchse 44 mit kreisrund profiliertem Dichtring
enthält. Die in den Doppeltiegel einzuführende Glasstange 45 ist an
einer durch die Stopfbuchse 44 hindurchgehenden Stange 46 befestigt. An dieser ist eine Platte 47 angebracht, welche etwaige Fremdkörper,
die von der Stopfbuchse 44 herabfallen, auffangen soll.
Die Stange 46 wird im Betrieb mit solcher Geschwindigkeit herabgeschoben,
daß die Glasstange 45 in den Doppeltiegel mit der erforderlichen Geschwindigkeit eintritt. Dieses Herabschieben findet statt,
solange die Faser gezogen wird; so wird völlig stetiges Ziehen ermöglicht.
509885/0940
Claims (24)
1. Verfahren zum Ziehen von dielektrischen Lichtwellenleitern aus
einem Doppeltiegel, dadurch gekennzeichnet, daß durch
Umgeben des Doppeltiegels mit nichtoxidierendem Gas elektrolytische Blasenbildung verhindert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das
nichtoxidierende Gas Kohlendioxid enthält.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das
nichtoxidierende Gas Stickstoff enthält.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das nichtoxidierende Gas Kohlenmonoxid enthält.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das nichtoxidierende Gas 5 % bis 90 % Kohlenmonoxid enthält.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das
nichtoxidierende Gas 5 % bis 20 % Kohlenmonoxid enthält.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 - 6, dadurch gekennzeichnet,
daß das nichtoxidierende Gas vor Gebrauch getrocknet wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 - 7, dadurch gekenn-
509885/0940
zeichnet, daß das nichtoxidierende Gas vor Gebrauch zwecks Beseitigung
von Carbonylen erhitzt wird.
9 * Verfahren zur Zufuhr von Glas in einen beheizten Doppeltiegel
für das Ziehen von dielektrischen Licht Wellenleitern, dadurch gekennzeichnet
, daß eine Glasstange langsam in eine im Doppeltiegel befindliche Glasschmelze so eingeführt wird, daß an der Stelle, wo
die Glasstange in die Glasschmelze eintritt, kein Gas in die Glasschmelze hineingezogen wird.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß. die
Glasstange in die Glasschmelze mit einer Geschwindigkeit ion weniger
als 30 mm/min eingeführt wird.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasstange 3 bis 10 mm Durchmesser hat.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die
Glasstange 6 bis 8 mm Durchmesser hat.
13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Einführungs-Geschwindigkeit größer als 155 mm/min ist.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 13, dadurch gekennzeichnet,
daß die Glasstange, ehe sie in den Doppeltiegel eingeführt wird, in einem Rohr aus Quarz in trockenem inertem Gas gelagert wird.
509885/0940
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 14, dadurch gekennzeichnet,
daß die Glasschmelze im Doppeltiegel gebildet wird, indem
a) kurze Längen von Glasstangen in den Doppeltiegel eingeführt werden,
b) der Doppeltiegel einem Vakuum ausgesetzt wird und die Glasstangen
im Vakuum geschmolzen werden,
c) dem Doppeltiegel Gas zugeführt wird, bis das den Tiegel umgebende
Gas wesentlich gleichen Druck wie die Außenluft hat.
16. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 15, dadurch gekennzeichnet,
daß die Geschwindigkeit, mit der die Glasstange eingeführt wird, nur so groß ist, daß die Oberfläche der Glasschmelze ringsum
an der Glasstange nicht herabgedrückt wird.
17. Verfahren zur Zufuhr von Glas in einen Doppeltiegel für das
Ziehen von dielektrischen Lichtwellenleitern, gekennzeichnet durch langsames
Einführen einer Glasstange in eine Glasschmelze im Doppeltiegel und durch Führen der Glasstange derart, daß der Punkt, in welchem eine
Achse der Glasstange durch die Oberfläche der Glasschmelze hindurchgeht,
in bezug auf die zur Oberfläche der Schmelze quere Bewegung in Ruhe bleibt.
18. Einrichtung zum Ziehen von dielektrischen Lichtwellenleitern, gekennzeichnet durch einen Doppejtiegel (5), der in einem Behälter (9)
509885/0940
eingeschlossen ist, ferner durch Vorrichtungen (14-18; 19-23; 30, 31) für gasdichten Abschluß dieses Behälters, ferner durch eine
Vorrichtung (27) zum Beheizen des Doppeltiegels, weiterhin durch Führungen (26), welche seitliche Bewegung der in den Doppeltiegel
einzuführenden Glasstangen verhindern, sowie durch ein Rohr (24) für Gaszufuhr in den Behälter.
19. Einrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß
der Behälter ein zylindrisches Rohr (9) ist und daß die Vorrichtungen für gasdichten Abschluß des Behälters aus einer wassergekühlten Bodenplatte
(15), die an den unteren Rand des Zylinderrohres (9) mittels eines kreisrund profilierten Dichtungsringes (14) gasdicht anliegend
gehalten wird, und aus einer wassergekühlten Abdeckplatte (20) besteht, die an den oberen Rand des Zylinderrohres (9) mittels eines
kreisrund profilierten Dichtungsringes (19) gasdicht anliegend gehalten wird.
20. Einrichtung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß
der Doppeltiegel (5) auf einer Tragevorrichtung (lO- 13) aufruht, die
eine Wärmesperre (lO) enthält, welche Wärmeübertragung nach unten verhindert.
21. Einrichtung nach einem der Ansprüche 18 - 20', dadurch gekennzeichnet,
daß die Führungsvorrichtung aus zwei in der Abdeckplatte (20) befestigten Rohren (26) besteht.
22. Einrichtung nach einem der Ansprüche 18 - 21, dadurch ge-
509885/0940
kennzeichnet, daß das Gas zuführung srohr (24) an Quellen (33, 34)
von Kohlenmonoxid und Kohlendioxid über einen Filter (49), ein mit Quarzwolle gefülltes beheiztes Rohr (48) und ein Molekularsieb (38)
angeschlossen ist.
23- Einrichtung nach einem der Ansprüche 18 bis 22, gekennzeichnet
durch eine gasdichte Luftschleuse (40 - 44), die an den Behälter so anzuschließen ist, daß die Glasstangen (45) in den Doppeltiegel
eingeführt werden können, ohne daß der Doppeltiegel der Außenluft ausgesetzt wird.
24. Einrichtung nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß
die Luftschleuse eine durch eine Stopfbuchse (44) hindurchgehende Antriebsstange
(46) enthält, mittels deren die Glasstange (45) mit gesteuerter Geschwindigkeit in den Tiegel eingeführt werden kann.
B09885/0940
Leerseite
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB30525/74A GB1507144A (en) | 1974-07-10 | 1974-07-10 | Apparatus for drawing dielectric optical waveguides |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2530684A1 true DE2530684A1 (de) | 1976-01-29 |
DE2530684B2 DE2530684B2 (de) | 1978-06-29 |
DE2530684C3 DE2530684C3 (de) | 1982-12-09 |
Family
ID=10309034
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2559895A Expired DE2559895C2 (de) | 1974-07-10 | 1975-07-09 | Verfahren und Einrichtung zum Ziehen von Lichtwellenleitern zur Nachrichtenübertragung |
DE2530684A Expired DE2530684C3 (de) | 1974-07-10 | 1975-07-09 | Verfahren und Einrichtung zum Ziehen von Lichtwellenleitern zur Nachrichtenübertragung |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2559895A Expired DE2559895C2 (de) | 1974-07-10 | 1975-07-09 | Verfahren und Einrichtung zum Ziehen von Lichtwellenleitern zur Nachrichtenübertragung |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4040807A (de) |
JP (2) | JPS5159915A (de) |
CA (1) | CA1053004A (de) |
DE (2) | DE2559895C2 (de) |
FR (1) | FR2278087A1 (de) |
GB (1) | GB1507144A (de) |
NL (2) | NL178243C (de) |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1448080A (en) * | 1975-04-10 | 1976-09-02 | Standard Telephones Cables Ltd | Optical fibre transducer |
GB1532571A (en) * | 1976-02-03 | 1978-11-15 | Standard Telephones Cables Ltd | Optical fibre manufacture |
JPS5313619A (en) * | 1976-07-26 | 1978-02-07 | Nippon Telegraph & Telephone | Process for preparing doped silica glass |
DE2654308A1 (de) * | 1976-11-30 | 1978-06-01 | Siemens Ag | Doppeltiegelanlage zur herstellung von lichtleitfasern |
JPS5393847A (en) * | 1977-01-27 | 1978-08-17 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Production method of light fiber |
US4110090A (en) * | 1977-03-02 | 1978-08-29 | Gte Laboratories Incorporated | Method of forming optical fibers |
JPS6037061B2 (ja) * | 1977-05-30 | 1985-08-23 | 日本電信電話株式会社 | 光フアイバ用ガラスの製造方法 |
CA1109083A (en) * | 1977-06-28 | 1981-09-15 | Keith J. Beales | Optical fibres and glasses |
DE2734152A1 (de) * | 1977-07-28 | 1979-02-08 | Siemens Ag | Vorrichtung zum ziehen eines buendels von kern-mantel-lichtleitfasern |
DE2960800D1 (en) * | 1978-03-14 | 1981-12-03 | Post Office | Method and apparatus for drawing optical fibres by means of a double crucible |
DE2842586A1 (de) * | 1978-09-29 | 1980-04-17 | Siemens Ag | Verfahren zur herstellung von lichtleitfasern niedriger daempfung und hoher numerischer apertur |
JPS6246934A (ja) * | 1985-08-22 | 1987-02-28 | Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> | フツ化物ガラスフアイバ用母材の製造方法及び装置 |
US4792347A (en) * | 1986-09-25 | 1988-12-20 | Corning Glass Works | Method for coating optical waveguide fiber |
US5069701A (en) * | 1987-07-13 | 1991-12-03 | Hughes Aircraft Company | Preparation of fluoride glass by chemical vapor deposition |
US4885019A (en) * | 1988-01-28 | 1989-12-05 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Process for making bulk heavy metal fluoride glasses |
US4898603A (en) * | 1988-07-25 | 1990-02-06 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Method for manufacturing halide glass optical fiber |
US5100449A (en) * | 1990-08-16 | 1992-03-31 | Corning Incorporated | Method of forming glass articles |
JPH0710548A (ja) * | 1993-06-18 | 1995-01-13 | Sumitomo Electric Ind Ltd | フッ化物ガラスの製造方法 |
DE4339077C2 (de) * | 1993-11-16 | 1997-03-06 | Rheydt Kabelwerk Ag | Verfahren zum Ziehen einer optischen Faser und Vorrichtung zu dessen Durchführung |
US5843231A (en) * | 1996-09-24 | 1998-12-01 | Alcatel Telecommunications Cable | Apparatus for bubble stripping and coating a fiber |
DE69723579D1 (de) * | 1996-10-25 | 2003-08-21 | Corning Inc | Vorrichtung und verfahren zur reduzierung von bruchquellen beim faserziehen |
US6279352B1 (en) * | 1999-12-30 | 2001-08-28 | Corning Incorporated | Long hot zone furnace element and optical fiber drawing method practiced therewith |
US8394813B2 (en) * | 2000-11-14 | 2013-03-12 | Shire Llc | Active agent delivery systems and methods for protecting and administering active agents |
US7223735B2 (en) * | 2003-05-29 | 2007-05-29 | New River Pharmaceuticals Inc. | Abuse resistant lysine amphetamine compounds |
US7427758B2 (en) | 2003-05-28 | 2008-09-23 | Opto-Knowledge Systems, Inc. | Cryogenically cooled adjustable apertures for infra-red cameras |
US20050111801A1 (en) * | 2003-11-25 | 2005-05-26 | Opto-Knowledge Systems, Inc. | Flexible Optical Fiber Ribbon Cable, Fiber Optic Reformattor, and Method for Making Same Cable and Reformattor |
US8164813B1 (en) | 2007-06-16 | 2012-04-24 | Opto-Knowledge Systems, Inc. | Non-circular continuous variable aperture or shutter for infrared cameras |
US8836793B1 (en) | 2010-08-13 | 2014-09-16 | Opto-Knowledge Systems, Inc. | True color night vision (TCNV) fusion |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1168023B (de) * | 1958-08-11 | 1964-04-16 | American Optical Corp | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von lichtleitenden Fasern oder Faeden aus Glas oder einem anderen thermoplastischen Material |
DE1596395A1 (de) | 1966-08-19 | 1971-03-04 | Saint Gobain | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung sogenannter optischer Fasern |
DE2045571A1 (de) * | 1969-09-15 | 1971-04-08 | Ici Ltd | Verfahren zur Herstellung von be schichteten Glasfasern |
DE2202787A1 (de) * | 1972-01-21 | 1973-07-26 | Heraeus Schott Quarzschmelze | Lichtleitfaser |
DE2204862A1 (de) * | 1972-02-02 | 1973-09-20 | Hansgeorg Dipl Phys Schindler | Verfahren zur herstellung eines flexiblen lichtleiters, insbesondere fuer laserstrahlen |
DE2313276A1 (de) * | 1972-03-30 | 1973-10-18 | Corning Glass Works | Verfahren zur herstellung von optischem glas |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3248193A (en) * | 1960-03-14 | 1966-04-26 | Pittsburgh Plate Glass Co | Method for drawing glass |
US3288583A (en) * | 1962-06-07 | 1966-11-29 | Bausch & Lomb | Apparatus for producing optical fiber |
US3298811A (en) * | 1963-04-23 | 1967-01-17 | Bell Telephone Labor Inc | Preparation of cerium-containing glasses |
GB1313106A (en) * | 1969-10-14 | 1973-04-11 | Pilkington Brothers Ltd | Manufacture of clad glass |
US3717450A (en) * | 1970-12-01 | 1973-02-20 | Sylvania Electric Prod | Furnace for manufacture of striationfree quartz tubing |
JPS5115454Y2 (de) * | 1971-05-13 | 1976-04-23 | ||
US3871853A (en) * | 1971-09-01 | 1975-03-18 | Owens Illinois Inc | Method of melting glass in a platinum container in a controlled atmosphere |
US3837824A (en) * | 1973-05-29 | 1974-09-24 | American Optical Corp | Drawing optical fiber under superatmospheric pressure |
-
1974
- 1974-07-10 GB GB30525/74A patent/GB1507144A/en not_active Expired
-
1975
- 1975-06-30 US US05/591,958 patent/US4040807A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-07-08 NL NLAANVRAGE7508092,A patent/NL178243C/xx not_active IP Right Cessation
- 1975-07-09 DE DE2559895A patent/DE2559895C2/de not_active Expired
- 1975-07-09 DE DE2530684A patent/DE2530684C3/de not_active Expired
- 1975-07-09 JP JP50084321A patent/JPS5159915A/ja active Pending
- 1975-07-10 CA CA231,230A patent/CA1053004A/en not_active Expired
- 1975-07-10 FR FR7521718A patent/FR2278087A1/fr active Granted
-
1982
- 1982-06-17 JP JP57104679A patent/JPS589838A/ja active Pending
-
1985
- 1985-01-26 NL NL8500216A patent/NL8500216A/nl active Search and Examination
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1168023B (de) * | 1958-08-11 | 1964-04-16 | American Optical Corp | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von lichtleitenden Fasern oder Faeden aus Glas oder einem anderen thermoplastischen Material |
DE1596395A1 (de) | 1966-08-19 | 1971-03-04 | Saint Gobain | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung sogenannter optischer Fasern |
DE2045571A1 (de) * | 1969-09-15 | 1971-04-08 | Ici Ltd | Verfahren zur Herstellung von be schichteten Glasfasern |
DE2202787A1 (de) * | 1972-01-21 | 1973-07-26 | Heraeus Schott Quarzschmelze | Lichtleitfaser |
DE2204862A1 (de) * | 1972-02-02 | 1973-09-20 | Hansgeorg Dipl Phys Schindler | Verfahren zur herstellung eines flexiblen lichtleiters, insbesondere fuer laserstrahlen |
DE2313276A1 (de) * | 1972-03-30 | 1973-10-18 | Corning Glass Works | Verfahren zur herstellung von optischem glas |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1053004A (en) | 1979-04-24 |
AU8262775A (en) | 1977-01-06 |
GB1507144A (en) | 1978-04-12 |
US4040807A (en) | 1977-08-09 |
NL7508092A (nl) | 1976-01-13 |
DE2530684B2 (de) | 1978-06-29 |
NL178243C (nl) | 1986-02-17 |
NL8500216A (nl) | 1985-05-01 |
JPS5159915A (en) | 1976-05-25 |
JPS589838A (ja) | 1983-01-20 |
DE2559895C2 (de) | 1982-10-28 |
FR2278087A1 (fr) | 1976-02-06 |
DE2530684C3 (de) | 1982-12-09 |
FR2278087B1 (de) | 1982-03-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2530684A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum dielektrischen lichtwellenleitern | |
DE3815974C1 (de) | ||
CH650481A5 (de) | Verfahren zur herstellung und zum trocknen in einem arbeitsgang einer rohrfoermigen glas-vorform fuer optische wellenleiter. | |
DE2217725A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines laenglichen quarzteils | |
EP0564707A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Verbundkörpers aus Glas | |
DE3913875C1 (de) | ||
DE2908092C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer optischen Faservorform | |
DE2050209C3 (de) | Verfahren zum Herstellen eines länglichen überfangenen Glaskörpers | |
DE2654308A1 (de) | Doppeltiegelanlage zur herstellung von lichtleitfasern | |
DE1471918B2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Glasfäden | |
DE69723475T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von optischen fasern aus kern- und mantelglaskörper | |
EP0729918B1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines polygonalen Quarzglasstabes | |
DE2842586A1 (de) | Verfahren zur herstellung von lichtleitfasern niedriger daempfung und hoher numerischer apertur | |
DE2234521A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer aus einem kern und einem mantel bestehenden lichtleitfaser | |
DE2915325A1 (de) | Verfahren zur herstellung optischer fasern mit abgestuftem brechungsindex | |
DE1667773C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung von Bordrähten | |
EP0247322A2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Vorform zum Ziehen von optischen Glasfasern | |
DE1912936A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen und Vakuumentgasen von schmelzfluessigen Metallen | |
DE1771238A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Formung eines mindestens teilweise verglasten Materials sowie des dabei erhaltenen Produktes | |
DE1118172B (de) | Verfahren zur Behandlung von Silicium | |
DE1596578A1 (de) | Verfahren,Anlage und Vorrichtung zum Herstellen von fadenbildenden mineralischen Werkstoffen sowie zum Herstellen und Aufhaspeln der Faeden | |
DE2638991A1 (de) | Herstellung von lichtleitfasern nach einem fluessigphasen-abscheidungsverfahren | |
DE2732615A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines glasfaserlichtleiters | |
DE2064263A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Licht leiterglasfasern und Vorrichtung zur Durchfuhrung dieses Verfahrens | |
DE1471953B2 (de) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OI | Miscellaneous see part 1 | ||
OI | Miscellaneous see part 1 | ||
BF | Willingness to grant licences | ||
AH | Division in |
Ref country code: DE Ref document number: 2559895 Format of ref document f/p: P |
|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: BRITISH TELECOMMUNICATIONS P.L.C., LONDON, GB |
|
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: BEETZ SEN., R., DIPL.-ING. BEETZ JUN., R., DIPL.-ING. DR.-ING. TIMPE, W., DR.-ING. SIEGFRIED, J., DIPL.-ING. SCHMITT-FUMIAN, W., PROF. DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT., PAT.-ANWAELTE, 8000 MUENCHEN |