DE2451217C2 - Aktivierung von Substraten für die stromlose Metallisierung - Google Patents
Aktivierung von Substraten für die stromlose MetallisierungInfo
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 60
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 title claims description 17
- 230000004913 activation Effects 0.000 title description 15
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 89
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 41
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 4
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 39
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 20
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- -1 Hydrogen acids Chemical class 0.000 description 5
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 5
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical class OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N dimethyl maleate Chemical compound COC(=O)\C=C/C(=O)OC LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N azobenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N dibenzylideneacetone Chemical compound C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N 0.000 description 3
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- QFFVPLLCYGOFPU-UHFFFAOYSA-N barium chromate Chemical compound [Ba+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O QFFVPLLCYGOFPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 2
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- ZYECOAILUNWEAL-NUDFZHEQSA-N (4z)-4-[[2-methoxy-5-(phenylcarbamoyl)phenyl]hydrazinylidene]-n-(3-nitrophenyl)-3-oxonaphthalene-2-carboxamide Chemical compound COC1=CC=C(C(=O)NC=2C=CC=CC=2)C=C1N\N=C(C1=CC=CC=C1C=1)/C(=O)C=1C(=O)NC1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 ZYECOAILUNWEAL-NUDFZHEQSA-N 0.000 description 1
- LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloroethene Chemical group ClC(Cl)=C LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTMJOSQOBGNKJU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethoxybut-1-yne Chemical compound COCCC#COC QTMJOSQOBGNKJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDZGLKRYQGDOFS-UHFFFAOYSA-N C1=CCCCCC([Ni]C=2CCCCC=CC=2)=C1 Chemical compound C1=CCCCCC([Ni]C=2CCCCC=CC=2)=C1 QDZGLKRYQGDOFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001071864 Lethrinus laticaudis Species 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical class CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical class [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 235000019568 aromas Nutrition 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N but-2-yne-1,4-diol Chemical compound OCC#CCO DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H chromium(III) sulfate Chemical compound [Cr+3].[Cr+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 description 1
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 description 1
- NVIVJPRCKQTWLY-UHFFFAOYSA-N cobalt nickel Chemical compound [Co][Ni][Co] NVIVJPRCKQTWLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000007786 electrostatic charging Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000009996 mechanical pre-treatment Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-[2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-(2-methoxy-2-oxoethyl)amino]ethyl]amino]acetate Chemical compound C=1C=CC=C(OC(C)=O)C=1CN(CC(=O)OC)CCN(CC(=O)OC)CC1=CC=CC=C1OC(C)=O OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- SIBIBHIFKSKVRR-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynecobalt Chemical compound [Co]#P SIBIBHIFKSKVRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 230000002522 swelling effect Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- 238000010257 thawing Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Chemical class 0.000 description 1
- 150000003738 xylenes Chemical class 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
- C07F15/0006—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table compounds of the platinum group
- C07F15/006—Palladium compounds
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Description
A. ungesättigte Ketone der Formel
R2R2C = C-C-C = CR5R6
R3 O R4
worin R1, R3, R4 und R6 für Wasserstoff oder
einen C1- bis Cs-Alkylrest, R2 und R5 für einen
Cr bis Cs-Alkylrest oder Aryl- oder Cycloalkylrest mit 6 bis 11 C-Atomen stehen oder als
Liganden, die in der Lage sind, die Liganden A in dem System Palladium(O)-Ligand zumindest
teilweise zu verdrängen,
B. Phosphite der Formel
10
20
P(OR)3
25
mit R = Alkyl oder Aryl als η-Donatoren sowie olefinisch oder acelylenisch ungesättigte organischen
Verbindungen mit 3 bis 16 C-Atomen als π-Akzeptoren enthält,
in einem organischen Lösungsmittel behandelt und der Komplex zersetzt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß Palladium(O)-dibenzalaceton-Systeme
verwendet werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß Palladium(O)-Komplexe mit Phosphiten
und Estern der Malein- oder Fumarsäure oder Maleinsäureanhydrid als Liganden verwendet wer- *o
den.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Substrate mit
Lösungen des Palladium(O)-Komple\es in Benzol oder einem alkylsubstituierten Benzol behandelt *5
werden.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß Substratbehandlung
und Komplexzersetzung durch Eintauchen der auf 100 bis 300°C erhitzten Substrate in die Lösung des
Palladium(O)-Komplexes vorgenommen wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß jeweils nach ein- oder
mehrmaligem Eintauchen des Substrats in die Lösung des Palladium(0)-Komplexes das behandelte
Substrat auf eine zur Komplexzersetzung ausreichend hohe Temperatur erhitzt wird.
60
Die Erfindung betrifft ein in einfacher Weise durchführbares Verfahren zur Metallisierung von
Substraten durch wirksame Aktivierung des Substrats unter Abscheidung von Palladium aus einer Palladium-Verbindung
und nachfolgende stromlose Metallisierung des aktivierten Substrats in einem Metallisierungsbad.
Wie z. B. in der Monographie von F. A. Loewenheiin
»Metal Coating of Plastics«, Noyes Data Corp, Park Ridge, N.], 1970, angeführt ist, ist die Vorbehandlung
von Substraten für die stromlose Metallisierung üblicherweise recht zeitraubend. Nach einer chemischen
Vorbehandlung, z. B. mit Chromschwefelsäure, oder einer mechanischen Vorbehandlung der Substratoberflächen,
wird bei der üblichen Aktivierung erst eine Sensibilisierung des Substrats mit Zinnsalzen durchgeführt,
dann gespült und danach zur Aktivierung Palladiumchlorid aufgebracht.
In der GB-PS 1180 891 ist ein Verfahren zur
stromlosen Metallisierung von Substraten durch Reduktion von Metall-;r- Komplexen in nicht-wäßriger Lösung
unterhalb der thermischen Zersetzungstemperatur beschrieben. Durch die Reduktion des Metall-jr-Komplexes
in Gegenwart des Substrats wird das Metall feinverteilt auf das Substrat niedergeschlagen. Als
Reduktionsmittel hierfür wird vorzugsweise Wasserstoff eingesetzt. Aber auch geeignete Lösungsmittel, wie
z. B. Alkohole, oder die ungesättigte Kohlenwasserstoffgruppe des Metallkomplexes selbst können zur
Reduktion des im Komplex gebundenen Metalls in dessen Elementarform herangezogen werden.
Nachteilig an diesem Verfahren ist, daß bei der Reduktion der Metallkomplexe beim Einsatz von
Wasserstoff Säuren vom Typ HX bzw. beim Einsatz von Alkoholen über die Zwischenstufe der Aldehyde die
entsprechenden Carbonsäuren entstehen. Eine Metallisierung säureempfindlicher Substrate ist auf diese Weise
nicht möglich.
Aus der US-Patentschrift 35 01 332 ist bekannt, Kunststoffe mit nullwertigen Metallkomplexen, wie
Bis(cyclooctadienyl)-nickel in organischen Lösungsmitteln zu aktivieren. Dabei soll die Kombination von
Metallkomplex und organischem Lösungsmittel eine das Substrat anlösende oder anquellende Wirkung
haben bzw. das Substrat anlösbar bzw. anquellbar sein, damit eine Eindringtiefe des Metallkomplexes von
mindestens 5 μηι und bevorzugt zwischen 5 bis 80 μΐη,
ermöglicht wird. Schwer anlösbare Substrate müssen einer gesonderten Vorbehandlung unterzogen werden.
Der vorliegenden Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, eine wirksame Aktivierung von auch in den
angewandten Lösungsmitteln unlöslichen Substraten mit Palladium für die stromlose Metallisierung zu finden,
die einstufig und einfach auch bei höheren Temperaturen durchführbar ist, die auch bei säure- und
alkaliempfindlichen Substraten anwendb. ι und auch bei
nicht ganz ebenen Substraten, wie eloxierten Aluminiumplatten, wirksam zur Ausbildung einer glatten
Oberfläche nach der Metallisierung beiträgt. Auch sollen die anzuwendenden Aktivierungsbäder hinreichend
stabil sein.
Es wurde nun gefunden, daß im Verfahren zur Metallisierung von Substraten durch Aktivierung des
Substrats unter Abscheidung von Palladium und nachfolgende Metallisierung des aktivierten Substrats in
einem Metallisierungsbad die gewünschten Verfahrensvorteile weitgehend erreicht werden können, wenn die
Substrate mit einer Lösung eines Palladium(O)-Komplexes, der als Liganden
A. ungesättigte Ketone der Formel
R1R2C = C-C-C = CR5R6
R3 O R4
worin R1, R3, R4 und R6 für Wasserstoff oder einen
Alkylrest mit 1 bis 5 C-Atomen, R2 und R5 für einen
Alkylrest mit 1 bis 5 C-Atomen oder einen Aryl- oder Cycloalkylrest mit 6 bis 11 C-Atomen stehen,
oder als Liganden, die in der Lage sind, die Liganden A in dem System Palladium(O)-Ligand A
zumindest teilweise zu verdrängen,
B. Phosphite der Formel
P(OR)3
mit R = Alkyl oder Aryl als η-Donatoren sowie
C. olefinisch oder acetylenisch ungesättigte organische
Verbindungen mit 3 bis 16 C-Atome als π-Akzeptoren enthält,
Die Herstellung der Palladium(O)-Komplexe mit den
ungesättigten Ketonen A kann in der in Beispiel 1 angegebenen Art erfolgen. Die Herstellung der
gemischten PaIladium(O)-phosphit-Komplexe, die olefi-5
niscb bzw. acetylenisch ungesättigte Verbindungen als Liganden C enthalten, erfolgt bevorzugt durch Zugabe
von Phosphit (Liganden B) zum PalIadium(O)-dibenzalaceton-Komplex
und anschließende Zugabe der olefinisch bzw. acetylenisch ungesättigten Verbindung
to (Liganden C), z. B. von Maleinsäureanhydrid oder Butindiol-l,4-dimethyläther, oder durch Zugabe der
Liganden C zum Palladium(0)-dibenzal-Komplex und anschließende Zugabe der Liganden B.
Wie ausgeführt, wurde überraschend gefunden, daß die Stabilität der Lösungen der genannten Palladium^)-Komplexe
durch die Verwendung von Benzol und insbesondere alkylierten Benzolen, wie Toluol als
Lösungsmittel noch gesteigert werden kann. Die Konzentrationen der Komplexe in den Lösungen
Als bevorzugte PalIadium(0)-Komplexe mit ungesättigten Ketonen der Formel A seien die Komplexe bzw.
Systeme des Palladium(O) mit Dibenzalaceton
-CH = CH-C-CH = CH-
in einem organischen Lösungsmittel behandelt und der Komplex zersetzt wird.
Bevorzugt wird das Verfahren mit Lösungen der Komplexe in Benzol oder insbesondere einem alkylsub-
stituierten Benzol, wie ÄthylbenzoJ, Xylol oder bevor- 20 betragen je nach Art des Komplexes und Lösungsmhzugt
Toluol ausgeführt. tels etwa 15 mg/1 bis zur Sättigungskonzentration bei
Raumtemperatur und bevorzugt etwa 50 mg/1 bis zu 2 g/l. Weniger geeignete Lösungsmittel sind Halogenkohlenwasserstoffe
sowie z. B. Acetonitril, Tetrahydro-25 furan oder Dimethylformamid, da in ihnen eine leichte
Zersetzung der Metallkomplexe zum Metall erfolgen kann. Dieser zersetzende Effekt, z. B. der chlorierten
Kohlenwasserstoffe, kann sogar zur Substrataktivierung vei wendet werden. So gelang es, nach dem
genannt, die nicht nur eine gute aktivierende Wirkung, 30 Eintauchen eines Substrats in eine Lösung von
sondern auch eine besonders hohe Stabilität als Palladium-Dibenzalaceton-Komplex in Toluol bei
Lösungen in den vorstehend genannten Lösungsmitteln Raumtemperatur und anschließendes Eintauchen des
aufweisen. Obwohl die Palladium(O)- Komplexe, wieder behandelten Substrats bei Raumtemperatur in einen
Palladium(O)-dibenzalaceton-Komplex, oft vereinfacht chlorierten Kohlenwasserstoff, wie Dichloräthylen,
als Pd(dba)2 dargestellt wird, enthalten die Komplexe je 35 Trichloräthylen oder Tetrachloräthylen, eine nachfolnach
den Synthesebedingungen ein oder mehrere gende stromlose Metallisierung des Substrats, z. B. in
Palladiumatome im Metall und sollten daher besser als einem Kobaltsalz-Bad, durchzuführen. In Lösungsmit-Pa!ladium(O)-Liganden-Systeme
bezeichnet werden.. teln, wie Äthanol, Methanol oder Cyclohexan, zeigen die
Als Phosphite als Liganden B sind neben den bevorzugt verwendeten Komplexe nur eine geringe
Trialkylphosphiten mit jeweils etwa I bis 5 C-Atomen 40 Löslichkeit.
als bevorzugt die Triarylphosphite mit jeweils etwa 6 bis Es wurde ferner gefunden, daß die Stabilität der für
10 C-Atomen und insbesondere Triphenylphosphit die Aktivieimg verwendeten Palladium(O)-Komplexgenannt.
Lösung noch weiter gesteigert werden kann, wenn man
Als Liganden C sind von den olefinisch ungesättigten ihnen weitere potentielle Komplexbildner als n-Donato-Verbindungen
als ^-Akzeptoren besonders die Ester 45 ren und π-Akzeptoren zusetzt, wie Bis(l-pyrazolyl)-2-..__■
..__ _,,.„ J:_ .„...,
_,_.. .... ■ methan oder insbesondere Azobenzol. .
Als Substrate für die erfindungsgemäße Aktivierung eignen sich die verschiedenartigsten Substrate, wie
Metallsubstrate, oxidierte Metallsubstrate und Kunstdimethylester.
Auch Acrylnitril sowie olefinisch unge- 50 stoffsubstrate, auch im vernetzten Zustand. Wie
sättigte Monomere mit e-Werten von über 1,2 (vgl. elektronenmikroskopische Aufnahmen gezeigt haben,
ist beim Erfindungsgemäßen Verfahren ein Anlösen oder Anquellen der Substrate nicht erforderlich, da die
Nukleationszentren direkt auf den Substrateoberflä-
und vor allem die Alkylester der Malein- oder Fumarsäure sowie bevorzugt Maleinsäureanhydrid als
Ligand geeignet. Sehr geeignete Ester der genannten Art sind Maleinsäuredimethylester, ferner Fumarsäure-
»Polymer Handbook«, Interscience Publ., New York,
1766, S. 11-341) sind geeignet.
Als Beispiele geeigneter acetylenisch ungesättigter
Als Beispiele geeigneter acetylenisch ungesättigter
organischer Verbindungen mit 6 bis 16 C-Atomen als 55 chen, z. B. als etwa 50 bis 100 A große Palladiumkeime
π-Akzeptoren und Liganden in den PalIadium(O)-Komplexen
neben den genannten Phosphit-Liganden seien die Kohlenwasserstoffe und solche, bei denen die aciden
Gruppen durch Gruppen R, wie COO-Alkyl oder
oder als weitgehend geschlossene Palladiumfilme gebildet werden. Dies ist besonders deutlich bei der
bevorzugten Aktivierung, bei der die Substrate in einem auf etwa 100 bis 3000C und insbesondere 130 bis 2500C
CO-Alkyl, ausgetauscht sind, genannt, insbesondere 60 erhitzten Zustand in die Palladium(O)-Komp!ex-Lösun-
π .· 1'1JJ · 1· Γ\ .'1* ld J I* 111.. .1 · . ■ μ
_
Butindiol-1,4 sowie die Butindio!-1,4-dialkyläther, wie
der Butindiol-l,4-dimethyläther.
Die bevorzugten Palladiurn(O)-Komplexe sind die Komplexe, die Maleinsäureanhydrid sowie Triphenyl-
gen eingetaucht werden. Es war überraschend, daß sich
z. B. die PalladiumiOJ-dibenzalaceton-Komplex-Lösungen nicht nur durch gute Beständigkeit an der Luft
ausgezeichneten, sondern, obwohl sie selbst thermisch
z. B. die PalladiumiOJ-dibenzalaceton-Komplex-Lösungen nicht nur durch gute Beständigkeit an der Luft
ausgezeichneten, sondern, obwohl sie selbst thermisch
phosphit. Maleinsäuredimethylester sowie Triphenyl- 65 zersetzbar sind, als Lösungen in Toluol auch nach
phosphit als Liganden enthalten sowie insbesondere die Palladium(O)-dibenzalaeeton-Komplexe, die sich besonders
bewährt haben.
zweimonatigem fast täglichen Gebrauch stabil waren
und keine merkliche Komplexzersetzung zeigten,
obwohl die Substrate mit Temperaturen von ieweils
und keine merkliche Komplexzersetzung zeigten,
obwohl die Substrate mit Temperaturen von ieweils
etwa 200 bis 250°C in die Lösungen bei Raumtemperatur
eingetaucht worden waren. Fast gleich stabil erwies sich das System
CH3O-C
CH
CH
Pd(O1 [P(OC6Hs)3J2
CH3O-C
in Toluol. Bevorzugt erfolgt das Eintauchen der erhitzten Substrate in die PaIladium(O)-Komplex-Lösungen
(die bei etwa Raumtempera'Mr gehalten werden) unter einer Inertgasatmosphäre, wie unter Stickstoff,
Kohlendioxid oder Edelgasen. Obwohl die Behandlung durch einmaliges Eintauchen der heißen Substrate in die
Palladium(O)-Komplex-Lösungen meist hinreichend ist, kann dieses natürlich auch mehrfach, wie 2- bis 4mal,
erfolgen. Die Zahl der Tauchungen (Aktivierungen) wird dabei vor allem von der angewandten Temperatur,
der Wärmekapazität des Substrats, von der Art und Konzentration des Komplexes und der Art der Zusätze
zur Lösung bestimmt. Vorzugsweise werden die Substrate wegen der Gefahr einer elektrostatischen
Aufladung kurz geerdet.
In einer bewährten Anordnung ist der Behälter des Aktivierungsbades so gestaltet, daß er nur eine
schlitzförmige öffnung (ähnlich einer Sparbüchse) Komplex-Lösung verwandt wird.
Zur stromlosen Metallisierung können die üblichen Metalüsierungsbäder und üblichen Methoden angewandt
werden, wie sie z. B. in der Monographie vor W. Goldie, Metallic Coating of Plastics, Vol. I.
Electrochemical Publications Ltd., Hatch End, Middlesex,
England. 1968, insbesondere in Kapitel 9. in der oben angegebenen Monographie von F. A. Loewenheim
und insbesondere von A. Brenner und G. E. Riddell in J. Res. Natl. Bur. Std. 37 (1), 31 (1946), Proc. Amer.
Electroplated Society 34(1947), 156 sowie ir. den L) S-PS
25 32 283 und 25 32 284 angegeben sind.
Besonders günstig hat sich die Aktivierung zur Abscheidung von magnetischen Metallschichten erwiesen,
wie Schichten von Kobalt, Kobalt-Phosphor- oder Kobalt-Nickel-Legierungen. Die Stärken der stromlos
abgeschiedenen Metallschichten lassen sich in bekannter Weise variieren; sie betragen bevorzugt 0,05 bis
1 μπι.
Die in den nachstehenden Beispielen genannten Teile und Prozente beziehen sich, soweit nicht anders
angegeben, auf das Gewicht. Volumenteile verhalten sich zu Teilen wie Liter zu Kilogramm.
30 Herstellungeines Palladium(0)-dibenzalaceton-Komplexes
In einer Lösung von 10,7 Teilen Natriumchlorid in 65 Volumenteilen Wasser werden 15 Teile PdCb
(59,75% Pd) unter gutem Rühren zum Sieden erhitzt, bis alles PdCb in Lösung gegangen ist. Danach wird das
Wasser abdestilliert. Den Rückstand nimmt man in 200
aufweist, durch die die erhitzten Substrate mit Hilfe 35 Volumenteilen Methanol auf. Man erhitzt die Lösung
einer Schienenführung kurz in die Palladium(0)-Kom- auf 6O0C und setzt ihr 61,5 Teile Dibenzalaceton, 42,8
plex-Lösung in dem Behälter eingebracht werden. Teile CH3COONa ■ 3 H2O und 175 Teile Methanol zu
Gegebenenfalls kann bei rasch folgenden Eintauchfol- und hält sie danach noch 5 Minuten bei 6O0C. Danach
gender Behälter mit einer Kühlung ausgerüstet sein, die läßt man den Ansatz abkühlen. Es bildet sich ein
es ermöglicht, die Lösung bei etwa Raumtemperatur 40 Niederschlag, der unter Argon abgenutscht, dreimal mit
oder einer Temperatur unter etwa 50° C zu halten. je etwa 100 Volumenteilen Wasser und zweimal mit je
Zur Vermeidung von Ablaufspuren der Komplex-Lö- etwa 50 Volumenteilen Methanol gewaschen wird. Er
sungen, die nach der Metallisierung sichtbar sein wird bei Raumtemperatur im Vakuum getrocknet. Die
können, hat es sich als günstig erwiesen, die Substrate rotvioletten Kristalle sind in aromatischen Kohlenwasnach
der Behandlung mit einem Lösungsmittel, bevor- 45 serstoften wie Benzol, Toluol und anderen Alkylaromazugt
dem in der Komplex-Lösung verwandten, nachzu- ten gut löslich,
spülen.
spülen.
Es ist natürlich auch möglich, die erfindungsgemäße Aktivierung so vorzunehmen, daß die Substrate bei
etwa Raumtemperatur ein oder mehrmals in die Palladium(O)-Komplex-Lösungen (bei etwa Raumtemperatur)
eingetaucht werden und zwischen bzw. nach den Tauchungen die behandelten Substrate erhitzt
werden.
Das Verfahren eignet sich besonders zur Aktivierung von unquellbaren und unlöslichen vernetzten Kunststoffsubstraten,
wo es ohne besondere Vorbehandlung angewandt werden kann, sowie für chemisch empfindliche,
wie säure- und alkaliempfindliche Substrate, wie
Analyse:
70,8% C, 5,3% H, 6,3% O, 17,4% Pd,
<0,5% Cl-.
50
Der Stoff bezeichnet.
wird nachstehend als Pd-dba-Komplex
Herstellung des Bis(triphenylphosphit)-Maleinsäureanhydrid)-Palladium(O)-Komplexes
Eine Lösung von 2,9 Teilen des Pd-dba-Komplexes gemäß Beispiel 1 in 50 Volumenteilen Aceton wird unter
bestimmte Metallsubstrate, wie Aluminiumsubstrate, 60 Argonatmosphäre unter gutem Rühren mit 3,6 Teilen
deren Oberflächen auch eloxiert sein können. Überraschend war hierbei, daß das erfindungsgemäße Aktivierungsverfahren
zu einem gewissen Oberflächenausgleich (Glättung) der resultierenden metallisierten
Oberflächen beiträgt.
Es ist selbstverständlich zweckmäßig, die Substrate in gereinigtem Zustand zu verwenden, z. B. sie mit dem
Lösungsmittel vorzuspülen, das in der Palladium(O)-
65 Triphenylphosphit versetzt, worauf die Farbe der Lösung während etwa '/2 Stunde nach der Zugabe von
Rotbraun nach einem dunklen Gelbgrün wechselt. Man setzt dann 0,5 Teile Maleinsäureanhydrid zu und rührt
weitere 2 Stunden bei Raumtemperatur. Den Ansatz filtriert man zur Entfernung von Spuren eines
schwarzen Niederschlags und engt das Filtrat im Vakuum ein, bis sich graugrüne Kristalle abscheiden, die
durch Lösen in Äther und Ausfällen mit Petroläther gereinigt werden.
CO —CH
CO — CH
Pd
Hellgelbe | Kristalle, Schmelzpunkt 135 bis | 58,2% C | • Pd): | 7,5% P | 137° C. | Pd |
Analyse (C4oH J2O9P2 | 58,4% C | 4,0% H | 7,5% P | Pd | ||
Ber.: | 3,9% H | Be i s ρ ie ! 3 | 12,9% | |||
gef.: | 12,8% | |||||
Herstellung eines Maleinsäuredimethylester-Triphenylphosphit-Palladium(O)-Komplexes
Eine Lösung von 2,9 Teilen des Pd-dba-Komplexes in 50 Volumenteilen Aceton wird unter gutem Rühren mit
3,6 g Triphenylphosphit versetzt, wonach die Farbe des Ansatzes von Rotbraun nach einem dunklen Gelbgrün
umschlägt. Der homogenen Lösung setzt man 0,8 Teile Maleinsäuredimethylester zu, rührt 2 Stunden bei
Raumtemperatur und filtriert dann den Ansatz unter Argon zur Entfernung von Spuren eines schwarzen
Niederschlags. Das Filtrat wird im Vakuum zu einem Gemisch von einem Öl und braunen Kristallen
eingeengt. Man nimmt den Rückstand in 50 Volumenteilen Äther auf, filtriert die ätherische Lösung zur
Abtrennung unlöslicher Anteile und engt das Filtrat bis zur Kristallbildung ein, die sich durch Zugabe von 10
Volumenteilen Methanol sich verstärkt. Es resultieren 1,3 g einer zitronengelben Substanz.
Elementaranalyse:
71,6% C, 5.3% H, 12,5% 0,5,1 % P, 5.2% Pd.
71,6% C, 5.3% H, 12,5% 0,5,1 % P, 5.2% Pd.
Der Komplex ist in Alkylaromaten und Benzol gut
löslich
B e i s ρ i e 1 4
Herstellung eines Butindiol-l,4-dimethyläther-Tripheny]phosphit-Pal!adium(O)-Kompiexes
Man verfährt wie in Beispiel 3 angegeben, setzt jedoch dem Reaktionsgemisch aus dem Pd-dba-Komplex
und Triphenylphosphit statt 0,8 Teilen Maleinsäuredimethylester 1,4 Teile Butindiol-l,4-dimethyläther zu.
Es resultieren zitronengelbe Kristalle, die in Benzol und Alkylaromaten gut löslich sind und stabile Lösungen
ergeben.
zugegeben werden. Es werden homogene Palladium(O)-Komplex-Lösungen
erhalten.
Eine eloxierte Aluminiuniplatte wird auf 200'C
erwärmt und in diesem Zustand 5 Sekunden lang in eine Lösung von 1 g/l des gemäß Beispiel 4 hergestellten
Butindiol-1,4-dimethyläther-Bis(triphenylphosphit)-Palladium(O)-Komplexes
in Toluol getaucht. Das Eintau-
H) chen wird nochmals wiederholt. Auf das aktivierte Substrat wird danach in einem bekannten Metallisierungsbad,
das Kobalt-Ionen, Hypophosphilionen, Citrat als Komplexbüdner sowie Ammoniak und Ammoniumchlorid
zur pH-Wert-Kontrolle enthält, eine Kobalt-
Ii schicht abgeschieden. Man erhält einen glänzenden, gut
haftenden Metaüfilm.
Eine mit Natronlauge vorbehandelte 70 μηι starke
Polyäthylenterephthalat-Folie wird 5 Minuten bei
Raumtemperatur in eine Lösung des gemäß Beispiel 2 hergestellten Bis(triphenylphosphit)-Maleinsäure-
anhydrid-Pailadium(O)-Komplexes in Benzol(0,5 g/l)getaucht,
und nach dem Herausnehmen und Trocknen der Folie wird diese für 12 Minuten auf 1500C erhitzt. Nach
Abkühlen auf Raumtemperatur wird das aktivierte Substrat wie in Beispiel 9 angegeben stromlos mit einer
Kobaltmetallschicht versehen.
Eine auf eine Aluminiumplatte aufgeklebte 50 μΐη
starke Polyamidimid-Folie wird auf 240°C erwärmt und
rasch in eine Lösung des gemäß Beispiel 3 hergestellten Maleinsäure-dirr.eth.ylester-triphenylphosphit-Palladium(O)-Komplexas
in einem Xylolisomerengemisch (0,4 g/l) eingetaucht. Der Vorgang wird noch zweimal
wiederholt. Beim nachfolgenden stromlosen Metallisieren in einem Kobaltbad, wie in Beispiel 9 angegeben,
wird eine fest haftende Metallschicht erzielt.
Eine haftfesi auf eine Aiuniiniumpiatte aufgebrachte
dünne wärmegehärtete Schicht einer Dispersion von feinteiligen «-Fe2O3-Teilchen in einem Binder auf Basis
eines Epoxidharzes wird auf 2200C erwärmt und sogleich in eine 250 mg/1 Lösung eines gemäß Beispiel 1
hergestellten Pd-dba-Komplexes in Äthylbenzol eingetaucht und nach dem Temperaturausgleich herausgenommen.
Das auf Raumtemperatur abgekühlte aktivierte Substrat wird in einem Metallisierungsbad wie in
Beispiel 9 angegeben mit einer Kobaltschicht versehen. Es resultiert eine fest haftende tanzende Metallschicht.
Beispiele 5bis8
Lösungen weiterer PalIadium(O)-Komplexe wurden hergestellt, indem zu Lösungen von jeweils 0,58 Teilen
des Pd-dba-Komplexes in 500 Volumenteilen Toluol 1.2 Teile Triphenylphosphit und danach
Beispiel 5: 0,13 Teile Acrylnitril
Beispiel 6: 03 Teile \crylamid
Beispiel 7: 0,4 Teile Vinylpropionat
Beispiel 8: 0,7 Teile Azobenzol
Es wird wie in Beispiel 12 verfahren, jedoch die mit
der Dispersionsschicht versehene Aluminiumplatte zur Aktivierung viermal auf 2400C geheizt, in eine
Palladium-Komplex-Lösung getaucht, die auf je 5 Liter Toluol 5,8 g Pd-dba-Komplex, 12 g Triphenylphosphit
und 7 g Azobenzol enthält, nach 30 Sekunden herausgenommen und an der Luft getrocknet. Das
abgekühlte Substrat wird in einem Metallisierungsbad wie in Beispiel 9 angegeben mit einer fest haftenden,
glänzenden Metallschicht versehen.
Claims (1)
1. Verfahren zur Metallisierung von Substraten durch Aktivierung des Substrats unter Abscheidung
von Palladium und '!achfolgende stromlose Metallisierung
des aktivierten Substrats in einem Metallisierungsbad, dadurch gekennzeichnet, daß
die Substrate mit einer Lösung eines Palladium(O)-Komplexes,
der als Liganden
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FR7533028A FR2289629A1 (fr) | 1974-10-29 | 1975-10-29 | Activation de substrats pour la metallisation sans courant electrique |
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DE2451217A DE2451217C2 (de) | 1974-10-29 | 1974-10-29 | Aktivierung von Substraten für die stromlose Metallisierung |
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---|---|
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Family
ID=5929406
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---|---|---|---|
DE2451217A Expired DE2451217C2 (de) | 1974-10-29 | 1974-10-29 | Aktivierung von Substraten für die stromlose Metallisierung |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3993807A (de) |
JP (1) | JPS5841347B2 (de) |
DE (1) | DE2451217C2 (de) |
FR (1) | FR2289629A1 (de) |
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- 1975-10-24 US US05/625,657 patent/US3993807A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-10-27 JP JP50128436A patent/JPS5841347B2/ja not_active Expired
- 1975-10-29 FR FR7533028A patent/FR2289629A1/fr active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2289629B1 (de) | 1980-01-04 |
JPS5167233A (de) | 1976-06-10 |
FR2289629A1 (fr) | 1976-05-28 |
US3993807A (en) | 1976-11-23 |
JPS5841347B2 (ja) | 1983-09-12 |
GB1525494A (en) | 1978-09-20 |
DE2451217A1 (de) | 1976-05-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8125 | Change of the main classification | ||
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8381 | Inventor (new situation) |
Free format text: STABENOW, JOACHIM, DIPL.-PHYS. DR., 6940 WEINHEIM, DE WUNSCH, GERD, DIPL.-CHEM. DR., 6720 SPEYER, DE DEIGNER, PAUL, DR., 6714 WEISENHEIM, DE MUELLER, FRANZ-JOSEF, DIPL.-CHEM. DR., 6703 LIMBURGERHOF, DE LOESER, WERNER, DIPL.-ING. DR., 6700 LUDWIGSHAFEN, DE STECK, WERNER, DIPL.-CHEM. DR., 6704 MUTTERSTADT, DE |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |