DE2509019C2 - Verfahren zur Herstellung eines Hologramms - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines HologrammsInfo
- Publication number
- DE2509019C2 DE2509019C2 DE2509019A DE2509019A DE2509019C2 DE 2509019 C2 DE2509019 C2 DE 2509019C2 DE 2509019 A DE2509019 A DE 2509019A DE 2509019 A DE2509019 A DE 2509019A DE 2509019 C2 DE2509019 C2 DE 2509019C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- same
- dye
- exposure
- dyes
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
- G03F7/0295—Photolytic halogen compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/091—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/146—Laser beam
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Description
a) daß die Resistzusammensetzung als Vinylmonomeres wenigstens ein N-Vinylmonomeres und außerdem
einen bei Belichtung ausbleichenden Sensibilisatorfarbstoffin Mengen zwischen 2 und 10 g pro
100 g N-Vinylmonomer enthält und
b) daß nach der Belichtung zur Entwicklung des Hologramms eine Erhitzung der bildweise belichteten
Fotoresistzusammensetzung vorgenommen wird und
c) daß durch die ganzflächige Bestrahlung ein Ausbleichen des Sensibilisatorfarbstoffs vorgenommen
wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Hologramm nach der Erhitzungsstufe
durch ein Naßverfahren weiter entwickelt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Naßentwicklung durch ein Sprühverfahren
durchgeführt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß für das Sprühverfahren ein aliphatischer
Alkohol, vorzugsweise Methylalkohol, verwendet wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1 -4, dadurch gekennzeichnet, daß die bildweise Belichtung mit einem Laserstrahl,
einer Wellenlänge, die vorzugsweise bei oder nahe der Spitzenabsorption der Sensibilisierungs-Komponente
liegt, vorgenommen wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1-5, dadurch gekennzeichnet, daß die bildweise Belichtung durch eine Kombination
von Abtastung und Modulation des Laserstrahls erfolgt.
7. Verfahren nach Anspruch 1-6, dadurch gekennzeichnet, daß die Entwicklung durch Erhitzen auf eine
Temperatur von etwa 100 bis 1600C vorgenommen wird.
8. Verfahren nach Anspruch 1-7, dadurch gekennzeichnet, daß die Ausbleichstufe unter zusätzlicher
Anwendung von Hitze durchgeführt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 1 -8, dadurch gekennzeichnet, daß für das Ausbleichen ultraviolettes Licht,
vorzugsweise mit einer Wellenlänge von 300 bis 400 nm. Licht, das der Wellenlänge der Spitzenabsorption
der Ausbleich-Sensibilisierungs-Komponente entspricht, oder ein Laserstrahl angewendet wird.
10. Verfahren nach Anspruch 1-8, dadurch gekennzeichnet, daß das Ausbleichen durch Belichten mit
Strahlen einer Wellenlänge vom UV- bis zum IR-Bereich vorgenommen wird.
11. Verfahren nach Anspruch 9-10, dadurch gekennzeichnet, daß das Ausbleichen bei einer Temperatur
zwischen etwa 80 bis 120° C vorgenommen wird.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung eines Hologramms.
Bei der Herstellung von Reliefbildern für holografische Zwecke ist es wünschenswert, daß die dabei verwendeten lichtempfindlichen Materialien eine fotografische Empfindlichkeit bis zu einem Wellenlängenbereich von 1100 nm aufweisen. Dabei soll sich die Fotoempfindlichkeit in dem genannten Bereich nicht sehr stark von der Empfindlichkeit im UV-Bereich unterscheiden. Des weiteren ist es sehr vorteilhaft, wenn man die Möglichkeit hat, die Bestrahlung des Materials visuell zu verfolgen. Aus diesen Gründen ist es notwendig, daß die bei der Bildbelichtung verbliebenen Anteile an Sensibilisierungskomponente durch Bestrahlung über den Gesamtbereich und gegebenenfalls unter zusätzlicher Anwendung von Hitze einer Ausbleichung unterworfen werden können.
Bei der Herstellung von Reliefbildern für holografische Zwecke ist es wünschenswert, daß die dabei verwendeten lichtempfindlichen Materialien eine fotografische Empfindlichkeit bis zu einem Wellenlängenbereich von 1100 nm aufweisen. Dabei soll sich die Fotoempfindlichkeit in dem genannten Bereich nicht sehr stark von der Empfindlichkeit im UV-Bereich unterscheiden. Des weiteren ist es sehr vorteilhaft, wenn man die Möglichkeit hat, die Bestrahlung des Materials visuell zu verfolgen. Aus diesen Gründen ist es notwendig, daß die bei der Bildbelichtung verbliebenen Anteile an Sensibilisierungskomponente durch Bestrahlung über den Gesamtbereich und gegebenenfalls unter zusätzlicher Anwendung von Hitze einer Ausbleichung unterworfen werden können.
In der US-PS 37 69 023 und der deutschen Patenanmeldung P 23 06 353.8 wird beschrieben, daß eine Fotoresist-Zusammensetzung
in einem Bindemittel aus der Gruppe: Hydroxyalkylzellulose, Polyvinylverbindungen,
wie Vinylester, Ketone und Ketoester gelöst wird. Die Grundzusammensetzung, für welche die soeben beschriebenen
Bindemittel, gelöst in einem geeigneten Lösungsmittel, verwendet werden, umfaßt 1) ein N-Vinylmonomeres;
2) wenigstens eine Verbindung, die bei Belichtung freie Radikale erzeugt; 3) Mittel zur Verbesserung der
Lagerbeständigkeit des Produkts aus der Gruppe: Phenole, substituierte Phenole und Triarylverbindungen der
Untergruppe A der Metalle der fünften Gruppe des Periodensystems.
In der soeben beschriebenen Form besitzt die Zusammensetzung eine fotografische Lichtempfindlichkeit von
etwa 0,5 bis 2 mJ/cnV unterhalb von 400 nm. Oberhalb von 400 nm läßt die Lichtempfindlichkeit außerordentlieh
schnell nach und sinkt bei 450 nm auf etwa 0.
Aus der DE-OS 20 41 072, insbesondere Beispiel 36, ist ein Verfahren zur Herstellung von Hologrammen
bekannt, bei dem eine Fotoresistzusammensetzung, die ein Vinylmonomer enthält, in dünner Schicht auf einen
Schichtträger aufgetragen und diese Schicht bildweise belichtet wird, worauf sich eine ganzflächige Bestrahlung
anschließt. In dieser Veröffentlichung werden aber weder die Verwendung eines Sensibilisatorfarbstoffs, der die
Lichtempfindlichkeit im sichtbaren bzw. IR-Wellenlängen-Bereich erhöht, geschweige denn die Verwendung
eines Sensibilisator mit Ausbleicheigenschaften beschrieben oder auch nur nahegelegt.
Außerdem existiert eine umfangreiche Patentliteratur, die die Färb- und/oder Resist-Reaktionen betrifft,
welche sich entwickeln, wenn Kombinationen bestimmter komplexer organischer Amine und halogenhaltiger
Kohlenwasserstoffe in einem geeigneten Bindemittel belichtet und danach entwickelt werden. Die erste Gruppe
dieser Patentschriften ist in Tabelle 1 aufgezählt.
Im allgemeinen werden in diesen Patentschriften trocken arbeitende Zusammensetzungen auf der Basis einer
Kombination von Vinylmonomeren, einschließlich N-Vinylverbindungen, organischen halogenhaltigen Verbindungen
und Arylaminen, die in einem organischen Bindemittel gelöst sind, beschrieben, welche nach Belichtung
und geeigneter Entwicklung eine Farbe erzeugen. In anderen Patentschriften werden ähnliche organische,
lösliche, für Fotoresists geeignete Zusammensetzungen beschrieben, die bei Entwickeln eine Farbe erzeugen
und die durch Behandlung mit organischen Lösungsmitteln für eine Vielzahl von Fotoresist-Zwecken geeignet
gemacht werden können. Eine große Zahl dieser veröffentlichien Patentschriften betrifft Zusammensetzungen,
die Erzeuger von freien Radikalen enthalten, welche entweder direkt bei Belichtung oder infolge einer Erhitzung
oder einer Kombination von optischer Entwicklung und Erhitzung eine Farbe erzeugen. Im allgemeinen
ist die Farbquelle ein komplexes, substituiertes Amin, gekuppelt mit einem Aktivierungs- oder Initiierungsmittel.
Es werden Zusammensetzungen beschrieben, die äthylenisch ungesättigte Monomere und organische halogenhaltige
Verbiadungen umfassen, welche, wenn sie Licht und elektronenstrahlenempfindlichen Materialien
ausgesetzt werden, freie Radikale erzeugen. Andere Patentschriften beziehen sich auf Zusammensetzungen,
welche organische, halogenhaltige Verbindungen und N-Vinylverbindungen im Grundsystem umfassen und
welche Aryl verbindungen bestimmter Metalle zur Verhinderung der Bildung von Wärmeschleiern während der
Entwicklung und Lagerung enthalten. Es werden auch Zusammensetzungen beschrieben, die für Fotoresist-Zwecke
geeignet sind und bei welchen Vernetzungsmittel in verschiedenen Bindemitteln verwendet werden. In
der U.S.-Patentschrift Nr. 33 74 094 wird eine Kombination von N-Vinylverbindungen und Initiierungsmitteln
auf der Basis von freien Radikalen und verschiedene Verfahren zur Schaffung der notwendigen hydrophilenhydrophoben
Bedingungen, um Druckplatten für Flachdruck bzw. Lithographie zu erhalten, beschrieben. In
einer Reihe dieser Patentschriften werden Kombinationen von N-Vinylverbindungen, Aktivierungsmitteln und
bestimmten organischen Aminen beschrieben, die bei Belichtung und geeigneter Entwicklung eine Farbe
erzeugen und die durch Waschen in einem geeigneten Lösungsmittel als Resist verwendet werden können,
wobei jedoch die Farbe erbalten bteibt.
U.S.-Patentschriften, die den Stand der Technik betreffen
3042517
3042519
30 46 125
3042515
30 42517
35 10304
30 46 209
3042519
30 46 125
3042515
30 42517
35 10304
30 46 209
30 56 673
31 64 467
30 95 303
3100 703
3102 810
33 42 603
3102 029
3100 703
3102 810
33 42 603
3102 029
31 06 466
31 09 736
32 72 635
32 84 205
33 42 595
33 77 167
33 77 167
32 85 744
33 42 602
35 33 792
35 33 792
35 39 346 3121632 3121633
31 13 024
32 84 205 3140 948 3140 949 32 72 635 34 45 232
32 85 744
33 42 595 33 42 602 33 42 603 33 42 604 33 59 105 3147117
32 75 443
33 30 659
33 74 094
34 43 945
34 86 898
35 25 616 35 63 749
35 40 45 50 55 60
Obwohl in diesen Patentschriften im allgemeinen die Verwendung von N-Vinylmonomeren als Grundbeig·
standteil einer Zusammensetzung auf der Basis von freien Radikalen mit verschiedenen Zusatzmitteln beschrie-
f| ben wird, wobei einige dieser Zusammensetzungen hauptsächlich zur Bilderzeugung und andere für Resist-
;; zwecke unter Anwendung einer Waschstufe verwendet werden, werden in jedem Fall absichtlich Zusatzmittel
•: 5 für die Farberzeugung zugegeben, mit welchen eine Farbe erzeugt wird, die in dem erhaltenen Produkt - unab-■
hängig davon, ob ein Waschverfahren verwendet wird oder nicht - beibehalten wird.
Die Verwendung von farbigen Verbindungen, Farbstoffen oder Farbstoffbasen bestimmter Klassen, die die
besondere Eigenschaft einer sehr raschen Ausbleichfähigkeit besitzen und infolgedessen den Grundzusammensetzungen
einen ungewöhnlich hohen Grad an spektraler Empfindlichkeit verleihen und das Entfernen des
f ίο Farbeffekts dieser Farbstoffe und Farbstoffbasen durch eine anschließende Ausbleichreaktion möglich machen,
wird jedoch in den in Tabelle 1 aufgeführten Patentschriften weder beschrieben noch nahegelegt.
':] Eine speziellere Gruppe von Patentschriften und -anmeldungen, die den Stand der Technik betreffen, ist in
':] Eine speziellere Gruppe von Patentschriften und -anmeldungen, die den Stand der Technik betreffen, ist in
' der Tabelle 2 aufgeführt.
US-Patentschriften
3000 833
- 2!> 31 02 027
3104 973
35 78 456
3620 748
35 78 456
3620 748
37 12 817
37 69 023
Deutsche Offenlegungsschrift
23 06 353.8
23 06 353.8
In der US-Patentschrift Nr. 31 02 027 werden Farbstoffe und Farbstoffbasen beschrieben, die hauptsächlich
aus der Klasse der Merocyaninfarbstoffe stammen und die von Natur aus bei Belichtung leicht verschwinden,
deren Ausbleichen durch Anwesenheit bestimmter Klassen an organischen halogenhaltigen Verbindungen
jedoch noch wesentlich beschleunigt wird. In Spalte 10 ab Zeile 56 wird beschrieben, daß die Menge an organischer,
halogenhaltiger Verbindung im Verhältnis zu der Menge des Ausbleichfarbstoffs in der Zusammensetzung
von gleichen Gewichtsteilen bis zu 80 Teilen organischer, halogenhaltiger Verbindung pro Teil Ausbleichfarbstoff
variieren kann, daß jedoch auch bis zu 10 000 Gew.-Teile des Ausbleichbeschleunigers pro Gew.-Teil
Γ des Ausbleichfarbstoffs anwesend sein können.
In der US-Patentschrift Nr. 31 04 973 werden ebenfalls Farbstoffe beschrieben, deren Farbe normalerweise
bei Belichtung verschwindet, deren Ausbleichen jedoch durch Anwesenheit bestimmter Klassen νο·ϊ organischen,
halogenhaltigen Verbindungen weiter beschleunigt wird. Die in dieser Patentschrift offenbarten Farbstoffe
stammen hauptsächlich au;; der Cyaninklasse. In Spalte 8 ab Zeile 5 dieser Patentschrift wird ebenfalls
beschrieben, daß die Menge der organischen, halogenhaltigen Verbindung (Ausbleichbeschleuniger) zwischen
1 und 10 000 Gew.-Teilen pro Gew.-Teil an Ausbleichfarbstoff schwanken kann.
In der US-Patentschrift Nr. 36 20 748 sind Farbstoffe beschrieben, die in Anwesenheit von N-Vinylmonomeren
und organischen halogenhaltigen Verbindungen verwendet werden und die auch zum Ausdehnen des Spektralbcreichs
der fotografischen Empfindlichkeit der Grundzusammensetzung dienen. Es wird jedoch nicht
erwähni, daß diese Farbstoffe Ausbleicheigenschaften besitzen müssen.
Ab Zeile 24 bis etwa Zeile 40 in Spalte 5 dieser Patentschrift wird außerdem angegeben, daß die Sensibilisierungsmittel
in Mengen von 0,1 mg bis 2,0 mg pro Gramm cies Monomeren verwendet werden sollten, um einen
maximalen Grad an Sensibilisierung bei einem Minimum an Färbung des Hintergrundes zu erreichen und daß
bei zu großen zugegebenen Mengen die Sensibilisierungsmittel dazu neigen, den Hintergrund zu färben,
wodurch Einzelheiten des erhaltenen Bildes auf diesem gefärbtem Hintergrund verlorengehen. Es sollte außerdem
beachtet werden, daß in dieser Patentschrift ein Bilderzeugungssystem beschrieben wird, bei welchem alles
versucht wird, um die entwickelte Farbe zu erhalten. Es wird darin keinerlei Hinweis auf Fotoresist-Eigenschaften,
die Verwendung eines Abwaschverfahrens odei die Notwendigkeit für ein Ausbleichen der Farbe gegeben.
Die gleichen Bemerkungen treffen auf die US-Patentschriften Nr. 35 78 456,37 12 817 und 37 69 023 sowie auf
die deutsche Offenlegungsschrift 23 06 353.8 zu. Auch hier werden Farbstoffe und Farbstoffbasen fur optische
Sensibilisierungszwecke verwendet.
In den Arten von Zusammensetzungen, die in diesen genannten Patentschriften verwendet werden, werden
diese normalerweise verschwindenden Farbstoffe jedoch nicht nur für optische Sensibilisierungszwecke, sondem
auch zum Verstärken der Natur und des Grades der dauerhaft gebildeten Farbe verwendet. In diesen
Beschreibungen ist k rnerlei Hinweis auf die Notwendigkeit von Ausbleicheigenschaften, den besonderen Vorteil
von Ausbleicheigenschaften und die Notwendigkeit, die Farbstoffe in einer anschließenden Stufe auszubleichen,
um ein gewünschtes Endergebnis zu erhalten, enthalten.
Aulgabe der Erfindung ist daher ein Verfahren zur Herstellung eines Hologramms, bei dem insbesondere die
dafür verwendete Folorcsistzusammensetzung bis hinauf zu einer Wellenlänge von etwa 1100 um lichtempfindlich
ist, diese Empfindlichkeit der Empfindlichkeit im UV-Bereich vergleichbar ist, und die störende Farbe des
für die Scnsibilisierung verantwortlichen Farbstoffs nach der Belichtung einfach zum Verschwinden gebracht
werden kann.
Der Gegenstand der vorliegenden Erfindung wird durch den obigen Anspruch 1 definiert. Die Ansprüche 2
bis 11 geben bevorzugte Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens wieder.
Die für das erfindungsgemäße Verfahren am besten geeigneten Aktivierungsmittel in der Fotoresist-Zusammensetzung
sind substituierte Alkyl- und Arylverbindungen, die Jod enthalten, Sulfonyljodide, Sulfenyljodide
und Kombinationen von diesen. Typische Beispiele sind Jodoform, Tetrajodkohlenstoff, Tetrajodethylen, Arylsulfonyljodide,
Arylsulfenyljodide, Aryljodide, wie σ,σ-Dijod-toluol und (I)-Dijodmethylfuran.
Für das vorliegende Verfahren geeignete Ausbleich-Sensibilisatorfarbstoffe, die entweder allein oder in Kombination
verwendet werden können, sind a) substituierte Anthrachinone; b) zweikernige Merocyanine, quarternisierte
Merocyanine, quarternäre Salze, die von Merocyaninen abgeleitet sind. Styryl- und Butadienall'arbstoffe,
die aus quarternären Salzen von Merocyaninen hergestellt sind, Pyrrolocyanine von quarternären Salzen
von Merocyaninen, Hemicyanine von quarternären Merocyaninen; c) Cyaninbasen und -farbstoffe, insbesondere
die Sulfa'«, Sulfonate oder Jodide solcher Farbstoffe, einschließlich der symmetrischen und unsymetrischen
Cyanine, symmetrischen und unsymmetrischen Pyrrolocyanine, Hemicyanine, Carbocyanine, Styrylcyaninc,
Vinylenhomologe von Styrylcyaninen; d) Salze von 9-Phenyl-fluoren-9-olen; und e) Mischungen von diesen.
-■!'
Alle diese Farbstoffe, Farbstoffbasen und Farbstoffsalze zeichnen sich dadurch aus, daß ihre Farbe relativ
leicht verschwindet, wenn sie belichtet werden, und zwar nicht nur bei Belichtung mit der Wellenlänge des
Maximums der anfänglichen Absorption, sondern auch mit ultraviolettem Licht, insbesondere bei Einwirkung
von Hitze, und daß die Geschwindigkeit des Ausbleichens bis zur Farblosigkeit durch Anwesenheit der oben
aufgerührten Aktivierungsmittel drastisch erhöht wird.
Wenn die Farbstoffe mit Ausnahme der substituierten Anthrachinone in Form von Salzen vorliegen, sind die
Sulfate, Sulfonate und Jodide nicht nur aktiver in der Erhaltung der fotografischen Empfindlichkeit der Fotoresist-Zusammensetzungen,
sondern die Ausbleichgeschwindigkeit wird durch die Anwesenheit der oben beschriebenen Aktivierungsmittel außerdem drastisch erhöht. Farbstoffsalze auf der Basis von Säuregruppen,
wie Chlorid, Perchlorat, Acetat, Oxalat und dergleichen sind nicht nur beständiger gegen vollständiges Ausbleichen,
sondern wirken auch bei weitem nicht in dem Maß wie die bevorzugten Aktivierungsmittel als Sensibilisierungsmittel
bei der Weilenlänge der Spitzenabsorption. Die substituierten Anthrachinone sind am wirksamsten,
wenn sie nicht in Salzform verwendet werden. Die schnelle Ausbleicheigenschaft ist nicht nur für die Verwendung
der erfindungsgemäß hergestellten Hologramme notwendig, sondern scheint aus unbekannten Gründen
auch für die Erhaltung der vollen fotografischen Empfindlichkeit der gesamten Zusammensetzung von
äußerster Wichtigkeit zu sein.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren werden außerordentlich hohe fotografische Empfindlichkeiten über
einen äußerst breiten Wellenlängenbereich, d. h. bis zu einer Wellenlänge von wenigstens 1100 nm erzielt, und
es ist möglich, durch Behandlung mit Strahlungsenergie verschiedener Art die gesamte Farbe in den Nicht-Bildtliichen
auszubleichen. Damit wird die Herstellung von Interferenzmustern unter Verwendung von Lasern, bei
welchen es bei der Herstellung von Hologrammen ankommt, in sehr guter Weise möglich, wobei es gleichgültig
ist, ob das Fotoresist durch Naßentwicklung oder durch vollständig trockene Verfahren bearbeitet wird, z. B.
durch einfache Belichtung, gefolgt von Erhitzung. Es können sowohl ein- als auch dreidimensionale Hologramme
hergestellt werden.
Laser, welche den Wellenlängenbereich von 320 bis 1100 nm umfassen, d. h. den Bereich der Empfindlichkeit
dieser modifizierten Fotoresistzusammensetzungen, sind bekannt. Sie umfassen unter anderen die folgenden:
den Stickstoffgaslaser. den Helium-Cadmium-Laser, den Argonionenlaser, den Helium-Neon-Laser, den Kryptongaslaser,
die Laser des Yttrium-Granat-Typs, die gegebenenfalls mit Neodym dotiert sein können und die allgemein
als »YAG«-'.aser bezeichnet werden und den Yttrium-Aluminiumoxyd-Laser, gegebenenfalls modifiziert
mit Neodym, der allgemein als »YALO«-Laser bezeichnet wird. Farbstofflaser sind in einem solchen Maß
abstimmbar, daß praktisch jede Wellenlänge im sichtbaren Bereich erhalten werden kann. Eine noch größere
Flexibilität ist durch Frequenzverdopplung möglich. Zu diesem Zweck wird ein spezieller klarer Kristall verwendet,
der in den Weg des Laserstrahls gebracht wird und daher die Fähigkeit hat, die Fi ;quenz der Laserstrahlung
zu verdoppeln, wodurch die Wellenlänge, bei welcher der ausgesandte Lichtstrahl wirksam ist. halbiert
wird.
Ein großer Vorteil der Lasertechnologie - insbesondere dann, wenn es sich um ein hochempfindliches Fotoresist
handelt - besteht in der außerordentlichen Geschwindigkeit, mit welcher echte Information durch eine
Kombination von Abtast- und Modulierverfahren auf die empfindliche Oberfläche kopiert werden kann. Aufarund
der außerordentlich kleinen Punktgröße, zu der ein Laserstrahl komprimiert werden kann, wobei er dennoch
seine außergewöhnliche große Kraft behält, erhält man leicht Kopiergeschwindigkeiten von mehreren
Quadratfuß pro Minute, zusammen mit einer außerordentlichen Auflösung von manchmal mehr als etwa 1000
Linien pro mm.
Die Fotoresist-Zusammensetzung, welche den gewünschten Sensibilisatorfarbstoff oder die gewünschte
Kombination von Sensibilisatorfarbstoffen enthält, wird in einem geeigneten Lösungsmittel gelöst und dann in
einer sauberen Atmosphäre nach bekannten Verfahren auf einen Schichtträger aufgetragen, um eine dünne,
außerordentlich gleichmäßige Fotoresistschicht zu ergeben. Dann wird mit einem geeigneten Laserstrahl
belichtet, um das Hologramm zu erhalten. In einigen Fällen reicht ein kurzes Erhitzen auf Temperaturen von
eiwa 100 bis 1600C nach dem Belichten aus, um das notwendige Reliefbild für das Hologramm zu erhalten.
Die für das erfindungsgemäße Verfahren geeigneten Materialien und das allgemeine Verfahren, daraus verwendbare
Zusammensetzungen herzustellen, sind in den Tabellen 3 bis 9 beschrieben, die ohne Erläuterung
verständlich sind. In Bezug auf Tabelle 3 ist zu sagen, daß alle Bestandteile der Zusammensetzung, mit Ausnahme
des Sensibilisatorfarbstoffs, vor Zugabe des Harzes in das Lösungsmittel für das Harz gegeben werden.
Sobald die Lösung aus allen diesen Reaktionsteilnehmern mit Ausnahme der Sensibilisierungskomponente vorliegt,
wird diese Komponente in einem geeigneten Lösungsmittel unter solchen Lichtbedingungen, daß eine
vorj -itige Belichtung vermieden wird, dazugegeben, wonach die Zusammensetzung dann in Glasbehältergegeben
wird, die entweder mit schwarzer Farbe gestrichen sind oder die sich in schwarzen, vollständig lichtundurchlässigen
Polyetyhlenbeuteln befinden. In den genannten Tabellen werden alle Bestandteile der Grundzusam-
Kj mensetzung mit Ausnahme der Sensibilisierungskomponente ausführlich beschrieben. Die Sensibilisierungskomponenten
werden aus der Gruppe: a) substituierte Anthrachinone, b) Merocyanine und Abwandlungen von
diesen, c) Cyaninfarbstoffe und -farbstoffbasen unter besonderer Berücksichtigung der Sulfonate, Sulfate und
Jodide, wobei diese Bedingung auch für die Farbstoffsalze der Merocyanine gilt, und d) ähnliche Salze der 9-Phenyl-fluoren-9-ole
gewählt. Bestimmte Farbstoffe und der allgemeine Aufbau dieser Sensibilisatorfarbstoffe
werden in den Beispielen genannt.
Die beschriebenen Sensibilisierungskomponenten weisen bestimmte einzigartige Eigenschaften auf, wenn
sie in Zusammenhang mit den bereits genannten anderen Materialien und Verfahren verwendet werden. Die
spektralen Ahsnrntinnsmaxima sind außerordentlich scharf und schmal, viel schärfer und schmäler, als wenn
Farbstoffe mit schlechten oder ohne Ausbleicheigenschaften verwendet werden; es werden wesentlich höhere
Anteile als üblicherweise für die spektrale Sensibilisierung benötigt; das Grundfotoresist wird bei oder nahe der
Spitzenabsorption der Se.isibilisierungskomponente sensibilisiert; und es gibt Anzeichen dafür, daß diese Komponente
einen wesentlichen Einfluß auf den Reaktionsmechanismus ausübt.
Die Folgerung, daß der Sensibilisatorfarbstoff einen wesentlichen Bestandteil für den Reaktionsmechanismus
darstellt, ergib·, sich nicht nur aus den obigen Angaben, sondern auch aus einer Untersuchung der Breite der
Absorptionsmaxima bei Zugabe der Sensibilisierungskomponente zu den genannten Zusammensetzungen im
Vergleich zu der Breite der Absorptionsmaxima dieser Komponente selbst, wenn diese in einem Lösungsmittel,
wie Methanol, Methylenchlorid und dergleichen, gelöst und nicht mit den anderen Komponenten, aus welchen
sich die verwendeten Zusammensetzungen zusammensetzen, gemischt ist. Dieser Vergleich wird durch Messen
des Nanometerbereichs von äquivalenten Konzentrationen in den obigen Zusammensetzungen und in Lösungs-
}0 m'teln, wie Methanol, durchgeführt. Die Breite des Maximums wird auf einer Höhe von 75% der Gesamtabsorption
des Maximums gemessen. Wenn sich die Sensibilisierungskomponente in den genannten Zusammensetzungen
befindet, beträgt die Maximabreite im allgemeinen etwa 5 bis 25 Nanometer, während man be: Messungen
von Lösungen mit äquivalenten Konzentrationen,jedoch ohne Anwesenheit der übrigen Komponenten,
Maximabreiten von etwa 20 bis 50 Nanc.neter, manchmal sogar bis zu 100 Nanometer, erhält. Außerdem ist
bei den Absorptionswellenlängen das Maximum selbst breit und etwas ungenau, verglichen mit der außerordentlichen
Schärfe der Spitzenabsorption des Sensibilisatorfarbstoffs, wenn er Teil einer der im erfindungsgemäßen
Verfahren verwendbaren Zusammensetzungen ist.
Tabelle 3 | Bestandteil | Mengenbereich | bevorzugter Mengenbereich |
G rundzusammensetzung | N-Vinylmonomeres (Tabelle 4) | 200- 600 g | 300-350 g |
Nr. | Jodhaltige Aktivierungsmittel (Tabelle 5) |
200- 500 g | 250-300 g |
1. | Phenolstabilisierungsmittel (Tabelle 6) |
20- 60 g | 30- 35 g |
2. | Harzbindemittel (Tabelle 7) | 400-100Og | 400-600 g |
3. | Sensibilisierungskomponente (Tabelle 8) |
2-10 g pro 100 g des Monomeren |
5 g pro 100 g des Monomeren |
4. | |||
5. |
Lösungsmittel (Tabelle 9)
5-11 1
9-10 1
Der SensibilisatorfarbstofTwird zum Schluß in Form einer Lösung zugegeben, wobei ein hochpolares und
gewöhnlich aprotisches Lösungsmittel oder eine Mischung solcher Lösungsmittel und Kohlenwasserstoffe, wie
Xylol oder Toluol, verwendet werden. Geeignete Lösungsmittel sind Alkohole, Methylenchorid, N-Methylpyrrolidon,
Dimethylformamid, Tetrahydrofuran, Acetonitril, Xylol, Toluol, Chlorbenzol allein und in Mischungen.
Für substituierte Anthrachinone wird als Lösungsmittel gewöhnlich Chlorbenzoi, gegebenenfalls unter
Zugabe von entweder N-Methylpyrrolidon oder Dimethylformamid, verwendet. Die anderen Klassen von Farbstoffen
oder Farbstoffsalzen werden in Methylenchlorid, Dimethylformamid oder N-Methylpyrrolidon gelöst.
Die Farbstofflösung wird vorzugsweise in einer Konzentration von 1 % zugegeben.
>Ά Tabelle 4
ε Die polymerisierbaren Monomeren (N-Vinylverbindungen)
Il A) N-Vinylamir;2 (heterocyclische und Arylverbindungen) 5
I I. N-Vii,ylindol
2. N-Vinylcarbazol
3. N-Vinylphenyl-tf-naphthylamin
4. N-Vinylpynol in
(J 5. N-Vinyldiphenylamin (stabilisiert mit 0,1 % Cyclohexylamin)
Jj U) N-Vinylamide und -imide
N-Vinylsuccinimid
k! 2. N-Vinylphthalimid
I« 3. N-Vinylpyrrolidon
& A. N Vinyl-N-phcnylacetamid
L; 5. N-Vinyl-N-methylacetamid
I 6. N-Vinyldiglycolimid 20
^ 7. N-Vinylimida.7ol
■fa Tabelle 5
?;'■ Ij
■'$ llalogenhaltige Aktivierungsmittel
j], I. Jodoform
^" 2. TetrajodkohlenstolT
I 3. Tetrajodäthylen j)o
1 4. Tribromjodmethan
''& 5. »,ff-Dijodtoluol
Μ 7. Arylsulfonyljodide
I 8. Arylsulfenyljodide 35
1 9. (l)-Dijodmethylfuran
I Tabelle 6
(I Stabilisierungsmittel
Geeignete Stabilisierungsmittel sind z. B. Phenolverbindungen, wie sie in der US-Patentschrift Nr. 33 51 467
beschrieben werden und die von der allgemeinen Formel:
I 45
a oh
Qn
dargestellt werden können,
worin Q eine oder mehrere Hydroxylgruppen, Aminogruppen, Alkyl- und/oder Allylgruppen bedeuten kann
und η eine ganze Zahl von wenigstens 1 und nicht mehr als etwa 5 bedeutet. Wenn η größer als 1 ist, brauchen 55
nicht alle Gruppen Q gleich zu sein.
Beispiele Tür derartige Verbindungen sind:
Beispiele Tür derartige Verbindungen sind:
1. 2,6-Di-tert.-butylcresol
2. p-Aminophenol 60
3. Brenzkatechin
4. 2,4-Di-tert.-pentylphenol
5. 2,5-Bis-(I,l-dimethylpropyl)-hydrochinon
6. 2,6-Di-tert.-butyl-p-phenol
7. tert.-Butylhydroxyanisol
Harzbindcmittel | Polyvinylbutyral |
1. | Polyvinylalkohol-Vinylacetat |
2. | Polyvinylacetat |
3. | Vinylacetat-Vinylchlorid-Mischpolymerisat |
4. | Polyvinylpropionat |
5. | Polyvinylbutyral |
6. | Mischpolymerisat von Polystyrol und Polysulfon |
7. | Polyvinylketon |
8. | Mischpolymerisat von Polyvinylbutyral, Polyvinylalkohol und Polyvinylacetat |
9. | Hydroxypropylzellulose |
10. | Ätyhlzellulose |
11. | Zelluloseacetatbutyrat |
12. |
TU U ~ i 1., O
lauLHL υ
20
20
Spektrale Scnsibilisierungs-Ausbleichkomponente
Farbstoffe, Farbstoffbasen und Farbstoffsalze der folgenden Klassen:
Farbstoffe, Farbstoffbasen und Farbstoffsalze der folgenden Klassen:
Merocyanine (US-Patentschrift Nr. 31 02 027)
Cyanine (US-Patentschrift Nr. 31 04 973)
Substituierte Anthrachinone
9-Phenyl-fluoren-9-ole (US-Patentschrift Nr. 30 00 833).
Substituierte Anthrachinone
9-Phenyl-fluoren-9-ole (US-Patentschrift Nr. 30 00 833).
Wenn Farbstoffsalze verwendet werden, werden sie aus der Gruppe: Jodide, Sulfate und Sulfonate genommen.
Chlorate, Perchlorate, Phosphate. Oxalate, Acetate, Citrate, Tartrate sind wirkungslos. Chloride und Bromide
besitzen einen gewissen Wirksamkeitsgrad, jedoch einen viel schwächersn als die Jodide, Sulfate und Sulfonate.
Die substituierten Anthrachinone werden nicht in Form ihrer Farbstoffsalze verwendet.
Lösungsmittel (alleine und in Mischungen)
1. | Chloroform |
2 | Cyclohexanon |
3. | Toluol/Äthanol 3 : 2 |
4. | Benzol/Methanol 1 : 1 |
5. | Butylacetat |
6. | Acetonitril |
7. | Alkylalkohole bis Amylalkohol |
8. | Methylenchlorid |
9. | Cyclohexanol |
10. | Azeotrope Gemische aus Alkohol und Wasser |
11. | Methyläthyl keton |
12. | Methylbutylketon |
13. | Methylcellosolve |
14. | N-Methylpyrrolidon |
15. | Dimethylformamid |
16. | Cyclische Äther |
Die Flüssigkeit, die auf der Basis der in Tabelle 3 aufgeführten Grundzusammensetzung hergestellt worden
ist, wird unter Bedingungen, bei welchen eine vorzeitige Belichtung vermieden wird, nach bekannten Verfahren,
wie unter Verwendung von Rakeln, mit Draht umwickelten Abstreifstäben, durch Tauch-, Schleuder- und/oder
Sprühbeschichten, auf eine geeignete Oberfläche aufgetragen. Die Naßschichtdicken werden je nach der beab-
sichtigten Verwendung gewählt, wobei die Naßdicken zwischen etwa 0,0127 und 0,127 mm betragen. Nach dem
Beschichten wird die Probe dann in einem Strahlungsofen etwa 60 bis 120 Sekunden lang bei etwa 30 bis 40°C
getrocknet. Danach werden die Proben mit einer geeigneten Lichtquelle bildweise belichtet. Da Laser als Lichtquelle
verwendet werden, wird das Material sorgfältig sensibilisiert, so daß die Spitzenabsorption der Sensibilisierungskomponente
bei oder nahe der Wellenlänge des von dem Laser ausgestrahlten Lichts liegt. Nach der
Belichtung werden die Proben in einem Strahlungsofen bei Temperaturen von etwa 100 bis 1600C etwa 60
Sekunden lang erhitzt und dann durch Besprühen mit Methylalkohol entwickelt. Der Sprühentwicklungsvorgang
dauert etwa 10 Sekunden pro 0,0254 mm der ursprünglichen Naßdicke. Nach dem Entwickeln werden die
Proben dann etwa 60 Sekunden lang bei 100 bis 16O0C hitzebehandelt.
Bei der normalen Herstellung von Hologrammen durch das erfindungsgemäße Verfahren führt eine volle Ent- ; ■
wicklung in der oben beschriebenen Weise manchmal zu Verformungsschw-ierigkeiten infolge einer schlechten \J_
Haftung auf einem bestimmten transparenten Träger. Bei den für diesen Zweck üblicherweise verwendeten Trä- *i
gern handelt es sich um Glas, Quarz und Kunststoffmaterialien, und der Grad der Haftung kann nicht nur auf- £3
grund der unterschiedlichen Natur der Oberfläche dieser transparenten Träger, sondern auch infolge geringer 5 |8
Veränderungen des Behandlungsverfahrens schwanken. Dieses Problem kann vermieden werden, indem nach §|
der entsprechenden Belichtung die Naßentwicklung in abgekürzter Zeit durchgeführt wird, so daß das nicht ||
belichtete Resist zwischen den belichteten Flächen bei der Entwicklung nicht vollständig entfernt wird. Es ||
wurde außerdem gefunden, daß man mit Hilfe dieses abgewandelten Verfahrens Hologramme mit einer sehr m
hohen Auflösung herstellen kann. Während für die normale Vollentwicklung nach der ersten Hitzebehandlung 10
etwa 10 Sekunden pro 0,0254 mm der ursprünglichen Naßdicke der Resistschicht notwendig sind, erhält man bei B
Anwendung einer Entwicklungszeit von nicht mehr als etwa 5 Sekunden, vorzugsweise von nicht mehr als 3 I
Sekunden, bei dem Sprühentwicklungsverfahren als Folge davon, daß in den Vertiefungen zwischen den belich- ■:;
teten Flächen eine nicht belichtete Resistschicht in einer geringen und gleichmäßigen Dicke zurückbleibt, ein £
ausgezeichnetes Reliefmuster. Unter diesen Bedingungen wird das Problem der Verformung vermieden, das der 15 %
Grad der Haftung auf dem transparenten Träger keine Schwierigkeiten bereitet. J|
Hologramme des Reliefphasentyps können jedoch auch hergestellt werden, indem die Naßentwicklung und '&
die anschließende Hitzebehandlung weggelassen wird. Dadurch sind die Hologramme des Reliefphasentyps bei ψ·
Anwendung geeigneter Abtastverfahren unmittelbar nach der ersten Hitzebehandlung verwenduRgsfertig. %
Die Belichtung mit Laserstrahlen wird normalerweise nach bekannten Verfahren durchgeführt. Bei Verwen- 20 j
dung der gewöhnlichen Belichtungsart durch Lascrabtast-Laseraufzeichnungs-Verfahren wird die gewünschte :■;
Vorlage mit einem Helium-Neon-Laser abgetastet. Das von der Oberfläche der abzutastenden Vorlage reflektierte
Licht wird durch geeignete Linsen- und Reflektorsysteme in eine optische Kodiervorrichtung geleitet, die
einen Modulator betreibt. Der Laseraufzeichnungsstrahl wird in einer solchen Weise durch einen Modulator
geleitet, daß der Strahl in einer geeigneten Richtung X-Y durch geeignete, sich bewegende Linsen- und Reflektorsysteme
geschickt wird, um die Vorlage, die vorher mit dem Helium-Neon-Laser abgetastet worden ist, zu
reproduzieren. Aufgrund dieser Anordnung kann das ursprüngliche Bild entweder vergrößert, verkleinert oder (
in der gleichen Größe wie das Original wiedergegeben werden. Bei verschiedenen Techniken zum Abtasten in
geeigneten Geschwindigkeiten werden entweder sich drehende Spiegel verwendet, wobei sich die abzutastende
Oberfläche in einer festgelegten Geschwindigkeit bewegt - hier handelt es sich um die übliche Praxis bei einem
Flachformabtaster -, oder es werden die Drehspiegel weggelassen und die zu kopierende Oberfläche wird auf
eine Trommel mit sehr hoher Drehzahl aufgebracht, während sich die Spiegel- und Reflektoranordnung in einer
festgelegten Geschwindigkeit längs dieser Trommel bewegt.
Die Herstellung der Hologramme bedingt im allgemeinen die Verwendung eines Interferometrie-Verfahrens.
Ein Criginaibiid wird mit einem Laserstrahl abgetastet, wie bereits beschrieben, und das bei diesem Abtasten
reflektierte Licht wird dann in eine optische Kodiervorrichtung geleitet, die einen Transformiermechanismus
des »Fourier«-Typs umfaßt, mit dessen Hilfe das Bild in ein Muster von Interferenzringen zerlegt wird. Dieses
Muster von Interferenzringen wird dann durch Modulationsverfahren, wie sie bereits beschrieben wurden, auf
eine Oberfläche aufgebracht. Diese Interferenzringe, die dem bloßen Auge inhaltslos erscheinen, werden dann
entweder durch Abtasten mit einem Laserstrahl oder durch Bestrahlen der gesamten Oberfläche mit einem verbreiterten
Laserstrahl, der vorzugsweise stationär sein sollte, oder in einigen Fällen durch Verwendung von weißem
Licht und/oder fluoreszierendem Licht, um das Bild wiederherzustellen, das infolge der Anwesenheit des
Interferenzmusters auf dem Hologramm entwickelt wird, als echte Information abgelesen.
Bei so gut wie allen Interferometrieverfahren, bei welchen Hologramme hergestellt werden sollen, gleichgültig,
ob dabei eine Naß- oder Trockenentwicklung angewendet wird, ist es im allgemeinen notwendig, daß das interferometrische
Muster im wesentlichen farblos und transparent ist, unabhängig davon, ob es sich bei dem
Hologramm um ein dünnes, flaches Produkt oder einen dicken Film handelt. Bei dem dünnen, flachen Typ wird
das Hologramm im allgemeinen durch Transmission in ein echtes Bild zurückverwandelt, wobei geeignete
Lichtquellen und geeignete Empfangerflächen verwendet werden; manchmal erfolgt die Zurückverwandlung
auch durch Reflektion. Bei dem Typ des dicken Films wird in jedem Fall ein Reflektionsverfahren angewendet,
wobei Licht bei geringer oder ohne Absorption durch das Hologramm geleitet wird und auf die reflektierende
Fläche auf dem Boden des Hologramms auftrifft, die das Licht dann wieder zurückwirft, so daß das Licht also
zweimal durch das Hologramm geleitet wird. Falls daher eine Farbe oder Trübung anwesend ist, wird die Lichtbrechung
und die Wiederherstellung des echten Bildes aus dem interferometrischen Bild stark beeinträchtigt.
Die Materialien, die nach dem in der vorliegenden Beschreibung beschriebenen Verfahren hergestellt worden
sind, besitzen nicht nureine umfangreiche spektrale Empfindlichkeit, sondern es kann darausjede darin verbliebene
Farbe, die durch die genannten Herstellungsverfahren erzeugt worden ist, durch Ausbleichen mit Licht,
gegebenenfalls unter zusätzlicher Anwendung von Hitze, entfernt werden. Das üblichste Verfahren zum Ausbleichen
besteht in einer Bestrahlung über den gesamten Bereich mit ultraviolettem Licht aus einer Quecksilbcrlichtquelle,
wobei Licht im Bereich von 300 bis 400 nm am wirksamsten ist. Wenn ultraviolettes Licht verwendet
wird, erfolgt die Belichtung über den gesamten Bereich im allgemeinen in einer Größenordnung von
etwa 500 bis 2000 Millijoule pro cm2, falls die Probe bei Zimmertemperatur ausgebleicht wird. Geeignete Lichtquellen
sind Qnecksilberlampen mit niedrigem bis mittlerem Druck, Hochdruckquecksilberlampen, Schwarzlichtfluoreszenzlampen,
»GRS«-Sonnenlampen mit reflektierenden Oberflächen und dergleichen. Wenn die Probe wiihrend des Ausbleich vorgangs auf eine Temperatur zwischen etwa 80 und 1200C erhitzt wird, wird die
Lichtmenge, die zum vollständigen Ausbleichen der zurückgebliebenen Farbe notwendig ist, auf etwa ein Fünfte!
der Menge reduziert, die notwendig ware, wenn die Probe auf Zimmertemperatur gehalten wird.
Ähnliche Ergebnisse hinsichtlich des Ausbleichens kann man erhalten, wenn man Licht verwendet, das der
Wellenlänge der Spitzenabsorption der Ausbleich-Sensibilisierungskomponente entspricht Die Belichtung
über den gesamten Bereich bei dieser Wellenlänge kann gemäß dem oben in Zusammenhang mit ultraviolettem
Licht beschriebenen Verfahren gegebenenfalls unter zusätzlicher Anwendung von Hitze durchgeführt werden,
wobei etwa die gleiche Energiemenge zur Belichtung notwendig ist, oder es kann ein Laserstrahl dergewünschten
Wellenlänge nach einem sogenannten »Multi-Abtastverfahren« verwendet werden, gegebenenfalls ebenfalls
unter gleichzeitiger Anwendung von Hitze, um das gleiche Ergebnis auf der Trägerprobe zu erzielen.
Infolge dieses Ausbleichens erscheint das Hologramm farblos und transparent, wenn es mit dem bloßen Auge
im rechten Winkel betrachtet wird, Bilder können jedoch zum Betrachten oder für andere Zwecke sichtbar
gemacht werden, wenn das Hologramm mit Licht einer geeigneten Wellenlänge beleuchtet wird und dabei ein
geeigneter Beleuchtungs- und Betrachtungswinkel berücksichtigt wird.
Infolge der außerordentlichen Vielfalt von Laserabtast-Laseraufzeichnungsverfahren und Holografieverfahren,
die entwickelt und in der Literatur beschrieben worden sind, werden Laserstrahlen von vielen verschiedenen
Wellenlängen nicht nur für Abtastzwecke, sondern insbesondere für Aufzeichnungs- und Ablesezwecke
benötigt. Wie bereits erwähnt, ist es aufgrund der Empfindlichkeit der beschriebenen Zusammensetzungen für
einen außerordentlich breiten Wellenlängenbereich möglich, diese Verfahren auf der Grundlage von Laserstrahlen
zu nutzen.
Sensitometrische Ergebnisse, die durch geeignete Belichtung der im erfindungsgemäßen Verfahren
verwendbaren Zusammensetzungen erhalten wurden
verwendbaren Zusammensetzungen erhalten wurden
Die erfindungsgemäß erhaltenen Ergebnisse werden hauptsächlich in Form von Beispielen wiedergegeben.
In diesen Beispielen wurde die folgende Grundzusammensetzung verwendet:
Vergleichszusammensetzung (ohne Ausbleich-Sensibilisierungskomponente); die getrocknete, belichtete,
entwickelte und fixierte Zusammensetzung ist transparent und im sichtbaren Bereich praktisch farblos.
10,944 kg einer Mischung von 70 Teilen Äthylalkohol,
15 Teilen Propylalkohol und 15 Teilen Butylalkohol,
576 g Polyvinylbutyral
31,92 g 2,6-Di-tert.-butyl-p-cresol
319,2 g N-Vinylcarbazol
15 Teilen Propylalkohol und 15 Teilen Butylalkohol,
576 g Polyvinylbutyral
31,92 g 2,6-Di-tert.-butyl-p-cresol
319,2 g N-Vinylcarbazol
268,8 g Jodoform.
Die Grundzusammensetzung sowie die Zusammensetzungen aller anschließenden Beispiele, die Ausbleich-Sensibilisierungskomponente
enthielten, wurden in einer Naßdicke von 0,038 mm auf Kupfer (28,35 g) aufgetragen
und dann 90 Sekunden lang bei 35°C ofengetrocknet. Dann wurden die Proben bei den in den Beispielen
angegebenen Weilenlängen belichtet, und zwar unter Verwendung einer monochromatischen Präzisionslichtquelle
mit einer Bandbreite von 5 nm oder von Interferenzfiltern mit ähnlichen Durchlaßbandbreiten von 5 nm.
Nach dem Belichten wurden die Proben 1 Minute lang bei 160°C erhitzt und dann 15 Sekunden lang durch
Besprühen mit Methylalkohol entwickelt. Nach dem Entwickeln wurden sie 60 Sekunden lang bei 1000C hitzebehandelt
und anschließend durch Besprühen mit einer Mischung von 10% Chromsäuren und 20% Schwefelsäure
in Wasser bei einer Temperatur von 65 0C während einer Dauer von 120 Sekunden geätzt, wobei diese Zeit
normalerweise mehr als ausreichend ist, um das Kupfer vollständig durchzuätzen. Das Kupfersubstrat befand
sich auf einer opaken Polyesterunterlage, so daß diejenigen Teile des Kupfers, die durch die Resistschicht
geschützt waren, unverändert blieben. Es wurden verschiedene Belichtungszeiten durchprobiert, so daß eine
Anzahl von Proben mit abgestuften Belichtungszeiten hergestellt wurden, wodurch die Mindestbelichtungszeit,
die zur vollständigen Wiedergabe der fotomechanisch geätzten Teile notwendig ist, bestimmt werden konnte.
Diese entspricht dem Wert in Millijoule pro cm2, der in den Tabellen der Beispiele aufgeführt ist.
In den Beispielen 1 bis 5 werden die Eigenschaften dieser Grundzusammensetzung bei Belichtung mit verschiedenen
Wellenlängen sowie die gemessene Lichtempfindlichkeit angegeben. Bei allen darauffolgenden Beispielen
(Beispiel 6 bis 90) wurde eine Ausbleich-Sensibilisierungskomponente in den in diesen Beispielen angegebenen
Mengen zugegeben; in den Beispielen sind die Wellenlänge der besonderen Empfindlichkeit, die der
Grundzusammensetzung durch Zugabe der Sensibilisierungskomponentc verliehen wurde, und die Lichtempfindlichkeit
in Millijoule pro cm2, die man bei dieser Wellenlänge erhält, angegeben. Wie bereits erwähnt, wurde
die Sensibilisierungskomponenie unter geeigneten Lichtverhältnissen in Form einer 1 %igen Lösung in einem
geeigneten Lösungsmittel gemäß Tabelle 9 zugegeben.
Die Wirkung bei Verwendung von anderen Vinylmonomeren in der gleichen Menge anstelle des N-Vinylcarbazols,
wobei die Zusammensetzung gemäß Beispiel 11 als Grundzusammensetzung verwendet wurde, wird in
den Beispielen 91 bis 95 beschrieben. Bei einigen dieser Monomeren wirkt die Anwesenheit von Sauerstoff inhibierend.
Bei normaler Platten- und Rahmenbelichtung kann die Wirkung des Sauerstoffs ausgeschaltet werden,
indem die Belichtung in einem Vakuumrahmen erfolgt. Im Falle einer Belichtung mit Laserstrahlen, wo die
Belichtung im Vakuumrahmen schwierig sein könnte und der Laserstrahl direkt auf die lichtempfindliche Oberfläche
auftreten soll, ohne daß eine weitere transparente Fläche, wie Glas oder Kunststoff, dazwischen ist, kann
die Wirkung des Sauerstoffs ausgeschaltet werden, indem das getrocknete lichtempfindliche System unmittelbar
vor der Belichtung etwa 10 Minuten lang einem fließenden Strom von Kohlenoxid oder Stickstofl'ausgesetzt
(>5 wird. Gegebenenfalls kann der Fluß des Kohlendioxyds über die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht
auch während der Laserstrahlung fortgesetzt werden.
Vergleichsbeispiele
Vergleichszusammensetzimg
(ohne Zugabe von Ausbleich-Sensibilisierungskomponente)
Beispiel Nr. | Wellenlänge nm | Lichts |
1 | 350 | 1,0 |
2 | 400 | 1,25 |
3 | 420 | 2,50 |
4 | 440 | 10,0 |
5 | 460 | Null |
Beispiele
A) Sensibilisatorfarbstoffe aus der Klasse der substituierten Anthrachinone
A) Sensibilisatorfarbstoffe aus der Klasse der substituierten Anthrachinone
Fürdas erfindungsgemäße Verfahren geeignete Anthrachinone können durch die folgende allgemeine Formel
dargestellt werden:
R4
worin die Reste Ri bis R8 wenigstens eine Hydroxyl-, Amino-, Monoalkylamino-, Alkyl-arylamino-, Dialkyl-amino-,
Thiyl-, Benzamido, Methoxy-, K. athoxybenzamido-, Naphthamido-, Anthrimid-, Carbazol-, Chinoylharnstoff-,
Chinolin-, Thiazol-, Acetamido-, Alkyl- oder Halogengruppe bedeuten; wobei, wenn nur Alkylsubstituenten
anwesend sind, R2 oder R7 Alkyl sind und die übrigen Reste R für H stehen; wenn nur Halogensubstituenten
anwesend sind, R2 oder R7 Halogen sind und die übrigen Reste R für H stehen; wenn Amino, substituiertes
Amino oder Hydroxyl anwesend sind, diese vorzugsweise in den Stellungen R| und R4 stehet, obwohl sie
auch andere Reste sein können, und die übrigen Reste R und H stehen. Die Reste R| bis R8 können - abgesehen
von den obigen Ausnahmen - gleich oder verschieden sein.
Farbstoffklasse A
Beispiel Farbstoff Nr.
Menge mg
Wellenlänge
nm
Lichtempfindlichkeit
mJ/cm'
6 | Ri und R4 = Diäthylamino, die anderen Reste = H |
15 | 640 | 5 |
7 | Ri = Benzamido, die anderen Reste = H |
5 | 440 | 0,5 |
8 | Ri, R4, R5 = Amino, die anderen Reste = H |
5 | 680 | 5 |
9 | Ri, R4, R5, R8 = Amino, die anderen Reste = H |
5 | 730 | 3 |
IO | Ri = Amino, R4 = Hydroxy, die anderen Reste = H |
5 | 700 | 3 |
Il | RuR4 = NHC5H11, die anderen Resi- = H |
10 | 640 | 5 |
Ha | Ri = Methylamino, R4 = p-Aminoanilin, die anderen Reste = H |
10 | 797 | 6 |
Mb | Ri, R5 = Amino, R,, R11 = Hydroxy, die anderen Reste = H |
10 | 700 | 4 |
lic | Ri und Ri = Hvdroxv. | 5 | 500 | 2 |
Fortsetzung
Beispiel Nr. |
Farbstoff | 7,R8 = H |
= Hydroxy | Menge mg |
Wellenlänge ntn |
Lichtempfindlichkeit mJ/cm2 |
lld | Κ.], -Kj, 1*4, *^5i *^ der andere Rest |
5 | 750 | 4 | ||
lie R1 = Amino, R4 = NHC2H5,
die anderen Reste = H
640
B) Farbststoffe aus der Klasse der zweikernige Merocyanine
Zweikernige Merocyanine, die sich für das erfindungsgemäße Verfahren als Sensibilisierungskomponente
eignen, werden durch die folgende Formel dargestellt:
R —N—(CH = CH)„_, —C=(CH-CH)m_, =
-C = O
worin R eine Alkyl- oder Aralkylgruppe (einschließlich Carboxyalkyl- und Sulfoalkylgruppen), η eine positive
ganze Zahl von 1 bis 2, m eine positive ganze Zahl von 1 bis 4, [Z die nicht-metallischen Atome, die zur Vervollständigung
eines heterocyclischen Kerns mit 5 bis 6 Atomen im heterocyclischen Ring notwendig sind] und Q
die nicht-metallischen Atome, die zur Vervollständigung eines heterocyclischen Kerns mit 5 bis 6 Atomen im
Ring notwendig sind, bedeuten.
Diese Farbstoffe werden in den US-Patentschriften Nr. 3102027 (Spalte 5) und 35 78456 (Spalte 3) beschrieben.
Die heterocyclischen Kerne Q enthalten etwa 5 bis 6 Atome im Ring und umfassen Rhodanine, Oxazoldione,
2-Thiohydantoine, Alkyl- und/oder Arylpyrrazalone, 4-Thiazolidone und Thiazolone und 1,3-Indanthione.
Der Kern Z kann ein Benzoxazol, Benzothiazol, ein anderes Alkyl- oder Aryloxazol und -thiazol, Chinolin,
Pyridin und Dialkylindolenin sein.
Farbstoffklasse B | 3-Äthyl-5-[3-äthyl-2-(3H)- benzoxazolyliden)-äthyliden]-rhodanin |
Menge mg |
Wellenlänge nm |
Lichtempfindlichkeit mJ/cmJ |
Beispiel Farbstoff Nr. |
desgl. | 5 | 488 | 5 |
12 | desgl. | 15 | 488 | 2 |
13 | desgl. | 5 | 514 | 6 |
14 | 3-Äthy l-5-[( 1 -methyl-4-( 1 H)- chinolyliden)-äthyliden]-rhodanin |
15 | 514 | 3 |
15 | desgl. | 5 | 610 | 2 |
16 | desgl. | 5 | 630 | 3 |
17 | desgl. | 5 | 650 | 15 |
18 | desgl. | 5 | 700 | 40 |
19 | desgl. | 15 | 610 | 1 |
20 | desgl. | 15 | 630 | 1,5 |
21 | desgl. | 15 | 650 | 10 |
22 | 2-[(3-Äthyl-2 (3H)- benzoxazolyliden]-rhodanin |
15 | 700 | 25 |
23 | 2-Butenyiiden-l,3-indandion | 5 | 488 | 2 |
24 | desgl. | 5 | 514 | 2 |
25 | desgl. | 5 | 550 | 1 |
26 | 5 | 600 | 2 | |
27 |
Fortsetzung | 2-Butenyliden-1,3-indandion | Menge mg |
Wellenlänge nm |
Lichtempfindlichkeit mJ/cm2 |
Beispiel Farbstoff Nr. |
desgl. | 5 | 610 | 3 |
28 | 5-( 1 -ÄthyK 1 H)-chinolyliden)-3-äthyl- 2-thio-2,4-oxazoliden-dion |
5 | 640 | 8 |
29 | desgl. | 5 | 440 | 2.5 |
30 | 15 | 440 | 1 | |
31 |
C) Farbstoffe aus der Gruppe der komplexen Merocyanine 15
^liürtsrnisiertc Merocyanine; qusrtcmär? Salz·?, die von M^r^cvgnin ^b0Cl1?!'.?-! ^ind. asvrnrnp.trisrhp. Farbstoffe
von quarternären Salzen von Merocyaninen, Styryl- und Butadienylfarbstoffe von quarternären Salzen
von Merocyaninen, Pyrrolocyanine von quarternären Salzen von Merocyaninen und Hemicyanine, die von quarternisierten Merocyaninen abgeleitet sind, wobei, falls eine Säuregruppe anwesend ist, diese aus der Gruppe: :o Alkylsulfat, Arylsulfonat und Jodid stammt (siehe US-Patentschrift Nr. 31 02 027, Spalte 7 bis 10).
von Merocyaninen, Pyrrolocyanine von quarternären Salzen von Merocyaninen und Hemicyanine, die von quarternisierten Merocyaninen abgeleitet sind, wobei, falls eine Säuregruppe anwesend ist, diese aus der Gruppe: :o Alkylsulfat, Arylsulfonat und Jodid stammt (siehe US-Patentschrift Nr. 31 02 027, Spalte 7 bis 10).
Farbstoffe der Klasse C
Beispiel Farbstoff Menge Wellenlänge Lichtempfindlichkeit 25
Nr. mg ·τι mJ/cm:
32 2-(p-Dimethylaminostyryl)-3,4-dimethyI- 5 450 3,0
thiazolium-p-toluol-sulfonat }
thiazolium-p-toluol-sulfonat }
33 desgl.
34 desgl.
35 desgl.
36 desgi.
37 desgl.
38 2-(4-p-Dimethylaminophenyl-
1 ^-butadienylj-benzothiazol-metho-ptoluol-sulfonat
39 desgl.
40 desgl.
41 desgl. 1<; ςιΛ ln 45
42 desgl.
43 desgl.
44 3-Äthyl-5-[(3-äthyl-2-(3H)- 5 520 10 50 benzothiazolyliden)-äthyliden]-2-[cyano-
2-chinolylmethylen]-4-thiazolidon
45 desgl.
46 desgl. 15 520 6 55
47 desgl.
48 3-Äthyl-5-[2-{ 1 -methyM-5-dihydroj3-naphtho-thiazolyliden)-äthyliden]-
2-(6-chlor-chinolyImethyIen)-4-thiazolidion 60
49 3-Äthyl-5-[l-äthyW (lH)-chinoIyliden)- 5 700 10
2-butenyliden]-rhodanin
2-butenyliden]-rhodanin
5 797 200
5 | 480 | 2,5 |
5 | 510 | 5,0 |
15 | 450 | 2,0 |
i5 | 480 | 1,5 |
15 | 510 | 3,0 |
5 | 510 | 15 |
5 | 540 | 10 |
LfI | 570 | 15 |
1 j | 510 | 10 |
15 | 540 | 5 |
15 | 570 | 10 |
5 | 520 | 10 |
5 | 560 | 6 |
15 | 520 | 6 |
15 | 560 | 3 |
5 | 500 | 5 |
50 | desgl. |
51 | desgl. |
52 | desgl. |
5 | 797 | 200 |
15 | 700 | 5 |
15 | 797 | 100 |
Fortsetzung
Beispiel Farbstoff Menge Wellenlänge Lichtempfindlichkeil
Nr. mg nm mJ/cnr
53 3-Äthyl-5-L8-(äthyl-5,6-dimethyl-2 (3H)- 5 600 3
benzothiazolylidenj-ff-äthyl-äthyliden-2-[3-äthyl-4-methyl-5-phenyl-thiazol-U)
äthyljodid)-methyliden]-4-thia?:olidon
54 | desgl. |
55 | desgl. |
56 | desgl. |
57 | desgl. |
58 | desgl. |
5 | 650 | 5 |
5 | 700 | 8 |
15 | 600 | 1,5 |
15 | 650 | 3 |
15 | 700 | 4 |
Beispiel 59 |
Ie 5 mg der Farbstoffe der Beispiele 12, 16, 30,47 und 51, gelöst in 3,0 ecm Methylenchlorid, wurden zu der
Grundzusammensetzung gemäß Beispiel 1 gegeben. Nach der Herstellung, Belichtung und Behandlung gemäß
Beispiel 1 wurde gefunden, daß die Zusammensetzung eine im wesentlichen lineare spektrale Empfindlichkeit
aufwies (zwischen 1 und 2 mJ/cm2 von 320 bis 750 nm), die bei 800 nm auf etwa 50 mJ/cm2 abfiel.
Farbstoffe der Klasse D
Cyaninfarbstoffe (siehe US-Patentschrift Nr. 3104973); Basen und Farbstoffe einschließlich der Sulfonate
und Jodide von a) symmetrischen und asymmetrischen Cyaninen; b) symmetrischen und asymmetrischen Pyrrolocyaninen;
c) Hemicyaninen; d) Carbocyanine^ e) Styrylcyaninen und Vinylenhomologen von Styrylcyaninen.
Beispiel Farbstoff Menge Wellenlänge Lichtempfindlichkeit
Nr. mg nm mJ/cm2
60 4-[(3-Methyl-2(3H)-benzothiazoIiden)- 5 500
methyl]-chinolin-hydro-p-toluol-sulfonat
■jo 61 62
63
64
65
so 66 67
68
55 69 70
60 71 72 73
65 74 75
desgl. | 15 | 500 | 2 |
3,3',4'-Trimethyloxathiazolo- carbocyanin-jodid |
5 | 500 | 5 |
desgl. | 15 | 500 | 2 |
!,l'-DimethyM^'-carbocyanin-p-toluol- sulfonat |
5 | 640 | 35 |
desgl. | 5 | 700 | 17 |
desgl. | 15 | 640 | 10 |
desgl. | 15 | 700 | 5 |
4-[3-Äthyl-2(3H)benzothiazolyliden)- propenylj-chinolin-hydrojodid |
5 | 488 | 10 |
4-[3-Äthyl-2(3H)benzothiazolyliden)- propenylj-chinolin-hydrojodid |
5 | 620 | 10 |
!,!',S^^VJ'-Hexamethyl-indodicarbocyanin- p-toluol-sulfonat |
5 | 640 | 8 |
desgl. | 5 | 700 | 35 |
3,3'-Diäthylthiadicarbocyanin-jodid | 5 | 640 | 8 |
desgl. | 5 | 700 | 8 |
desgl. | 5 | 797 | 100 |
3,3'-Diäthylthiatricarbocyanin-jodid | 5 | 640 | 5 |
desgl. | 5 | 797 | 100 |
76
Fortsetzung
Nr.
77 78
79
80 81 82 83
l-'iirhslDll | Menge mg |
Wellenlänge nm |
Lichtempfindlichkeit mJ/cm2 |
2-(p-Dimethylaminostyryl)-3,4-dimethyl- thiazolium-p-toluol-sulfonat |
5 | 480 | 2 |
2-(4-p-Dimethylaminophenyl- l,3-butadienyl)-benzothiazol-metho-p- toluol-sulfonat |
5 | 540 | 10 |
2-[l-Cyano-5(3-äthy 1-2(3 H)- benzoxazolyliden)-l,3-penta-dienyl]- benzothiazol |
5 | 540 | 5 |
4-[(3-Äthyl-2(3H)benzothiazolyliden)- 5
1.3.5-heptatrieny l]-chinolin
2-[(3-Äthyl-2(3H)benzothiazolyliden)- 5
äthylidenj-aminobenzothiazol
p-Dimethylaminobenzyliden-2,2'- 5
dibenzothiazoly I methan
4-4'-Vinyliden-bis-(N,N-dimethy !anilin)- 5
jodid
480
460
440
620
460
440
620
10
5
1
10
5
1
10
Je 5 mg der Farbstoffe von Beispielen 12 (Klasse B) und von Beispiel 72 (Klasse D),gelöst in 3,0 ecm Dimethylformamid,
wurden zu der Grundzusammensetzung gegeben. Nach der Herstellung, Belichtung unc1 3ehandlung
gemäß Beispiel 1 wurde gefunden, daß die Zusammensetzung eine im wesentlichen lineare spektrale Empfindlichkeit
von etwa 1 mJ/cm2 von 320 bis 720 nm besaß, die bei 800 nm auf etwa 30 mJ/cm2 abfiel. Hier handelt
es sich um einen klaren Fall von Synergismus.
Farbstoffklasse E)
Farbstoffe der Klasse E sind die Jodide, Sulfate und Sulfonate der 9-Phenyl-fluoren-9-ole der Formel:
Ri r ϊι—rf ^r3
Ν (1 oder 2)
X(I oder 2)"
Beispiel Farbstoff Nr.
Menge
mg
mg
Wellenlänge
nm
nm
Lichtempfindlichkeit mJ/cm2
85 para-Toluolsulfonatsalz von 3,6-Bis-(dimethylamino)-9-phenylfluoren-9-ol
86 desgl.
87 desgl.
88 Jodidsaiz von 3,6-Dimethylamino)-9-(2-methoxy-5-jodphenyl)-fluoren-9-ol
900
5 | 1000 | 3 |
5 | 1100 | 10 |
5 | 900 | 2 |
worin X ein Anion, insbesondere ein Jodid, Sulfat oder Sulfonat und die Reste R,, R2 und R3 = NH2, H, OCHi
oder Dialkylamino bedeuten, wobei wenigstens zwei dieser Reste NH2 oder Dialkylamino sind und worin einer
oder mehrere der aromatischen Wasserstoffe durch Alkyl-, Alkoxy-, Halogen-, Nitro- Acetamido-, Acetyl- oder
Sulfonamidogruppen ersetzt sein können.
Die Farbstoffsalze sind in Lösung relativ beständig, und die fotopolymerisierbaren Lösungen, welche diese
Materialien enthalten, brauchen während der Lagerung vor der Belichtung nicht gekühlt zu werden, um ihre
Beständigkeit zu erhalten.
15
Fortsetzung
Beispiel Farbstoff
Nr.
Nr.
Menge mg
Wellenlänge nni
Lichtempfincllichkcil
mJ/cm2
89 Jodidsalz von 3,6-Dimethylamino)- 5 9-(2-methoxy-5-jodphenyl)-fluoren-9-ol
90 desgl. 5
1000 1100
Andere Vinylmonomere, die anstelle von V-Vinylcarbazol gemäß Beispiel 11 in den gleichen Mengen verwendet
wurden:
15 Beispiel | Monomeres | Atmosphäre | Wellenlänge nm |
Lichtempfindlichkeil mJ/cm |
91 | N-Vinylphthalimid | CO2 | 640 | 5 |
20 92 | u-Vinylimidazol | CO2 | 640 | 2 |
93 | N-Vinylindol | Luft | 640 | 2 |
94 | N-Vinylpyrrolidon | CO, | 640 | 5 |
25 95 | N-Vinylsuccinimid | CO2 | 640 | 1 |
Beispiel 96 |
Anstelle des in Beispiel 11 verwendeten Polyvinylbutyral wurden die gleichen Gewichtsteile an Hydroxypropylzellulose
verwendet. Das Lösungsmittel zur Herstellung einer Lösung aus den verschiedenen Bestandteilen
bestand aus 10 1 einer Mischung aus gleichen Gewichtsteilen Benzol und Methanol. Die Belichtung wurde bei
640 nm in Luft durchgeführt, und man erhielt eine Lichtempfindlichkeit von 2 mJ/cm2.
Durch die vorliegende Erfindung wird also ein Verfahren zur Herstellung eines Hologramms auf der Grundlage
von monomeren N-Vinylverbindungen geschaffen, bei dem eine Fotoresist-Zusammensetzung verwendet
wird, die aufstrahlen eines weiten Wellenlängenbereiches, nämlich wenigstens von etwa 320 nm bis etwa 1100
nm bei sehr guter Lichtempfindlichkeit anspricht. Wenn eine Farbe als Folge der Bestrahlung und Entwicklung
erzeugt wird, wird diese z. B. durch eine Bestrahlung über den gesamten Bereich nach dem Entwickeln durch die
Einwirkung von Licht bzw. Licht und Wärme beseitigt. Das erfindungsgemäße Verfahren ist geeignet, zur Herstellung
von Reliefphasenhologrammen, die gewöhnlich als Hologramme vom Dünnoberflächenschicht-Reflektions-Typ
bezeichnet werden, Dickschichtphasenhologrammen, holografischen Aufnahmebändern Pur
Videokassetten, Hologrammen vom »micro-fiche-Typ« und ähnlichen Vorrichtungen bzw. Anordnungen, bei
denen das Fehlen einer Färbung in den entwickelten und fixierten Reliefbildern wesentlich ist.
Es stellt ein wichtiges Merkmal des erfindungsgemäßen Verfahrens dar, daß auf trockenem Wege entwickelt
4j werden kann (aber nicht muß) und ein Reliefphasenhologramm hoher Qualität erhalten wird. Dieses Hologramm
kann für holografische Zwecke und zur Bildung von optischen Bauteilen verwendet werden. Die im
erfindungsgemäßen Verfahren verwendbaren Fotoresist-Zusammensetzung besitzen die Fähigkeit zum vollständigen
Ausbleichen der Sensibilisierungskomponente durch Behandlung mit ultraviolettem Licht und gegebenenfalls
zusätzlicher Wärme oder mit Licht anderer Art, das der maximaler. Absorption der Sensibilisatorfarbstoffe
angepaßt ist. Das holografische Reliefbild kann auch neben der Einwirkung von Licht und/oder Wärme
durch zusätzliche Behandlung mit einem aliphatischen! Alkohol hergestellt worden sein.
16
Claims (1)
1. Verfahren zur Herstellung eines Hologramms durch
- Auftragen einer Fotoresistzusammensetzung, die ein Vmylmonomer enthält, in einer dünnen Schicht
auf einen Schichtträger,
- bildweise Belichtung dieser Schicht und anschließende ganzflächige Bestrahlung,
- bildweise Belichtung dieser Schicht und anschließende ganzflächige Bestrahlung,
dadurch gekennzeichnet,
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US447267A US3925077A (en) | 1974-03-01 | 1974-03-01 | Photoresist for holography and laser recording with bleachout dyes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2509019A1 DE2509019A1 (de) | 1975-09-04 |
DE2509019C2 true DE2509019C2 (de) | 1986-03-27 |
Family
ID=23775660
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2509019A Expired DE2509019C2 (de) | 1974-03-01 | 1975-03-01 | Verfahren zur Herstellung eines Hologramms |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3925077A (de) |
JP (1) | JPS5942294B2 (de) |
CA (1) | CA1060251A (de) |
DE (1) | DE2509019C2 (de) |
GB (1) | GB1508911A (de) |
Families Citing this family (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3967963A (en) * | 1974-04-22 | 1976-07-06 | Hughes Aircraft Company | Bleached holographic material and process for the fabrication thereof using halogens |
DE2558812C2 (de) * | 1975-12-27 | 1987-04-30 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
JPS5315153A (en) * | 1976-07-27 | 1978-02-10 | Canon Inc | Hologram |
JPS5315152A (en) * | 1976-07-27 | 1978-02-10 | Canon Inc | Hologram |
US4374189A (en) * | 1979-12-17 | 1983-02-15 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Process of making a holographic optical article |
US4278753A (en) * | 1980-02-25 | 1981-07-14 | Horizons Research Incorporated | Plasma developable photoresist composition with polyvinyl formal binder |
US4348471A (en) * | 1981-06-15 | 1982-09-07 | Polychrome Corporation | Positive acting composition yielding pre-development high visibility image after radiation exposure comprising acid free novolak, diazo oxide and acid sensitive dyestuff |
JPH0611586B2 (ja) * | 1982-03-31 | 1994-02-16 | 株式会社リコー | 光記録用媒体 |
IE56082B1 (en) * | 1982-11-01 | 1991-04-10 | Microsi Inc | Photobleachable compositions |
US5108874A (en) * | 1982-11-01 | 1992-04-28 | Microsi, Inc. | Composite useful in photolithography |
US4509817A (en) * | 1983-08-01 | 1985-04-09 | Ncr Corporation | Method for correcting volume-phase-gelatin holograms Bragg's angle deviation |
JPS6076735A (ja) * | 1983-10-04 | 1985-05-01 | Agency Of Ind Science & Technol | 光硬化樹脂組成物 |
US4578344A (en) * | 1984-12-20 | 1986-03-25 | General Electric Company | Photolithographic method using a two-layer photoresist and photobleachable film |
US4698286A (en) * | 1985-06-03 | 1987-10-06 | Hercules Incorporated | Plasma developable photoresist compositions containing perylene coumarin photosensitizer |
CA1315591C (en) * | 1986-02-20 | 1993-04-06 | Takeshi Ishitsuka | Visible ray-recording hologram material |
EP0324482B1 (de) * | 1988-01-15 | 1993-03-31 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Verfahren zur Herstellung von Reflexionshologrammen in photopolymerisierbaren Schichten |
US4942112A (en) * | 1988-01-15 | 1990-07-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions and elements for refractive index imaging |
US4917977A (en) * | 1988-12-23 | 1990-04-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Visible sensitizers for photopolymerizable compositions |
JP2661317B2 (ja) * | 1990-03-27 | 1997-10-08 | 松下電器産業株式会社 | パターン形成方法 |
US5206110A (en) * | 1991-02-04 | 1993-04-27 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Negative-working radiation-sensitive mixtures containing cyclized rubber polymer and contrast enhancing azo dye |
US5250392A (en) * | 1991-02-04 | 1993-10-05 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Process of developing a negative-working radiation-sensitive photoresist containing cyclized rubber polymer and contrast enhancing azo dye |
US5219703A (en) * | 1992-02-10 | 1993-06-15 | Eastman Kodak Company | Laser-induced thermal dye transfer with bleachable near-infrared absorbing sensitizers |
FR2690255A1 (fr) * | 1992-04-17 | 1993-10-22 | Digipress Sa | Composition photosensible, notamment pour application au stockage d'informations ou à la réalisation d'éléments optiques holographiques. |
US5364740A (en) * | 1992-12-30 | 1994-11-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Bleaching of dyes in photosensitive systems |
US6103331A (en) * | 1997-09-26 | 2000-08-15 | Fuji Electric Co., Ltd. | Optical recording medium comprising organic dye thin film |
US6268457B1 (en) | 1999-06-10 | 2001-07-31 | Allied Signal, Inc. | Spin-on glass anti-reflective coatings for photolithography |
US6824879B2 (en) | 1999-06-10 | 2004-11-30 | Honeywell International Inc. | Spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography |
WO2000077575A1 (en) | 1999-06-10 | 2000-12-21 | Alliedsignal Inc. | Spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography |
KR20040075866A (ko) | 2001-11-15 | 2004-08-30 | 허니웰 인터내셔날 인코포레이티드 | 포토리소그래피용 스핀-온 무반사 코팅 |
US8053159B2 (en) | 2003-11-18 | 2011-11-08 | Honeywell International Inc. | Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof |
EP2562599B1 (de) | 2009-01-29 | 2014-12-10 | Digiflex Ltd. | Verfahren zur Herstellung einer Fotomaske auf einer Fotopolymeroberfläche |
US8557877B2 (en) | 2009-06-10 | 2013-10-15 | Honeywell International Inc. | Anti-reflective coatings for optically transparent substrates |
JP2012083409A (ja) * | 2010-10-07 | 2012-04-26 | Tdk Corp | カラーホログラム画像記録用フォトポリマー媒体及びカラーホログラム画像記録方法 |
EP2450893A1 (de) * | 2010-11-08 | 2012-05-09 | Bayer MaterialScience AG | Photopolymer-Formulierung zur Herstellung holographischer Medien mit hoch vernetzten Matrixpolymeren |
US8864898B2 (en) | 2011-05-31 | 2014-10-21 | Honeywell International Inc. | Coating formulations for optical elements |
WO2016167892A1 (en) | 2015-04-13 | 2016-10-20 | Honeywell International Inc. | Polysiloxane formulations and coatings for optoelectronic applications |
CN116790134A (zh) * | 2023-06-21 | 2023-09-22 | 复旦大学 | 一种近红外小分子染料及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2875047A (en) * | 1955-01-19 | 1959-02-24 | Oster Gerald | Photopolymerization with the formation of coherent plastic masses |
US3000833A (en) * | 1959-01-26 | 1961-09-19 | American Cyanamid Co | Color salts of fluoren-9-ols as infrared absorbers |
US3102027A (en) * | 1960-08-19 | 1963-08-27 | Horizons Inc | Direct positive dye bleach process and merocyanine composition therefor |
DE1572137B1 (de) * | 1965-06-03 | 1970-09-24 | Du Pont | Fotopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial |
US3495987A (en) * | 1965-09-03 | 1970-02-17 | Du Pont | Photopolymerizable products |
US3620748A (en) * | 1966-01-07 | 1971-11-16 | Horizons Research Inc | N-vinyl amine/halogen liberating composition sensitized with 9-vinyl carbazoles or polyacenes, or transannular peroxides of polyacenes |
BE755251A (fr) * | 1969-08-25 | 1971-02-25 | Du Pont | Enregistrement holographique dans des couches photopoly- merisables |
US3667946A (en) * | 1970-09-23 | 1972-06-06 | Holotron Corp | Surface treatment of photopolymer film used for recording holograms |
US3712817A (en) * | 1971-03-01 | 1973-01-23 | Horizons Inc | Dry working photosensitive compositions comprising organic halogen compounds,ethylene compounds and carbinol compounds |
US3769023A (en) * | 1971-05-07 | 1973-10-30 | Horizons Inc | Light sensitive reproduction and electron beam sensitive material |
CA994152A (en) * | 1972-02-09 | 1976-08-03 | James M. Lewis | Photoresist and method of making same |
-
1974
- 1974-03-01 US US447267A patent/US3925077A/en not_active Expired - Lifetime
-
1975
- 1975-02-26 CA CA220,806A patent/CA1060251A/en not_active Expired
- 1975-02-28 GB GB8569/75A patent/GB1508911A/en not_active Expired
- 1975-02-28 JP JP50025551A patent/JPS5942294B2/ja not_active Expired
- 1975-03-01 DE DE2509019A patent/DE2509019C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1508911A (en) | 1978-04-26 |
JPS5942294B2 (ja) | 1984-10-13 |
JPS50122936A (de) | 1975-09-26 |
DE2509019A1 (de) | 1975-09-04 |
US3925077A (en) | 1975-12-09 |
CA1060251A (en) | 1979-08-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2509019C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Hologramms | |
US4701402A (en) | Oxidative imaging | |
DE69604393T2 (de) | Säurebleichbarer farbstoff enthaltend lithographische druckplattenzusammensetzung | |
DE69015889T2 (de) | Konstruktion für thermisches Farbbleichen. | |
EP0549976B1 (de) | Bleichbares Lichthofschutzsystem | |
DE69726231T2 (de) | Lichtbildfähige lagerstabile Zusammensetzungen mit verbesserten Leuko-Farbstoffen | |
DE69400062T2 (de) | Photopolymerisierbare Zusammensetzung | |
DE69319321T2 (de) | Konstruktion zum thermischen Farbbleichen | |
DE2653669B2 (de) | Auskopiermaterial | |
DE69127702T2 (de) | Aufzeichnungsfilm zur bilderzeugung | |
US3884697A (en) | Photographic process utilizing spiropyran compound dispersed in nitrocellulose films with high nitrogen content | |
DE69223044T2 (de) | Lithographische druckplatten | |
DE2822495A1 (de) | Bildaufzeichnungsmaterial | |
DE69800603T2 (de) | Photothermographische und thermographische Filme, die nur geringe Menge an ungesättigten Fettsäuren enthalten, um Schleier zu vermeiden | |
DE69326316T2 (de) | Thermische Farbbleichmittel Tetra-alkylammonium phenylsulfonylacetat | |
DE1597637A1 (de) | Direkt aufzeichnendes fotografisches Material | |
DE1945409A1 (de) | Verfahren zur Herstellung photographischer Bilder | |
DE2007524A1 (de) | Lichtempfindliche Materialien | |
DE2301272A1 (de) | Photographische silberhalogenidemulsion | |
EP0120601A2 (de) | Bildformation durch Oxydierung | |
DE2310825C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von gefärbten Reliefstrukturen | |
DE2155108C3 (de) | Lichtempfindliches Gemisch,Verfahren zur Herstellung eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials und seine Verwendung | |
DE2433373A1 (de) | Lichtempfindliches material | |
DE1901193A1 (de) | Verfahren zur Bildung von Polymerisatbildern | |
DE2706532C3 (de) | Silberfreies, photolytisch Radikale bildendes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: HERCULES INC., WILMINGTON, DEL., US |
|
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: SCHMIED-KOWARZIK, V., DR., 8000 MUENCHEN DANNENBER |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |