DE2317762A1 - Tiegel zur aufnahme des verdampfungsgutes in elektronenstrahl-aufdampfanlagen - Google Patents

Tiegel zur aufnahme des verdampfungsgutes in elektronenstrahl-aufdampfanlagen

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DE2317762A1
DE2317762A1 DE19732317762 DE2317762A DE2317762A1 DE 2317762 A1 DE2317762 A1 DE 2317762A1 DE 19732317762 DE19732317762 DE 19732317762 DE 2317762 A DE2317762 A DE 2317762A DE 2317762 A1 DE2317762 A1 DE 2317762A1
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/28Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • C23C14/30Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B14/00Crucible or pot furnaces
    • F27B14/08Details peculiar to crucible or pot furnaces
    • F27B14/10Crucibles

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Description

  • Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen Die vorliegenae Erfindung betrifft einen Tiegel gemaß Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
  • Bisher wurde die Herstellung von Legierungsschichten, deren beide Komponenten aus sublimierenden Ilat erialien bestehen, z. B. Chrom und Graphit, durch gleichzeitiFes Verdampfen der beiden Komponenten aus getrennten Verdampfertiegeln mit Hilfe eines zwischen den beiden Tiegeln oszillierenden Flektronenstrahls vorgenommen, wobei das Verweilzeitverhältnis des Elektronenstrahls auf den beiden Materialien ein rIaB fr die T.egierungszusammensetzung der Aufdampfschichten ist.
  • Mit dieser Anordnung ergeben sich starke Schwankungen beim Schichtenaufbau infolge der starken Änderungen in der Aufdampfcharakteristik durch das punktförmige Einbrennen des Elektronenstrahls in die sublimierenden Materialien, wodurch sich ein Krater bildet. Rine teilweise Verbesserung ißt sich erreichen durch die bekannten Drehtiegel, bei denen sich der in Form einer kreisförmigen Rinne ausgebildete Tiegel während des Aufdampfprozesses dreht.
  • Aus der DT - AS 20.29.014 ist eine Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen eines oder mehrerer Werkstoffe bekannt, in der das zu bedampfende Werkstück über einen etwa ringförmigen Bereich einer die Werkstoffe aufnehmenden drehbaren Kreisscheibe angeordnet ist, wobei die Kreisscheibe rotierend angetrieben wird, eine im Verhältnis zur zugeführten Heizenergie große Wärmeträgheit besitzt und eine oder mehrere konzentrische Ringnuten zur Aufnahme ne eines unterschiedzeichen Werkstoffs aufweist. Als Heizvorrichtung dient eine Elektronenstrahlquelle.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Tiegel zur gleichzeitigen Verderipfung zweier sublimierender Materialien mittels eines zwischen den zwei Materialien oszillierenden Flektronenstrahls anzugeben, der es gestattet, die Verdampfung gleichmäßiger und in größeren Mengen vorzunehmen, als es mit den üblichen feststehenden Tiegelanordnungen möglich ist, und der trotzdem einfacher im Aufbau und in der Anwendung ist als die ebenfalls bekannten rotierenden Drehtiegel.
  • Diese Aufgabe wird gelöst gemäß den Merkmalen des Hauptanspruchs.
  • Vorteilhaft ist der Tiegel wassergekühlt und enthält zusätzlich napfförmige Vertiefungen. Damit ergeben sich die Vorteile, daß durch die lineare Hin- und Herbewegung des erfindungsgemäßen Tiegels die zur Kühlung notwendige Wasserzufuhr vereinfacht ist, daß eine schnelle Kraterbildung, die bei der Verdampfung sublimierender Materialien aus feststehenden Tigeln zu ungleichmäßiger Schichtenbildung führt, vermieden wird, wodurch ein homogener Schichten- und Begierungsaufbau ermöglicht wird, und daß der erfindungsgernäße Tiegel auch als feststehender Napftiegel, z. R, für schmelzbare Materialien, verwendet werden kann, jedoch mit einem gegenüber den bekannten Napftiegeln wesentlich größeren Fassungsvermögen.
  • An Hand der Zeichnung soll die Erfindung näher erlautert werden.
  • Man erkennt einen Tiegel 1 mit Kühlwa.sserzu- und -ableitungen 2. Auf der Oberseite des Tiegels 1 sind zwei Tiegelrinnen 3 angeordnet. Außerdem sind noch zwei runde Nanftiegel 4 vorgesehen. Die Verdsmnfung des in den Vertiefungen 3 bzw.
  • 4 liegenden Materials erfolgt mit Hilfe des zwischen den einzelnen Vertiefungen 3 bzw. 4 oszillierenden Rlektronenstrahls 5. Der Tiegel 1 ist in Richtung des Pfeils 6 beweglich; Tiegelbewegung 6 und Elektronenstrahl 5 erfolgen senkrecht zueinander.
  • 3 Patentansprüche 1 Figur

Claims (3)

  1. Patentansprüche 1.) Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen, dadurch gekennzeichnet, daß zur gleichzeitigen Verdampfung wenigstens zweier sublimierender Materialien mittels oszillierendem iJlektronen strahl (5) wenigstens zwei parallele Tiegelrinnen (3) vorgesehen sind und daß der Tiegel (1) parallel zu den Rinnen (3) und senkrecht zur Oszillationsebene des Elektrone strahls (5) bewegbar ist.
  2. 2.) Tiegel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß er wassergekühlt ist.
  3. 3.) Tiegel nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich napfförmige Vertiefungen (4) vorgesehen sind.
    Leerseite
DE19732317762 1973-04-09 1973-04-09 Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen Withdrawn DE2317762B2 (de)

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