DE2317762B2 - Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen - Google Patents
Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-AufdampfanlagenInfo
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft einen Tiegel gemäß Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Bisher wurde die Herstellung von Legierungsschichten,
deren beide Komponenten aus sublimierenden Materialien bestehen, z. B. Chrom und Graphit, durch
gleichzeitiges Verdampfen der beiden Komponenten aus getrennten Verdampfertiegeln mit Hilfe eines
zwischen den beiden Tiegeln oszillierenden Elektronenstrahls vorgenommen, wobei das Verweilzeitverhältnis
des Elektronenstrahls auf den beiden Materialien ein Maß für die Legierungszusammensetzung der Aufdampfschichten
ist Mit dieser Anordnung ergeben sich starke Schwankungen beim Schichtenaufbau infolge der
starken Änderungen in der Aufdampfcharakteristik durch das punktförmige Einbrennen des Elektronenstrahls
in die sublimierenden Materialien, wodurch sich ein Krater bildet Eine teilweise Verbesserung läßt sich
erreichen durch die bekannten Drehtiegel, bei denen sich der in Form einer kreisförmigen Rinne ausgebildete
Tiegel während des Aufdampfprozesses dreht
Aus der DE-AS 20 29 014 ist eine Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen eines oder mehrerer Werkstoffe
bekannt, in der das zu bedampfende Werkstück über einen etwa ringförmigen Bereich einer die Werkstoffe
aufnehmenden drehbaren Kreisscheibe angeordnet ist, wobei die Kreisscheibe rotierend angetrieben wird, eine
im Verhältnis zur zugeführten Heizenergie große Wärmeträgheit besitzt und eine oder mehrere konzentrische
Ringnuten zur Aufnahme je eines unterschiedlichen Werkstoffs aufweist Als Heizvorrichtung dient
eine Elektronenstrahlquelle.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Tiegel zur gleichzeitigen Verdampfung
zweier sublimierender Materialien mittels eines zwischen den zwei Materialien oszillierenden Elektronenstrahls
anzugeben, der es gestattet, die Verdampfung gleichmäßiger und in größeren Mengen vorzunehmen,
als es mit den üblichen feststehenden Tiegelanordnungen möglich ist, und der trotzdem einfacher im Aufbau
und in der Anwendung ist als die ebenfalls bekannten rotierenden Drehtiegel.
Diese Aufgabe v/ird gelöst gemäß den Merkmalen
des Hauptanspruchs.
Vorteilhaft ist der Tiegel wassergekühlt und enthält zusätzlich napffömiige Vertiefungen. Damit ergeben
sich die Vorteile, daß durch die lineare Hin- und Herbewegung des erfindungsgemäßen Tiegels die zur
Kühlung notwendige Wasserzufuhr vereinfacht ist, daß eine schnelle Krateirbildung, die bei der Verdampfung
sublimierender Materialien aus feststehenden Tiegeln zu ungleichmäßiger Schichtenbildung führt, vermieden
wird, wodurch ein homogener Schichten- und Legierungsaufbau ermöglicht wird, und daß der erfindungsgemäße
Tiegel auch als feststehender Napftiegel, z. B. für schmelzbare Materialien, verwendet werden kann,
jedoch mit einem gegenüber den bekannten Napftiegeln wesentlich größeren Fassungsvermögen.
An Hand der Zeichnung soll die Erfindung näher erläutert werden.
Man erkennt einen Tiegel 1 mit Kühlwasserzu- und ableitungen 2. Auf der Oberseite des Tiegels 1 sind zwei
Tiegelrinnen 3 angeordnet Außerdem sind noch zwei runde Napf tiegel 4 vorgesehen. Die Verdampfung des in
den Vertiefungen 3 bzw. 4 liegenden Materials erfolgt mit Hilfe des zwischen den einzelnen Vertiefungen 3
bzw. 4 oszillierenden Elektronenstrahls 5. Der Tiegel 1 ist in Richtung des Weils 6 beweglich; Tiegelbewegung 6
und Oszillationsebene des Elektronenstrahls 5 stehen senkrecht zueinander.
Claims (2)
1. Wassergekühlter Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen,
dadurch gekennzeichnet, daß zur gleichzeitigen Verdampfung wenigstens zweier sublimierender Materialien mittels oszillierendem
Elektronenstrahl (5) wenigstens zwei parallele Tiegelrinnen (3) vorgesehen sind und daß der Tiegel
(1) parallel zu den Rinnen (3) und senkrecht zur Oszillationsebene des Elektronenstrahls (5) bewegbar
ist
2. Tiegel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich napfförmige Vertiefungen (4)
vorgesehen sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19732317762 DE2317762B2 (de) | 1973-04-09 | 1973-04-09 | Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19732317762 DE2317762B2 (de) | 1973-04-09 | 1973-04-09 | Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2317762A1 DE2317762A1 (de) | 1974-10-24 |
DE2317762B2 true DE2317762B2 (de) | 1978-08-17 |
Family
ID=5877478
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19732317762 Withdrawn DE2317762B2 (de) | 1973-04-09 | 1973-04-09 | Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2317762B2 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19823908A1 (de) * | 1998-05-28 | 1999-12-02 | Kempten Elektroschmelz Gmbh | Elliptischer keramischer Verdampfer |
-
1973
- 1973-04-09 DE DE19732317762 patent/DE2317762B2/de not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19823908A1 (de) * | 1998-05-28 | 1999-12-02 | Kempten Elektroschmelz Gmbh | Elliptischer keramischer Verdampfer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2317762A1 (de) | 1974-10-24 |
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Legal Events
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8239 | Disposal/non-payment of the annual fee |