DE2418462B2

DE2418462B2 - Verfahren zur herstellung eines glases mit definierter transformationstemperatur und eine verwendung dieses glases

Info

Publication number: DE2418462B2
Application number: DE19742418462
Authority: DE
Inventors: Melvin Yorktown Heights; Lussow Robert Otis Hopewell Junction; Reisman Arnold Yorktown Heights; N.Y. Berkenblit (V.St.A.)
Original assignee: International Business Machines Corp
Current assignee: International Business Machines Corp
Priority date: 1973-04-20
Filing date: 1974-04-17
Publication date: 1976-10-28
Also published as: IT1006313B; NL7401606A; GB1467405A; JPS5418685B2; SE398872B; FR2226370A1; DE2418462C3; US3862831A; DE2418462A1; CA1016193A; ES425299A1; JPS503112A; FR2226370B1; AU6751774A; CH590183A5; BE812401A

Description

Eine der Schwierigkeiten, die bei der Herstellung zusammengesetzter Glasteile auftreten können, besteht darin, daß die zur Ausführung eines Schrittes des Fabrikationsprozesses benötigte Temperatur schädlich für vorher zusammengesetzte Teile sein kann. Die für einen Schmelzvorgang notwendige Temperatur kann z. B. so liegen, daß vorher gefertigte und zusammengesetzte Glasteile erweichen und sich verformen. Zwar stellt eia bestimmtes Ausmaß an Erweichung oder Wiederverflüssigung von vorher geformten Glasteilen bei der Temperaturbehandlung von zusammengesetzten Glassystemen nicht unbedingt und in jedem Fall ein Problem dar, bei einer großen Anzahl heutiger Anwendungen, insbesondere in der Elektronik, ist jedoch eine Erweichung oder Wiederverflüssigung, die auch nur eine minimale Verformung oder Verzerrung vorher geformter Glasteile mit sich bringt, nicht tolerierbar.

Bei der bisher üblichen Herstellung elektronischer Geräte mit Strukturen, die z. B. aus mehreren Glasschichten oder Glas-, Metall- und Kristallinenschichten zusammengesetzt sind, müssen die aufeinanderfolgenden verschiedenen Glasschichten im allgemeinen absteigende Viskositätswerte haben, damit in aufeinanderfolgenden Herstellungsschritten ein Verflüssigen bei jeweils niedrigeren Temperaturen erfolgen kann, so daß mit jedem weiteren Fabrikationsschritt immer niedrigere Temperaturen erforderlich sind. Mit anderen Worten: Jede der aufeinanderfolgenden Glasschichten der zusammengesetzten Struktur muß bei einer niedrigeren Temperatur weich werden bzw. sich verflüssigen, als eine der vorher aufgebrachten Schichten. Diese notwendige Forderung begrenzt meistens die Konstruktionsmöglichkeiten. Weiterhin wird die Konstruktion dadurch erschwert, daß die Größe des thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Schichten eng kompatibel sein muß. Hinzu kommt, daß Konstruktionsüberlfigungen in solchen Strukturen oftmals die Verwendung eines Glases erfordern, welches sich bei Temperaturen verformt, die unter den oder in gleiche

Höhe wie die Temperaturen liegen, die für nachfolgende Prozeßschritte erforderlich sind. Ein typischer derartiger Prozeßschritt kann eine Abdichtcperation sein, wie sie z. B. bei der Herstellung von Fernsehröhren und, wie unten ausführlicher dargelegt wird, von Gasentladungs-Bildanzeigegeräten stattfindet. Zwar wurden verschiedene Anstrengungen unternommen, um Abdichtungsmittel mit relativ niedriger Erweichungstemperatur zu erhalten, was jedoch immer noch nicht ausreichend ist, wenn ein Glas mit einer ungewöhnlich niedrigen Temperatur bei der Herstellung eines bestimmten Gerätes erforderlich ist. Es kann deshalb vorkommen, daß die Verschmelztemperatur verfügbarer Dichtungsmittel nicht niedrig genug ist. Bei der Fabrikation beispielsweise von Gasentladungs-Bildanzeigegeräten muß ein dielektrisches Glas mit einer relativ niedrigen Fließtemperatur als Schichten auf zwei konventionellen Substratplatten mit ihrerseits relativ niedrigem Erweichungspunkt hergestellt werden, auf denen ein Leitermuster niedergeschlagen ist. Für die Substratplatten wird im Handel verfügbares Tafelglas (z. B. LOF oder ASG) verwendet. Später wird eine dünne Metalloxidschicht, wie MgO, auf der dielektrischen Glasschicht niedergeschlagen. In einem Endschritt des Fabrikationsprozesses werden die beiden Glassubstratplatten dicht miteinander verbunden, so daß sie eine gasdichte Kammer bilden. Während dieses Abdichtprozesses treten jedoch Schwierigkeiten auf. Verfügbare Glasdichtmittel mit niedrigem Schmelzpunkt erfordern zum Verschmelzen immerhin eine Temperatur, die hoch genug ist, um die vorher aufgegossene dielektrische Glasschicht wieder etwas zu verflüssigen. Die Wiederverflüssigang der dielektrischen Glasschicht führt zu Rissen in der darüberliegenden dünnen Metalloxidschicht und außerdem zu Reaktionen mit dieser Schicht. Diese Rißbildung, die z. B. eine Änderung der Elektronenemissionscharakteristik der Schichten bewirkt, vermindert die Leistung des Gerätes in einer nicht zu tolerierenden Weise.

Es muß aber nicht nur die obenerwähnte Rißbildung vermieden werden, sondern zur Aufrechterhaltung der strukturellen Integrität muß der Wärmeausdehnungskoeffizient der verschiedenen Teile des betroffenen Glassystems so gehalten werden, daß er sich nur geringfügig von einem Teil zum anderen ändert. Mit der normalerweise verfügbaren Materialauswahl ist es jedoch sehr schwierig, ein Glassystem zu entwerfen, in dem die Wärmeausdehnungskoeffizienten der verschiedenen Teile zueinander passen und aufeinanderfolgende Fabrikationsschritte jeweils bei einer Temperatur so ausgeführt werden können, die niedrig genug ist, damit sich vorher gebildete Teile nicht wieder verflüssigen und verformen.

Die geschilderten Probleme treten nicht nur bei der Fabrikation von Gasentladungs-Bildschirmtafeln auf.

Es ist die Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren, mit dem ein in zusammengesetzten Strukturen zu verwendendes Glas am Ort seiner Verwendung hergestellt werden kann, anzugeben, bei dem die in vorangegangenen Verfahrensschrittc aufgebaute Struktur nicht (>o beschädigt wird, aber das aus dem hergestellten Glas bestehende Teil bei nachfolgenden Verfahrensschritten seinerseits nicht verändert wird, bei dem das Verfahren nicht auf ein speziell zusammengesetztes Glas oder, sofern die Struktur aus mehreren Gläsern aufgebaut ist, <\s nicht auf eine spezielle Kombination bzw. ein spezielles System von Gläsern beschränkt ist, das sich aber andererseits leicht steuern läßt und vom zeitlichen und apparativen Aufwand her für eine wirtschaftliche fabrikmäßige Fertigung geeignet ist und außerdem reproduzierbare Ergebnisse liefert

Dieses Verfahren wird erfindungsgemäß mittels eines Verfahrens der im Titel genannten Art dadurch gelöst, daß festgelegte Gewichtsmengen von zwei Grundgläsern, von denen das erste eine Transformationstemperatur hat, die unterhalb und das zweite eine Transforma tionstemperatur hat, die oberhalb der Transformationstemperatur des herzustellenden Glases liegt, miteinander in Kontakt gebracht werden, daß die beiden Grundgläser dann bis zur Fließtemperatur des ersten Grundglases, bei der dieses hinreichend flüssig ist, um unter Bildung einer glatten Oberfläche zu zerfließen, aufgeheizt und dann so lange etwa auf dieser Temperatur gehalten werden, bis sich das zweite Grundglas im ersten gelöst hat und das schließlich abgekühlt wird.

Das Verfahren läßt sich so steuern, daß Gläser mit festgelegten Eigenschaften, wie z. B. Transformationstemperatur, Viskosität und Ausdehnungskoeffizient, entstehen, wobei diese Eigenschaften durch das ganze Glas hindurch homogen sind. Der besondere Vorteil bei der Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens liegt darin, daß ein Glas durch Kombination zweier Grundgläser bei einer relativ niedrigen Temperatur erzeugt wird, die durch das Grundglas mit der niedrigeren Transformationstemperatur bestimmt ist, daß aber das entstandene Kombinationsglas eine Transformationstemperatur hat, die durch die beiden Grundgläser bestimmt ist und deshalb über der Transformationstemperatur des Grundglases mit der niedrigeren Transformattonstemperatur liegt. Wird deshalb dieses Glas auf einem wärmeempfindlichen Substrat erzeugt, so wird dieses Substrat geschont, aber andererseits ist das entstandene Glas bei nachfolgenden Erwärmungen so widerstandsfähig, daß es z. B. bei der Temperatur, bei der es hergestellt wurde, nicht weich wird und sich dabei deformiert und nicht mit Materialien, mit denen es Kontakt hat, Reaktionen eingeht. Wie oben ausgeführt, mußte bei den bekannten Verfahren zum Herstellen von zusammengesetzten Glasstrukturen die Gläser sowohl in ihrer Erweichungstemperatur als auch in ihrem Ausdehnungskoeffizienten aufeinander abgestimmt sein. Diese Forderungen lassen sich bei wegen ihrer sonstigen Eigenschaften an sich günstigen Glaskombinationen oft nicht oder nur unbefriedigend gleichzeitig erfüllen. Bei Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens hat die Erweichungstemperatur der Gläser keine wesentliche Bedeutung mehr und man ist deshalb bei der Auswahl der Gläser wesentlich freier, weil sie im wesentlichen nur noch in ihrem Ausdehnungskoeffizienten zueinander passen müssen.

Auf Grund der genannten Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens ist es besonders günstig, Gläser an dem Ort, wo sie benötigt werden, zu erzeugen. Beispielsweise lassen sich mit dem Verfahren in vorteilhafter Weise Glasschichten auf ebenen Substraten herstellen.

Es ist vorteilhaft, wenn die beiden Grundgläser in Frittcnform verwendet werden, da sich Frittenmaterial durch eine große Oberfläche auszeichnet, was einerseits die Verflüssigung des Grundglases mit der niedrigeren Transformationstemperatur und andererseits die Lösung des Grundglases mit der höheren Transformationstemperatur beschleunigt.

Homogene und definierte Schichtdicken der für die

Herstellung der Gläser benötigten Ausgangsmaterialien erhält man in vorteilhafter und bequemer Weise, wenn das Frittenmaterial als dünner Brei auf das Substrat aufgesprüht wird. Dabei ist es möglich, einen Brei zu verwenden, der die beiden Grundgläser im richtigen Gewichtsverhältnis miteinander gemischt enthält oder Breie zu verwenden, die je eines der Grundgläser enthalten. Um das Gelieren des dünnen Breis zu verhindern, ist es vorteilhaft, wenn dem dünnen Brei auf 10 000 Gewichtsteile Fritte mindestens ein Gewichtsteil Säure zugemischt wird. Bei der Herstellung von Schichten ist es, um ein Glas, das über die Fläche und in sich homogene Eigenschaften hat, zu erhalten, vorteilhaft, wenn abwechselnd Schichten des ersten und des zweiten Grundglases aufeinander aufgebracht werden, wobei die Dicken der Schichten entsprechend dem festgelegten Gewichtsverhältnis aufeinander abgestimmt werden. Diese Schichten können aus vorgefertigten dünnen Glasplatten aus den beiden Grundgläsern bestehen. Es ist aber auch z. B. möglich, aus Frittenmaterial bestehende Schichten aufzubringen.

Um die Zeit für die Bildung des herzustellenden Glases auf dem Substrat möglichst kurz zu halten, ist es vorteilhaft, wenn festgelegte Gewichtsmengen des ersten und des zweiten Grundglases miteinander vermischt und dann bis zum Vorliegen einer homogenen Schmelze erhitzt werden und wenn die abgekühlte und ggf. zerkleinerte Schmelze anschließend in derselben Weise wie das zweite Grundglas eingesetzt wird.

Es ist vorteilhaft, wenn die beiden Grundgläser zunächst relativ langsam auf die Transformationstemperatur des ersten Grundglases und dann mit gesteigerter Rate bis zur Fließtemperatur des ersten Grundglases erhitzt werden. Die Aufheizrate bis zur Transformationstemperatur des ersten Grundglases ist an sich nicht kritisch. Aus Gründen der Verfahrensökonomie sollte die Aufheizrate möglichst hoch sein, sie darf aber auf keinen Fall so hoch sein, daß das Substratmaterial beschädigt wird. Ist ein Binder in den Ausgangsmaterialien enthalten, so wird dieser beim Aufheizen auf die Transformationstemperatur abbrennen. Geschieht dieses Abbrennen zu schnell, d. h. wird zu schnell aufgeheizt, so besteht die Gefahr, daß explosionsartig austretende Verdampfungs- bzw. Reaktionsprodukte Teile des Glasmaterials verspritzen. Beim weiteren Erhitzen bis zur Fließtemperatur des ersten Grundglases ist eine hohe Aufheizrate vorteilhaft, weil dadurch verhindert wird, daß sich das zweite Grundglas bereits zu lösen beginnt, bevor das erste Grundglas richtig flüssig ist. In diesem Fall steigt die Viskosität der Lösung stark an und die Folge davon ist, daß das entstandene Glas eine rauhe Oberfläche hat. Selbstverständlich muß auch beim Aufheizen auf die Fließtemperatur des ersten Grundglases die Empfindlichkeit des Substratmaterials gegenüber schnellen Temperaturänderungen berücksichtigt werden.

Es ist vorteilhaft, wenn als erstes Grundglas ein Blei-Borsilikatglas und als zweites Grundglas ein Natron-Kalk-Glas verwendet wird Diese Kombination läßt sich günstig verarbeiten und ergibt sehr vorteilhafte Ergebnisse. Hinzu kommt, daß Gläser, die diese Glaskombination enthalten, in ihrem Ausdehnungskoeffizienten sehr gut zu Glasplattenmateriaüen auf der Basis von Natron-Kalk-Gläsern passen, die sich als Substratmaterialien, z. B. bei der Herstellung von Gasentladungs-Bildschirmtafeln, sehr gut bewährt haben. Gasentiadungsbildschirmtafeln gewinnen immer mehr technisches Interesse. Wie weiter unten dargelegt wird, läßt sich das erfindungsgemäße Verfahren bei ihrer Herstellung in besonders vorteilhafter Weise anwenden.

Die Erfindung wird an Hand von durch Zeichnungen erläuterten Ausführungsbeispielen beischrieben. Es zeigen:

F i g. 1 eine aufgeklappte, perspektivische Darstellung einer typischen Gasentladungs-Bilischirmtafel, fur

ίο deren Herstellung das erfindungsgemäße Verfahren angewandt werden kann,

F i g. 2 die in F i g. 1 dargestellte G&sentladungs-Bildschirmtafel im Schnitt entlang der in F i g. 1 gezeigten Linie 2-2,

is Fig. 3 ein für das erfindungsgemäße Verfahren typisches Zeit-Temperaturdiagramm und

F i g. 4 in einem Diagramm die Transformationstemperaturen von für die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens geeigneten Gläsern und von Mischungen dieser Gläser.

Das erfindungsgemäße Verfahren und seine Vorteile lassen sich besonders gut an Hand der Herstellung einer Gasentladungs-Bildschirmtafel beschreiben.

F ig. 1 zeigt in aufgeklappter, perspektivischer

2s Darstellung eine relativ vereinfachte Bildschirmtafel eines Gasentladungs-Bildschirmgerätes. Die Darstellung in der Fig. 1, wie auch in der Fig. 2, ist nicht maßstabsgerecht. Zur leichteren Beschreibung wurden die Abmessungen bestimmter Teile vergrößert.

Bei der Herstellung von Gasentladungs-Bildschirmtafeln wird ausgegangen von Platten 10 und 12, die ;aus irgendeiner von vielen möglichen Glaszusammensetzungen bestehen können, wofür konventionelles Natron-Kalk-Glas ein Beispiel ist. Jede Platte wird an ihrer Innenfläche mit einer parallelen Leiteranordnung 14,16, 18 bzw. 22,24,26 versehen. Dann wird eine dielektrische Glasschichl 28 bzw. 32 über der Leiteranordnung auf jeder der Glasplatten 10 und 12 durch Verfließen aufgebracht. Die dielektrischen Schichten 28 und 32 können beispielsweise ca. 25 μίτι dick sein. Bestehen die Substratglastafeln 10 und 12 aus konventionellem, relativ weichem Tafelglas, so können die dielektrischen Glasschichten 28 und 32 aus stark verbleitem Glas, wie Blei-Borsilikat-Glas bestehen. Zur Erzielung eines hohen ioneninduzierten Sekundäremissionskoeffizienten werden die dielektrischen Schichten 28 und 32 mit einer dünnen, hitzebeständigen Schicht, z. B. aus einem Metalloxid, überzogen. Im Ausführungsbeispiel bestehen die Metalloxid-Schichten 30 und 34 in den Fig. 1

und 2 aus MgO und können etwa 2000 Ä dick sein. Schließlich werden die beiden Glasplatten 10 und 12 unter Einhaltung sehr enger Toleranzen so miteinander verschweißt, daß sie parallel zueinander ausgerichtet sind und einen geringen Abstand voneinander haben daß die beiden Metalloxid-Schichten einander zuge kehrt sind, die beiden Leiterzugscharen senkrechi zueinander verlaufen und daß sich zwischen den beider Glasplatten ein gasdichter Raum befindet, der mit einen geeigneten Gas gefüllt werden kann. Zum Verschwel Ben und gleichzeitig zum seitlichen Begrenzen de! gasdichten Raumes dient ein Rahmen 20 aus Glaskugel chen, die beim Verschweißen zum Schmelzen gebrach werden. Der Rahmen 20 ist direkt mit den dielektrische! Schichten 28 und 32 verbunden. Der Abstand zwischei den MgO-Schichten 30 und 34 wird zwischen ca. 100 um 150 μπι groß gemacht Für die Verschweißung kann eim Vielzahl von Glasmaterialien mit niedriger Erwei chungstemperatur verwendet werden. Das gewählt

Material muß jedoch sowohl eine haltbare und permanent hermetische Abdichtung als auch eine mechanisch stabile Verschweißung zwischen den Glasplatten ergeben.

Eine der besonderen Schwierigkeiten bei der s Herstellung der in Fig. 2 gezeigten Bildschirmtafeln gemäß dem Stand der Technik, besteht nun darin, daß während der Verbindung der Glasplatten 10 und 12 mittels des Rahmens 20 die für die Verschweißung erforderliche Temperatur so hoch ist, daß die Transfor- ι ο mationstemperatur der dielektrischen Schichten 28 und 32 überschritten und dadurch diese zur Erweichung oder zum Wiederverfließen gebracht werden. Dadurch werden ungleichmäßige Spannungen auf die Metalloxidschichten 30 und 34 ausgeübt, wodurch in diesen Risse und dergleichen entstehen. Außerdem kann eine Reaktion zwischen den dielektrischen Schichten 28 und 32 und den Metalloxidschichten 30 und 34 stattfinden. Die Rißbildung und die Reaktion führt allgemein zu einer Beeinträchtigung des elektrischen Verhaltens der Gasentladungs-Bildschirmtafel, beispielsweise zu einer unerwünschten Änderung der Elektronen-Emissionscharakteristik.

Die genannte Schwierigkeit tritt deshalb auf, weil die Glasplatten 10 und 12, die dielektrischen Schichten 28 und 32 und die den Rahmen 20 bildenden Glaskügelchen in ihrem Wärmeausdehnungskoeffizienten zusammenpassen müssen. Die unter dieser Voraussetzung zur wirkungsvollen Bildschirmtafelverschweißung verfügbaren Dichtungsmittel benötigen jedoch zum Verschweißen eine Temperatur, die über der Transformationstemperatur bekannter, dielektrischer zu Tafelglas auf Natrium-Kalk-Basis passender Gläser liegt. Für pyrcxartiges Tafelglas gibt es nur sehr wenige bekannte Verschweißungsmittel und das Problem ist noch größer, is Die bekannten dielektrischen Gläser haben eine niedrige Transfor, nationstemperatur, weil sie bei Temperaturen aufgebracht werden müssen, die niedriger liegen, als die Verfließtemperatur der Glasplatten 10 und 12, bei der eine Verformung dieser Platten beginnt. Werden Gläser verwendet, die in ihrem Wärmeausdehnungskoeffizienten nicht zueinander passen, so tritt eine Trennung und ein Werfen der Glasschichten auf. Da der nur einige Hundertstel mm betragende Abstand zwischen den Glasplatten normalerweise auf einige Tausendstel mm genau eingestellt werden muß, muß die Verzerrung der Glasplatten während der Verarbeitung verschwindend klein gehallen werden. Für die Herstellung der in Fig. 2 gezeigten Bildschirmtafel gelten daher ganz strenge Bestimmungen.

Nach dem Erfindungsgedanken ist eine Materialsynthese und ein Verfließen zur Bildung von — im vorliegenden Beispiel — dielektrischen Glasschichten am Anwendungsort derart vorgesehen, daß die während nachfolgender Verarbeitungsschritte erforderlichen Temperaturen die dielektrischen Schichten nicht schädi gen. Für die in F i g. 2 gezeigte Bildschirmtafel werden die dielektrischen Schichten 28 und 32 durch eine am-Ort-Synthese gebildet, und zwar mit einer solchen resultierenden Transformationstemperatur, daß der nachfolgende Erwärmungsvorgang, der zum Verschweißen der Substraiglasplatten 10 und 12 erforderlich ist sich nicht nachteilig auf die so hergestellten dielektrischen Schichten auswirkt.

Nach dem Erfindungsgedanken wird der Erweichungs- oder Verfließpunkt eines Glases mit einer relativ niedrigen Transformationstemperatur, welches zur Herstellung von in der Mitte liegenden Glasteilen verwendet wird, während der Verflüssigung dadurch angehoben, daß man vorbestimmte Anteile eines Glases mit höherer Transformationstemperatur einschließt und so das Glas mit der höheren Transformationstemperatur in dem Glas mit der niedrigeren Transformationstemperatur am Anwendungsort löst. Das Glas mit der niedrigeren Transformationstemperatur wird im folgenden »weicheres Grundglas«, das mit der höheren Transformationstemperatur »härteres Grundglas« genannt. Im beschriebenen Verfahren werden die Gläser mit der hohen und der niedrigen Transformationstemperatur (das härtere und das weichere Grundglas) in Form einer Fritte gemischt, um eine Mischung herzustellen, die auf ein Substrat, beispielsweise durch Sprühen, aufgebracht wird. Zum leichteren Aufbringen kann die gemischte Fritte in eine geeignete leicht verarbeitbare Form gebracht werden, die ein Bindemittel enthalten kann oder nicht. Nach Aufbringen einer Frit'enschicht auf das gewünschte Substrat, wie z. B. die Substratplatten 10 und 12, wird die Fritte auf eine Temperatur erhitzt, die zur Verflüssigung des weicheren Grundglases ausreicht sowie zur darin erfolgenden Lösung des härteren Grundglases, wodurch Glasteile, wie z. B. die dielektrischen Glasschichten 28 und 32, gebildet werden. Die zur Verflüssigung des weicheren Grundglases und zur Bildung der resultierenden Glasschichten 28 und 32 benötigte Temperatur ist wesentlich niedriger als der Deformationspunkt der Substratplatten 10 und 12 und ebenfalls wesentlich niedriger als die Fließtemperatur eines vorher — also nicht am Anwendungsort — fertiggestellten Glases derselben resultierenden Zusammensetzung, wie sie die durch dieses Verfahren gebildeten Schichten 28 und 32 haben.

Die Fließtemperatur, welche beim erfindungsgemäßen Verfahren benötigt wird, um die Viskosität des weicheren Grundglases soweit herabzusetzen, daß sich das härtere Grundglas darin in zureichender Weise auflöst, ist im allgemeinen ein wenig höher als die Transformationstemperatur des härteren Grundglases aber tiefer als die Deformationstemperatur der Substratglasplatten. Diese Fließtemperatur liegt jedoch auch wesentlich unter der Fließtemperatur, die für ein Glas derselben Zusammensetzung benötigt wird welches vorher — also nicht am Anwendungsort — fertiggestellt und dann als Fritte wieder verflüssigt wird Bei der fraglichen Fließtemperatur erreicht die Fritt« des weicheren Grundglases eine hinreichend niedrig! Viskosität, wodurch dieses Glas sich gut verflüssigt unc unmittelbar die Fritte des härteren Grundglases zi lösen beginnt Da das härtere Grundglas nich geschmolzen wird, sondern in der Schmelze de weicheren Grundglases gelöst wird, ist die zun Verfließen der Glasschicht erforderliche Temperatu niedriger als die zum Wiederverfließen eines vorhe fertiggestellten Glases gleicher resultierender Zusam mensetzung erforderliche Temperatur. Das nach der erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte Kombina tionsglas hat also eine Transformationstemperatur, di zwischen der des weicheren Grundglases und der de härteren Grundglases liegt, und zwar entsprechend de relativen Anteilen der in der Mischung verwendete Grundgläser.

Obwohl beim hier beschriebenen Verfahren da weichere und das härtere Grundglas erst am Anwer dungsort kombiniert werden, indem man zuerst di Fritten dieser Gläser mischt und dann dieses Gemisc auf das Substrat aufträgt können zur physische

Kombination der Gläser am Anwendungsort auch andere Verfahren benutzt werden. Dünne abwechselnde Schichten eines jeden Glases können, z. B. aufeinandergesprüht werden, indem man z. B. mit dem weicheren Grundglas beginnt. Andererseits können s auch abwechselnde Schichten so aufgetragen werden, daß das weichere Grundglas jeweils aufgesprüht wird, während das härtere Grundglas in Form einer festen Tafel aufgebracht wird. Abwechselnde dünne Schichten der harten und weichen Grundgläser können auch m jeweils als dünne Tafeln aufgebracht werden, so daß sie eine feste laminatähnliche Struktur bilden. In jeder dieser Anordnungen erfolgt eine thermische Bearbeitung gemäß obiger Erklärung, um das härtere Grundglas im weicheren Grundglas zu lösen. Mit abnehmender Dicke der abwechselnden Glasschichten nähert sich diese physische Kombination der Gläser am Anwendungsort immer mehr der Mischung.

Die Glasfritten können in einer Vielzahl von Techniken aufgebracht werden. Wo sie z. B. aufgesprüht ao werden, kann ein Brei der Fritte eines jeden Glases durch je eine besondere Sprühpistole aufgetragen werden. Dadurch können die Gläser gleichzeitig aufgetragen werden und die Fritten beim Sprühen vermischt werden. Einzelne Fritten können in ähnlicher Weise abwechselnd zur Bildung dünner Schichten aufgesprüht werden. Das härtere und das weichere Grundglas können selbstverständlich auch anderweitig physisch kombiniert werden.

Um gute Ergebnisse bei der Verflüssigung der gemischten Glasfritten /u erzielen, wendet man am besten den thermischen Zyklus gemäß F i g. 3 an. Nach einer Wärmebehandlung in Schritten analog der Darstellung in Fig. 3 ist die gebildete Glasschicht relativ eben und homogen. Wie aus F i g. 3 zu ersehen ist, wird die Fritte im ersten Schritt langsam bis zur Transformationstemperatur Tc des weicheren Grundglases erwärmt. Während dieses Zeitraumes wird das Substratglas, z. B. die Substratglasplatlen 10 oder 12, so schnell erwärmt, wie es ohne Rißbildung möglich ist. Während dieses Zeitraumes wird außerdem ein mit der Fritte verwendeter organischer Binder ausgeheizt. Wenn die Transformationstemperatur des weicheren Grundglases einmal erreicht wurde, sollte die Fritte schneller weiter erwärmt werden. Dabei ist die Geschwindigkeit jedoch auch durch mögliches Reißen der Substratplatten eingeschränkt. Durch die schnelle Erwärmung wird das weichere Grundglas rasch zum Verfließen gebracht, bevor eine nennenswerte Auflösung des härteren Grundglases auftritt. Wenn die beschleunigte Erwärmung oberhalb der Transformationstemperatur des weicheren Grundglases nicht so rapide geschieht, daß dieses Glas sehr schnell weichflüssig wird, beginnt dessen Viskosität durch die Auflösung des härteren Grundglases zuzunehmen, bevor er selbst flüssig genug ist, um durch Verfließen eine glatte Oberfläche zu bilden. Da unter diesen Umständen das härtere Grundglas durch das weichere Grundglas bereits aufgelöst und dadurch die Viskosität des zuletzt genannten Glases schon erhöht wird, beovor es glatt verfließt, wird das auf diese Weise gebildete resultierende Kombinationsglas rauh, uneben und in gewissem Maße nicht homogen.

Bei den meisten nach dem Erfindungsgedanken als gemischte Fritte verwendbaren Glaszusammensetzungen kann die anfängliche langsame Erwärmung bis zur Transformationstemperatur des weicheren Grundglases mit einer Geschwindigkeit zwischen 1° und 5° pro Minute erfolgen. Beispielsweise ist diese Aufheitzrate geeignet bei 12,5 χ 25 cm großen und ca. 6 mm dicken Substratplatten aus Natron-Kalk-Glas. Nach Erreichen der Transformationstemperatur des weicheren Grundglases kann mit einer Geschwindigkeit von 5° pro Minute und mehr erwärmt werden. In dem Fall sind die Ergebnisse um so besser, je höher die erwärmungsgeschwindigkeit liegt. Praktische Überlegungen begrenzen jedoch die in dieser Prozeßstufe gemäß Fig.3 anwendbare Erwärmungsgeschwindigkeit. Die hohe Erwärmungsgeschwindigkeit wird von der Transformationstemperatur Tg des weicheren Grundglases bis zur Erreichung der Fließtemperatur 7} dieses Glases aufrechterhalten. Die Fließtemperatur ist der Punkt, an dem das Glas flüssig genug ist, um glatt zu fließen. Nach Darstellung in Fig. 3 wird nach Erreichen der Fließtemperatur Tf die Temperatur während eines Zeitraumes konstant gehalten, der ausreicht, um das härtere Grundglas angemessen in dem geschmolzenen weicheren Grundglas zu lösen. Dieser Zeitraum wird bestimmt durch die gewählte Zusammensetzung der gemischten Glasfritte, durch die Partikelgrößen usw. und kann zwischen einigen Minuten und mehreren Stunden liegen. Gemäß F i g. 3 läßt man dann das Glas langsam abkühlen.

Nach dem Erfindungsgedanken gibt es viele mögliche Glaszusammensetzungen mit einer relativ hohen Transformationstemperatur, die sich mit passenden Glaszusammensetzungen mit einer relativ niedrigen Transformationstemperatur so kombinieren lassen, daß durch die gemeinsame Erwärmung am Anwendungsori: ein Kombinationsglas mit einer dazwischenliegenden Transformationstemperatur gebildet wird. Als besonders geeignet für die Herstellung von Gasentladungs-Bildschirmtafeln erwiesen sich die folgenden Beispiele von Glaszusammensetzungen.

Glas .4

Gewichtsprozent

SiO₂ 14,1

PbO 72,8

B2O3 12,5

AI2O3 0,2

CaO 0,1

Na₂O 0,2

MgO 0,1

Glas B

Gewichtsprozent

S1O2 71,11

AI2O3 2,38

CaO 7,13

Na₂O 14,45

MgO 3,76

K2O 030

B2O3 0,13

PbO 0,74

Bei dem Glas A handelt es sich um ein dielektrisches Glas mit niedriger Transformationstemperatur auf Blei-Borsilikatbasis und bei dem Glas B um ein Natron-Kalk-ähnliches Glas mit einer höheren Transformationstemperatur. Obwohl diese Gläser nur als Beispiele angegeben sind und als besonders geeignet für

die Herstellung von Gasentladungs-Bildschirmiafeln beschrieben wurden, können sie auch für die Herstellung einer Vielzahl anderer elektrischer Geräte verwendet werden. Natürlich können auch andere zueinander passende Paare von Glas/.usammcnsetzungen mit relativ verschiedenen Transformationstemperaturen nach dem Erfindungsgedanken zur am-Ort-Bildung eines Glases mit einer mittleren Transformationstemperatur verwendet werden.

Die Kurve in Fig.4 zeigt die resultierenden Transformationslemperaturen für alle Kombinationsverhältnisse der oben angegebenen Gläser A und B. In diesem Bereich ergeben sich thermische Ausdehnungskoeffizienten, die sich nur leicht voneinander unterscheiden. Der Haupteffekt der Veränderung des Kombinationsverhältnisses zwischen den Gläsern A und ßist eine graduelle Änderung derTransformationstemperatur. Die Transformationstemperatur kann experimentell ermittelt werden mit Hilfe einer Kurve, in der die Viskosität oder der thermische Ausdehnungskoeffizient über der Temperatur aufgetragen ist, indem man eine Diskontinuität in der sonst stetigen Änderung einer dieser Eigenschaften ermittelt. Ein anderes mögliches Verfahren zur Bestimmung der Transformationstemperatur ist die differentielle Thermoanalyse, wie sie von R e i s m a η u. a. im Journal of the Am. Chem. Soc. Band 78 (1956), S. 4514 und S. 1536; Band 15 (1955), S. 2115 und Band 79 (1957), S. 2039 beschrieben ist.

Wie aus der Kurve in F i g. 4 zu ersehen ist, steigt die resultierende Transformationstemperatur des aus den Gläsern A und B gebildeten Glases gleichmäßig als Funktion des Zusammensetzungsverhältnisses. Außer der relativen Konstanz des Wärmeausdehnungskoeffizienten zeigte sich über dem gesamten Zusammensetzungsbereich zwischen den Gläsern A und B nur eine vernachlässigbar kleine Phasentrennung.

Die der Fig.4 entsprechenden Kombinationsgläser eignen sich besonders zum Niederschlag auf Substraten aus konventionellem weichem Tafelglas, wie es handelsüblich ist und unter dem Namen LOF oder ASG vertrieben wird. Außerdem zeigen die der Fig.4 entsprechenden Kombinationsgläser eine hohe Verträglichkeit mit konventionellem gewalztem Tafelglas und dünn gegossenem Tafelglas, ungeachtet der stark unterschiedlichen Eigenschaften dieser beiden Tafelglasarten. Während die Kurve der resultierenden Transformationstemperaturen bei Verwendung der Gläser A und Bgewölbt ist, zeigen andere Kombinationen eine mit der Zusammensetzung lineare Veränderung.

Wegen der vorteilhaften Eigenschaften eines Kombinationsglases, das, wie es die F i g. 4 zeigt, aus zwei aufeinander abgestimmten Grundgläsern gebildet wird, läßt sich eine beliebige Anzahl unterschiedlicher Zwischengläser direkt am Anwendungsort zusammensetzen, indem man verschiedene Anteile der beiden Grundgläser so auswählt, daß das resultierende Kombinationsglas die geforderte Verflüssigungscharakteristik und den erforderlichen Widerstand gegen Wiederverflüssigung aufweist. Man kann auch mit zwei zwischen den Grundgläsern in der Kurve 4 liegenden Zusammensetzungen beginnen und dann zu einer gewünschten dazwischenliegenden Zusammensetzung gelangen.

Wenn man also ein Kombinationsglas auf konvcntionellem Tafelglas herstellen will, kann zunächst eine erste auf dem Tafelglas herzustellende Schicht aus den in Fig.4 gegebenen Zusammensetzungen ausgewählt werden. Die Fritte für ein Gemisch aus z. B. 25 Gewichtsprozent des Glases B und 75 Gewichtsprozent des Glases A wird auf das konventionelle Tafelglas aufgesprüht. Die zur Verflüssigung des weicheren Grundglases A und zur darin erfolgenden Lösung des härteren Grundglases B erforderliche Temperatur ist niedrig genug, um eine Verformung des darunterliegenden Tafelglases zu vermeiden. Die Transformationsund somit die Wiederverflüssigungstemperatur der durch dieses Verfahren gebildeten Kombinationsglasschicht liegt andererseits ausreichend über der Transformationstemperatur des weicheren Grundglases, so daß nachfolgende Verarbeitungsschritte mit erhöhter Temperatur seine Wiederverflüssigung nicht auslösen können. Die durch dieses Verfahren gebildete Kombinationsglasschicht hat also, anders ausgedrückt, eine hinreichend erhöhte Wiederverflüssigungstemperatur, so daß der nächste Verarbeitungsschritt nicht unterhalb der ursprünglichen Transformationstemperatur des weicheren Grundglases aufgeführt werden muß, was ohne die Mischung mit dem härteren Grundglas und die nachfolgende am-Ort-Synthese und Verflüssigung der Kombinations-Fritte erforderlich gewesen wäre. Wie bereits gesagt, erfolgt diese am-Ort-Verflüssigung bei einer Temperatur, die unter der Temperatur liegt, die erforderlich wäre, wenn man ein Glas identischer Zusammensetzung zuerst fertig herstellen und dann die Fritte dieses fertigen Kombinationsglases auf einer Glasplatte zerfließen lassen würde.

Im nächsten Verfahrensschritt kann dann eine Metallisierung oder ähnliches auf der Glasschicht ausgebildet werden. Nach dem Aufbringen der Metallschicht kann eine zweite Glasschicht auf der Metallschicht erzeugt werden, indem man die Mischung nnd das am-Ort-Zerfließen wie bei der Bildung der ersten Glasschicht vornimmt. Da bei diesem Ausführungsbeispiel die Zusammensetzung der zweiten Glasschicht so sein soll, daß sie eine niedrigere Transformations- und Wiederverflüssigungstemperatur hat als die zuerst gebildete Glasschicht, kann die nächste gewählte Mischung z. B. 85 Gewichtsprozent des Glases A und 15 Gewichtsprozent des Glases B enthalten. Das Zerfließen der zweiten Schicht kann etwa bei derselben Temperatur erfolgen wie das der ersten Glasschicht, z. B. in der Nähe von etwa 600⁰C oder weniger. Diese Fließtemperatur ist niedrig genug, um ein Erweichen oder Wiederverflüssigen sowohl des verwendeten Tafelglassubstrats als auch der ersten gebildeten Glasschicht zu vermeiden, weil der Wiederverflüssigungspunkt der zuerst gebildeten Glasschicht durch die Anwesenheit des Glases B in dieser Schicht angehoben wurde.

Beim Mischen des härteren Grundglases B mit dem weicheren Gi undglas A und Zerfließen des Glases A auf dem Substrattafelglas derart daß das Glas B darin gelöst und so eine erste Glasschichl gebildet wird, liegt die benötigte Temperatur so. daß eine Verformung des Substrattafelglases vermieden und doch die Transfer mations- und daher Wiederverflüssigungstemperatur der gebildeten ersten Glasschicht durch das Vorhandensein des Glases B so weit angehoben wird, daß eine andere, mindestens denselben Gewichtsprozentsatz des Glases A enthaltende Schicht darauf gebildet werden kann. Wie aus Fig.4 hervorgeht, ergibt sich für die zuerst gebildete Glasschicht eine Transformationstemperatur von etwa 470⁰C. Die Wiederverflüssigungstemperatur dieser Schicht stellte sich dann mit etwa 620° C heraus. Diese Temperatur ist hoch genug, um eine

weitere im wesentlichen aus dem Glas A bestehende Schicht nach dem Eriindungsgedanken auf der ersten Schicht herzustellen.

Bei der Anwendung des beschriebenen Verfahrens bei der Herstellung von Gasentladungs-Bildschirmtafein gemäß den F i g. 1 und 2, zur Bildung der dielektrischen Glasschichten 28 und 32 auf den Tafelglassubstraten 10 und 12 wird nach dem in Fig.3 gezeigten Zeit-Temperatur-Zyklus eine Verformung der Tafelglassubstrate vermieden. Andererseits wird die Transformationstemperatur der gebildeten dielektrischen Glasschichten so weit angehoben, daß beim erwähnten nachfolgenden Verschweißen eine Wiederverflüssigung dieser dielektrischen Schichten vermieden wird. Durch das Vermeiden der Wiederverflüssigung der gebildeten dielektrischen Glasschichten werden auch die Rißbildung und andere Beschädigungen der hitzebeständigen Metalloxidschichten 30 und 34 vermieden.

Das erfindungsgemäße Verfahren kann auch dazu benutzt werden, die Transformationstemperatur eines mittels einer Form hergestellten Glasteiles zu erhöhen. Dadurch kann der Erweichungs- oder Wiederverflüssigungspunkt des Glasteiles so weit angehoben werden, daß die Erweichung oder Wiederverflüssigung bei einer nachfolgenden Wärmebehandlung, z.B. einer Verschweißungsoperation, vermieden wird. Es wird nochmals darauf hingewiesen, daß die Fließtemperatur der auf einem Substrat oder in einer Form hergestellten Kombination der beiden Glasfritten wesentlich niedriger liegt als wenn man das Kombinationsglas zuerst vollständig herstellt und anschließend zerfließen läßt, obwohl die resultierende Glaszusammensetzung in beiden Fällen dieselbe ist. Das ist darauf zurückzuführen, daß die Fließtemperatur des Kombinationsglases bestimmt wird durch das weichere Grundglas (A) in der Fritte und nicht durch die endgültige Zusammensetzung des am Anwendungsort gebildeten Kombinationsglases.

Im folgenden soll an speziellen Ausführungsbeispielen das erfindungsgemäße Verfahren noch näher beschrieben werden.

Als Grundgläser werden solche verwendet, die im wesentlichen mit den oben angegebenen Gläsern A und B identisch sind oder die in ihrer Zusammensetzung zwischen den Zusammensetzungen der Grundgläser liegen. Diese Gläser werden verwendet, Uni die dielektrischen Glasschichten 28 und 32 in der in den F i g. 1 und 2 gezeigten Gasentladungs-Bildschirmtafeln zu erzeugen. Die vorher aufgebrachten Leiter 14 bis 18 und 22 bis 26 können auf jeder Seite mit Chrom überzogene Kupferleiter sein und die nachher aufgebrachten Schichten 30 und 34 können aus MgO bestehen.

Für die Glasplatten 10 und 12 kann handelsübliches Tafelglas (ASG Lustron oder LOF) verwendet werden. Zu diesem Tafelglas passendes dielektrisches Glas, wie z. B. das durch die Glassorte A gegebene Glas wird weich, wenn verfügbares Verschweißungsmaterial, das zu dem Tafelglas paßt, zur Bildung des Rahmens 20 erwärmt wird. fio

Die Transformationstemperatur der mit dem Glas A zu bildenden dielektrischen Schichten 28 und 32 läßt sich durch am-Ort-Zusatz eines bestimmten Prozentsatzes des Glases B vorhersagen. Wenn man z. B. 22,5 G.ewichtsprozcnt des Glases B mit 77,5 Gewichtsprozent des Glases A mischt, so wird die Glastransformationstemperatur der Schichten 28 und 32 so weit angehoben, daß nachfolgende Wärmebehandlungszyklen für die Verschweißung und dergl. diese Schichten nicht erweichen. Die Fritte dieser Mischung aus 22,5% Glas Sund 77,5% Glas A wird auf konventionelle Weise auf die Tafeln 10 und 12 und die darüberliegenden Leiter aufgesprüht. Die aufgesprühte Fritte wird dann entsprechend dem in Fig.3 angegebenen Zyklus erhitzt.

Erwärmungsgeschwindigkeiten zwischen Γ und 2° pro Minute bis zur Transformationstemperatur Tc (etwa 425° C für das Glas A) sind brauchbar. Von der Temperatur Ta bis zur Fließtemperatur 7>sind Erwärmungsgeschwindigkeiten von 2° pro Minute und höher brauchbar. Die in diesem Beispie¹. bei etwa 600⁰C liegende Fließtemperatur 7} kann dann für 2 bis 6 Stunden aufrechterhalten werden Dann wird die Struktur mit etwa 2° pro Minute aogekühlt. In einem anderen Ausführungsbeispiel werden jeweils 50 Gewichtsprozent des Glases A und des Glases B in Pulverform miteinander gemischt. Diese Mischung wird dann bei 1000⁰C so lange behandelt, bis eine vollständige Auflösung der Gläser ineinander sichergestellt ist. Dieses vorgefertigte Glas wird dann in Wasser abgeschreckt und zermahlen, und das zermahlene Glas wird dann mit einem zermahlenen Glas A mit dem Gewichtsverhältnis von etwa 55 Gewichtsprozent Glas A und 45 Gewichtsprozent des vorgefertigten zermahlenen Glases gemischt. Die Mischung wird danach auf die Substrate 10 und 12 aufgesprüht und bis zum Zerfließen erhitzt, genauso, wie es vorher im Zusammenhang mit F i g. 3 beschrieben wurde. Die einzelnen Schritte dieses Ausführungsbeispieles führen zu dielektrischen Glasschichten derselben Zusammensetzung wie im vorhergehenden Ausführungsbeispiel, d.h. die dielektrischen Glasschichten enthalten 22,5 Gewichtsprozent des Glases B und 77,5 Gewichtsprozent des Glases A.

Wenn beim Aufsprühen der Fritte einer bestimmten Glaszusammensetzung auf die Substrate 10 und 12 Schwierigkeiten auftreten wegen der Gelierung des Breies, kann man zur Verhinderung der Gelierung eine Spur Säure im Verhältnis 1 :10 000 Teile zusetzen. Die zugegebene Säuremenge ist jedoch nicht kritisch, solange eine Mindestmenge von etwa 1 Teil auf 10 000 eingehalten wird. Bei den oben angegebenen Beispielen würde eine entsprechende Menge Salpeter- oder Essigsäure ausreichen, um ein Gelieren zu verhindern.

Es sei klar gestellt, daß sehr unterschiedliche Zusammensetzungen der Gläser A und B verwendet werden können, um am Anwendungsort dielektrische Schichten 28 und 32 herzustellen. Es ist auch möglich, bei der Herstellung dieser Schichten in einer beliebigen Anzahl von eingeschobenen Verfahrensschritten einer entsprechenden Anzahl von nur zwischenzeitlich vorhandenen Gläsern unterschiedlicher Zusammensetzung herzustellen, die dann mit festgelegten Mengen des Grundglases A, des Grundglases ßoder anderer nur zwischenzeitlich vorhandener Gläser vermischt werden, bis schließlich das Glas der endgültig gewünschten Zusammensetzung erhalten wird. Es sei noch erwähnt, daß es bei der Herstellung von nur zwischenzeitlich vorhandenen Gläsern aus den Grundgläsern A und B günstig ist, glasbildende Verbindungen zu verwenden, die aus Oxiden oder Carbonaten bestehen.

Hierzu 3 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Verfahren zum Herstellen eines Glases mit definierter Transformationstemperatur, dadurch gekennzeichnet, daß festgelegte Gewichtsmengen von zwei Grundgläsern, von denen das erste eine Transformationstemperatur hat, die unterhalb, und das zweite eine Transformationstemperatur hat, die oberhalb der Transformationstemperatur des herzustellenden Glases liegt, miteinander in Kontakt gebracht werden, daß die beiden Grundgläser dann bis zur Fließtemperatur des ersten Grundglases, bei der dieses hinreichend flüssig ist, um unter Bildung einer glatten Oberfläche zu zerfließen, aufgeheizt und dann so lange auf dieser Temperatur gehalten werden, bis sich das zweite Grundglas im ersten gelöst hat, und daß schließlich abgekühlt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das herzustellende Glas als Schicht (28, 32) direkt auf einem ebenen Substrat (10,12) erzeugt wird.

3. Verfahrten nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Grundgläser in Frittenform verwendet werden.

4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Fritten als dünner Brei auf das Substrat aufgesprüht werden.

5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß dem dünnen Brei auf 10 000 Gewichtsteile Fritte mindestens 1 Gewichtsteil Säure zugemischt wird.

6. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß abwechselnd Schichten des ersten und zweiten is Grundglases aufeinander aufgebracht werden, wobei die Dicken der Schichten entsprechend dem festgelegten Gewichtsverhältnis aufeinander abgestimmt werden.

7. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß festgelegte Gewichtsmengen des ersten und des zweiten Grundglases miteinander vermischt, dann bis zum Vorliegen einer homogenen Schmelze erhitzt werden und daß schließlich die abgekühlte und gegebenenfalls zerkleinerte Schmelze anschließend in derselben Weise wie das zweite Grundglas eingesetzt wird.

8. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Grundgläser zunächst auf die Transformationstemperatur des ersten Grundglases und dann bis zur Fließtemperatur des ersten Grundglases erhitzt werden, wobei unterhalb der Transformationstemperatur langsamer als oberhalb erhitzt wird.

9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst mit einer Geschwindigkeit zwischen Γ und 5°C pro Minute und dann mit einer Geschwindigkeit von > 2⁰C pro Minute aufgeheizt wird. do

10. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß als erstes Grundglas ein Blei-Borsilikat-Glas und als zweites Grundglas ein Natron-Kalk-Glas verwendet werden. (\s

11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß ein aus 14,1 Gewichtsprozent SiO>. 72.8 Gewichtsprozent PbO, 12,5 Gewichtsprozent B₂O₃,0,2 Gewichtsprozent Al₂O₃,0,1 Gewichtsprozent CaO, 0,2 Gewichtsprozent Nd₂O und 0,1 Gewichtsprozent MgO bestehendes Blei-Borsilikat-Glas und ein aus 71,11 Gewichtsprozent SiO₂, 2,38 Gewichtsprozent Al₂O₃,7,13 Gewichtsprozent CaO, 14,45 Gewichtsprozent Na₂0,3,76 Gewichtsprozent MgO, 0,30 Gewichtsprozent K₂0,0,13 Gewichtspro zent B₂O₃ und 0,74 Gewichtsprozent PbO bestehendes Natrcn-Kalk-Glas verwendet werden.

12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß solche Mengen der beiden Grundgläser miteinander in Kontakt gebracht werden, daß die Gesamtmenge 77,5 Gewichtsprozent des ersten Grundglases und 22,5 Gewichtsprozent des zweiten Grundglases enthält, die Bildung des herzustellenden Glases bei einer Temperatur von etwa 600⁰C während 2 bis 6 Stunden vorgenommen und das resultierende Glas mit einer Geschwindigkeit von etwa 2°C pro Minute abgekühlt wird.

13. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 12, gekennzeichnet durch seine Anwendung bei der Herstellung von Gasentladungs-Bildschirmtafeln.