DE2449766B2 - Optisches projektionssystem, insbesondere fuer einen lichtzeichner - Google Patents
Optisches projektionssystem, insbesondere fuer einen lichtzeichnerInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein optisches Projektionssystem,
insbesondere für einen Lichtzeichner, mit einem Projektionskopf, der eine Lichtquelle, wenigstens
einen einem Lichtleiterbündel zugeordneten Abblendmechanismus mit einer Blende und im Lichtweg
hinter diesem ein die Ebene einer im Lichtweg liegenden Maske beleuchtendes Kondensorsystem sowie ein
Projektionslinsensystem zur Abbildung der Maske aufweist.
Das Projektionssystem gemäß der Erfindung ist insbesondere
für automatische Zeichenmaschinen gedacht, bei denen dann, wenn Kopf und Zeichenplatte
feststehen. Masken mit beliebiger Form, z. B. Punkte, Buchstaben, Zahlen, Zeichen und Symbole, auf lichtempfindliches
Material abgebildet werden können. Bewegt sich der Kopf gegenüber der Fläche des lichtempfindlichen
Materials, so können vorgegebene Linien auf dem Material aufgezeichnet werden.
Lichtempfindliche Materialien haben unterschiedliche Dicken, und zwar abhängig davon, ob sie aus
Trockenplatten oder Film, der wiederum verschiedene Stärke haben kann, bestehen. Diese unterschiedliche
Materialstärke müßte an sich ausgeglichen werden. Trotzdem ist bei herkömmlichen photographischen
Zeichenmaschinen keine Möglichkeit vorgesehen, dieser Verschiebung der Bildebene infolge der unterschiedlichen
Stärke des lichtempfindlichen Materials, das Anwendung findet, auszugleichen. Es wird vielmehr
bei den bekannten Zeichenmaschinen in Kauf genommen, daß diese bei verschiedenen Materialstärken
außerhalb des Schärfebereiches arbeiten. Soweit bei den bekannten Zeichenmaschinen eine Nachvorgesehen
ist. wird ledigiah eine Verlagerung der Bildebene dadurch ausgeglichen, das
die Projektionslmse verstellt wird, nicht jedoch die
Maske oder die Zeichenplatte verschoben werden. wodurch ein Fehler im Abbildungsmaßstab und somit
z. B. in der Breite der zu zeichnenden Linien entsteht. Die Veränderung in Abbildungsmaßstab führt
außerdem zu einer Veränderung der Lichtstarke des abgebildeten Punktes, was ebenfalls Veränderungen
■ ο in der Breite der gezeichneten Linien verursacht.
Bei den bekannten Abblendmechanismen wird die
Blendenöffnung in einer vorgegebenen Ebene entweder durch eine Blendenscheibe verändert oder es
erfolgt ein Abblenden der Lichtintensität mittels eines Materials, welches einen veränderlichen Lichtdurchlässigkeitsfaktor
hat, um so eine Belichtungssteuerung zu ermöglichen. Die Methode, die Blendenöffnung
durch Betätigung einer Blendenscheibe zu verändern, ist für die Anwendung bei einem Lichtzeichner wenig
geeignet, da bisher keine Mechanismen auf dem Markt sind, die den hohen Beanspruchungen standzuhalten
in der Lage wären. Die Verminderung der Strahlungsintensität bzw. des Lichtflusses mit einem Material
veränderlicher Lichtdurchlässigkeit kann auch mit Hilfe eines optischen Filters, z. B. eines Lichtkeiles,
oder unter Benutzung einer polarisierenden Scheibe, eines Flüssigkristalls oder eines Kristalls wie KDP
erfolgen. Bei Benutzung eines optischen Filters tritt jedoch insbesondere die Schwierigkeit auf, den Lichtdurchlässigkeitsfaktor
auf einem gleichbleibenden Wen zu halten. Wird von einem Kristall (KDP)
Gebrauch gemacht, dann bereitet es Schwierigkeiten, den Einfallswinkel des Lichtes zu steuern. Die Verwendung
eines Flüssigkeitskristalls führt zu Schwieriges
keiten bezüglich des Ansprech- und Kontrastverhältnisses. Alle herkömmlichen Abblendmechanismen
und -methoden sind also mit Schwierigkeiten verbunden und für die Anwendung bei einer schnellen Abblendvorrichtung
zur Steuerung der Lichtmenge in einem Lichtzeichner wenig geeignet.
Bei dem bekannten Projektionssystem der eingangs erwähnten Art beleuchtet eine Niederspannungs-Halogen-Glühlampe
über einen Kondensor und ein Objektiv in einer separaten Lichtbox die eine Endfläche
eines Lichtteiterkabels, welches von der Lichlbox zum Lichtzeichenkopf führt, wobei dann das andere
Ende des Lichtleitkabels die Lichtquelle für den Lichtzeichenkopf bildet. In der Lichtbox ist im Bereich
der Lichtleiteröffnung ein Abblendmechanismus vorgesehen, dessen Blende, ein dünnes ebenes Metallplättchen,
mit der Spule eines elektromagnetischen Tauchspulensystems verbunden ist. In der Ruhestellung
deckt die Blende die Lichtleiteröffnung vollkommen ab. Entsprechend der elektrischen Ansteuerung
gibt die Blende einen der Größe ihres Hubs entsprechenden Querschnitt der Lichtleiteröffnung
frei, so daß ein bestimmter Lichtstrom in den Lichtleiter eintreten kann, wobei der Strom von Null bis
zu einem Maximalwert stufenlos steuerbar ist. Das Lichtleiterkabel hat bei dem bekannten Projektionssystem
im wesentlichen nur die Aufgabe, die optische Verbindung zwischen der separaten Lichtbox und dem
Lichtzeichenkopf herzustellen. Das die Blende bildende Metallplättchen ragt dabei mehr oder weniger
hs weit in den Strahlengang des Lichtes aus der
Halogenlampe hinein und deckt einen mehr oder weniger großen Teil an einer Seite des Gesamtstrahles
ab. Dies hat den Nachteil, daß der Strahleneane im-
symmetrisch geschwächt wird und somit auch keine Gewahr fiir eine gleichmäßige Ausleuchtung bzw.
Beleuchiungsdichte der erzeugten Linien od. dgl gegeben
ist Es wird vielmehr das Projektionslicht an einer
Seite heller und auf der anderen Seite weniger hell ausfallen, was die Qualität des gezeichneten Bildes
natürlich beeinträchtigt.
Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, ein optisches Projektionssystem der eingangs genannten
Art zu schaffen, bei dem auf mögitchst einfache Weise
sichergestellt ist, daü beim Abblenden eine über den
Querschnitt des Strahlenganges im wesentlichen gleichbleibende Lichtintensität aufrechterhalten wird,
wobei der bei dem System gemäß der Erfindung verwendete
Abblendmechanismus auch ausreichende Stabilität besitzt und die vorstehend erläuterten
Schwierigkeiten der bekannten, den Lichtfluß schwächenden Systeme nicht befürchten sind.
Zur Lösung dieser Aufgabe wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, daß die Blende als Hohlzylinder mit
einander gegenüberliegenden symmetrischen Blendenöffnungen
in der Zylinderwand ausgebildet ist und daß das Lichtleiterbündel im Inneren des Hohlzylinders
koaxial zum Strahlengang durch die Blendenöffnung angeordnet ist.
Durch die Ausbildung der Blende als Hohh-ylinder
mit einander gegenüberliegenden symmetrischen Blendenöffnungen in der Zylinderwand wird erreicht,
daß bei der Schließbewegung der Blende das einfallende Licht auf einer Seite, das austretende Licht
hingegen auf der anderen Seite ausgeblendet wird, so daß die Symmetrieachse des die Blende durchsetzenden
Lichtes unverändert bleibt. Durch geeignete Wahl der Ausbildung der Blendenöffnung kann
darüber hinaus eine progressive, degressive oder lineare Minderung der Lichtintensität über den Schwenkwinkel
des Hohlzylinders erzielt werden. Durch die Anordnung des Lichtleiterbündels koaxial zum
Strahlengang durch die Blendenöffnung wird dabei erreicht, daß bei der Schließbewegung der hohlzylindrischen
Blende tatsächlich lediglich zwei einander symmetrisch gegenüberliegenden Randbereiche des
die Blende durchsetzenden Lichtes ausgeblendet werden, so daß das aus dem Abblendmechanismus austretende
Licht mit unveränderter und nach wie vor gleichmäßig verteilter Intensität vorliegt, jedoch die
Querschnittsfläche des Lichtbündels durch symmetrisch zur optischen Achse liegende Ausblendungen
verringert ist. Dies führt zu einer gleichmäßigen Lichtintensität des auf die Abbildungsebene auftreffenden
Lichtes. Da das Lichtleiterbündel im Inneren der hohlzylindrischen Blende sehr kurz sein
kann, ist auch kaum mit Lichtverlusten zu rechnen, während bei dem eingangs erwähnten Lichtzeichner
infolge der Länge des Lichtleiters von etwa 1 m Licht-Verluste von etwa 40% auftreten können.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen des Projektionssystems gemäß der Erfindung sind Gegenstand
der Ansprüche 2 und 3.
Nachstehend wird ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel eines Projektionssystems gemäß der Erfindung
an Hand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 im Schnitt das Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen
Projektionssystems,
Fig. 2 einen Schnitt durch ein Projektionssystem ähnlich Fig. 1, wobei jedoch das Lichtleiterbündel
im Abblendmechanismus fehlt, und
Fie. 3a und 3b Schnitte durch den Abbicndmecha-
nismus in unterschiedlichen Positionen
Wie Fig. I zeigt,gelangt der Lichtstrom einer Lichtquelle
O. ι. B einer Jodlampe, über eine BeleuchtungslmseL:
/u einem \l!ilendmechanismus,mitdem
eine Veiänd -; der weitergeleiteten Lichtmenge
möglich is' ;Jer Abblendmechanismus umfaßt e nc
hohlz\lind. sehe Blende S, die zwei gleiche Öffnungen
aufweist welche in der Zylinderwand der Blende S einander diametral gegenüberliegend und symmetrisch
ίο angeordnet sind. Bei Verdrehung der Blende S um
ihre (zur Zeichenebene vertikale) Achse wird nui der
durch die Öffnungen des Abblendmechanismus bzw.
der Blende S hindurchtrelende Lichtfluß abgebildet.
Innerhalb der hohlzyündrischen Blende 5 ist ein Lichtleiterbündel
F feststehend angeordnet, die optische Achse des Lichtleiterbündels F fällt mit der optischen
Achse der Blende i (s. F1 g. 1) zusammen. Die Blende S
in Verbindung mit dem Lichtleiterbündel F bildet das Steuerelement /ur Veränderung der von der Lichtquelle
O kommenden Lichtmenge.
Ein Strahlenteiler M reflektiert den größten Teil des aus dem Abblendmechanismus kommenden Lichtes
und la"! lediglich einen kleinen Teil durch. Dieser kleine Teil kommt zu einem lichtempfindlichen
Element P, /. B. einem Pholoelemeni, welches die
Intensität des durchgelassenen Lichtes bestimmt. Die
Maske -i wird über ein Linsensystem aus den Linsen /
und L-, beleuchtet, wobei das Linsensystem L- und I , die Lichtstrahlung sammelt und für eine gleichförmige Ausleuchtung der abzubildenden Maike mit hoher Lichtslaik; sorgt. In dem Raum zwischen den Linsen L- und L-. (Abstand </:) verläuft die Strahlung etwa parallel Hs ist weiter eine Projektionslinse L4 vorgesehen, die die Maske A mit der gewünschten Vergrößerung (b/w Verkleinerung) abbildet. Das tatsächliche Bild der Maske A entsteht bei £, wobei die Abbildung auf dem auf der Zeichenplatte aufliegenden lichtempfindlichen Material mittels der Projektionslinse L4 erfolgt.
und L-, beleuchtet, wobei das Linsensystem L- und I , die Lichtstrahlung sammelt und für eine gleichförmige Ausleuchtung der abzubildenden Maike mit hoher Lichtslaik; sorgt. In dem Raum zwischen den Linsen L- und L-. (Abstand </:) verläuft die Strahlung etwa parallel Hs ist weiter eine Projektionslinse L4 vorgesehen, die die Maske A mit der gewünschten Vergrößerung (b/w Verkleinerung) abbildet. Das tatsächliche Bild der Maske A entsteht bei £, wobei die Abbildung auf dem auf der Zeichenplatte aufliegenden lichtempfindlichen Material mittels der Projektionslinse L4 erfolgt.
Bei der Vorrichtung gemäß F i g. 1 ist der Abstand d,
veränderlich, wobei bei Veränderung des Abstandes die Einheit B. welche aus der Linse L<, der Maske A,
der Projektionslinse L4 und dem realen Bild E besteht,
auf- und abbewegt werden kann, ohne daß die Lage der einzelnen Teile der Einheit B zueinander verändert
würde.
Das Lichtleiterbündel Fist so angeordnet, daß seine
ausgangsseitige Endfläche im wesentlichen in der Brennebene der Linse L2 liegt. Infolgedessen verläuft
der Strahlengang, ausgehend von dem LichtleiterbündelF, annähernd parallel durch die Linse L2 hindurch
und tritt so in die Linse L3 ein. Da die Linse L1
so angeordnet ist, daß ihre Schnittebene etwa mit der Pupillenebene der Projektionslinse L4 zusammenfällt,
wird das reale Bild der Endfläche des Lichtleiterbündels Fin der Pupillenebene der Projektionslinse L4
abgebildet. Diese Zuordnung ändert sich nicht, auch wenn die Einheit B zur Änderung des Abstandes rf, auf-
und abbewegt wird, so daß das reale Bild E immer gleichmäßig mit konstanter Lichtstärke beleuchtet
wird. Weiterhin ergibt sich natürlich auch keine Änderung in dem bei der Projektion eintretenden Vergrößerungsfaktor
und somit bezüglich des realen Bildes E. Mit Hilfe des optischen Projektionssystems
nach der Erfindung kann daher durch Bewegung der Einheit B in Abhängigkeit von der Stärke des lichtempfindlichen
Materials, das jeweils Verwendung findet, bei unveränderter Vergrößerung eine gleich-
mäßige Ausleuchtung über die gesamte Zeilenbreite auf der Bildebene gewährleistet werden. Es können
somit Zeichnungen mit Linien konstanter Stärke erzeugt werden.
Der Strahlenteiler M kann natürlich nicht nur zwisehen
dem Abblendmechanismus (Blende S, Lichtleiterbündel F) und der Linse L2 angeordnet sein. Es
ist in gleicher Weise möglich, den Strahlenteiler M zwischen den Linsen L2 und Lh zwischen der Linse L}
und der Maske A, zwischen der Maske A und der Projektionslinse L4 oder aber auch zwischen der Projektionslinse
L4 und dem realen Bild E anzuordnen.
Weiterhin ist es nicht erforderlich, das Projektionssystem gemäß Fig. 1 so auszubilden, daß es an dem
Strahlenteiler M rechtwinkelig abknickt. Es wäre genauso gut möglich, alle Elemente in einer geraden
Linie anzuordnen, wobei im letzteren Falle jedoch ein Strahlenteiler M verwendet werden müßte, der fast
durchscheinend ist, um zu verhindern, daß die zur Abbildung
verwendete Lichtstärke zu stark reduziert wird.
Zur näheren Erläuterung der Wirkung des Abblendmechanismus gemäß der Erfindung zeigt Fig. 2 ein
optisches Projektionssystem, bei dem der Abblendmechanismus zwar eine hohlzylindrische Blende 5,
jedoch kein Lichtleiterbündel F aufweist. Bei dem Projektionssystem gemäß Fig. 2 wird das von der
Lichtquelle O ausgehende Licht durch die Sammellinse L1 gebündelt, wodurch ein erstes Bild O' der
Lichtquelle O innerhalb des Hohlzylinders S entsteht.
Dieses Bild O' wird dann von einer weiteren Linse L5
(die den Linsen L2 und Ly in Fig. 1 entspricht) wiederum
bei O" in der Pupillenebene der Projektionslinse L4
abgebildet.
Wie aus Fig. 2 zu erkennen ist, wird bei dem dort gezeigten Projektionssystem die Maske A dann gleichförmig
ausgeleuchtet, wenn der Hohlzylinder 5 des Abblendmechanismus weder den einfallenden noch den
austretenden Lichtstrahl beschneidet, d. h., wenn beide Öffnungen der Blende S im wesentlichen symmetrisch
zur optischen Achse liegen. Wird jedoch die hohlzylindrische Blende S um ihre Symmetrieachse, die
gleichzeitig die Rotationsachse bildet, verdreht, um einen Teil der Lichtmenge auszublenden, dann wird
einseitig ein Teil des Lichtes ausgeblendet, und es ergibt sich eine Verschiebung des Gleichgewichtes bezüglich
der Ausleuchtung. Je nach Verdrehungswinkel erfolgt eine Beschneidung der Strahlung in den schraffierten
Bereichen, wodurch die Maske A im oberen Bereich stärker, im unteren Bereich schwächer beleuchtet
wird (bei Drehung der Blende S im Uhrzeigersinn).
Es ist leicht einzusehen, daß eine derartige Ungleichmäßigkeit in der Ausleuchtung der Maske A einen
großen Nachteil darstellt, wenn die Linienstärke und der Linienabstand bei einem Lichtzeichner mit hoher
Genauigkeit eingehalten werden müssen. Wenn nun erfindungsgemäß das Lichtleiterbündel F innerhalb
der hobJzylindrischen Blende S angeordnet ist, ist mit
dem Auftreten derartiger Ungleichmäßigkeiten bei der Ausleuchtung der Maske A nicht mehr zu rechnen.
Wie die Fig. 1 bis 3 zeigen, ist das Lichtleiterbündel F so angeordnet, daß seine optische Achse mit der Strahlungsachse
zusammenfällt. Bei Abblendung durch Verdrehung der Blende S wird nun an einer Seite der
Blende S die Strahlung, die auf die eingangsseitige Oberfläche des Lichtleiterbündels F auffällt, teilweise
beschnitten. Nachdem die Strahlung das Lichtleiterbündel F durchsetzt hat, erfolgt eine entsprechende
Beschneidung an der Austrittsöffnung.
Die Fig. 3a und 3b zeigen nun in vergrößertem Maßstab die Wirkungsweise des Abblendmechanismus
mit der Blende S und dem Lichtleiterbündel F, wobei die Fig. 3a den Abblendmechanismus bei voll geöffneter
Blende darstellt. In dieser Stellung liegen die Öffnungen a-b bzw. c-d symmetrisch zur optischen
Achse. Die Fig. 3b zeigt eine Position des Abblendmechanismus, in der ein Teil des Lichtes durch Verdrehung
der Blende S ausgeblendet ist. Dabei wird das einfallende Licht teilweise durch den Randbereich
α der eingangsseitigen Öffnung ausgeblendet. Nach dem Durchtritt des Lichtes durch das optische
Lichtleiterbündel F erfolgt nochmals eine teilweise Beschneidung des Lichtstrahles, und zwar durch den
Randbereich d der Austrittsöffnung. Der aus dem Abblendmechanismus bzw. der Blende S austretende
Lichtstrahl hat dann einen Querschnitt, der einer Öffnungsform entspricht, wie sie durch die scheinbaren
Randbereiche e und d bestimmt würde. Dies bedeutet aber, daß eine der Lichtquelle O entsprechende
zweite Lichtquelle auf der ausgangsseitigen Oberfläche des Lichtleiterbündels F gebildet wird,
deren Größe, d. h. Fläche, nach Wunsch symmetrisch verändert werden kann, indem der Abblendmechanismus
betätigt und die Blende S gedreht wird.
Es sei noch darauf hingewiesen, daß das Lichleiterbündel
/"vorzugsweise so angeordnet ist, daß das Bild seiner ausgangsseitigen Endfläche in der Pupillenebene
der Projektionslinse L4 liegt, so daß sich eine gleichmäßige
Ausleuchtung des realen Bildes der Maske A mit beliebig einstellbarer Lichtstärke ergibt, indem zur
Veränderung der Lichtstärke die hohlzylindrische Blende 5 des Abblendmechanismus verdreht wird. Es
ist also eine sehr genaue Belichtungssteuerung durch Veränderung des Drehwinkels der Blende S in Abhängigkeit
von einem Wechsel in der Zeichengeschwindigkeit möglich. Die Vorrichtung gemäß der
Erfindung ist sehr einfach und billig, da keinerlei Verschleißteile erforderlich sind, wodurch sich eine
hohe Lebensdauer und daneben eine hohe Einstellgeschwindigkeit ergibt Der Abblendmechanismus
kann ohne weiteres als Verschluß eingesetzt werden, indem der die hohlzylindrische Blende S um einen
entsprechend großen Winkel verdreht wird, so daß der Lichtleiter F durch die ÖBhungen nichit mehr bestrahlt werden kann.
.">
Claims (3)
1. Optisches Projektionssystem, insbesondere für einen Lichtzeichner, mit einem Projektionskopf,
der eine Lichtquelle, wenigstens einen einem Lichtleiterbünoe! zugeordnelen Abblendmechanismus
mit einer Blende und im Lichtweg hinter diesem ein die Ebene einer im Lichtweg liegenden
Maske beleuchtendes Kondensorsystem sowie ein Projektionslinsensystem zur Abbildung der Maske
aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß die Blende (S) zls Hohlzylinder mit einander gegenüberliegenden
symmetrischen Blendenöffnungen in der Zylinderwand ausgebildet ist und daß das Lichüeiterbündel (F) im Inneren des Hohlzylinders
koaxial zum Strahlengang durch die Blendenöffnungen angeordnet ist.
2. Projektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Bild der ausgangsseitigen
Endfläche des Lichtieiterbündels \F) in der
Pupillenebene des Projektionslinsensystems (I4)
liegt.
3. Projektionssystem nach Anspruch ! oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß ein Teil iL%) des
Kondensorsystems, die abzubildende Maske (.4) und das Projektionslinsensystem (Li) in fester
räumlicher Zuordnung zueinander (Einheit B) gegenüber der Zeichenplatte bewegbar sind, wobei
sich der mitbewegte Teil des Kondensorsystems in einem Bereich etwa konstanter Beleuchtungsstarke
bewegt.
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JP12205073 | 1973-10-30 |
Publications (3)
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DE2449766B2 true DE2449766B2 (de) | 1976-07-29 |
DE2449766C3 DE2449766C3 (de) | 1977-03-17 |
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JPS5072721A (de) | 1975-06-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |