DE2454544A1 - Vakuumbeschichtungsanlage - Google Patents

Vakuumbeschichtungsanlage

Info

Publication number
DE2454544A1
DE2454544A1 DE19742454544 DE2454544A DE2454544A1 DE 2454544 A1 DE2454544 A1 DE 2454544A1 DE 19742454544 DE19742454544 DE 19742454544 DE 2454544 A DE2454544 A DE 2454544A DE 2454544 A1 DE2454544 A1 DE 2454544A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
chamber
vacuum
coating system
vacuum coating
main chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19742454544
Other languages
English (en)
Other versions
DE2454544B2 (de
DE2454544C3 (de
DE2454544C4 (de
Inventor
Roman Schertler
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OC Oerlikon Balzers AG
Original Assignee
Balzers AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Balzers AG filed Critical Balzers AG
Publication of DE2454544A1 publication Critical patent/DE2454544A1/de
Publication of DE2454544B2 publication Critical patent/DE2454544B2/de
Publication of DE2454544C3 publication Critical patent/DE2454544C3/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2454544C4 publication Critical patent/DE2454544C4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/564Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
    • C23C14/566Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases using a load-lock chamber
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/139Associated with semiconductor wafer handling including wafer charging or discharging means for vacuum chamber

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

BALZERS HOCHVAKUUM GMBH,, Heirricb-Hertz-rStr.6, D 6 Frankfurt/M
Vaküumbeschicntungsanlage
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vaküumbeschichtungsanlage mit einer in einer evakuierbaren Kammer angeordneten drehbaren Transporteinrichtung für das zu beschichtende Gut, welche mehrere Arbeitspositionen aufweist. Die verschiedenen Arbeitspositionen dienen der Durchführung der im Zuge der Beschichtung erforderlichen Operationen, wie Einschleusen des Beschichtungsgutes, Beglimmen (ζ. Β. zwecks Erhitzung und/oder Reinigung der zu beschichtenden Flächen), Aufbringen der einzelnen Schichten (z.B. durch Vakuumbedampfung oder Kathodenzerstäubung )■_, Abkühlen, Ausschleusen und etwaiger sonstiger bei der Herstellung einer Beschichtung erforderlichen Arbeitsgänge.
509831/0511
Es sind Vakuumbeschichtungsanlagen bekannt, bei denen das Beschichtungsgut mittels einer Transporteinrichtung fortlaufend in eine Vakuumkammer eingeschleust, bedampft und wieder ausgebracht wird, z.B. werden Bänder aus Kunststoffolien und Scheinwerfer in solchen Durchlaufanlagen metallisiert.
Der Nachteil der bekannten Anlagen liegt in einer aufwendigen Bauweise und oft auch darin, dass sie nur für ganz bestimmtes Beschichtungsgut verwendbar sind z.B. an bestimmte Formen desselben gebunden sind. Das Aus- und Einschleusen des Beschichtungsgutes ergab oft schwierige Dichtungsprobleme, die durch aufwendige Schleusenkonstruktionen gelöst wurden.
Der vorliegenden Erfindung liegt nun die Aufgabe zu Grunde, eine betriebssichere Vakuumbeschichtungsahlage anzugeben, die mit geringerem Aufwand als bisherige Anlagen gebaut werden kann und es ermöglicht, die verschiedenen Behandlungen des Gutes in gegeneinander absperrbaren Vakuumkammern durchzuführen.
Die erfindungsgemässe Vakuumbeschichtungsanlage mit mehreren verschiedenen Arbeitspositionen zum Ein- und Ausschleusen und zum Behandeln eines Gutes, sowie mit einer in einer evakuierbaren Hauptkammer angeordneten, drehbaren Transporteinrichtung für das Gut, ist dadurch gekennzeichnet, dass die Aufnahmevor-
509831/0511
richtungen für das Gut in wenigstens einer Arbeitsposition einen rahmenförmigen Wandteil einer von der Hauptkammer abtrennbaren Arbeitskammer bilden, und dass dieser Arbeitskammer eine Ventilplatte zur vakuumdichten Absperrung gegenüber der Hauptkammer während der Behandlung zugeordnet ist.
Wie die nachfolgende Beschreibung eines Ausführungsbeispiels zeigt, können mit der Erfindung vor allem teure Hub- und Schwenkventile, wie sie sonst besonders bei Anlagen mit mehreren gegeneinander absperrbaren Vakuümkammern notwendig sind, vermieden und dadurch die Kosten der Anlage wesentlich gesenkt werden.
In der Zeichnung bedeutet 1 den Bodenteil der evakuierbaren Hauptkammer, die durch den oberen haubenförmig ausgebildeten Teil 2 abgeschlossen wird. In dieser Hauptkammer befindet sich die drehbare Transporteinrichtung J5 für das Beschichtungsgut, welche mittels der vakuumdicht durch den Boden der Hauptkammer hindurchgeführten Welle 4 angetrieben wird. Die Transporteinrichtung weist im Beispielsfalle - s. Fig. 2 - vier verschiedene Arbeitspositionen auf und ist mit vier ringförmigen Aufnähmevorrichtungen 5 bis 8 für die Träger 9 des Beschichtungsgutes ausgerüstet. Sie besitzen an der Innenseite eine Schulter 10 zur Aufnahme der hier als Kalotten ausgebildeten Träger 9 des Beschichtungsgutes und
5098-3 t/OS 11
2A54544
sind an der Transporteinrichtung federnd gehaltert. Dazu sind sie an ihrer Aussenseite mit mehreren radialen Fortsätzen 11 versehen, mittels deren sie durch Stifte 12, die durch Bohrungen des Tellers J5 hindurchragen, von diesem getragen werden. Die beiden Druckfedern 13 und l4 an jedem Stift ermöglichen, wie die Zeichnung erkennen lässt, eine gewisse Verschiebung der genannten Ringe, vor allem in axialer Richtung.
Drehen der Welle 4 können die einzelnen Aufnahmeringe nacheinander in die verschiedenen Arbeitspositionen gebracht werden. Den einzelnen Arbeitspositionen sind getrennt evakuierbare und gegenüber der Hauptkammer absperrbare Arbeitskammern zugeordnet, von denen die Zeichnung zweiynämlich 15 und 16 zeigt.
Die Kammer 15 dient dem Ein- und Ausschleusen der Träger 9. Sie. wird gebildet, wenn sich ein Aufnahmering - in der Figur 1 der Ring 7 - gerade in der betreffenden Position befindet und besteht dann aus diesem Ring, und aus dem mit dem Teil 2 der Hauptkammer verbundenen Teil17, einem Deckel l8 und einer Bodenplatte I9. Letztere ist mit einer vakuumdicht durch Kammerteil 1 hindurchgeführten Hubstange verbunden. Zwischen den einzelnen Teilen der Arbeitskammer sind Ringdichtungen vorgesehen. Beim Anheben der Platte I9 wird diese wie ein Plattenventil an den Aufnahmering 7 und letzterer an den Kammerteil 17 angedrückt und ergibt eine gegenüber der Hauptkammer vakuumdichte Absperrung. Die
509831/OS11
Kammer 15 kann dann bei geschlossenem Deckel l8 üb,er die Leitung 20 getrennt von der Hauptkammer evakuiert bzw. belüftet werden. Man kann sie öffnen, während die Hauptkammer unter Vakuum steht und die zu behandelnden Gegenstände in die Aufnahmevorrichtung einbringen z.B. eine mit Linsen zur Beschichtung beladene Trägerkalotte 9· Natürlich -kann der Träger für die zu beschichtenden Gegenstände auch anders ausgebildet sein z.B. als ebene Platte mit Oeffnungen, in welche die Linsen eingesetzt sind oder anderen Unterseite sie irgendwie befestigt sind. 9 könnte auch einen als ganzes zu behandelnden Gegenstand z.B. einen zu beschichtenden Spiegelkörper darstellen. Die vielfachen Möglichkeiten der Ausgestaltung von Trägern für zu behandelnde Gegenstände sind bekannt und brauchen hier nicht näher beschrieben zu werden.
Nach Schliessen der Schleusenkammer 15 und Wiederevakuierung kann der mit dem Gut beladene Ring bei abgehobener Ventilplatte in eine folgende Arbeitsposition weitergedreht werden. Eine solche weitere Arbeitsposition kann z.B. für'das Aufdampfen eingerichtet sein, wie die Kammer l6 in Figur 1. Diese besitzt einen eigenen Evakuierungsanschluss 21 und weist eine oder mehrere Verdampfungsquellen 22-bekannter Art auf. Sobald sich ein mit Beschichtungsgut beladener Aufnahmering - in Figur 1 der Ring 5 - in Bedampf ungsposi ti on befindet, kann nach vorheriger Evakuierung
509831/051 1
245A54A
des Raumes, in dem die Aufdampfung stattfindet, diese in an sich bekannter Weise durchgeführt werden.
Falls die Aufdampfkammer während der Bedampfung gegenüber der Hauptkammer bzw. etwaigen weiteren Arbeitskammern abgesperrt werden muss - dies hängt im Einzelfalle von den in diesen weiteren Arbeitspositionen durchzuführenden Prozessen ab, die möglicherweise eine andere Atmosphäre oder einen anderen Gasdruck benötigen - kann auf gleiche Weise wie die Schleusenkammer 15 gebildet wurde, auch eine von der Hauptkammer vakuumdicht absperrbare Aufdampfkammer erhalten werden, wenn das Plattenventil 2j5 mit Hubstange 24 vorgesehen wird. Beim Anpressen der Ventilplatte an den in Aufdampfposition befindlichen Aufnahmering 5 wird durch diesen zusammen mit dem Kammerteil 25, der einen abnehmbaren Boden 26 besitzt, und. bei Vorsehen entsprechender Dichtungen ähnlich wie für die Schleusenkammer 15 beschrieben wurde, eine vakuumdichte Kammer l6 gebildet. Nach Durchführung der Bedampfung kann die Platte 2j5 vom Ring 5 wieder angehoben und dieser für den Weitertransport freigegeben werden.
Entsprechend können auch bei weiteren Arbeitepositionen absperrbare eigene Arbeitskammern gebildet werden. In diesen können z.B. weitere Einrichtungen zum Aufbringen einer Beschichtung durch Aufdampfen oder Kathodenzerstäubung angebracht werden oder Ein-
509831/0511
richtungen zum Heizen oder Kühlen der zu beschichtenden Substrate bzw. der Schichten, Einrichtungen zum Beschuss der zu beschichtenden Oberflächen mit Ionen oder Elektronen u.a. mehr. Pur das Ausbringen der fertigbehandelten Gegenstände aus der Anlage kann eine der .Arbeitspositionen als Ausschleuskammer aus gebildet werden; zweckmässigerweise wird jedoch dieselbe Kam- ^ die zum Einschleusen dient, auch zum Ausschleusen benutzt.
Die Zahl der erforderlichen Arbeitspositionen bzw. Arbeitskammern und die Verteilung der im Zuge einer Beschichtung durchzuführenden Arbeitsschritte auf die einzelnen. ArbeitspositLonen hängt ausser von der Art der bei jedem Schritt durchzuführenden Prozesse auch noch von den hiefür benötigten Zeiten ab. Mit Vorteil wird die Einteilung so getroffen, dass für jede Arbeitsposition ungefähr dieselbe Zeit benötigt wird, denn die längste dieser Zeiten bestimmt die sogenannte laktasit, mit welcher bei kontnuierlicher Fertigung der Weitertransport des Beschichtungsgutes von einer Arbeitsposition in die nächste erfolgen kann.
Die Evakuierung der Hauptkammer erfolgt entweder über einen eigenen Evakuierungsanschluss oder über eine der Arbeitskammern mit Evakuierungsanschluss, wenn letzteres im Rahmen der vorgesehenen Arbeitstakte möglich ist.
5098 31 /OSI 1
Das erfindungsgemässe System hat den besonderen Vorteil, dass es sehr flexibel ist. Je nach Bedarf können an die Hauptkammer die verschiedensten Arbeitskammern angeflanscht werden, wenn entsprechende Trennflansche vorgesehen sind; es ist zweckmässig, wenn möglich die ganze Einrichtung einer Arbeitskammer auf einer Planschplatte (wie 26 in Figur l) aufzubauen, so dass nur diese allein ausgewechselt werden muss.
Die Aufnahmevorrichtungen müssen natürlich nicht unbedingt ringförmig sein wie im Ausführungsbeispiel, sondern können z.B. auch einen rechteckigen Querschnitt aufweisen. In der Zeichnung wurde eine federnde Halterung der Aufnähmevorrichtungen gezeigt:statt dessen könnte der Drehteller selbst für eine Hubbewegung in axialer Richtung ausgebildet werden; z.B. indem die vakuumdichte Durchführung der Welle 4 in bekannter Weise für eine Dreh- und Schiebebewegung eingerichtet wird, so dass die Aufnahmevorrichtungen, die in Arbeitsposition einen Teil der Wandung der Arbeitskammern bilden, zur Erzielung einer vakuumdichten Absperrung an die feststehenden Teile der Arbeitskammern in axialer Richtung angepresst werden können. Die federnde Aufhängung der Aufnahmevorrichtungen an der Transporteinrichtung ergibt aber die vorteilhafte Möglichkeit, sowohl an der Oberseite als auch an der Unterseite der Hauptkammer Arbeitskammern anzuordnen, die ent-
nach Belieben
sprechend den in diesen Kammern durchzuführenden Prozessen/gegeneinander abgesperrt und unabhängig voneinander evakuiert werden können,
5 0 9 8 3 1/0511

Claims (3)

PATENTA N-S PRUECHE
1. Vakuumbeschichtungsanlage mit mehreren verschiedenen Arbeitspositionen zum Ein- und Ausschleusen und zum Behandeln eines Gutes, sowie mit einer in einer evakuierbaren Hauptkammer ange-
ordneten, drehbaren Transporteinrichtung für das Gut, dadurch gekennzeichnet, dass die Aufnahmevorrichtung für das Gut in wenigstens einer Arbeitsposition einen rahmenförmigen Wandteil einer von der Hauptkammer abtrennbaren Arbeitskammer bilden, und dass dieser Arbeitskammer eine Ventilplatte zur vakuumdichten Absperrung gegenüber der Hauptkammer während, der Behandlung zugeordnet ist.
2. Vakuumbeschichtungsanlage nach Patentanspruch 1, dadurch g e k e η η ζ e i c h η e t, dass beide Seiten der rahmenförmigen Aufnahmevorrichtungen mit Dichtungsflächen versehen sind, die mit Gegendichtungsflächen eines feststehenden Teiles der Arbeitskammer und der Ventilplatte zusammenwirken. - ,
3. Vakuumbeschichtungsanlage nach Patentanspruch 1, dadurch . gekennzeichnet, dass die Aufnähmevorrichtungen an der Transporteinrichtung in axialer Richtung verschiebbar ■ gehaltert sind. " .
509331/0S11 ■
24545U
Vakuumbeschichtungsanlage nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eine Schleusen-, kammer und auf.der anderen Seite der Bewegungsebene der Transporteinrichtung eine weitere Arbeitskammer vorgesehen ist.
509831/0511
DE19742454544 1973-11-22 1974-11-18 Vakuumbeschichtungsanlage Expired - Lifetime DE2454544C4 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH1660273A CH573985A5 (de) 1973-11-22 1973-11-22

Publications (4)

Publication Number Publication Date
DE2454544A1 true DE2454544A1 (de) 1975-07-31
DE2454544B2 DE2454544B2 (de) 1978-07-13
DE2454544C3 DE2454544C3 (de) 1979-03-29
DE2454544C4 DE2454544C4 (de) 1992-07-16

Family

ID=4418700

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19742454544 Expired - Lifetime DE2454544C4 (de) 1973-11-22 1974-11-18 Vakuumbeschichtungsanlage

Country Status (6)

Country Link
US (1) US3915117A (de)
CH (1) CH573985A5 (de)
DE (1) DE2454544C4 (de)
FR (1) FR2252419B1 (de)
GB (1) GB1466790A (de)
NL (1) NL165224C (de)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2834353A1 (de) * 1977-08-04 1979-02-15 Canon Kk Geraet zum aufdampfen von beschichtungen
DE2940064A1 (de) * 1979-10-03 1981-04-16 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Vakuumaufdampfanlage mir einer ventilkammer, einer bedampfungskammer und einer verdampferkammer
DE3735284A1 (de) * 1987-10-17 1989-04-27 Leybold Ag Vorrichtung nach dem karussell-prinzip zum beschichten von substraten
DE3051188C2 (de) * 1979-12-21 1992-02-27 Varian Associates, Inc., Palo Alto, Calif., Us
EP0816529A1 (de) * 1996-07-04 1998-01-07 Leybold Systems GmbH Vakuumbehandelungsanlage zum Aufbringen von Schichten auf Substrate
DE19807031A1 (de) * 1998-02-19 1999-08-26 Leybold Systems Gmbh Schleuseneinrichtung zum Ein- und/oder Ausbringen von Substraten in und/oder aus einer Behandlungskammer
US6196154B1 (en) 1998-02-19 2001-03-06 Leybold Systems Gmbh Air lock for introducing substrates to and/or removing them from a treatment chamber
US6554980B1 (en) 1996-10-17 2003-04-29 Leybold Optics Gmbh Vacuum treatment apparatus for deposition of thin layers on three-dimensional substrates
DE19624609B4 (de) * 1996-06-20 2009-04-16 Leybold Optics Gmbh Vakuumbehandlungsanlage zum Aufbringen dünner Schichten auf Substrate, beispielsweise auf Scheinwerferreflektoren

Families Citing this family (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2740129A1 (de) * 1976-09-18 1978-03-23 Claude John Lancelot Hunt Verfahren und vorrichtung zur metallbedampfung
DE2847632A1 (de) * 1977-11-19 1979-05-23 Claude John Lancelot Hunt Vakuummetallisierungsvorrichtung
US4313815A (en) * 1978-04-07 1982-02-02 Varian Associates, Inc. Sputter-coating system, and vaccuum valve, transport, and sputter source array arrangements therefor
US5024747A (en) * 1979-12-21 1991-06-18 Varian Associates, Inc. Wafer coating system
JPS58197262A (ja) * 1982-05-13 1983-11-16 Canon Inc 量産型真空成膜装置及び真空成膜法
US4500407A (en) * 1983-07-19 1985-02-19 Varian Associates, Inc. Disk or wafer handling and coating system
DE3448599B4 (de) * 1983-11-28 2004-04-08 Hitachi, Ltd. Verfahren zur Durchführung einer Behandlung unter Vakuum
JPS60184678A (ja) * 1984-03-02 1985-09-20 Canon Inc 真空処理装置
US4534314A (en) * 1984-05-10 1985-08-13 Varian Associates, Inc. Load lock pumping mechanism
JPS61291032A (ja) * 1985-06-17 1986-12-20 Fujitsu Ltd 真空装置
DE3788973T2 (de) * 1986-04-04 1994-08-11 Materials Research Corp Verfahren und Vorrichtung zur Handhabung und Behandlung von scheibenartigen Materialien.
US4676884A (en) * 1986-07-23 1987-06-30 The Boc Group, Inc. Wafer processing machine with evacuated wafer transporting and storage system
DE3716498C2 (de) * 1987-05-16 1994-08-04 Leybold Ag Vorrichtung zum Ein- und Ausschleusen von Werkstücken in eine Beschichtungskammer
US4951603A (en) * 1988-09-12 1990-08-28 Daidousanso Co., Ltd. Apparatus for producing semiconductors
EP0389820B1 (de) * 1989-03-30 1993-06-16 Leybold Aktiengesellschaft Vorrichtung zum Ein- und Ausschleusen eines Werkstücks in eine Vakuumkammer
DE4009603A1 (de) * 1989-03-30 1990-10-04 Leybold Ag Vorrichtung zum ein- und ausschleusen eines werkstuecks in eine vakuumkammer
US5259942A (en) * 1989-03-30 1993-11-09 Leybold Aktiengesellschaft Device for transferring a workpiece into and out from a vacuum chamber
IT1232241B (it) * 1989-09-11 1992-01-28 Cetev Cent Tecnolog Vuoto Dispositivo per il caricamento veloce di substrati in impianti da vuoto
JP3466607B2 (ja) * 1989-09-13 2003-11-17 ソニー株式会社 スパッタリング装置
US5002010A (en) * 1989-10-18 1991-03-26 Varian Associates, Inc. Vacuum vessel
EP0448782B1 (de) * 1990-03-26 1993-06-16 Leybold Aktiengesellschaft Vorrichtung zum Ein- und Ausschleusen eines Werkstücks in eine Vakuumkammer
ATE119948T1 (de) * 1990-03-30 1995-04-15 Sony Corp Sputteranlage.
JP2913745B2 (ja) * 1990-04-10 1999-06-28 松下電器産業株式会社 真空蒸着装置
DE4117969C2 (de) * 1991-05-31 2000-11-09 Balzers Ag Liechtenstein Vakuumkammer
EP1179611B1 (de) * 1992-10-06 2004-09-15 Unaxis Balzers Aktiengesellschaft Kammer für den Transport von Werkstücken
CH691377A5 (de) * 1992-10-06 2001-07-13 Unaxis Balzers Ag Kammeranordnung für den Transport von Werkstücken und deren Verwendung.
DE4235677C2 (de) * 1992-10-22 1996-10-31 Balzers Hochvakuum Vakuumkammer, Vakuumbehandlungsanlage mit einer solchen Kammer sowie Transportverfahren
DE4235676C2 (de) * 1992-10-22 1997-08-28 Balzers Hochvakuum Vakuumkammer zum Transport scheibenförmiger Werkstücke in einer Vakuumanlage
DE4235674C2 (de) * 1992-10-22 2000-12-28 Balzers Ag Liechtenstein Kammer für den Transport von Werkstücken in Vakuumatmosphäre, Kammerkombination und Verfahren zum Transportieren eines Werkstückes
DE4302851A1 (de) * 1993-02-02 1994-08-04 Leybold Ag Vorrichtung zum Anbringen und/oder Entfernen einer Maske an einem Substrat
DE4341635C2 (de) * 1993-12-07 2002-07-18 Unaxis Deutschland Holding Vakuumbeschichtungsanlage
NL1000138C2 (nl) * 1995-04-13 1996-10-15 Od & Me Bv Inrichtingen voor het bewerken van een substraat alsmede werkwijze geschikt voor toepassing bij dergelijke inrichtingen.
US5773088A (en) * 1995-12-05 1998-06-30 Materials Research Group, Inc. Treatment system including vacuum isolated sources and method
DE19742923A1 (de) 1997-09-29 1999-04-01 Leybold Systems Gmbh Vorrichtung zum Beschichten eines im wesentlichen flachen, scheibenförmigen Substrats
US6184132B1 (en) * 1999-08-03 2001-02-06 International Business Machines Corporation Integrated cobalt silicide process for semiconductor devices
US6193804B1 (en) * 1999-10-02 2001-02-27 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd Apparatus and method for sealing a vacuum chamber
WO2001072094A1 (en) * 2000-03-20 2001-09-27 Tokyo Electron Limited High speed photoresist stripping chamber
US6413381B1 (en) 2000-04-12 2002-07-02 Steag Hamatech Ag Horizontal sputtering system
US6264804B1 (en) 2000-04-12 2001-07-24 Ske Technology Corp. System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system
US6620252B2 (en) * 2001-10-29 2003-09-16 Thomson Licensing S.A. Metallization module for cathode-ray tube (CRT) applications
JP2008192642A (ja) * 2007-01-31 2008-08-21 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置
DE102009018700B4 (de) * 2008-09-01 2020-02-13 Singulus Technologies Ag Beschichtungsanlage und Verfahren zum Beschichten
EP2409317B8 (de) * 2009-03-18 2014-02-19 Oerlikon Advanced Technologies AG Vakuumbehandlungsgerät
US10689753B1 (en) * 2009-04-21 2020-06-23 Goodrich Corporation System having a cooling element for densifying a substrate
DE102009037290A1 (de) * 2009-04-24 2010-11-11 Singulus Technologies Ag Transporteinrichtung mit einem auslenkbaren Dichtrahmen
DE102009060649A1 (de) * 2009-12-22 2011-06-30 EISENMANN Anlagenbau GmbH & Co. KG, 71032 Anlage zur Oberflächenbehandlung von Gegenständen
DE102011114593B4 (de) 2011-09-30 2016-11-03 Manz Ag Transporteinrichtung zum Transportieren mehrerer Substrate in den Bereich einer Substrat-Behandlungseinrichtung sowie eine derart ausgestaltete Vakuumbehandlungseinrichtung
EP2641665A1 (de) * 2012-03-19 2013-09-25 Deceuninck NV Verfahren in mehreren Schritten für durchgefärbte Bauelemente
CN110218976A (zh) * 2019-07-17 2019-09-10 南通职业大学 一种零部件自动镀膜装置
CN112206947B (zh) * 2020-10-16 2021-09-28 泰安市力华液压设备有限公司 一种柱塞液压油缸喷漆加工工序用挂具及其使用方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2241634A1 (de) * 1971-08-26 1973-03-01 Western Electric Co Verfahren und vorrichtung zur beschichtung von werkstuecken in einer gesteuerten atmosphaere

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1118869A (en) * 1914-11-24 Carl Kugel Annealing furnace.
US1073235A (en) * 1912-06-19 1913-09-16 Hermann Hillebrand Jr Annealing apparatus.
US1617056A (en) * 1926-04-10 1927-02-08 Charles F Kenworthy Inc Furnace
CH311812A (de) * 1951-11-05 1955-12-15 Zeiss Carl Fa Aufdampfeinrichtung.
US2799600A (en) * 1954-08-17 1957-07-16 Noel W Scott Method of producing electrically conducting transparent coatings on optical surfaces
US3473954A (en) * 1965-12-08 1969-10-21 Ethyl Corp Method and apparatus for tunnel plating
US3568632A (en) * 1969-03-24 1971-03-09 Gary F Cawthon Lens coating apparatus
US3649339A (en) * 1969-09-05 1972-03-14 Eugene C Smith Apparatus and method for securing a high vacuum for particle coating process
US3749383A (en) * 1971-04-29 1973-07-31 Rca Corp Apparatus for processing semiconductor devices

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2241634A1 (de) * 1971-08-26 1973-03-01 Western Electric Co Verfahren und vorrichtung zur beschichtung von werkstuecken in einer gesteuerten atmosphaere

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2834353A1 (de) * 1977-08-04 1979-02-15 Canon Kk Geraet zum aufdampfen von beschichtungen
DE2940064A1 (de) * 1979-10-03 1981-04-16 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Vakuumaufdampfanlage mir einer ventilkammer, einer bedampfungskammer und einer verdampferkammer
DE3051188C2 (de) * 1979-12-21 1992-02-27 Varian Associates, Inc., Palo Alto, Calif., Us
DE3735284A1 (de) * 1987-10-17 1989-04-27 Leybold Ag Vorrichtung nach dem karussell-prinzip zum beschichten von substraten
DE19624609B4 (de) * 1996-06-20 2009-04-16 Leybold Optics Gmbh Vakuumbehandlungsanlage zum Aufbringen dünner Schichten auf Substrate, beispielsweise auf Scheinwerferreflektoren
EP0816529A1 (de) * 1996-07-04 1998-01-07 Leybold Systems GmbH Vakuumbehandelungsanlage zum Aufbringen von Schichten auf Substrate
DE19626861B4 (de) * 1996-07-04 2009-04-16 Leybold Optics Gmbh Vakuumbehandlungsanlage zum Aufbringen dünner Schichten auf Substrate, beispielsweise auf Scheinwerferreflektoren
US6554980B1 (en) 1996-10-17 2003-04-29 Leybold Optics Gmbh Vacuum treatment apparatus for deposition of thin layers on three-dimensional substrates
DE19807031A1 (de) * 1998-02-19 1999-08-26 Leybold Systems Gmbh Schleuseneinrichtung zum Ein- und/oder Ausbringen von Substraten in und/oder aus einer Behandlungskammer
US6196154B1 (en) 1998-02-19 2001-03-06 Leybold Systems Gmbh Air lock for introducing substrates to and/or removing them from a treatment chamber
US6335054B1 (en) 1998-02-19 2002-01-01 Leybold Systems Gmbh Air lock for introducing substrates to and/or removing them from a treatment chamber

Also Published As

Publication number Publication date
CH573985A5 (de) 1976-03-31
DE2454544B2 (de) 1978-07-13
NL165224B (nl) 1980-10-15
DE2454544C3 (de) 1979-03-29
NL7400848A (nl) 1975-05-26
FR2252419A1 (de) 1975-06-20
GB1466790A (en) 1977-03-09
DE2454544C4 (de) 1992-07-16
NL165224C (nl) 1981-03-16
FR2252419B1 (de) 1980-06-06
US3915117A (en) 1975-10-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2454544A1 (de) Vakuumbeschichtungsanlage
EP0312694B1 (de) Vorrichtung nach dem Karussell-Prinzip zum Beschichten von Substraten
DE3047441C2 (de)
DE4005956C1 (de)
DE2047749A1 (de) Zirkuläres System zur kontinuierlichen Verrichtung verschiedener im Vakuum durch zuführender Prozesse
DE1963207C3 (de) Vorrichtung zum epitaktischen Ab scheiden von Halbleitermaterial auf einem Substrat
DE3702775A1 (de) Vorrichtung zum quasi-kontinuierlichen behandeln von substraten
DE19626861B4 (de) Vakuumbehandlungsanlage zum Aufbringen dünner Schichten auf Substrate, beispielsweise auf Scheinwerferreflektoren
DE102005024118A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Reduktion von Partikeln bei der thermischen Behandlung rotierender Substrate
EP0550003A1 (de) Vakuumbehandlungsanlage und deren Verwendungen
EP0905275B1 (de) Vorrichtung zum Beschichten eines im wesentlichen flachen scheibenförmigen Substrats
DE2208032A1 (de) Zerstäubungsvorrichtung
DE2544725B2 (de) Elektronenstrahlverdampfer
DE4322467C1 (de) Verfahren zum mehrstufigen Behandeln von stückigen Produkten mittels Prozeßmedien und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE3205501C2 (de)
DE60129975T2 (de) Vorrichtung zur durchführung mindestens einer behandlung eines substrates
EP1524215B1 (de) Vakuum-Behandlungsanlage für ebene rechteckige bzw. quadratische Substrate
DE2207957A1 (de) Vakuumanlage mit zwei getrennt evakuierbaren Kammern zum Behandeln von Gut
DE102012104475A1 (de) Carousel-Reactor
DE19624609A1 (de) Vakuumbehandlungsanlage zum Aufbringen dünner Schichten auf Substrate, beispielsweise auf Scheinwerferreflektoren
DE6812746U (de) Vorrichtung zur kathodenzerstaeubung
EP0448782A2 (de) Vorrichtung zum Ein- und Ausschleusen eines Werkstücks in eine Vakuumkammer
DE4107711A1 (de) Verfahren zum dotieren von grundmaterial mit dotiermaterial, zur herstellung einer chemischen verbindung oder einer legierung unter verwendung einer zerstaeubungskatode und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
DD292482A5 (de) Einrichtung zum beschichten ebener substrate im hochvakuum
DD291783A5 (de) Zersteubungseinrichtung mit rotierendem Substrattraeger

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
8315 Request for restriction filed
8381 Inventor (new situation)

Free format text: SCHERTLER, ROMAN, WOLFURT, AT

8318 Patent restricted
8306 Patent modified in the restriction proceedings (reprinted)