DE2426698A1 - Verfahren zur herstellung von silanisierten traegermaterialien - Google Patents
Verfahren zur herstellung von silanisierten traegermaterialienInfo
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 67
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims abstract description 29
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 22
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 title abstract description 4
- 230000036571 hydration Effects 0.000 title description 4
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 title description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 title 1
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 claims abstract description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 27
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 25
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 238000002444 silanisation Methods 0.000 claims abstract description 19
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 16
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 22
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 18
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 6
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 230000005526 G1 to G0 transition Effects 0.000 abstract description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000000887 hydrating effect Effects 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 86
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 12
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- -1 polyoxyethylene groups Polymers 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 6
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 6
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 5
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 5
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- LWIGVRDDANOFTD-UHFFFAOYSA-N hydroxy(dimethyl)silane Chemical compound C[SiH](C)O LWIGVRDDANOFTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 3
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 2
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGANSGVIUGARFR-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxosilane oxo(oxoalumanyloxy)alumane oxygen(2-) Chemical compound [O--].[K+].[K+].O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O YGANSGVIUGARFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 239000003502 gasoline Substances 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 229910052627 muscovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N pentadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 2
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 2
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 2
- CWBIFDGMOSWLRQ-UHFFFAOYSA-N trimagnesium;hydroxy(trioxido)silane;hydrate Chemical compound O.[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].O[Si]([O-])([O-])[O-].O[Si]([O-])([O-])[O-] CWBIFDGMOSWLRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical compound CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- KZEVSDGEBAJOTK-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[5-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CC=1OC(=NN=1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O KZEVSDGEBAJOTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOSQELJLMISJNO-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-(2-methoxyethoxy)butane Chemical compound COCCOCCCCBr DOSQELJLMISJNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNDIARAMWBIKFW-UHFFFAOYSA-N 1-bromohexane Chemical compound CCCCCCBr MNDIARAMWBIKFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWEAYUDIDNTYMK-UHFFFAOYSA-N [Mg].CCOCC Chemical compound [Mg].CCOCC AWEAYUDIDNTYMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003292 diminished effect Effects 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- FDTBETCIPGWBHK-UHFFFAOYSA-N hydroxy-dimethyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](C)(O)C1=CC=CC=C1 FDTBETCIPGWBHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLPRTGXXQKWLDM-UHFFFAOYSA-N hydroxy-methyl-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](O)(C)C1=CC=CC=C1 MLPRTGXXQKWLDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910001623 magnesium bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 238000004810 partition chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 230000008542 thermal sensitivity Effects 0.000 description 1
- IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N tridecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCC IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVMSIBFANXCZKT-UHFFFAOYSA-N triethyl(hydroxy)silane Chemical compound CC[Si](O)(CC)CC WVMSIBFANXCZKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N trimethylsilanol Chemical compound C[Si](C)(C)O AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NLSXASIDNWDYMI-UHFFFAOYSA-N triphenylsilanol Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(O)C1=CC=CC=C1 NLSXASIDNWDYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/30—Processes for preparing, regenerating, or reactivating
- B01J20/32—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating
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- B01J20/32—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating
- B01J20/3231—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating characterised by the coating or impregnating layer
- B01J20/3242—Layers with a functional group, e.g. an affinity material, a ligand, a reactant or a complexing group
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- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/30—Processes for preparing, regenerating, or reactivating
- B01J20/32—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating
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- B01J20/3242—Layers with a functional group, e.g. an affinity material, a ligand, a reactant or a complexing group
- B01J20/3244—Non-macromolecular compounds
- B01J20/3246—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure
- B01J20/3257—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such
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- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
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- B01J20/3246—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure
- B01J20/3257—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
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- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
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- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/82—Coating or impregnation with organic materials
- C04B41/84—Compounds having one or more carbon-to-metal of carbon-to-silicon linkages
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/28—Compounds of silicon
- C09C1/30—Silicic acid
- C09C1/3081—Treatment with organo-silicon compounds
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
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Description
- Verfahren zur Herstellung von silanisierten Trägermaterialien Die Erfindung betrifft ein neues Verfahren zur Silanisierung von Trägermaterialien auf Siliziumdioxidbasis.
- Die Verwendung poröser anorganischer Adsorbentien, insbesondere von Siliziumdioxid, al.s Trägermaterial für Katalysatoren oder für die Verteilungschromatografie, insbesondere für die Gaschromatografie und die Säulen-Flüssigkeitschromatografie, ist bekannt. Aufgrund ihrer hohen Aktivität sind derartige Trägermaterialien für viele Trennprobleme wie auch für manche Katalysatoren nur bedingt geeignet. Es sind deshalb schon viele Versuche unternormen worden, die Oberfläche von Siliziumdioxiden zu verändern. Zwar kann durch Variation der Porenstruktur das chroinatografische Verhalten des Siliziumdioxids auch schon beeinflußt werden; der störende Einfluß der oberflächenständigen Silanolgruppen kann jedoch nur durch eine Modifizierung der Oberfläche mit organischen oder siliziumorganischen Reagenzien verringert werden. Die Behandlung der Oberfläche mit siliziumorganischen Reagenzien, die allgemein als Silanisierung bezeichnet wird, ist dabei aufgrund der im Vergleich zu Si-O-C-Bindungen höheren Temperatur- und Hydrolysebeständigkeit der dadurch auf die Oberfläche auf gebrachten Si-C-Rindungen bevorzugt. Die bei der Silanisierung geknüpften Si-O-Si-Bindungen sind zwar auch hydrolyseempfindlich; wenn jedoch die Oberflächenschicht mit den Si-C-Bindungen sehr dicht ist, schützt sie die darunter liegenden Si-O-Si-Bindungen. Es ist daher wünschenswert, möglichst dichte Oberflächen-Schichten mit Si-C-Bindungen herzustelle.
- Es ist bekannt, daß unbehandelte Trägermaterialien auf Siliziumdioxid-Basis maximal etwa 7 Mikromol Silanclgruppen auf einem Quadratmeter ihrer Oberfläche enthalten.
- Bei den literaturbekannten Silanisierungsverfahren, auch unter Verwendung von sehr reaktionsfähigen siliziumorganischen Reagenzien wie zum Beispiel Chlorsilanen oder Hexamethyldisilazan, wurde jedoch regelmäßig gefunden, daß nur etwa 2,5 -3 Mikromol/m2 der vorhandenen Silanolgruppen umgesetzt werden. Daraus wurde geschlossen, daß aus sterischen Gründen auch mit niedermolekularen Silanisierungsreagenzien nur etwa jede zweite Silanolgruppe, das sind 2 maximal 3,5 Mikromol/m , reagieren kann. Den unerwünschten Einfluß der bei der Silanisierungsreaktion nicht umgesetzen Silanolgruppen versucht man dadurch auszuschalten oder wenigstens zu verringern, daß als Silanisierungsreagenzien solche siliziumorganischen Verbindungen verwendet werden die durch die Raumerfüllung mindestens eines der Substi'Luentel; am Siliziumatom diese Silanolgruppen sterisch abschirmen.
- Für derartige Silanisierungen von Trägermaterialien auf Siliziumdioxidbasis sind schon mehrere Verfahren bekanntgeworden.
- In einem besonders bevorzugten Verfahren wird das zu silanisierende Trägermaterial mit einem Halogensilan, meist einem Chlorsilan der allgemeinen Formel Ia worin Hal ein Halogenatom, vorzugsweise Chlor, und R3, R4 und R5 organische Reste bedeuten, umgesetzt.
- Hierbei wird für je 1 Mol des umgesetzten Halogensilans 1 Mol Halogenwasserstoff frei. Dieses Verfahren eignet sich daher nur für Silanisierungen, die unter absolut wasserfreien Bedingungen durchgeführt werden können. Dies ist insbesondere im technischen Maßstab mit großem Aufwand verbunden, der die Wirtschaftlichkeit des Verfahrens belastet.
- In Gegenwart von Wasser bildet sich aus dem Halogensilan Halogenwasserstoff und Disiloxan. Dadurch geht einerseits das Reagens verloren, andererseits ist der gebildete Halogenwasserstoff korrosiv.
- Wenn die Umsetzung von Siliziumdioxid-Trägermaterialien mit Halogensilanen der Formel Ia in einem wasserfreien, inerten organischen Lösungsmittel, gegebenenfalls in Gegenwart eines säurebindenden Mittels,durchgeführt wird, werden zwar weitgehend einheitliche Reaktionsprodukte erhalten; es werden jedoch deuilich weniger Silanolgruppen des Trägermaterials mit dem Halogensilan umgesetzt als in Abwesenheit eines Lösungsmittels.
- In einem anderen Silanisierungsverfahren wird das zu silanisierende Trägermaterial mit einem Alkoxysilan der allgemeinen Formel ob
worin Alk einen niederen Alkylrest, vorzugsweise Methyl oder Äthyl bedeutet, und R3, R4 und R5 die in Formel Ia angegebene Bedeutung besitzen, umgesetzt. Bei dieser Reaktion ist zwar eine Störung durch die Nebenprodukte der Umsetzung ausgeschlossen; es zeigt sich aber, daß der Umsetzungsgrad in der Regel zu gering ist, um den erwünschten Effekt der Bindung oder Abschirmung aller Silanolgruppen des Trägermaterials zu erzielen. Dies wird auf eine verhältnismäßig feste Adsorption von Alkoxysilanmolekülen an das Trägermaterial zurückgeführt, wo diese eine vollständige Reaktion weiterer Alkoxysilanmoleküle mit den Silanolgruppen hindern. Die adsorbierten Alkoxysilanmoleküle sind dabei jedoch nicht fest genug gebunden, um nicht durch Ausheizen oder Kontakt mit Eluentien wieder entfernt zu werden. Dabei werden die Silanolgruppen, deren unerwünschte Einflüsse gerade ausgeschaltet werden sollten, wieder freigelegt.R3 4 Alk- O- Si- R4 Ib R - Weiterhin ist bereits versucht worden, Siliziumaioxid-Trägermaterialien in Gegenwart inerter organischer Lösung mittel mit Silanolen der allgemeinen Formel Ic worin R3, R4 und R5 die in Formel Ia angegebene Bedeutung besitzen, umzusetzen. Auch hier waren die erzielten Umsetzungsgrade für den gewünschten Zweck zu gering.
- Der vorliegenden Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, ein neues und verbessertes Verfahren zur Silanisierung von Trägermaterialien auf Siliziumdioxid-Basis zu finden.
- Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß man das Trägermaterial durch Kontakt mit Wasser oder Wasserdampf hydratisiert, einen Überschuß eines oder mehrerer Silanole der allgemeinen Formel II worin R1 und R2 gleich oder verschieden sind und Methyl oder Äthyl bedeuten, und R eine Alkyl- oder Alkoxygruppe mit 1 - 25 C-Atomen, in der gegebenenfal]s eine oder mehrere nicht benachbarte CH2-Gruppen durch Sauerstoffatome ersetzt sind, oder eine Phenylgruppe bedeutet, in Abwesenheit eines Lösungsmittels bei einer Temperatur zwischen 50 und 45O0C, gegebenenfalls in Gegenwart einer flüchtigen Base, einwirken läßt und anschließend das überschüssige Silanol in an sick bekannter Weisw wntfernt. Auf diese Weise werden 2,8-Mikromol/m2 der oberflächenständigen Silanolgruppen des Trägermaterials mit einer siliziumorganischen Gruppe veräthert.
- Aus Iswestija Akademii Nauk SSSR, Neorganicheskie Materialy, Band 6 (1970), Seiten 59 - 62 ist zwar bereits ein Verfahren bekannt, bei dem silikatische Materialien mit Silanolen behandelt worden sind. Hierbei wurden Chrysotilasbest, Muskovit und Talk, die bei 3750C bzw. 200°C entwässert wurden, in siedendem m-Xylol mit Silanolen wie Triäthylsilanol, Triphenylsilanol oder Methyldiphenylsilanol umgesetzt. Bei Vergleichsversuchen wurde gefunden, daß bei diesem Verfahren ein weitaus geringerer Teil der oberflächenständigen Silanolgruppen des Trägermaterials mit dem Silanol der allgemeinen Formel II reagiert als bei dem erfindungsgemäßen Verfahren.
- Dies Ergebnis erscheint insbesondere deswegen überraschend, weil zu erwarten gewesen wäre, daß, da das bei der Reaktion gebildete Wasser mit dem siedenden organischen Lösungsmittel durch azeotrope Destillation vom Reaktionsort entfernt wird, das Gleichgewicht der Silanisierungsreaktion in Richtung auf die Bildung des silanisierten Trägermaterials verschoben wird. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren, das in einer bevorzugten Ausführungsform in einem geschlossenen Gefäß durchgeführt wird, ist die Entfernung des bei der Reaktion gebildeten Wassers naturgemäß nicht möglich; trotzdem werden wesentlich höhere Silanisierungsgrade erreicht. Gleiche Umsetzungsgrade werden sogar bei der Zugabe von Wasser zum Reaktionsgemisch erreicht.
- Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren können sowohl künstliche als auch natürliche Trägermaterialien auf Siliziumdioxidbasis silanisiert werden. Als-natürliche Trägermaterialien kommen insbesondere Kieselgur, Sand, Talk sowie mineralische Silikate wie zum Beispiel Muskovit oder Chrysotilasbest infrage. Besonders geeignete künstliche Trägermaterialien auf Siiiziumdioxid-Basis sind zuin Beispiel Kieselgel, Glas, Keramikmaterialien, poröse Gläser, die entweder durch und durch porös sind oder nur an der Oberfläche bis zu einer begrenzten Tiefe eine poröse Struktur aufweisen und feinstteiliges Siliziumdioxid, we es beispielsweise durch Flamniydrolyse von Siliciumtetrachlorid hergestellt wird. Kieselgur, Kieselgele und insbesondere durch Flammhydrolyse gewonnenes feinstteiliges Siliziumdioxid sind im Rahmen der vorliegenden Erfindung bevorzugte Trägermaterialien auf Siliziumdioxidbasis.
- Vorzugsweise werden erfindungsgemäß Trägermaterialien mit 2 einer spezifischen Oberfläche von mehr als 100 m pro Gramm, insbesondere solche mit einer Oberfläche von 150 - 300 m2 pro Gramm silanisiert.
- Das erfindungsgemäße Verfahren wird im allgemeinen wie folgt ausgeführt: Vor der Umsetzung mit den Silanolen der allgemeinen Formel I* wird das zu silanisierende Trägermaterial zunächst durch eine Behandlung mit Wasser oder Wasserdampf hydratisiert.
- Unter Hydratisierung wird im Rahmen der vorliegenden Erfindung eine Behandlung des Trägermaterials verstanden, durch die die Zahl der oberflächenständigen Silanolgruppen auf ein Maximum gebracht wird. Hierzu läßt man beispielsweise das Trägermaterial ausreichend lange, zum Beispiel 1 - 200 Stunden in einer wässerigen Anschlämmung stehen.
- Die Hydratisierung kann bei Raumtemperatur erfolgen, sie kann aber auch zur Beschleunigung oder Intensivierung bei erhöhter Temperatur, zum Beispiel durch Kochen mit Wasser erfolgen. Gelegentlich kann es zweckmäßig sein, dem Wasser katalytische Mengen, zum Beispiel 0,1 - 10 Gewichtsprozent, einer starken Mineralsäure wie Salzsäure oder Schwefelsäure zuzusetzen. Gegebenenfalls kann das Trägermaterial auch durch Behandlung mit Wasser oder Wasserdampf unter erhöhtem Druck bei Temperaturen über 1000C, zum Beispiel im Autoklaven bei 200 - 4000C, hydratisiert werden. Bei manchen Trägermaterialien reicht auch schon ein längeres Stehenlassen in wasserdampfgesättigter Atmosphäre bei Normaldruck oder vermindertem Druck aus, um eine ausreichende Hydratisierung herbeizuführen. Zur Hydratisierung von Glasoberflächen wird ein Stehenlassen mit konzentrierter Salpetersäure bevorzugt, die zugleich die an der Oberfläche befindlichen Kationen herauslöst.
- Das so hydratisierte Trägermaterial wird, falls bei der Hydratisierung eine Säure zugesetzt war, zunächst säurefrei gewaschen und dann zweckmäßig durch einen Trocknungsschritt von anhaftendem Wasser befreit. Prinzipiell kann erfindungsgemäß auch ein nur an der Luft getrocknetes hydratisiertes Trägermaterial mit einem Silanol der Formel II umgesetzt werden; in diesem Fall ist jedoch ein etwas größerer Überschuß des Silanols II erforderlich als bei der Umsetzung von getrocknetem Material, urn einen gleich hohen Silanisierungsgrad zu erreichen. Es hat sich daher als vorteilhaft erwiesen, das hydratisierte Material vorher soweit zu trocknen, daß zwar die Zahl der Silanolgruppen nicht durch Wasserabspaltuncj wieder verringert wird, aber anhaftendes freies, adsorbiertes oder durch Wasserstoffbrückenbindung chemisorbiertes Wasser wenigstens teilweise wieder entfernt wird. Eine schowende Trocknung wird zum 3eispiel durch leichtes Erwärmen des hydratisierten Trägeruaterials bei vermindertem Druck erzielt; die Temperatur sollte dabei jedoch 50 - 90 0C möglichst nicht überschreiten.
- Das so hydratisierte Trägermaterial wird dan in Abwesenheit eines Lösungsmittels mit einem Silanol der allgemeinen Formel II umgesetzt. In den Silanolen der allgemeinen Formel II bedeuten die Gruppen R1 und R Methyl- und/oder Äthylgruppen. Bevorzugt sind aufgrund ihrer einfacheren Herstellbarkeit solche Silanol, in denen die Gruppen R1 und R2 gleich sind. Bensonders bevorzugt sind die R-dimethylsilanole der allgemeinen Formel II, da sie leicht aus dem kommerziell erhältlichen Dimethyldichlorsilan hergestellt werden können. Die Gruppe R kann eine Alkyl- oder Alkoxygruppe mit 1 - 25 C-Atomen bedeuten, worin auch noch eine oder mehrere nicht benachbarte ClI2-Gruppe(n) - bei Alko=ygruppen R auch nicht die dem an das Siliziumatom gebundenen Sauerstoffatom benachbarte CH2-Gruppe - durch Sauerstoffatom(e) ersetzt sein können. Die Auswahl des Restes R ist für das erfindungsgemäße Verfahren nur insoweit von Bedeutung,als gegebenenfalls die Reaktionstemperatur und damit die Reaktionszeit entsprechend der Wärmeempfindlichkeit dieser Gruppe ausgewählt werden muß. Im übrigen kann der Rest R entsprechend dem vorgesehenen Verwendungszweck des silanisierten Trägermaterials ausgewählt werden. So ist es zweckmäßig, Trägermaterialien, die in Kontakt mit wenig polaren organischen Lösungsmittel wie zum Beispiel Benzin, Paraffin oder Benzol kommen sollen, durch Umsetzung mit solchen Silanolen zu silanisieren, in denen die Gruppe R eine Alkylgruppe ohne Unterbrechung der Kohlenstoffkette durch Sauerstoffatome ist. Auf diese Weise werden katalytisch und adsorbtiv inaktive, jedoch mit apolaren Lösungsmitteln benetzbare Oberflächen erhalten. Wenn dagegen eine hydrophilere Oberfläche erwünscht ist, werden gegebenenfalls Silanole vorgezogen, in denen die Gruppe R eine Alkoxygruppe, eine Oxaalkylgruppe oder eine Polyoxaalkylgruppe ist. Als Polyoxaalkylgruppen sind besonders die technisch leicht zugänglichen Polyoxyäthylengruppen von Bedeutung.
- Die Silanole der allgemeinen Formel II sind entweder literaturbekannt oder werden nach literaturbekannten Standardverfahren hergestellt, zum Beispiel durch Umsetzung von Dimethyldichlorsilan mit Alkylmagnesiumnalogeniden, wobei der Alkylrest die einzuführende Gruppe R ist, und anschließende hydrolytische Abspaltung des zweiten Chloratoms. Ein anderes Standardverfahren ist die Umsetzung von beispielsweise Dimethycnlorsilan mit einem 1-Alken, in dessen Kohlenstoffkette entsprechend der Definition der Gruppe R auch CH2-Gruppen durch Sauerstoffatome ersetzt sein können, wiederum gefolgt von einer hydrolytischen Abspaltung des Chloratoms vom Silizium.
- Die folgenden Beispiele erläutern die Herstellung von bisher unbekannten Silanolen der allgemeinen Formel II: Herstellungsbeispiel A (a) Durch Zutropfen von 82,5 g 1-Bromhexan zu 60 g mit 150 ml wasserfreiem Diäthyläther überschichteten Magnesiumspänen wird eine Lösung von Hexyl-1-magnesiumbromid hergestellt. Diese Lösung wird im Lauf von etwa 4 Stunden tropfenweise unter Rühren zu einer siedenden Lösung von 193,5 g Dimethyldichlorsilan gegeben. AnschlieBend wird das Reaktionsgemisch noch -24 Stunden unter Rühren in einer Stickstoffatmosphäre zum Sieden erhitzt. Der ausgefallene Niederschlag wird abfiltriert; aus dem Filtrat werden der Diäthyläther und das überschüssige Dimethyldichlorsilan abdestilliert. Das verbleibende Hexyl-(1)-dimethylchlorsilan wird dann unter vermindertem Druck destilliert; Kp16: 77 - 800C.
- Analog werden hergestellt: Propyl-(1)-dimethylchlorsilan, Kp720: 100 - 1100C; O Dezyl-(1)-dimethylchlorsllan, Kp(0,5 Torr): 103 - 106 Tetradezyl-(1)-dimethylchlorsilan, Kp(0,5 Torr): 170-173° Oktadezyl-(l)-dimethylchlorsilan, F. 28 - 3O0C; 3-(2'-Methoxyäthoxy)-propyl-(1)-clorsilan, Kp0,05: 60°C; 5-(2'-Methoxyäthoxy)-pentyl-(1)-clorsilan, Kp0,05: 100°C; (b) Zu einem Gemisch von 600 ml Diäthyläther, 3,6 g Wasser, 24,8 g frisch destilliertem Anilin und 200 ml Aceton wird bei 0°C unteer kräftigem Rühren eine Lösung von 35,8 g Hexyl-(1)-dimethylchlorsi.lan in 200 ml Diäthyläther getropft. Anschließend wird das Reaktionsgemisch filtrlert und das Filtrat 6 Male mit je 200 ml Wasser gewaschen. Die organische Phase wird dann über Natriumsulfat getrocknet und eingedampft. Der Rückstand wird in wenig Petroläther (Siedebereich 50 - 700C) aufgenommen und über eine Säule mit 320 g Kieselgel chromatographiert. Nach Elution mit 3200 ml Petroläther werden mit 750 ml Diäthyläther 28,0 g Hexyl-(1)-dimethylsilanol eluiert; Kp0,1=44-45°C.
- Analog werden hergestellt: Propyl-(1)-dimethylsilanol, Kp13: 62 - 64°C; Oktadezyl-(1)-dimethylsilanol, F. 51 0C; 3-(2'-Methoxyäthoxy)-propyl-(1)-dimethylsilanol, 20 nD 1,4400 4-(2'-Methoxyäthoxy)-butyl-(1)-dimethylsilanol, 20 nD 1,4405 5-(2'-Methoxyäthoxy)-pentyl-(1)-dimethylsilanol, 20 nD 1,4439 5,8,11,14,17-Pentaoxaoctadezyl-(1)-dimethylsilanol, 20 1,4470 Herstellungsbeispiel B (a) Zu 2,43 g Magnesiumspänen in 30 ml wasserfreiem Tetrahydrofuran werden 21,1 g 1-Brom-4-(2'-methoxyäthoxy)-butan so schnell zugetropft, daß die Temperatur auf 400C bleibt. Anschließend werden bei Normaldruck etwa 15 ml Tetrahydrofuran abdestilliert und 50 g Dimethyldiäthoxysilan zugegeben. Die Mischung wird 24 Stunden bei 90°C gerührt und dann nach dem Abkühlen mit einer Mischung aus 200 ml Diäthyläther und 100 ml wässeriger Ammoniumchloridlösung (10 Gewichtsprozent) versetzt. Die Ätherphase wird abgetrennt, mit Wasser gewaschen, über Natriumsulfat getrocknet und eingedampft.
- Der Rückstand wird unter vermindertem Druck destilliert.
- Nach Abtrennung des überschüssigen Dimethyldiäthoxysilans werden 12,3 g 4-(2'-Methoxyäthoxy)-butyi-(1)-dimethyläthoxysilan erhalten; nD° 1,4251.
- D (b) Eine Lösung von 12,5 g 4(2'-Methoxyäthoxy)-butyl-(1)-dimethyläthoxysilan in 60 ml Diäthyläther wird mit einer Lösung von 50 mg Ammoniumchlorid in 70 ml Wasser 20 Stunden innig vermischt. Danach wird die Ätherphase abgetrennt, mit Natriumsulfat getrocknet und eingedampft. Der Rückstand wird in wenig Hexan aufgenommen und über 120 g Kieselgel (Korngröße 62 - 200Mikron) chromatografiert.
- Nach einem Vor-Eluieren mit 220 ml eines Gemisches aus 95 Volumteilen Hexan und 5 Volumteilen Benzol werden mit 280 ml Diäthyläther 10,4 g 4-(2'-Methoxyäthoxy)-20 butyl- (1) -dimethylsilanol eluiert; nD 1,4405.
- Die Umsetzung des Silanol der allgemeinen Formel II mit dem hydratisierten Trägermaterial wird erfindungsgemäß so durchgeführt, daß ein Überschuß des Silanols in dem hydratisierten Trägermaterial gleichmäßig verteilt wird und das so erhaltene Gemisch auf eine Temperatur zwischen 50 und 4000C erhitzt wird. Die Menge des zu verwendenden Silanols läßt sich in einfacher Weise aus der spezifischen Oberfläche des hydratisierten Trägermaterials berechnen.
- Ausgehend von der Annahme, daß die Oberfläche des Trägermaterials maximal mit 7 Mikromol Silanolgruppen pro Quadratmeter besetzt ist, und daß die Konzentration an Dimethy silylgruppen wegen deren Raumerflüllung 5 Mikromol/m2 nicht überschreiten kaiin, werden für die Silanisierung nach dem erfindungsgemäßen Verfahren 4,5 - 100 Mikromol des Silanols der allgemeinen Formel II pro Quadratmeter eingesetzt Bevorzug werden für Trägermaterialien mit großen spezifischen Oberflächen 10 - 30 Mikromoi/qm verwendet. Für Trägermaterialien mit geringerer spezifischer Oberfläche werden gelegentlich noch größere Überschüsse, z.B. bis zu 1000 Mikromol/m2 eingesetzt. Die spezifische Oberfläche des zu silanisierenden Trägermaterials wird nach Standardverfahreri, zum Beispiel der BET-Methode bestimmt.
- Zur gleichmäßigen Verteilung des Silanols in dem hydratisierten Trägermaterial wird es in einer kleinen Menge eines geeigneten, inerten organischen Lösungsmittels, zum Beispiel Petroläther, Cyclohexan, Hexan, Diäthyläther oder Tetrachlorkohlenstoff gelöst und das Trägermaterial mit dieser Lösung gründlich vermischt. Anschließend wird das Lösungsmittel, zweckmäßig unter vermindertem Druck wieder abdestilliert. Wenn man Silanole verwendet, die bei der Reaktionstemperatur einen ausreichend hohen Dampfdruck besitzen, kann auf das Verteilen unter Verwendung eines Lösungsmittels auch verzichtet werden. Das erhaltene Gemisch aus dem Trägermaterial und dem Silanol der allgemeinen Fo7-mel II wird dann auf die gewünschte Reaktionstemperatur erhitzt. Eine Temperatur von 100 - 4000C, insbesondere von 240 - 3400C ist bevorzugt. Das Erhitzen kann in einem offenen oder geschlossenen Gefäß erfolgen. Sofern ein Silanol der Formel II verwendet wird, das bei der gewünschten Reaktiotemperatur bereits einen merklichen Dampfdruck besitzt, ist für das Erhitzen ein geschlossenes Gefäß vorzuziehen. Die Dauer des Erhitzens ist von der Reaktionsfähigkeit des oewählten Silanols der Formel II abhängig und beträgt in der Regel 0,5 - 100 Stunden. Vorzugsweise werden die Gemische aus Trägermaterial und Silanol 1 - 40, insbesondere 2 - 24 Stunde.
- auf die gewünschte Reaktionstemperatur erhitzt. Das Erhitze kann im Vakuum oder in Gegenwart von Luft oder eines Inerten gases wie Stickstoff oder Argon durchgeführt werden. In eine, Inertgas wird insbesondere bei hohen Reaktionstemperaturen gearbeitet, um eine Oxidation der organischen Reste des Sflanols durch Luft möglichst auszuschließen. Gelegentlich hat es sich als vorteilhaft erwiesen, dem Reaktionsgemisch eine katalytische Menge einer flüchtigen Base wie Ammoniak, Hydrazin oder eines organischen Amins wie Methylamin, Äthylamin, Anilin oder Pyridin zuzusetzen. Hierdurch werden befrieaigende Umsetzungsgrade schon bei Reaktionstemperaturen zwischen 50 und 2000C, vorzugsweise 80 - 1500C, erreicht. Diese Verfahrensvariante wird besonders vorteilhaft bei der Umsetzung mit thermisch empfindlichen oder sterisch gehinderten Silanolen der allgemeinen Formel II angewandt.
- Wach Beendigung des Erhitzens wird das Reaktionsgemisch in an sich bekannter Weise vom überschüssigen Silanol der allgemeinen Formel II befreit. Bevorzugt geschieht dies durch eine erschöpfende Extraktion mit einem inerten organischen Lösungsmittel, in dem das Silanol und gegebenenfalls daraus gebildete Reaktionsprodukte wie beispielsweise Disiloxane ausreichend löslich sind. Als besonders geeignet haben sich Kohlenwasserstoffe wie Petroläther, Benzin, Benzol oder Toluol, halogenierte Kohlenwasserstoffe wie Chloroform, Tetrachlorkohlenstoff oder Trichloräthylen sowie Äther wie Diäthyläther oder Tetrahydrofuran erwiesen. Eine derartige Extraktion kann durch einmaliges gründliches Auswaschen erfolgen; gelegentlich kann es notwendig sein, das Urasetzur.gsprodukt bis zu 24 Stunden in einer Soxhlet-Apparatur mit dem gewählten Lösungsmittel zu extrahieren, um alle Reste des überschüssigen Silanols und seiner Reaktionsprodukte zu entfernen.
- Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Produkte werden in gleicher Weise wie die bei bekannten Silanisierungsverfahren erhaltenen silanisierten Trägermaterialen verwendet; eine besonders bevorzugte Anwendung der erfindungsgemäß hergestellten Produkte ist die als Trägermaterialien für stationäre Phasen in der Gaschromato grafie.
- Die folgenden Beispiele dienen der Erläuterung des erfindungsgemäßen Verfahrens: Beispiel 1 250 g feinstteiliges Siliziumdioxid mit einer spezifischen 2 Oberfläche von 190 m /g werden 3 Wochen in einer wasserdampfgestättigten Atmosphäre stehengelassen Anschließen wird das so hydratisierte Material 5 Tage bei 800C und 10 5 mm Hg von adsorbiertem Wasser befreit, 2,5 g des hydratisierten feinstteiligen Siliziumdioxids werden mit einer Lösung von 1,06 g 4-(2-'Methoxyäthoxy)-butylb dimethylsilanol in 50 ml Hexan gründlich vermischt Die Mischung wird unter vermindertem Druck von Losungsmittel befreit, der weiße, pulvrige Rückstand in eine Glasampulle überführt und bei 0201 mm Hg eingeschmolzen, Die Ampulle wird dann 5 Stunden auf 3000C erhitzt. Nach dem Abkühlen wird der Inhalt 24 Stunden in einer Soxhlet-Apparatur mit Diäthyläther extrahiert und anschließend 3 Stunden bei 0,01 mm Hg und 80°C getrocknet. Das Produkt bezitzt einen Gehalt von 5,69 % C und 1223 % H; hieraus errechnet sich eine Belegung der Oberfläche des Siliziumdioxid-Trägermaterials mit 3,07 Mikromol/m2 4-(2'-Methoxyäthoxy) butyl-(l)-dimethylsilylgruppen.
- Beispiel 2 l,O g des wie in Beispiel l beschrieben hydratisierten feinstteiligen Siliziumdioxids werden mit einer Lösung von 0,66 g Oktadezyi-(l)-dimethylsilanol in 20 ml Petroläther gründlich gemischt. Nach Abdampfen des Lösungsmittels wird das pulvrige Material in e iner 25 ml fassenden Glasampulle im Vakuum 24 Stunden auf 200°C erhitzt. Anschließend wird analog Beispiel 1 mit Diäthyläther extrahiert und getrocknet.
- Aus deull Ergebnis der Elementaranalyse ergibt sich eine Belegung des Trägematerials mit 3,01 Mikromol/m2 Oktadezyl-(1) dimethylsilylgruppen.
- Beispiel 3 1,0 g des wie in Beispiel 1 beschrieben hydratisierten feinstteiligen Siliziumdioxids werden mit einer Lösung von 0,45 g 4-(2'-Methoxyäthoxy)-butyl-(1)-dimethyl-silanol in 20 ml Cyclohexan gründlich gemischt. Nach Abdampfen des Lösungsmittels wird das pulvrige Material in einer 25 ml fassenden Glasampulle im Vakuum 4 Stunden auf 350°C erhitzt Anschließend wird analog Beispiel 1 mit Diäthyläther extra hiert und getrocknet. Aus dem Ergebnis der Elementarana.-lyse ergibt sich eine Belegung des Trägermaterials mit 3,31 Mikromol/m2 4-(2'-Methoxyäthoxy)-butyl-(1)-dimethyl silylgruppen, Beispiel 4 1,0 g des wie in Beispiel 1 beschrieben hydratisierten feinstteiligen Siliziumdioyids werden mit einer Lösung von 0,25 g Propylb dimethylsilanol in 20 ml Hexan gründlich gemischt. Nach Abdampfen des Lösungsmittels wird das pulvrige Material in einer 25 ml fassenden Glasampulle bei Normaldruck unter Stickstoff 5 Stunden auf 300°C erhitzt. Anschließend wird analog Beispiel 1 mit Diäthyläther extrahiert und getrocknet. Aus dem Ergebnis der Elementaranalyse ergibt sich eine Belegung des Trägermaterials mit 3,71 Mikromol/m2 Propyl-(l)-dimethylsilyl gruppen.
- Beispiel 5 23,2 g des wie in Beispiel 1 beschrieben hydratisierten feinstteiligen Siliziumdioxids werden mit einer Lösung von 10 g De-zYlZ dimethylsilanol in 150 ml Hexan gründlich gemischt, Anschließend wird das Lösungsmittel unter vermindertem Druck abdestilliert und der RUckstarXd in eine 500 ml fassende Glasampulle gefüllt. Nach Evakuieren auf 0,01 mm Hg wird die Ampulle mit Ammoniak bis zu einem Druck von etwa 200 mm Hg gefüllt, abgeschmolzen und 24 Stunden auf 1000C erhitzt. Anschließend wird der Inhalt 24 Stunden mit 1 1 Diäthyläther gewaschen und dann bei 1000 und C,Ol mm Hg getrocknet. Das Produkt enthält 9,44 % Kohlenstoff, das entspricht einer Belegung mit 3,96 Mikromol/m2 Dezyl-(l)-dimethylsilylgruppen.
- Beispiel 6 2 Eine 4 mm starke, 25 cm große Platte aus hartem, säurebeständigen Geräteglas wird 3 Tage in konzentrierter Salpetersäure stehengelassen. Anschließend wird die Platte mit destilliertem Wasser, Azeton und Diäthyläther abgespült.
- Die so vorbereitete Platte wird in eine Lösung von 4 Gewichts-% Dezyl-(1?-dimethylsilanol in Pentan eingetaucht, kurz an der Luft getrocknet und in einem geschlossenen GefäS in einer Stickstoffatmosphäre 10 Stunden auf 2500C erhitzt. Nach dem Abkühlen wird die Platte mit Diäthyläther gespült, Das Ergebnis der erfindungsgemäßen Behandlung wird bei der Untersuchung der Benetzbarkeit der Glasoberfläche mit flüssigen Kohlenwasserstoffen sichtbar. Während die unbehandelte Platte durch Kohlenwasserstoffe mit 11 - 15 C-Atomen nicht benetzt wird (Kontaktwinkel Platte/benetzende Flüssigkeit: 00), werden bei der silanisierten Platte die folgenden Benetzungswinkel gemessen:
Durch die erfindungsgemäße Behandlung wird also eie Benetzbarkeit der Oberfläche durch Kohlenwasserstoffe mit 12 - 15 C-Atomen erzielt.Kohlenwasserstoff Kontaktwinkel Undekan 00 Dodekan 50 Tridekan 120 Tetradekan 140 Pentadekan 170 - Beispiel 7 130 g weitporiges Kieselgel mit einer spezifischen Oberfläche von etwa 7 m2/g wird 24 Stunden unter Wasser stehengelassen.
- Nach dem Filtrieren wird zuerst an der Luft, dann bei 0,01 mm Hg und 1000C getrocknet. Das so hydratisierte Kieselgel wird in eine Lösung von 1,97 g Dezyl-(1)-dimethylsilanol in 300 ml Diäthyläther eingetragen, gemischt, und der Äther unter vermindertem Druck bei 50°C abdestilliert. Anschließend wird das Kieselgel in einem Rundkolben von 500 ml Inhalt 3 Stunden bei 0,01 mm Hg auf 50°C erwärmt, der Kolben bei einem Druck von 500 mm Hg mit Ammoniak gefüllt, zugeschmolzen und 24 Stunden auf 100°C erwärmt. Nach dem Abkühlen wird der Kolbeninhalt in einen Soxhlet-Apparat 3 Stunden mit Diäthyläther extrahiert und dann bei 800C und 0,01 mm Hg getrocknet. Das Produkt enthält 0,50 % C;- hieraus errechnet sich eine Belegung der Oherfläche des Trägermaterials mit 4,96 Mikromol/m2 Dezyl-(1)-dimethylsilylgruppen.
- Beispiel 8 1,0 g des wie in Beispiel 1 beschrieben hydratisierten feinstteiligen Siliziumdioxids wird in einer Lösung von 0,(;4 g 5,8,11,14, 17-Pentaoxaoctadezyl- (1 )-dimethyl-silanol in 20 ml Äther aufgeschlemmt. Nach Abdampfen des Lösungsmittels wird das pulvrige Material in einer 25 ml fassenden Glasampulle in Vakuum 8 Stunden auf 250° erhitz. Anschließen wird analog Beispiel 1 mit Diäthyläther extrahiert und getrocknet.
- Aus dem Ergebnis der Elementaranalyse (C%:7,82) ergibt sich eine Belegung des Materials mit 2,65 Mikromoljm2 5,8,11,14,1 7-Pentaoxaoctadezyl- (1) -dimethylsilyl-gruppen.
- Das Produkt ist hydrophil Bei spiel 9 1,0 g des wie in Beispiel 1 beschrieben hydratisierten, feinstteiligen Siiiziumdioxids wird mit einer Lösung von 0,29 g Phenyldimethylsilanol in 20 ml n-Hexan gründlich yemischt. Nach Abdampfen des Lösungsmittels wird das pulvrige Material in einer 25 ml fassenden Glasampulle in Ammoniakatmosphäre (500 mm Hg) 24 Stunden auf 1000C erwärmt. Anschließend wird analog Beispiel 1 mit Diäthyläther extrahiert und getrocknet. Aus dem Ergebnis der Elementaranalyse (C%: 4,92) ergibt sich eine Belegung des Trägermaterials mit 2,89 Mikromol/m2 Phenyldimethylsilylgruppen.
- Beispiel 10 1,0 g des wie in Beispiel 1 beschrieben hydratisierten, feinstteiligen Siliziumdioxids wird mit einer Lösung von 0,39 g Dezyl-(1)-dimethylsilanol in 20 ml n-Hexan gründlich gemischt. Anschließend wird das Lösungsmittel vollständig entfernt und der Rückstand in eine Glasampulle gefüllt.
- Dann werden zu dem Rückstand 10 mg Pyridin gegeben. Die Ampulle wird unter Kühlen mit flüssiger Luft auf 0,01 mm Hy evakuiert, abgeschmolzen und 24 Stunden auf 1000C erhitzt.
- Anschließend wird der Inhalt 2 Stunden im Soxhlet-Apparat mit Diäthyläther extrahiert und dann bei 1000C und 0,01 mm H9 getrocknet. Das Produkt enthält 7,47% Kohlenstoff entsprechend einer Belegung mit 3,04 Mikromol/m2 Deyxl-(1)-dimethylsilylgruppen.
- Beispiel 11 5,0 g des wie in Beispiel 1 beschrieben hydratisierten feinstteiligen Siliziumdioxids und 0,9 g Trimethylsilanol werden in einer evakuierten Glasampulle 16 Stunden auf 4000C erhitzt. Anschließend wird analog Beispiel 1 mit Diäthyläther extrahiert und getrocknet. Das Produkt enthält 2,05%C; hieraus errechnet sich eine Belegung der Oberfläche mit 3,12 Mikromol/m2 Trimethylsilylgruppen.
Claims (4)
1. Verfahren zur Silanisierung von Trägermaterialien auf Siliziumdioxid-Basis
durch Umsetzung mit Silanolen, dadurch gekennzeichnet, daß man das Trägermaterial
durch Einwirkung von Wasser oder Wasserdampf hydratisiert einen Ueberschuß eines
oder mehrerer Silanole der allgomeinen Formel II
worin R1 und R2 gleich oder verschieden sind und Methyl oder Aethyl bedeuten, und
R eine Alkyl- oder Alkoxygrup pe mit 1 - 25 C-Atomen, in der gegebenenfalls eine
oder mehrere nicht benachbarte CH2-Gruppen.durch Sauerstoffatome ersetzt sind, oder
eine Phenylgruppe bedeutet, in Abwesenheit eines Lösungsmittels bei einer Temperatur
zwischen 50 und 4500C, gegebenenfalls in Gegenwart einer flüchtigen Base einwirken
läßt und anschließend das überschüssige Silanol in an sich bekannter Weise entfernt.
2. Verfahren-nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man das
Silanol der allgemeinen Formel II bei 80 - 1500C in Gegenwart von Ammoniak einwirken
läßt,
3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 oder 2i dadurch gekennzeichnet, daß man
10 - 30 Mikromol Silanol der allgemeinen Formel II pro Quadratmeter Oberfläche des
Trägermaterials einwirken läßt.
4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die Einwirkung des Silanols in einem geschlossenen System vorgenommen wird.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19742426698 DE2426698A1 (de) | 1974-06-01 | 1974-06-01 | Verfahren zur herstellung von silanisierten traegermaterialien |
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|---|---|---|---|
| DE19742426698 DE2426698A1 (de) | 1974-06-01 | 1974-06-01 | Verfahren zur herstellung von silanisierten traegermaterialien |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2426698A1 true DE2426698A1 (de) | 1975-12-11 |
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ID=5917133
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19742426698 Pending DE2426698A1 (de) | 1974-06-01 | 1974-06-01 | Verfahren zur herstellung von silanisierten traegermaterialien |
Country Status (1)
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