DE2919084C2 - Nicht abschmelzende Elektrode zum Plasmaschweißen und Verfahren zur Herstellung dieser Elektrode - Google Patents
Nicht abschmelzende Elektrode zum Plasmaschweißen und Verfahren zur Herstellung dieser ElektrodeInfo
- Publication number
- DE2919084C2 DE2919084C2 DE2919084A DE2919084A DE2919084C2 DE 2919084 C2 DE2919084 C2 DE 2919084C2 DE 2919084 A DE2919084 A DE 2919084A DE 2919084 A DE2919084 A DE 2919084A DE 2919084 C2 DE2919084 C2 DE 2919084C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- hafnium
- carbon dioxide
- consumable electrode
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B7/00—Heating by electric discharge
- H05B7/02—Details
- H05B7/06—Electrodes
- H05B7/08—Electrodes non-consumable
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/02—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape
- B23K35/0205—Non-consumable electrodes; C-electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/3442—Cathodes with inserted tip
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Arc Welding In General (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Description
Höhe des aktiven Einsatzes und
Durchmesser des aktiven Einsatzes
Durchmesser des aktiven Einsatzes
20
sind.
3. Verfahren zur Herstellung einer nicht abschmelzenden Elektrode nach Anspruch 1 durch die
Verbindung eines Halters aus Kupfer oder dessen Legierungen mit. einem aktiven Einsatz aus Hafnium,
dadurch gekennzeichnet, daß der genannte Halter (1) an den Minuspol der Speisrquelle (5) angeschlossen
wird, die nicht abschmelzende Elektrode in Kohlendioxidmedium untt-rgebr-cht und die Hilfselektrode
(6) an den Pluspol der Speisequelle (5) mit der Bildung zwischen den genannten Elektroden
eines Lichtbogens (10) angeschlossen wird; wobei zuerst auf der Oberfläche des aktiven Einsatzes (2)
eine Schicht (3) aus Hafniumoxykarbid bei einem Stromwert des Lichtbogens (10) bis 0,2 /gebildet und
dann der Strom des Lichtbogens (10) von 0,2 /bis auf / mit der Geschwindigkeit max. 40A/sec unter
Bildung einer Schicht (4) aus Graphit auf der früher gebildeten Schicht (3) aus Hafniumoxykarbid erhöht
wird, wobei /der Betriebsstrom der nicht abschmelzenden Elektrode ist.
Die Erfindung bezieht sich auf eine Einrichtung zur Plasmabearbeitung von Metallen, insbesondere auf
nicht abschmelzende Elektroden zum Plasmaschweißen von Metallen in Kohlendioxidmedium oder in Gemi- v>
sehen auf Kohlendioxidbasis.
Die vorgeschlagene nicht abschmelzende Elektrode zum Plasmaschweißen in Kohlendioxidmedium oder in
Gemischen auf Kohlendioxidbasis kann mit Erfolg zum Plasmaschweißen niedriggekohlter und niedriglegierter mi
Stähle eingesetzt werden.
Damit das Plasmaschweißen der Stähle in Kohlendioxidmedium oder in Gemischen auf Kohlendioxidbasis
mit anderen gut bekannten Schweißverfahren, zum Beispiel mit UP-Schweißen mittels einer abschmelzen- n;
den Elektrode oder mit Schweißen mittels einer abschmelzenden Elektrode in Kohlendioxidmedium
oder in Gemischen auf Kohlendioxidbasis konkurrieren kann, ist es notwendig, daß nicht abschmelzende
Elektroden /um Plasmaschweißen in Kohlendioxidmedium oder in Gemischen auf Kohlendioxidbasis die für
die industrielle Ausnutzung annehmbare Lebensdauer bei Lichtbogenströmen über400 A gewährleisten.
So müssen beispielsweise nicht abschmelzende Elektroden zum Plasmaschweißen beim Schweißen
niedriggekohlter und niedriglegierter Stähle ohne Abschrägen der Kanten zur Erreichung der Geschwindigkeiten
des Plasmaschweißen in Kohlendioxidmedium oder in Gemischen auf Kohlendioxidbasis, die gleich
oder höher als die Geschwindigkeiten des Schweißens mit bekannten Verfahren sind, die für die industrielle
Ausnutzung annehmbare Lebensdauer bei Lichtbogenströmen von 400 bis 1000 A gewährleisten.
Bekannt ist eine nicht abschmelzende Elektrode zur Plasmabearbeitung in chemisch aktiven plasmabildenden
Gasen, darunter auch in Kohlendioxid, die einen mit Flüssigkeit gekühlten Metallhalter aus Kupfer und einen
aktiven Einsatz aus Zirkonium enthält, der mit dem Halter in einer metallurgischen Verbindung steht (s. zum
Beispiel US-PS 31 98 932).
Beim Betrieb dieser nicht abschmelzenden Elektrode in Kohlendioxidmedium tritt der aktive Einsatz aus
Zirkonium mit aktiven Bestandteilen des plasmabildenden Gases wie Kohlendioxid und Sauerstoff in
chemische Wechselwirkung ein. Auf der gesamten wirksamen Oberfläche des aktiven Einsatzes bildet sich
die aus den Verbindungen von Zirkonium mit Kohlendioxid und Sauerstoff bestehende Oberflächenhaut,
die wir im folgenden als Zirkoniumoxykarbidschicht nennen werden. Die Zirkoniumoxykarbidschicht
hat eine höhere Temperaturwechselbeständigkeit und höhere Emissionseigenschaften als metallisches Zirkonium.
Die genannte nicht abschmelzende Elektrode fand an Anlagen zum Plasmaschneiden und Plasmaschweißen
von Metallen bei Lichtbogenströmen bis 300 A Verwendung.
Bei der Plasmabearbeitung in Kohlendioxidmedium bei Lichtbogenströmen über 300 A ist jedoch die
Lebensdauer solch einer Elektrode zum industriellen Betrieb unannehmbar. Das schließt ihren Einsatz zum
Plasmaschweißen niedriggekohlter und niedriglegierter Stähle mit der Dicke über 6 mm in Kohlendioxidmedium
oder in Gemischen auf Kohlendioxidbasis praktisch aus.
Bekannt ist auch eine nicht abschmelzende Elektrode zur Plasmabearbeitung von Metallen in chemisch
aktiven plasmabildcnden Medien, die Sauerstoff. Stickstoff
und/oder Kohlenstoff enthalten.
Diese nicht abschmelzende Elektrode weist einen Halter aus Kupfer und dessen Legierungen sowie einen
aktiven Einsatz aus Hafnium auf (s. zum Beispiel US-PS 35 92 649).
Beim Betrieb dieser nicht abschmelzenden Elektrode in Kohlendioxidmedium tritt der aktive Hafniumeinsatz
mit aktiven Bestandteilen des plasmabildenden Gases wie Kohlendioxid und Sauerstoff in chemische Wechselwirkung
ein. Auf der gesamten wirksamen Oberfläche des aktiven Einsatzes bildet sich eine Hamiumoxykarbidsehicht,
die eine höhere Tefnpefatüfwechselbeständigkeit und höhere Emissionseigenschaften als eine
Zirkoniumoxykarbidschicht hat.
Die Lebensdauer einer solchen nicht abschmelzenden Elektrode läßt sich bei der Plasmabearbeitung in
Kohlendioxidmedium bei Lichtbogenströmen bis 400 A einsetzen und ist höher im Vergleich zur Lebensdauer
der Elektroden, die einen aktiven Zirkoniumeinsatz
haben.
Diese Lebensdauer ist jedoch zur Verwendung der Elektrode bei Lichtbogenströmen über 400 A wegen
der Erhöhung der Erosionsgescnwindigkeit der Elektrode auch unannehmbar.
Es ist somit die nicht abschmelzende Elektrode mit einem aktiven Hafniumeinsatz zum Plasmaschweißen
niedriggekohlter und niedriglegierter Stähle mit der Dicke über 6 mm in Kohlendioxidmedium oder in
Gemischen auf iCohlendioxidbasis nicht einzusetzen.
Bekannt ist auch eine Katode für Lichtbogenvorgänge in chemisch aktiven Medien, die einen Kupferhalter
und einen aktiven Einsatz enthält, der im wesentlichen aus Hafnium mit Legierungszuschlägen verschiedener
Metalle und/oder deren Legierungen ausgeführt ist.
Die Katode hat eine niedrigere Erosionsgeschwindigkeit im Vergleich zur Elektrode mit dem aktiven Einsatz
aus reinem Hafnium nur bei dem Aussetzbetrieb des Lichtbogenbrennens. Bei allen Betriebsarten aber
gestattet die Lebensdauer einer solchen Kathode, sie zur Plasmabearbeitung im Kohlendioxidmedium bei
Lichtbogenströmen bis 400 A einzusetzen.
Es kann somit die Kathode mit einem aktiven Einsatz aus Hafnium mit Legierungszusätzen zum Plasmaschweißen
niedriggekohlter und niedriglegierter Stähle mit der Dicke über 6 mm in Kohlendioxidmedium oder
in Gemischen auf Kohlendioxidbasis nicht verwendet werden.
Die oben beschriebene Elektrode nach der US-PS 31 98 932 wird durch das Anbringen eines vorher j»
chemisch behandelten aktiven Zirkoniumeinsatzes in einenKupferhalter und die gemeinsame Erwärmung des
Halters und des aktiven Einsatzes zur Erreichung einer metallurgischen Verbindung zwischen dem aktiven
Einsatz und dem Kupferhalter hergestellt. r.
Alle anderen oben beschriebenen Elektroden werden durch das mechanische Anbringen eines aktiven
Einsatzes in einen Kupferhalter, z. B. durch das Kaltstanzenverfahren oder durch andere ähnliche
Verfahren hergestellt. 4(1
Bei allen oben beschriebenen Elektroden entsteht eine Oxykarbidschicht des entsprechenden Materials
eines aktiven Einsatzes beim Lichtbogewbrennen in Kohlendioxidmedium.
Es ist Zweck der vorliegenden Erfindung, die 4"> erwähnten Nachteile zu beseitigen.
Der vorliegenden Erfindung iiegt die Aufgabe zugrunde, eine nicht abschmelzende Elektrode zum
Plasmaschweißen von Metallen zu schaffen und Verfahren zur Herstellung zu entwickeln, bei denen der '·»
aktive Einsatz so ausgeführt und bearbeitet ist, daß er die Arbeit der nicht abschmelzenden Elektrode bei
Lichtbogenströmen über 400 A mit der für die industrielle Ausnutzung annehmbaren Lebensdauer
gewährleistet sowie beim Schweißen niedrig gekohlter ·'. und niedriglegierter Stähle ohne Abschrägen der
Kanten die Geschwindigkeiten erhalten läßt, die gleich oder höher der Schweißgeschwindigkeiten mit bekannten
Verfahren sind.
Die gestellte Aufgabe wird dadurch gelöst, daß bei j<
> einer nicht abschmelzenden Elektrode zum Plasmaschweißen in Kohlendioxidmedium oder in Gemischen
auf Kohlendioxidbasis, die einen Halter aus Kupfer oder dessen Legierungen und einen in diesem Halter
angeordneten aktiven Hafniumeinsatz aufweist, auf" dessen Oberfläche ':ine Hafniumoxykarbidschicht angeordnet
ist. erfindungsgemäß der aktive Einsatz auch eine auf die Hafniumjxykarbidschicht aufgetragene
Graphitschicht enthält.
Das Auftragen auf eine Hafniumoxykarbidschicht einer Graphitschicht, die die wirksame Oberfläche des
aktiven Einsatzes bildet, gewährleistet eine Verminderung des auf die nicht abschmelzende Elektrode
fallenden Wärmeflusses und eine Erhöhung der Temperaturwechselbeständigkeit und der Emissionseigenschaften
der erfindungsgemäßen nicht abschmelzenden Elektrode.
Es ist zweckmäßig, daß die Graphitmenge in der auf die Hafniumoxykarbidschicht aufgetragenen Graphitschicht
durch die Höhe und den Durchmesser des aktiven Einsatzes bestimmt wird, die aus folgendem
Verhältnis ausgewählt sind:
h=(025-0J5)d,
wobei
wobei
bei sind.
Höhe des aktiven Einsatzes und
Durchmesser des aktiven Einsatzes
Durchmesser des aktiven Einsatzes
Zur Erhöhung der Lebensdauer der E'ektrode, die mit der Bildung der Graphitschicht auf dem größten Teil
und vorzugsweise auf der gesamten Oberfläche der Hafniumoxykarbidschicht und mit der ununterbrochenen
Avifrechterhaltung der gebildeten Graphitschicht bei dem Betrieb der nicht abschmelzenden Elektrode
bei Arbeitsströmen des Lichtbogens zusammenhängt, ist es notwendig, eine intensivere und gleichmäßigere
Abkühlung des aktiven Einsatzes zu gewährleisten.
Zur Erfüllung dieser Bedingungen wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, die geometrischen Parameter eines
aktiven Einsatzes (Höhe und Durchmesser) so auszuwählen, daß die Höhe kleiner als der Durchmesser ist.
Versuchsweise ist es festgestellt, daß bei der Höhe des aktiven Einsatzes unter 0,25 dessen Durchmessers, das
heißt bei der intensivsten Abkühlung des aktiven Einsatzes, die nicht abschmelzende Elektrode nicht
arbeitsfähig wird.
Das hängt damit zusammen, daß bei der Unterkühlung des Materials der Emissionsoberfläche eine
Kontraktion des Katodenbrennfleckes entsteht, der Lichtbogen räumlich instabil wird und die schnelle
Zerstörung der nicht abschmelzenden Elektrode vor sich geht. Bei der Höhe des aktiven Einsatzes über 0.75
dessen Durchmessers werden die Verhältnisse des minimalen radialen Temperaturgradienten auf der
Hafniumoxykarbidschicht so weit gestört, daß die Bildung und die ununterbrochene Gleichgewichtsaufrechterhaltung
der Graphitschicht unmöglich werden, was seinerseits auch zur schnellen Zerstörung der nicht
abschmelzenden Elektrode führt.
Die gestellte Aufgabe wird auch dadurch gelöst, daß bein? Herstellungsverfahren einer nicht abschmelzenden
Elektrode zum Plasmaschweißen, das in der Verbindung eines Halters aus Kupfer oder dessen
Legierungen mit einem aktiven Einsatz besteh!, erfindungsgemäß der Halter aus Kupfer oder dessen
Legierungen an den Minuspol der Speisequelle angeschlossen wird, d.d nicht abschmelzende Elektrode in
Kohlendio;:idmedium untergebracht wird, eine Hilfselektrode an den Pluspol der Speisequelle unter der
Bildung zwischen den genannten Elektroden eines Lichtbogens angeschlossen wird. Dabei wird zuerst auf
der Oberfläche des aktiven Einsatzes eine Hafniumoxykarbidschicht beim utromwert des Lichtbogens bis 0,2 /
gebildet, dann wird der Lichtbogenstrom von 0.2 bis auf L mit der Geschwindigkeit max. 40 A/sec. unicr der
Bildung einer Graphiischiehi auf der vorher gebildeten
Hafniumoxykarbidschicht erhöhl, wobei / Betriebssirom
der nicht abschmelzenden Elektrode ist.
Die Zeit der Bildung einer Hafniumoxykarbidschicht bei der Lichtbogenziindung beträgt etwa 0.05-0.5 see.
Zum Bedecken der gesamten Oberfläche eines aktiven Einsatzes mit einer Hafniumoxykarbidschicht reicht es
aus. den Lichtbogenstrom aufrechtzuerhalten, der nur 0,2 / des gesamten Betriebsstroines / der nicht
abschmelzenden Elektrode beträgt.
Zur Anfangsbildung einer Hafniumoxykarbidschicht reicht es aus. im Anfangsmoment des Lichtbogenbrennens
den Stromwert auf der Höhe bis 0.2 /des gesamten Betriebsstromes / aufrechtzuerhalten, während zur
weiteren Bildung des Graphitüberzuges auf der wirksamen Oberfläche der Hafniumoxykarbidschicht es
notwendig ist. den Lichtbogenstrom allmählich von 0.2 / bis auf den gesamten Betriebsstrom des Lichtbogens /
mil der Geschwindigkeit rp.2.\. 40 A/sec zu erhöhen.
Wenn die allmähliche Erhöhung des Lichtbogenstromes /mit Werten über 0.2 /und mit Geschwindigkeiten
über 40 A/sec beginnt, so entsteht eine Übererwärmung der wirksamen Oberfläche einer Hafniumoxykarbidschicht
und eine starke Störung der radialen Temperaturverteilung, was die Bildung eines Graphitüberzuges
ausschließt.
Im folgenden wird die vorliegende Erfindung an Hand der ausführlichen Beschreibung der angeführten praktischen
Ausführungsbeispiele unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert: es zeigt:
Fig. 1 Schnitt durch die erfindungsgemäße nicht abschmelzende Elektrode.
F i g. 2 Ansicht in Pfeilrichiung A in F i g. 1.
Fig. 3 ein weiteres Ausführungsbe'spiei der nicht
abschmelzenden Elektrode. Ansicht in Pfeilrichtung .4 in F i g. I.
Fig.4 schematisch ein Blockschema, das Herstellungsverfahren
der nicht abschmelzenden Elektrode erfindungsgemäß veranschaulicht.
Fig. 5 ein Diagramm, das die Abhängigkeit des J
Lichtbogenstromwertes von der Zeit bei der Herstellung rier nicht abschmelzenden Elektrode erfindungsgemäß
kennzeichnet.
Beim Betrieb der nicht abschmelzenden Elektrode. die einen Halter und einen aktiven Einsatz enthält. :
findet eine Erosion des aktiven Einsatzes statt, entsteht ein Krater, und die vollständige Lebensdauer wird beim
Ausbrennen des aktiven Einsatzes auf dessen ganze Tiefe realisiert. Die Versuche zeigten, daß bei der Arbeit
der nicht abschmelzenden Elektroden in Kohlendioxidmedium oder in Mohlendioxidmedium oder in Gemischen
auf Kohlendioxidbasis bei Lichtbogenströmen über 400 A die Erosionsgeschwindigkeit des aktiven
Einsatzes stark erhöht. Die Ursache eines so schnellen Abbrandes der nicht abschmelzenden Elektrode in ">
Kohlendioxidmedium oder in Gemischen auf Kohlendioxidbasis steht damit in Verbindung, daß der
Wärmefluß beim Betrieb der nicht abschmelzenden Elektrode mit der Erosion des aktiven Einsatzes und
Eintauchen der Bogensäule in den sich bildenden Krater r
zunimmt und eine stürmische Zerstörung der Elektrode erfolgt.
Eine geringe Anzahl der nicht abschmelzenden Elektroden (etwa 10% von der gesamten Anzahl der
untersuchten Elektroden) setzte jedoch fort, bei der r·
Erhöhung des Lichtbogenstromes über 400 A in Kohiendioxidmedium oder in Gemischen auf Kohlendioxidbasis
im Laufe einiger Stunden Stabil zu arbeiten.
[line Gefügeanalvse der wirksamen Oberfläche des
aktiven Hafniumeinsat/es zeigte, dal! die Hafniumoxykarbidschioht
auf der Oberfläche des aktiven Einsatzes aller stabil funktionierten nicht abschmelzenden Elektroden
mit einer Graphitschicht bedeckt ist und die Hafniumoxykarbidschicht auf der Oberfläche des
aktiven Einsatzes aller niehtabsehmelzendcn Elektroden,
die eine hohe Erosionsgeschwindigkeit, haben,
keinen Graphitüberzug hat.
Es wurde von den Erfindern ein eindeutiger Zusammenhang zwischen der erhöhten Beständigkeit
einer nicht abschmelz.enden Elektrode in Kohiendioxidmedium oder in Gemischen auf Kohlendioxidbasis bei
Lichtbogenströmen über 400 A und dem Vorhandensein einer Graphitschicht auf der wirksamen Oberflache
einer Hafniumoxykarbidschicht. die die wirksame Oberfläche des aktiven Hafniumeinsatzes bedeckt,
festgestellt.
Die Versuche zeigten, daß je ein grölirrer Teil dor
Oberfläche einer Hafniumoxykarbidschicht mit einer Graphitschicht bedeckt ist. desto höher die Lebensdauer
der nicht abschmelzenden Elektrode in Kohlendioxidmedium oder in Gemischen auf Kohlendioxidbasis ist
und daß die Bildung einer Graphitschicht auf einer Hafniumoxykarbidschicht immer von der Randzone der
wirksamen Oberfläche zum Zentrum geschieht, d. h. an den Stellen der Oberfläche einer Hafniumoxykarbidschicht.lic
die niedrigste Betriebstemperatur haben.
Nach Ansicht der Erfinder entsteht eine Graphitschicht auf der Oberfläche einer Hafniumoxidkarbidschicht
als Ergebnis einer Umsetzung des Hafniumoxykarbides mit Kohlenoxid, das sich bei der thermischen
Dissoziation Kohlendioxides an dem an der Katode anliegenden Teil der Lichtbogensäule bildet.
Die Hauptbesonderheit dieser Umsetzung besteht in einem engen Temperaturbereich, in dem sie mit der
Graphitbildung vorgeht und der max. 500° C beträgt. Damit läßt sich die versuchsweise beobachtete Bildung
einer Graphitschicht in der Randzone der Oberfläche einer Hafniumoxykarbidschicht erklären, wo die Betriebstemperatur
der Schicht einerseits minimal ist und andererseits einen geringen radialen Gradienten hat.
Eine weitere wesentliche Besonderheit der Umsetzung des Hafniumoxykarbides mit Kohlenoxid besteht
darin, daß diese bei einem hohen absoluten Temperaturpegel über 2500° C vor sich geht.
Bei solchen Temperaturen kann die Graphitschicht einen Hauptanteil des Lichtbogenstromes auf Kosten
des Thermoemissionsstromes gewährleisten, was zu einer Lebensdauererhöhung der nicht abschmelzenden
Elektrode führt, die bei einer Vergrößerung des Anteils der wirksamen Oberfläche der mit einer Graphitschicht
bedeckten Hafniumoxykarbidschicht beobachtet wird.
Eine versuchsweise Untersuchung der Abhängigkeit der Lebensdauer einer nicht abschmelzenden Elektrode
von der Fläche der mit einer Graphitschicht bedeckten Hafniumoxykarbidschicht zeigte, daß obwohl die
maximale Lebensdauer einer nicht abschmelzenden Elektrode bei der Bedeckung der gesamten Oberfläche
der Hafniumoxykarbidschicht mit einer Graphitschicht realisiert wird, die zur industriellen Verwertung der
nicht abschmelzenden Elektrode zum Plasmaschweißen in Kohlendioxidmedium beim Lichtbogenströmen über
4O0A annehmbare Lebensdauer gewährleistet wird, wenn eine Graphitschicht bei der vorgeschlagenen
Geometrie des aktiven Einsatzes beim Betrieb der nicht abschmelzenden Elektrode auf der Fläche mindestens
025 der gesamten wirksamen Fläche einer Hafniumoxy-
karbidschicht gebildet und ununterbrochen aufrechterhalten
wird.
Im Zusammenhang damit wurde erfindungsgemäß
eine nicht abschmelzende Elektrode /um Plasmaschweißen in Kohlcndioxidmcdium oder in Gemischen auf >
Kohlendioxidbasis geschaffen, die einen Halter I [Fig. I], der aus Kupfer oder dessen Legierungen
ausgemärt ist. und einen in ihm bündig angeordneten aktiven Einsatz 2 aus Hafnium enthält. Auf der
Außenfläche des aktiven Einsatzes ist eine Schicht 3 aus in
Hafniumoxykarbid angeordnet.
Auf der Hafniumoxykarbidschicht 3 ist eine Schicht 4 aus Graphit angeordnet.
Das vorläufige Auftragen der Schicht 4 aus Graphit auf die Schicht 3 aus Hafniumoxykarbid gewährleistet ι
> eine hohe Beständigkeit der nicht abschmelzenden Elektrode beim Plasmaschweißen in Kohlendioxidmedium
oder in Gemischen auf Kohlendioxidbasis bei der Verwendung der erfindungsgeinäßen nicht abschmelzenden
Elektrode als Katode eines Lichtbogen-Plasma- -">
brenners. Eine positive Wirkung besteht darin, daß die Verbindung der Schicht 3 aus Hafniumoxykarbid mit
der Schicht 4 aus Graphit auf der Emissionsoberfläche des aktiven Einsatzes 2 aus Hafnium die Möglichkeit
bietet eine nicht abschmelzende Elektrode mit einer r» minimalen Elektronenaustrittsarbeit zu erhalten. Eine
Verminderung der Elektronenaustrittsarbeit gestattet beim vorgegebenen Lichtbogenstrom eine niedrigere
Betriebstemperatur auf der Emissionsoberfläche der nicht abschmelzenden Elektrode zu erhalten, was den in
Wärm.-fluß in die nicht abschmelzende Elektrode herabsetzt.
Im Ergebnis verringert sich die thermische Erosion des aktiven Einsatzes 2 und erhöht die Lebensdauer der
nicht abschmelzenden Elektrode. r.
In Fig. 2. die eine nicht abschmelzende Elektrode
seitens der wirksamen Oberfläche darstellt, deckt die Graphitschicht 4 die Hafniumoxykarbidschicht 3 teilweise.
Es wurde dabei erfindungsgemäß festgestellt, daß die Graphitschicht 4 die Hafniumoxykarbidschicht 3 von ■>»
der Linie der Stoßstelle der Oxykarbidschicht 3 mit dem Halter 1 zu der Achse der nicht abschmelzenden
Elektrode decken muß.
Versuchsweise wurde festgestellt, daß es zur Gewährleistung
der Betriebseigenschaften der nicht abschmel- ='■
zenden Elektrode bei Strömen über 400 A genügt, daß die Graphitschicht 4 0.25 der Fläche der Hafniumoxykarbidschicht
3 bedeckt.
Die Wärmeflußminderung hat die Temperaturwechselbeständigkeit der nicht abschmelzenden Elektrode ·"
zur Folge, d. h. zum Herabsetzen der Erosion des aktiven Einsatzes 2 führt.
In F i g. 3 bedeckt die Graphitschicht 4 vollständig die Hafniumoxykarbidschicht 3. In diesem Falle werden die
maximalen Betriebseigenschaften der nicht abschmel- >"> zenden Elektrode realisiert, die ermöglichen eine
Durchführung des Plasmaschweißens in Kohlendioxidmedium oder in Gemischen auf Kohlendioxidbasis bei
Lichtbogenströmen bis 1000 A.
Nachstehend sind Beispiele der erfindungsgemäßen °°
nicht abschmelzenden Elektrode und Erprobungsbeispiele der nicht abschmelzenden Elektrode beim
Plasmaschweißen niedriggekohlter und niedriglegierter Stähle in Kohlendioxidmedium oder in Gemischen auf
Kohlendioxidbasis angeführt. °5
Beispiel 1
In der nicht abschmelzenden Elektrode, die einen kupferhalier mit dem Durchmesser von 20 mm und einen aktiven I lafniumeinsat/ mit dem Durchmesser von J,b mm enthält, wurde auf der Oberfläche des aktiven Einsatzes eine Hafniumoxykarbidschicht gebildet, auf deren gesamten wirksamen Oberflächen eine Graphitschicht gebildet wurde.
In der nicht abschmelzenden Elektrode, die einen kupferhalier mit dem Durchmesser von 20 mm und einen aktiven I lafniumeinsat/ mit dem Durchmesser von J,b mm enthält, wurde auf der Oberfläche des aktiven Einsatzes eine Hafniumoxykarbidschicht gebildet, auf deren gesamten wirksamen Oberflächen eine Graphitschicht gebildet wurde.
Die Höhe des aktiven Einsatzes betrug 0,9 mm.
Die nicht abschmelzende Elektrode wurde in einem Plasmabrenner mit dem Düsendurchmesser von 11 mm
beim Plasmaschweißen unter folgenden Parametern des Vorganges erprobt:
Werkstoff der zu schweißenden
Platten
Platten
Dicke der zu schweißenden
Platten, mm
plasmabildendes Gas
Platten, mm
plasmabildendes Gas
Verbrauch an plasniabildendem
Gas, l/h
Gas, l/h
niedriglegierter
Stahl
Stahl
18+18
CO2
!000
400
Die Platten wurden in der unteren Lage ohne Abschrägen der Kanten mit dem durchgehenden
Einbrand in einem Durchgang mit der Geschwindigkeit 30 m/h geschweißt. Die Lebensdauer der nicht abschmelzenden
Elektrode als Gesamtbrenndauer eines Lichtbogens beim Schweißen betrug 1 Stunde.
In der nicht abschmelzenden Elektrode, die einen Kupferhalter mit dem Durchmesser von 20 mm und
einen aktiven Hafniumeinsatz mit dem Durchmesser von 3 mm enthält, wurde auf der Oberfläche des aktiven
Einsatzes eine Hafniumoxykarbidschicht gebildet. Auf 0,75 der Oberfläche einer Hafniumoxykarbidschicht
wurde eine Graphitschicht gebildet. Die Höhe des aktiven Einsatzes betrug 1,5 mm.
Die nicht abschmelzende Elektrode wurde in einem Plasmabrenner mit dem Düsendurchmesser von 8 mm
beim Plasmaschweißen unter folgenden Parametern des Vorganges erprobt:
Werkstoff der zu schweißenden
Erzeugnisse
Erzeugnisse
Dicke der zu schweißenden
Platte, mm
plasmabildendes Gas
Platte, mm
plasmabildendes Gas
Lichtbogenstrom, A
Verbrauch an plasmabildendem
Gas, l/h
Verbrauch an plasmabildendem
Gas, l/h
niedriggekohlter
Stahl
Stahl
12+12
Gemisch aus
90% CO2+10% O2
750
Gemisch aus
90% CO2+10% O2
750
800
Die Platten wurden in der unteren Lage ohne Abschrägen der Kanten mit dem durchgehenden
Einbrand in einem Durchgang mit der Geschwindigkeit 50 m/h geschweißt Die Lebensdauer der nicht abschmelzenden
Elektrode als Gesamtbrenndauei- eines Lichtbogens beim Schweißen betrug 1,7 Stunde.
In der nicht abschmelzenden Elektrode, die einen Kupferhalter mit dem Durchmesser von 16 mm und
einen aktiven Einsatz aus Hafnium mit dem Durchmesser von 2,6 mm enthält, wurde auf der Oberfläche des
aktiven Einsatzes eine Schicht aus Hafniumoxykarbid gebildet Auf 0,25 der Oberfläche der Hafniumoxykar-
bidschichi wurde cine Graphitschiehi gebildet. Die
Höhe des aktiven Einsatzes betrug 1,9 mm.
Die nicht abschmelzende Elektrode wurde in einem Plasmabrenner mit dem Düsendurchmesser von 8 mm
beim Plasmaschweißen unter folgenden Parametern des Vorganges erprobt:
Werkstoff der zu «-"wnißcndep | niedriglegierter |
Platten | Stahl |
Dicke der zu schweißenden | 6 + 6 |
Platten, mm | CO2 |
plasmabildendes Gas | 450 |
Lichtbogenstrom, A | |
Verbrauch an plasmabildendem | 300 |
Gas, l/h | |
Die Platten wurden in der unteren Lage ohne Abschrägen der Kanten mit dem durchgehenden
Einbrand in einem Durchgang mit der Geschwindigkeit 50 m/h geschweißt. Die Lebensdauer der nicht abschmelzenden
Elektrode als Gesamtbrenndauer eines Lichtbogens beim Schweißen betrug dabei 7 Stunden.
In der nicht abschmelzenden Elektrode, die einen Kupferhalter mit dem Durchmesser von 20 mm und
einen aktiven Hafniumeinsatz mit dem Durchmesser von 3 mm enthält, wurde auf der Oberfläche des aktiven
Einsatzes eine Schicht aus Hafniumoxykarbid gebildet. Auf 0,85 Oberfläche der Hafniumoxykarbidschicht
wurde eine Graphitschicht gebildet. Die Höhe des aktiven Einsatzes betrug 1,2 mm.
Die nicht abschmelzende Elektrode wurde in einem Plasmabrenner mit dem Düsendurchmesser von 9 mm
beim Plasmaschweißen unter folgenden Parametern des Vorganges erprobt:
Werkstoff der zu schweißenden | niedriglegierter | •1 |
Platten | Stahl | |
Dicke der zu schweißenden | 8 + 8 | |
Platten, mm | CO2 | |
plasmabildendes Gas | 800 | |
Lichtbogenstrom, A | ||
Verbrauch an plasmabildendes | 1000 | |
Gas, l/h | ||
Die Platten wurden in der unteren Lage ohne Abschrägen der Kanten mit dem durchgehenden
Einbrand in einem Durchgang mit der Geschwindigkeit 80 m/h geschweißt. Die Lebensdauer der nicht abschmelzenden
Elektrode als Gesamtbrenndauer eines Lichtbogens, beim Schweißen betrug dabei 2,1 Stunden.
Zur Gewinnung einer Graphitschicht auf der Schicht aus Hafniumoxykarbid und zur Gleichgewichtsaufrechterhaltung
des Graphitüberzuges beim Betrieb der nicht abschmelzenden Elektrode zum Plasmaschweißen in
Kohlendioxidmedium oder in Gemischen auf Kohlendioxidbasis ist es notwendig, daß die Graphitschicht auf
die Hafniumoxykarbidschicht im voraus aufgetragen wird, d. h. vor der Verwendung der nicht abschmelzenden
Elektrode zum Plasmaschweißen.
Erfindungsgemäß wurde versuchsweise festgestellt, daß die eine positive Wirkung gewährleistende
Graphitschicht auf der Hafniumoxykarbidschicht nur bei der Bearbeitung der nicht abschmelzenden Elektrode
mit einem in Kohlendioxidmedium brennenden Lichtbogen geschaffen sein kann, für welchen die zu
bearbeitende nicht abschmelzende Elektrode eine
Katode ist, d. h. die Elektrode, die an den Minuspol der Lichtbogenspeisequelle angeschlossen ist. Davon zeugen
die erfindungsgemäß durchgeführten Versuche, in deren Verlauf die mit dem Lichtbogen zu bearbeitende
nicht abschmelzende Elektrode in den Pluspol der , l.ichtbogenspeisequellc angeschlossen war, d.h. eine
Anode war. Ausnahmlos wurde in allen diesen Versuchen keine Graphitschicht auf der wirksamen
Oberfläche des aktiven Einsatzes gebildet, und die nicht abschmelzende Elektrode zerstörte sich schnell. Erfindungsgemäß
wurde auch festgestellt, daß die Bildung einer Hafniumoxykarbidschicht auf der wirksamen
Oberfläche des aktiven Einsatzes bei der Bearbeitung der nicht abschmelzenden Elektrode, die eine Katode
ist, mit dem in Kohlendioxid brennenden Lichtbogen praktisch augenblicklich nach der Lichtbogetizündung
geschieht.
Während die Bedingungen der Bildung einer Haniumoxykarbidschicht
[Lichtbogenstrom und Lichtbogenbrenndauer] sich in breiten Bereichen variieren können,
sind die Bedingungen der Bildung einer Graphitschiehi auf der Hafniumoxykarbidschichi. wie die Versuche
zeigten, streng bestimmt.
Das folgt aus der Notwendigkeit eine ganz bestimmte Temperatur und einen radialen Temperaturgradient auf
der wirksamen Oberfläche der Hafniumoxykarbidschicht aufrechtzuerhalten, bei denen die Bildung eines
Graphitüberzuges erfolgt.
Beim Vergleichen der Versuchsergebnisse und der wärmephysikalischen Eigenschaften einer Hafniumoxykarbidschicht,
eines Hafniumeinsatzes und eines Kupferhalters, kamen die Erfinder zum Schluß, daß es für die
Ausführung der oben beschriebenen Bedingungen der Graphitüberzugserhaltung außer einer bestimmten
Schaltung der zu bearbeitenden nicht abschmelzenden Elektrode in den Stromkreis der Lichtbogenspeisequelle
unbedingt notwendig ist, eine bestimmte Geschwindigkeit der Erhöhung des Lichtbogenstromes zu
befolgen.
Die Einrichtung zur Ausführung eines Verfahrens zur Herstellung der nicht abschmelzenden Elektrode
enthält eine Gleichstromquelle 5 (Fig.4), deren Minuspol an den Halter 1 der nicht abschmelzenden
Elektrode und Pluspol an eine Hilfselektrode 6 angeschlossen ist. Der Halter 1 mit einem in ihm
untergebrachten aktiven Hafniumeinsatz 2 ist in einer Kammer 7 angeordnet, die mit einem Mittel 8 zum
Einlaß Kohlendioxides und einem Mittel 9 zum Auslaß Kohlendioxides ausgerüstet ist.
Eine nicht abschmelzende Elektrode, die einen
Kupferhalter 1 mit einem in ihn vorher bündig eingepreßten aktiven Hafniumeinsatz 2 aufweist, wird in
der Kammer 7 untergebracht und an den Minuspol einer Gleichstromquelle 5 angeschlossen. Der Kammer 7 wird
Kohlendioxid zugeführt. Dann wird der Lichtbogen 10 zwischen dem aktiven Hafniumeinsatz 2 und der vorher
an den Pluspol der Gleichstromquelle 5 angeschlossenen Hilfselektrode 6 gezündet In einem auf Fig.5
dargestellten Diagramm ist eine Kurve 11 der Abhängigkeit des Lichtbogenstromwertes von der Zeit
gezeigt; dabei ist längs der Ordinatenachse der Stromwert des Lichtbogens 10 und längs der Abszissenachse
die zur Herstellung einer nicht abschmelzenden Elektrode aufgewandte Zeit abgestochen.
Aus der Untersuchung der Kurve 11 ist ersichtlich, daß nach der Zündung des Lichtbogens 10 im Laufe
Il
r < 0.5 sec bei dem Stromwert / des Lichtbogens 10, der
ma\. 0.2 / ist. auf der Emissionsoberfläche des aktiven llafiiiumein::at/es 2 eine Hafniumoxykarbidschicht 3
gebildet wird, die die gesamte Emissionsoberfläche des
aktiven Hafniumeinsat/es 2 bedeckt. Ohne das Lichtbogenbrennen
/u unterbrechen, wird dann der Strom /des Lichtbogens 10 mit der Geschwindigkeit max. 40 A/sec
bis auf gesamten Betriebsstrom / der nicht abschmelzenden Elektrode mit der Bildung auf der Hafniumoxykarbidsehicht
3 einer Graphitschicht 4 erhöht. Dann wird der Lichtbogen gelöscht. Wenn dabei die gesamte
Brenndauer Γι < r < Γ2 beträgt, so bedeckt die Graphitschicht
4 die Hafniumoxykarbidschicht 3 nur teilweise, aber mindestens 0,25 Oberfläche der Hafniumoxykarbidschicht.
Wen·!
40
see
wobei / der gesamte Betriebsstrom einer nicht abschmelzenden Elektrode ist. so bedeckt die Graphitschicht
4 vollständig die Hafniumoxykarbidschicht 3.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung einer nicht abschmelzenden Elektrode zum Schweißen
in Kohlendioxidmediuni oder in Gemischen auf Kohlendioxidbasis ermöglicht im Laufe eines Zyklus des
Lichtbogenbrennens auf einen aktiven Einsatz eine Hafniumoxykarbidschicht und auf diese eine Graphitschicht
aufzutragen.
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen
Claims (2)
1. Nicht abschmelzende Elektrode zum Plasmaschweißen
in Kohlendioxidmedium oder in Gemischen auf Kohlendioxidbasis, die einen Halter aus
Kupfer oder dessen Legierungen und einen in diesem Halter untergebrachten Einsatz aus Hafnium
enthält, auf dessen Oberfläche eine Schicht aus Hafniumoxykarbid angeordnet ist, dadurch ge- n,
kennzeichnet, daß der aktive Einsatz (2) auch eine Schicht (4) aus Graphit aufweist, die auf nie
Schicht (3) aus Hafniumoxykarbid aufgetragen ist
2. Nicht abschmelzende Elektrode nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß die Graphitmenge in ι >
der Schicht (4), die auf die Schicht (3) aus Hafniumoxykarbid aufgetragen ist, durch die Höhe
und dem Durchmesser des aktiven Einsatzes (2) bestimmt wird, die aus folgendem Verhältnis
ausgewählt werden:
/,=({VS5-0,75)</.
wobei
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU782607702A SU841870A1 (ru) | 1978-05-11 | 1978-05-11 | Неплав щийс электрод дл плаз-МЕННОй ОбРАбОТКи |
SU782607701A SU695074A1 (ru) | 1978-05-11 | 1978-05-11 | Способ изготовлени неплав щегос электрода |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2919084A1 DE2919084A1 (de) | 1979-11-15 |
DE2919084C2 true DE2919084C2 (de) | 1983-08-18 |
Family
ID=26665664
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2919084A Expired DE2919084C2 (de) | 1978-05-11 | 1979-05-11 | Nicht abschmelzende Elektrode zum Plasmaschweißen und Verfahren zur Herstellung dieser Elektrode |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4304984A (de) |
CA (1) | CA1134457A (de) |
CS (1) | CS204664B1 (de) |
DD (1) | DD143741A1 (de) |
DE (1) | DE2919084C2 (de) |
FR (1) | FR2425296A1 (de) |
GB (1) | GB2021370B (de) |
SE (1) | SE426215B (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2230994A (en) * | 1988-10-26 | 1990-11-07 | Inst Elektroswarki Patona | Non-consumable electrode for arc processes |
DE102015001456A1 (de) | 2014-07-15 | 2016-01-21 | Linde Aktiengesellschaft | Verfahren zum Wolfram-Schutzgasschweißen |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SE452862B (sv) * | 1985-06-05 | 1987-12-21 | Aga Ab | Ljusbagselektrod |
FR2646580A1 (fr) * | 1989-04-28 | 1990-11-02 | Inst Elektroswarki Patona | Electrode non fusible pour processus de traitement a l'arc |
US5023425A (en) * | 1990-01-17 | 1991-06-11 | Esab Welding Products, Inc. | Electrode for plasma arc torch and method of fabricating same |
US5097111A (en) * | 1990-01-17 | 1992-03-17 | Esab Welding Products, Inc. | Electrode for plasma arc torch and method of fabricating same |
US5857888A (en) * | 1996-10-28 | 1999-01-12 | Prometron Technics Corp. | Method of manufacturing a plasma torch eletrode |
US6066827A (en) * | 1997-09-10 | 2000-05-23 | The Esab Group, Inc. | Electrode with emissive element having conductive portions |
US6657153B2 (en) | 2001-01-31 | 2003-12-02 | The Esab Group, Inc. | Electrode diffusion bonding |
US6420673B1 (en) | 2001-02-20 | 2002-07-16 | The Esab Group, Inc. | Powdered metal emissive elements |
US6528753B2 (en) | 2001-05-31 | 2003-03-04 | The Esab Group, Inc. | Method of coating an emissive element |
US6423922B1 (en) | 2001-05-31 | 2002-07-23 | The Esab Group, Inc. | Process of forming an electrode |
US6563075B1 (en) | 2001-12-20 | 2003-05-13 | The Esab Group, Inc. | Method of forming an electrode |
US7153586B2 (en) | 2003-08-01 | 2006-12-26 | Vapor Technologies, Inc. | Article with scandium compound decorative coating |
US20050029234A1 (en) * | 2003-08-04 | 2005-02-10 | Feng Lu | Resistance spot welding electrode |
US20070026205A1 (en) | 2005-08-01 | 2007-02-01 | Vapor Technologies Inc. | Article having patterned decorative coating |
US8148661B2 (en) * | 2006-05-18 | 2012-04-03 | Javad Mostaghimi | Highly ordered structure pyrolitic graphite or carbon-carbon composite cathodes for plasma generation in carbon containing gases |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2952573A (en) * | 1957-05-31 | 1960-09-13 | Nat Res Corp | Carbide coated tungsten electrode |
NL290760A (de) * | 1962-03-30 | |||
US3307011A (en) * | 1963-08-29 | 1967-02-28 | Union Carbide Corp | Method for increasing electrode life |
FR1387956A (fr) * | 1963-12-17 | 1965-02-05 | Union Carbide Corp | électrode à arc |
US3592649A (en) * | 1967-04-21 | 1971-07-13 | Mead Corp | Color photographic process for producing visually transparent but photographically opaque photomasks |
US3597649A (en) * | 1968-02-15 | 1971-08-03 | David Grigorievich Bykhovsky | Device for plasma-arc treatment of materials |
CH487698A (de) * | 1968-02-23 | 1970-03-31 | Siemens Ag | Nichtabschmelzende Elektrode für Lichtbögen kleiner Leistung |
SU353496A1 (ru) * | 1969-01-08 | 1980-05-05 | Bykhovskij D G | Катод дл электродуговых процессов в активных средах |
GB1442075A (en) * | 1974-05-28 | 1976-07-07 | V N I Pk I T Chesky I Elektros | Electrodes for arc and plasma-arc working method and apparatus for coating glassware |
US4074718A (en) * | 1976-03-17 | 1978-02-21 | Valleylab, Inc. | Electrosurgical instrument |
GB1566192A (en) * | 1977-02-14 | 1980-04-30 | V N I P Konstrukt I Tekhnolog | Method of treating argonarc cathode |
-
1979
- 1979-04-25 SE SE7903624A patent/SE426215B/sv not_active IP Right Cessation
- 1979-04-30 CA CA000326754A patent/CA1134457A/en not_active Expired
- 1979-05-10 DD DD79212785A patent/DD143741A1/de not_active IP Right Cessation
- 1979-05-10 CS CS793208A patent/CS204664B1/cs unknown
- 1979-05-11 GB GB7916360A patent/GB2021370B/en not_active Expired
- 1979-05-11 FR FR7912036A patent/FR2425296A1/fr active Granted
- 1979-05-11 DE DE2919084A patent/DE2919084C2/de not_active Expired
- 1979-07-13 US US06/057,442 patent/US4304984A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2230994A (en) * | 1988-10-26 | 1990-11-07 | Inst Elektroswarki Patona | Non-consumable electrode for arc processes |
DE102015001456A1 (de) | 2014-07-15 | 2016-01-21 | Linde Aktiengesellschaft | Verfahren zum Wolfram-Schutzgasschweißen |
DE102015001455A1 (de) | 2014-07-15 | 2016-01-21 | Linde Aktiengesellschaft | Elektrode für einen Schweißbrenner zum Wolfram-Schutzgasschweißen und Schweißbrenner mit solcher Elektrode |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4304984A (en) | 1981-12-08 |
SE7903624L (sv) | 1979-11-12 |
GB2021370A (en) | 1979-11-28 |
FR2425296B1 (de) | 1983-10-14 |
DE2919084A1 (de) | 1979-11-15 |
GB2021370B (en) | 1982-09-22 |
DD143741A1 (de) | 1980-09-10 |
CA1134457A (en) | 1982-10-26 |
CS204664B1 (en) | 1981-04-30 |
SE426215B (sv) | 1982-12-20 |
FR2425296A1 (fr) | 1979-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2919084C2 (de) | Nicht abschmelzende Elektrode zum Plasmaschweißen und Verfahren zur Herstellung dieser Elektrode | |
DE69418894T2 (de) | Plasmabrenner | |
EP3034231B1 (de) | VERFAHREN ZUM LICHTBOGENFÜGEN ODER ZUR MATERIALBEARBEITUNG MIT REDUZIERTEM SCHADSTOFFAUSSTOß | |
DE102013022056A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Konditionierung eines Schweiß- oder Schneidprozesses | |
EP3169473B1 (de) | Verfahren zum wolfram-schutzgasschweissen | |
DE2429924A1 (de) | Einrichtung zur plasmabearbeitung stromleitender werkstoffe und deren betriebsverfahren | |
DE19881726B4 (de) | Verfahren zum Sprühen von Plasma | |
EP1339525B1 (de) | Verwendung eines Prozessgases zum Laserschweissen | |
DE69901731T2 (de) | Aus kupfer-legierung hergestelltes verschleissteil für lichtbogenbrenner | |
EP1365883B1 (de) | Laserschwei en von nichteisenmetallen mittels laserdioden unter prozessgas | |
DE69908683T2 (de) | Plasma-und/oder TIGschweiss -oder Schneidverfahren mit nicht oxidierendem Gas mit geringfügigen Verunreinigungen, insbesondere an H2O und/oder O2 | |
DE1298388B (de) | Verfahren und Vorrichtung zur elektrolytischen Bearbeitung eines metallenen Werkstoffes | |
DE837430C (de) | Elektrode fuer die Lichtbogenschweissung in einem inerten Gas und Verfahren zu ihrerHerstellung | |
DE69107781T2 (de) | Nichtverbrauchende Elektrode zum Schweissen von rostfreiem Stahl und Schweissverfahren. | |
DE3106164A1 (de) | Nichtabschmelzende elektrode | |
DE2416732C2 (de) | Vorrichtung zur Plasma-Bearbeitung von elektrisch leitenden Werkstoffen | |
DE2227684A1 (de) | Lichtbogenbrenner | |
DE102004010085B3 (de) | Unterpulver-Schweißverfahren | |
DE2422322C3 (de) | Elektrode für einen Plasmabrenner | |
DE2426669C3 (de) | Nicht abschmelzende Elektrode zur Lichtbogenbearbeitung von Werkstoffen in Sauerstoffatmosphäre | |
DE2332070B2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Plasma-MIG-Schweißen | |
EP0231378A1 (de) | Behandlungsverfahren mit elektrischem bogen | |
DE2702698C3 (de) | Verfahren zum Herstellen von Elektroden für den Einsatz als Lichtbogenelektroden in Argon | |
AT215262B (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Bearbeiten von Gegenständen mittels Lichtbogen | |
DE1900593C (de) | Verfahren zur Bearbeitung von Metallteilen mittels Plasmalichtbogen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OAR | Request for search filed | ||
OB | Request for examination as to novelty | ||
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: VON FUENER, A., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT. EBBINGHAUS |
|
8105 | Search report available | ||
8125 | Change of the main classification |
Ipc: H05H 1/24 |
|
8126 | Change of the secondary classification |
Ipc: ENTFAELLT |
|
D2 | Grant after examination | ||
8380 | Miscellaneous part iii |
Free format text: DIE HAUPTKLASSE IST WIE ANGEGEBEN ZU BERICHTIGEN B23K 28/00 |
|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |