DE2317762A1 - Tiegel zur aufnahme des verdampfungsgutes in elektronenstrahl-aufdampfanlagen - Google Patents
Tiegel zur aufnahme des verdampfungsgutes in elektronenstrahl-aufdampfanlagenInfo
- Publication number
- DE2317762A1 DE2317762A1 DE19732317762 DE2317762A DE2317762A1 DE 2317762 A1 DE2317762 A1 DE 2317762A1 DE 19732317762 DE19732317762 DE 19732317762 DE 2317762 A DE2317762 A DE 2317762A DE 2317762 A1 DE2317762 A1 DE 2317762A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- crucible
- electron beam
- receive
- evaporation
- beam evaporation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B14/00—Crucible or pot furnaces
- F27B14/08—Details peculiar to crucible or pot furnaces
- F27B14/10—Crucibles
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
- Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen Die vorliegenae Erfindung betrifft einen Tiegel gemaß Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
- Bisher wurde die Herstellung von Legierungsschichten, deren beide Komponenten aus sublimierenden Ilat erialien bestehen, z. B. Chrom und Graphit, durch gleichzeitiFes Verdampfen der beiden Komponenten aus getrennten Verdampfertiegeln mit Hilfe eines zwischen den beiden Tiegeln oszillierenden Flektronenstrahls vorgenommen, wobei das Verweilzeitverhältnis des Elektronenstrahls auf den beiden Materialien ein rIaB fr die T.egierungszusammensetzung der Aufdampfschichten ist.
- Mit dieser Anordnung ergeben sich starke Schwankungen beim Schichtenaufbau infolge der starken Änderungen in der Aufdampfcharakteristik durch das punktförmige Einbrennen des Elektronenstrahls in die sublimierenden Materialien, wodurch sich ein Krater bildet. Rine teilweise Verbesserung ißt sich erreichen durch die bekannten Drehtiegel, bei denen sich der in Form einer kreisförmigen Rinne ausgebildete Tiegel während des Aufdampfprozesses dreht.
- Aus der DT - AS 20.29.014 ist eine Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen eines oder mehrerer Werkstoffe bekannt, in der das zu bedampfende Werkstück über einen etwa ringförmigen Bereich einer die Werkstoffe aufnehmenden drehbaren Kreisscheibe angeordnet ist, wobei die Kreisscheibe rotierend angetrieben wird, eine im Verhältnis zur zugeführten Heizenergie große Wärmeträgheit besitzt und eine oder mehrere konzentrische Ringnuten zur Aufnahme ne eines unterschiedzeichen Werkstoffs aufweist. Als Heizvorrichtung dient eine Elektronenstrahlquelle.
- Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Tiegel zur gleichzeitigen Verderipfung zweier sublimierender Materialien mittels eines zwischen den zwei Materialien oszillierenden Flektronenstrahls anzugeben, der es gestattet, die Verdampfung gleichmäßiger und in größeren Mengen vorzunehmen, als es mit den üblichen feststehenden Tiegelanordnungen möglich ist, und der trotzdem einfacher im Aufbau und in der Anwendung ist als die ebenfalls bekannten rotierenden Drehtiegel.
- Diese Aufgabe wird gelöst gemäß den Merkmalen des Hauptanspruchs.
- Vorteilhaft ist der Tiegel wassergekühlt und enthält zusätzlich napfförmige Vertiefungen. Damit ergeben sich die Vorteile, daß durch die lineare Hin- und Herbewegung des erfindungsgemäßen Tiegels die zur Kühlung notwendige Wasserzufuhr vereinfacht ist, daß eine schnelle Kraterbildung, die bei der Verdampfung sublimierender Materialien aus feststehenden Tigeln zu ungleichmäßiger Schichtenbildung führt, vermieden wird, wodurch ein homogener Schichten- und Begierungsaufbau ermöglicht wird, und daß der erfindungsgernäße Tiegel auch als feststehender Napftiegel, z. R, für schmelzbare Materialien, verwendet werden kann, jedoch mit einem gegenüber den bekannten Napftiegeln wesentlich größeren Fassungsvermögen.
- An Hand der Zeichnung soll die Erfindung näher erlautert werden.
- Man erkennt einen Tiegel 1 mit Kühlwa.sserzu- und -ableitungen 2. Auf der Oberseite des Tiegels 1 sind zwei Tiegelrinnen 3 angeordnet. Außerdem sind noch zwei runde Nanftiegel 4 vorgesehen. Die Verdsmnfung des in den Vertiefungen 3 bzw.
- 4 liegenden Materials erfolgt mit Hilfe des zwischen den einzelnen Vertiefungen 3 bzw. 4 oszillierenden Rlektronenstrahls 5. Der Tiegel 1 ist in Richtung des Pfeils 6 beweglich; Tiegelbewegung 6 und Elektronenstrahl 5 erfolgen senkrecht zueinander.
- 3 Patentansprüche 1 Figur
Claims (3)
- Patentansprüche 1.) Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen, dadurch gekennzeichnet, daß zur gleichzeitigen Verdampfung wenigstens zweier sublimierender Materialien mittels oszillierendem iJlektronen strahl (5) wenigstens zwei parallele Tiegelrinnen (3) vorgesehen sind und daß der Tiegel (1) parallel zu den Rinnen (3) und senkrecht zur Oszillationsebene des Elektrone strahls (5) bewegbar ist.
- 2.) Tiegel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß er wassergekühlt ist.
- 3.) Tiegel nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich napfförmige Vertiefungen (4) vorgesehen sind.Leerseite
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19732317762 DE2317762B2 (de) | 1973-04-09 | 1973-04-09 | Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19732317762 DE2317762B2 (de) | 1973-04-09 | 1973-04-09 | Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2317762A1 true DE2317762A1 (de) | 1974-10-24 |
DE2317762B2 DE2317762B2 (de) | 1978-08-17 |
Family
ID=5877478
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19732317762 Withdrawn DE2317762B2 (de) | 1973-04-09 | 1973-04-09 | Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2317762B2 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19823908A1 (de) * | 1998-05-28 | 1999-12-02 | Kempten Elektroschmelz Gmbh | Elliptischer keramischer Verdampfer |
-
1973
- 1973-04-09 DE DE19732317762 patent/DE2317762B2/de not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2317762B2 (de) | 1978-08-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2902848C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von dünnen optischen Mehrfachschichten | |
DE3152736C2 (de) | Selbstverzehrende Kathode f}r einen Lichtbogen-Metallverdampfer | |
EP0306612B1 (de) | Verfahren zur Aufbringung von Schichten auf Substraten | |
EP0285745B1 (de) | Verfahren und Vorrichtungen zum Vakuumbeschichten mittels einer elektrischen Bogenentladung | |
DE3611492A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum beschichten von werkzeugen fuer die zerspanungs- und umformtechnik mit hartstoffschichten | |
DE1949767C3 (de) | Vorrichtung zum Herstellen gleichmäßig dicker Schichten | |
DE4126236C2 (de) | Rotierende Magnetron-Kathode und Verwendung einer rotierenden Magnetron-Kathode | |
DE3117299A1 (de) | Mit einem hartstoff beschichteter gegenstand | |
DE3513014A1 (de) | Verfahren zur behandlung der oberflaeche eines werkstueckes | |
DE3316554C1 (de) | Verdampfervorrichtung mit Strahlheizung zum Aufdampfen mehrerer Materialien | |
DE2919084C2 (de) | Nicht abschmelzende Elektrode zum Plasmaschweißen und Verfahren zur Herstellung dieser Elektrode | |
DE3506671A1 (de) | Dampfquelle fuer vakuumbeschichtungsanlagen | |
DE2812600C2 (de) | Vorrichtung zur Herstellung von Granalien | |
DE2317762A1 (de) | Tiegel zur aufnahme des verdampfungsgutes in elektronenstrahl-aufdampfanlagen | |
DE2902142C2 (de) | Vorrichtung zur Abscheidung von Überzügen im Vakuum | |
DE3714416A1 (de) | Verfahren zum herstellen von plasmaspritzueberzuegen | |
DE901592C (de) | Verfahren zur Herstellung von Polyamiden | |
DE19702928C2 (de) | Lichtbogenverdampfer | |
DE1521205B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Aufdampfen von Stoffgemischen | |
DE1521174B2 (de) | Verfahren zur thermischen verdampfung eines stoffgemisches im vakuum | |
DE2301593C3 (de) | Wechselvorrichtung für Targets für Kathodenzerstäubung | |
CH619738A5 (de) | ||
DE1295956B (de) | Verfahren und Vorrichtung zum UEberziehen von koernigem Material durch Vakuumaufdampfen | |
AT209659B (de) | Verfahren und Vorrichtung zum kathodischen Aufsprühen eines Mehrschichtfilmes aus einer oder mehreren Substanzen auf ein Werkstück | |
DE1521251B2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum gleichmäßigen Verdampfen und Auftragen von hochschmelzenden Materialien, insbesondere Quarz |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8239 | Disposal/non-payment of the annual fee |