DE2317762B2 - Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen - Google Patents

Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen

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DE2317762B2
DE2317762B2 DE19732317762 DE2317762A DE2317762B2 DE 2317762 B2 DE2317762 B2 DE 2317762B2 DE 19732317762 DE19732317762 DE 19732317762 DE 2317762 A DE2317762 A DE 2317762A DE 2317762 B2 DE2317762 B2 DE 2317762B2
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Lothar Dipl.-Phys. Dr. 8081 Breitbrunn Lassak
Hans Peter Dipl.-Phys. Dr. 8016 Feldkirchen Lorenz
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/28Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • C23C14/30Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
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Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Tiegel gemäß Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Bisher wurde die Herstellung von Legierungsschichten, deren beide Komponenten aus sublimierenden Materialien bestehen, z. B. Chrom und Graphit, durch gleichzeitiges Verdampfen der beiden Komponenten aus getrennten Verdampfertiegeln mit Hilfe eines zwischen den beiden Tiegeln oszillierenden Elektronenstrahls vorgenommen, wobei das Verweilzeitverhältnis des Elektronenstrahls auf den beiden Materialien ein Maß für die Legierungszusammensetzung der Aufdampfschichten ist Mit dieser Anordnung ergeben sich starke Schwankungen beim Schichtenaufbau infolge der starken Änderungen in der Aufdampfcharakteristik durch das punktförmige Einbrennen des Elektronenstrahls in die sublimierenden Materialien, wodurch sich ein Krater bildet Eine teilweise Verbesserung läßt sich erreichen durch die bekannten Drehtiegel, bei denen sich der in Form einer kreisförmigen Rinne ausgebildete Tiegel während des Aufdampfprozesses dreht
Aus der DE-AS 20 29 014 ist eine Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen eines oder mehrerer Werkstoffe bekannt, in der das zu bedampfende Werkstück über einen etwa ringförmigen Bereich einer die Werkstoffe aufnehmenden drehbaren Kreisscheibe angeordnet ist, wobei die Kreisscheibe rotierend angetrieben wird, eine im Verhältnis zur zugeführten Heizenergie große Wärmeträgheit besitzt und eine oder mehrere konzentrische Ringnuten zur Aufnahme je eines unterschiedlichen Werkstoffs aufweist Als Heizvorrichtung dient eine Elektronenstrahlquelle.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Tiegel zur gleichzeitigen Verdampfung zweier sublimierender Materialien mittels eines zwischen den zwei Materialien oszillierenden Elektronenstrahls anzugeben, der es gestattet, die Verdampfung gleichmäßiger und in größeren Mengen vorzunehmen, als es mit den üblichen feststehenden Tiegelanordnungen möglich ist, und der trotzdem einfacher im Aufbau und in der Anwendung ist als die ebenfalls bekannten rotierenden Drehtiegel.
Diese Aufgabe v/ird gelöst gemäß den Merkmalen des Hauptanspruchs.
Vorteilhaft ist der Tiegel wassergekühlt und enthält zusätzlich napffömiige Vertiefungen. Damit ergeben sich die Vorteile, daß durch die lineare Hin- und Herbewegung des erfindungsgemäßen Tiegels die zur Kühlung notwendige Wasserzufuhr vereinfacht ist, daß eine schnelle Krateirbildung, die bei der Verdampfung sublimierender Materialien aus feststehenden Tiegeln zu ungleichmäßiger Schichtenbildung führt, vermieden wird, wodurch ein homogener Schichten- und Legierungsaufbau ermöglicht wird, und daß der erfindungsgemäße Tiegel auch als feststehender Napftiegel, z. B. für schmelzbare Materialien, verwendet werden kann, jedoch mit einem gegenüber den bekannten Napftiegeln wesentlich größeren Fassungsvermögen.
An Hand der Zeichnung soll die Erfindung näher erläutert werden.
Man erkennt einen Tiegel 1 mit Kühlwasserzu- und ableitungen 2. Auf der Oberseite des Tiegels 1 sind zwei Tiegelrinnen 3 angeordnet Außerdem sind noch zwei runde Napf tiegel 4 vorgesehen. Die Verdampfung des in den Vertiefungen 3 bzw. 4 liegenden Materials erfolgt mit Hilfe des zwischen den einzelnen Vertiefungen 3 bzw. 4 oszillierenden Elektronenstrahls 5. Der Tiegel 1 ist in Richtung des Weils 6 beweglich; Tiegelbewegung 6 und Oszillationsebene des Elektronenstrahls 5 stehen senkrecht zueinander.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (2)

1 Patentansprüche:
1. Wassergekühlter Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen, dadurch gekennzeichnet, daß zur gleichzeitigen Verdampfung wenigstens zweier sublimierender Materialien mittels oszillierendem Elektronenstrahl (5) wenigstens zwei parallele Tiegelrinnen (3) vorgesehen sind und daß der Tiegel (1) parallel zu den Rinnen (3) und senkrecht zur Oszillationsebene des Elektronenstrahls (5) bewegbar ist
2. Tiegel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich napfförmige Vertiefungen (4) vorgesehen sind.
DE19732317762 1973-04-09 1973-04-09 Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen Withdrawn DE2317762B2 (de)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19823908A1 (de) * 1998-05-28 1999-12-02 Kempten Elektroschmelz Gmbh Elliptischer keramischer Verdampfer

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DE19823908A1 (de) * 1998-05-28 1999-12-02 Kempten Elektroschmelz Gmbh Elliptischer keramischer Verdampfer

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