DE2308819A1 - Selbsttaetige vorspannungsschaltung zur steuerung der schwellenspannung einer mos-vorrichtung - Google Patents
Selbsttaetige vorspannungsschaltung zur steuerung der schwellenspannung einer mos-vorrichtungInfo
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Description
Df. E. Boettner *} O Π Ο Ο 1 Q
DipL-Ing. H,J. Müller Z O U O 0
Dr. Th. Berendt
D 3 München 80 „
lucüe-Grahn-Sir. 38, TeL 47 51 SS 1' . <£ö
As/P
STANDARD MICROSYSTEMS CORPORATION, 35 Marcus Boulevard, Hauppauge, Long Island, New York, USA
Selbsttätige Vorspannungschaltung zur Steuerung der Schwellenspannung einer MOS-i-Vorrichtung
Erfindung bezieht sich auf eine selbsttätige Vorspannungsschaltung
zur Steuerung der Schwellenspannung einer MOS-Vorrichtung (Metalloxyd-Halbleiter- Vorrichtung),
insbesondere einer integrierten MOS-Schaltung mit einer Einrichtung zum Festlegen und Aufrechterhalten
einer gewünschten Schwellenspannung für diese Schaltung.
Bei der Konstruktion und Herstellung von MOS-Schaltungen
und -Vorrichtungen (z.B. Feldeffekttransistoren) ist einer der Parameter, der allgemein als bedeutsam, wenn
nicht entscheidend für das befriedigende Funktionieren der Schaltung gilt, die Schwellenspannung. Bei einem
Feldeffekttransistor (FET) , ist die Schwellenspannung die Mindestspannung, die bei Anlegen an die Gitterelektrode
eine Stronipfadumkehrung· und eine Leitfähigkeit zwischen
Kathoden- und Anodenbereichen erzeugt. Wenn die Schwel lens oarinun,"; niedriger ist als ein festgelegter
Ί 0 9 ft t* R / 0 7 B 5
Wert oder Nennwert, ist die Vorrichtung im Betrieb
instabil, denn sie kann dann zur Unzeit durch ein Geräuschsignal leitend gemacht werden, und ist dann insbesondere
zur Verwendung in logischen Schaltungen ungeeignet. Wenn die Schwellenspannung höher ist als der
gewünschte Wert, wird die Betriebsgeschwindigkeit des FETs vermindert, und es kann geschehen, daß der FET beim
Anlegen eines Eingangssignals an die Gitterelektrode nicht
eingeschaltet wird.
Der Wert der Schwellenspannung wird in erster Linie von der Dicke und den elektrischen Eigenschaften des Sili—
ciumdioxyd—Gitterisolationsfilmes bestimmt, der unter der Gitterelektrode und über dem Strompfad zwischen den Kathoden-
und Anodenbereichen liegt. Trotz neuerer Verbesserungen des Herstellungsverfahrens für MOS-Vorrichtungen und
-Schaltungen ist eine präzise Einhaltung der Dicke und der Dielektrizitätskonstanten des Gitterisolationsfilmes
noch nicht in dem Maß wirtschaftlich möglich, wie dies für die genaue Einhaltung der Schwellenspannung wünschenswert
ist. Infolgedessen ist die Schwellenspannung eier typischen, nach herkömmlichen Verfahrensweisen der MOS-Herstellung
hergestellten Vorrichtung mit η Strompfaden 0,3 ^ 0,2 V. Es hat sich gezeigt, daß die Schwellenspannung
von Vorrichtungen mit η Kanälen üblicherweise eher unterhalb als oberhalb der Nenn- oder Sollschwellenspannung
liegt.
Der Effektivwert der Schwellenspannung steht auch nach dem Kathoden-Körper-Effekt (source-body effect) in einer
Beziehung mit der Spannung zwischen Kathode und Substrat. Die effektive Schwellenspannung einer MOS-Vorrichtimg
kann nach der Gleichung
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werden, worin V_/ „\den Effektivwert der Schwellenspannung,
V_/ \den durch die Dicke des Gitterisola—
tionsfilmes bestimmten Nennwert der Schwellenspannung und /\ V den Zuwachs der Schwellenspannung entsprechend der
Substratspannung nach dem Kathoden-Körper-Effekt bezeichnen.
Bei der Konstruktion von integrierten MOS-Schaltungen
ist es im allgemeinen erwünscht, das Substrat an eine festliegende Spannung anzuschließen, damit das Substrat
nicht "schwankt11. Es ist daher für den MOS-Techniker üblich, das Substrat mit dem V -Anschluß oder mit der
Energiezuleitung zur Kathode zu verbinden. Laut Definition wird hierdurch der Kathode-Körper-Effekt bei solchen
Vorrichtungen, deren Kathoden mit der Vcd-Zuleitung ver-·
OO
bunden sind, ausgeschaltet. Bei diesen Vorrichtungen wird die Schwellenspannung ausschließlich durch die ursprüngliche
Verarbeitung des Gitterisolationsfilmes gesteuert, und ihre präzise Einstellung ist daher schwierig. Außerdem
kann diese Verfahrensweise in solchen Anwendungsfällen der Schaltungen nicht angewendet werden,bei denen eine
effektive Schwellenspannung erforderlich ist, die höher ist als die tatsächliche, durch die Verfahrensparameter
bestimmte Schwellenspannung.
Eine in der MOS-Technik angewendete Verfahrensweise zum
Steuern der effektiven Schwellenspannung besteht darin, das Substrat mit einer getrennten äußeren Energiequelle
zu verbinden. Dies bietet eine größere Auswahl für die effektive Schwellenspannung, denn der Kathode-Körper-Effekt
kann durch sorgfältige Wahl der Energieliefer-
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spannung dazu benutzt werden, den Bereich zu erweitern. Die Schwankung der effektiven Schwellenspannung
wird weiter verschlimmert, da die Spannung zwischen Kathode und Körper (source-body voltage) auch verfahrensbedingten
Schwankungen unterliegt. Dies hat zur Folge, daß immer noch viele MOS-Schaltungen ausgeschieden werden
müssen, weil ihre effektive Schwellenspannung immer noch nicht innerhalb eines geforderten Bereiches von Schwellenspannungen
liegt, obwohl sie durch Energiezufuhr von außen verändert wurde, und dies führt wiederum zu erhöhten
Herstellungskosten,deren Weitergabe an den Endverbrauoher
von MOS-Schaltungen unvermeidlich ist. Dieses Vorgehen hat außerdem den Nachteil, daß es ein zusätzliches Zuleitungspaket
sowie eine zusätzliche Energielieferspannung erfordert.
Eine bessere Beeinflussung der effektiven Schwellenspannung
kann zwar durch eine straffere Beeinflussung des Herstellungsverfahrens
für MOS-Schaltungen mit dem Zweck der Erzielung einer erhöhten Gleichmäßigkeit und Genauigkeit
der Dicke des Gitterisolationsfilmes erreicht werden, Diese verbesserte Beeinflussung ist jedoch nur durch Maßnahmen
erzielbar, die die Fabrikationskosten von MOS-Schaltungen erheblich/erhöhen und daher vom wirtschaftlichen
Standpunkt allgemein unvertretbar sind.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Technik zur Erzielung einer verbesserten Beeinflussung der effektiven
Schwellenspannung einer integrierten MOS-Schaltung zu schaffen.
Die Erfindung schafft eine Technik des beschriebenen Typs, bei der der Kathode-Körper-Effekt dazu genutzt
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wird, eine gewünschte effektive Schwellenspannung festzulegen.
Gemäß der Erfindung wird eine Technik zum Festlegen und
Steuern der Substratspannung bei integrierten MOS-Schaltungen zur Erzielung einer genaueren Bestimmung der Schwellenspannung
ohne Anschließen des Substrates an eine äußere Energiequelle geschaffen.
Durch die Technik gemäß der Erfindung soll ferner die Produktionsziffer
der brauchbaren integrierten MOS-Schaltungen, deren Schwellenspannungswert verläßlich innerhalb gewünschter
Grenzen liegt, unter einem verhältnismäßig unbedeutenden Aufwand an Mehrkosten bei der MOS-Schaltungshersteilung
erhöht werden.
Bei der Schaltung gemäß der Erfidung wird die Schwellen—
spannung mittels eines Wandlers ermittelt·. Der letztere erzeugt ein Fehlersignal, das zum Pegel der Schwellenspannung
proportional ist. Dieses Fehlersignal wird einem Oszillator zugeführt und steuert einen Parameter,(beispielsweise
die Amplitude oder die Frequenz) des Ausgangssignals
des Oszillators, das seinerseits einen Vorspannungssignal— generator zugeführt wird, der ein Ladesignal an das Substrat
liefert.
Die Spannung, auf die das Substrat in dieser Weise aufgeladen wird, ver-ändert die Schwellenspannung der Schaltung
auf einen gewünschten Wert entsprechend dem Kathoden-Körper-Effeiet.
Wenn dann der gewünschte Schwellenwert erreicht ist, befindet sich das Ausgangssignal desSchwel-1enspannungswandlers
auf einem Wert, bei dem die Substratspannung und somit die effektive Schwellenspannung auf
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den gewünschten Werten gehalten werden. Die Schaltung
gemäß der Erfindung kann somit als eine Rückkopplungs—
schleife betrachtet werden, mittels welcher unter dem
Einfluß einer an dem Substrat festgelegten selbsttätigen Vorspannung eine ausreichende Änderung der Schwellenspannung auf eine Nennschwellenspannung vorgenommen und diese dann aufrechterhalten wird.
gemäß der Erfindung kann somit als eine Rückkopplungs—
schleife betrachtet werden, mittels welcher unter dem
Einfluß einer an dem Substrat festgelegten selbsttätigen Vorspannung eine ausreichende Änderung der Schwellenspannung auf eine Nennschwellenspannung vorgenommen und diese dann aufrechterhalten wird.
Eine Schaltung zum Ermitteln und zum Steuern der Schwellenspannung
einer MOS-Schaltung gemäß einer Ausführungsform
der Erfindung ist in der Zeichnung beispielsweise dargestellt.
Fig. 1 ist ein Blockschema einer Schwellenspannungsprüf- und -steuerschaltung gemäß der Erfindung;
Fig. 2 ist ein detailiertes Schema der Schaltung gemäß
Fig. 1;
Fig. 1;
Fig. 3 ist ein Schema zur Veranschaulichung der Signalwellenformen
an verschiedenen Punkten oder Knoten in der Schaltung gemäß Fig. 2;
Fig. k ist eine graphische Darstellung des Kathode-Körpereffekts;
und
Fig. 5 ist eine Draufsicht auf einen Teil des Vorspannungsgenerators
der Schaltung gemäß Fig. 2 in größerem Maßstab.
Die Schaltung gemäß der Erfindung weist eine Einrichtung zum Prüfen bzw. Feststellen der Nennschwellenspannung einer
MOS-Schaltung, d.h. der bei der Herstellung der MOS-
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Schaltung ursprünglich festgelegten Schwe1lenspannung,
sowie zum Erzeugen eines Fehlersignals entsprechend der Differenz zwischen der ermittelten Schwellenspannung und
einer gewünschten Schwellenspannung auf. Das Fehlersignal wird dann dazu verwendet, in dem Substrat einen Spannungspegel festzulegen, der gemäß dem Kathode-Körper-Effekt
eine Änderung der effektiven Schwellenspannung auf den für den optimalen Betrieb der Schaltung gewünschten Wert
bewirkt.
V/.ie in Fig. 1 schematisch gezeigt, ist die Schaltung
gqmäß der Erfindung ein Regelkreis, der das Substrat zur
Erzielung der gewünschten Schwellenspannung selbsttätig vorspannt. Dieser Regelkreis enthält einen Schwellenspannungswandler
10 zur Erzeugung eines Fehlersignals, das für die Differenz zwischen der tatsächlichen Schwellenspannung
und einem gewünschten oder optimalen Wert der Schwellenspannung kennzeichnend ist.
Das von dem Wandler 10 entwickelte Fehlersignal wird einem Oszillator 12 mit einem veränderlichen Parameter zugeführt,
der an seinem Ausgang ein Rückmeldesignal mit einem Parameter (wie Spannung oder Frequenz) erzeugt, der
einem Parameter, hier der Amplitude, des Fehlersignals proportional ist. Das Ausgangssignal des Oszillators
wird einem Vorspannungsgenerator 1^ zugeführt, der eine
Vorspannung erzeugt, die zum Aufladen oder selbsttätigen Vorspannen des (nie ht dargestellten) Substrates angelegt
wird.
Die in dieser Weise an dem Substrat festgelegte Spannung verändert die effektive Schwellenspannung der MOS-Schaltung
entsprechend dem Kathode-Körper-Effekt, der durch den4.n
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unterbrochenen Linien in Fig. 1 dargestellten Block 16 angedeutet ist. Der Kathode-Korper-Effekt ist in Fig.
k veranschaulicht, die die Beziehung zwischen der Änderung
der Schwellenspannung Δ V_, in Diagraimnform als Funktion
der Substratspannung für einen typischen Fabrikationsvorgaig
veranschaulicht. Wenn also entsprechend dem von dem Wandler 10 entwickelten Fehlersignal in dem Substrat
eine abweichende Gittervorspannung erzeugt wird, erfährt die Schwellenspannung eine entsprechende Änderung _\ V ,
wie dies durch eine unterbrochene Verbindungslinie IS zwischen dem Kathode-Körper-Block 16 und dem Wandler
angedeutet ist. Infolge dieser Rückkopplung wird das Substrat auf einen Wert aufgeladen, durch den eine gewünschte
effektive Schwellenspannung festgelegt wird, die gleich ist dem durch die Änderung Δ V der Schwellenspannung
zwischen Kathode und Körper (the source—body threshold voltage variation) veränderten ursprünglichen
Wert oder Nennwert der Schwellenspannung. Die so hergestellte Schwellenspannung und Substratvorspannung werden
dann entsprechend dem im liier es se des optimalen Betriebs
der MOS-Schaltung gewünschten Wert gehalten.
Fig. 2 zeigt eine praktische Ausführungsform einer Schaltung mit den grundlegenden Elementen gemäß Fig. 1.
In Fig. 2 gezeigte Teile, die den Blöcken in Fig. 1 entsprechen, sind mit den gleichen Bezugszeichen wie in
Fig. 1 bezeichnet. Wie in Fig. 2 dargestellt, besteht der Schwellenspannungswandler IO aus mehreren hintereinandergeschalteten
Feldeffekttransistoren (FETen) Q1, Q2.. Qn. Die Kathoden— und Anodenkreise der FETen QI bis Qn
sind zwischen einer Zuleitung 2O mit der Spannung V und einem Knoten A hirtereinandergeschaltet. Die Gitter
dieser FETen sind je mit deren Anoden verbunden, und
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zwischen den Knoten A und eine Zuleitung 22 von der Spannung
V00 1st eine MOS-Widerstandseinrichtung R1 geschaltet.
Das Gitter der Einrichtung R1 ist an die Spannungsquelle Vnn über die Leitung 20 angeschlossen.
Der Knoten A ist mit dem Gitter eines verstärkenden und
umkehrenden FETs Q3 verbunden, dessen Kathode über die Leitung 22 an der Spannung V liegt und dessen Anode
über eine MOS-Widerstandseinrichtung R2 mit der V -Leitung 20 verbunden ist, und zwischen dem FET Q3 und der Einrichtung
R2 ist ein Knoten B gebildet. Das Gitter der Einrichtung R2 ist mit der Leitung 20 verbunden.
ι In erster Annäherung tritt an jedem der FETen QI bis Qn im
Betrieb ein EinzelSpannungsabfall zwischen Kathode und
Anode derart auf, daß die Spannung am Knoten A gleich Vnn - n.V^ ist, worin V^x die Schwellenspannung und η die
Anzahl der hintereinandergeschalteten FETen in dem Wandler 10 ist. Die an dem Knoten A auf diese Weise entwickelte
Fehlerspannung ist also proportional der Schwellen—
spannung der Schaltung und entspricht der Differenz zwischen der tatsächlichen Schwellenspannung dnd der gewünschten
Schwellenspannung. Die FeHerspannung am Knoten A wird durch den FET Q3 verstärkt und umgekehrt und erscheint
in verstärkter und umgekehrter Form am Knoten B.
Der variable Oszillator 12 weist bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel der Erfindung FETen Q4, Q3 und Q6
auf, deren Kathoden mit der V -Leitung 22 und deren
OO
Anoden je mit einem Anschluß der MOS-Widerstandseinrichtungen R3, R^ bzw. R5 gekoppelt sind. Die übrigen Anschlüsse
der Einrichtungen R3, R^ und R5 sowie die Gitter
dieser Einrichtungen sind durchwegs mit der Leitung
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geköppelt.
Die Anode des FETs Q6 ist an einem Knoten C in der Art einer Rückkoppelung mit dem Gitter des FETs Q4 gekoppelt.
Die Anoden der FETen Q4 und Q5 sind mit je einem
der Gitter der.FETen Q5 und Q6 verbunden. Der beschriebene Oszillator 12 ist in der Technik bekannt, und seine
Anordnung und Wirkungsweise werden daher hier nicht mehr beschrieben.
Der Knoten C am Ausgang des eigentlichen Oszillators ist mit dem Gitter eines FETs Q7 gekoppelt, der zusammen mit
dem FET Q8 eine Steuerschaltung für den Oszillator bildet. Wie da-rgestellt, sind die Anoden der FETen Q7 und Q8 mit
einem Knoten D und mit einem Anschluß einer Widerstandseinrichtung
Ro gekoppelt, deren anderer Anschluß zusammen mit ihrem Gitter mit der V -Leitung gekoppelt ist.
In ähnlicher Weise sind die Kathoden der FETen Q7 und Q8 miteinander und mit der Vc_-Leitung 22 gekoppelt, und
das Gitter des FETs Q8 ist mit dem Knoten B am Ausgang des Wandlers 10 gekoppelt.
Der Knoten D am Ausgang des Oszillators 12 is t mit dem
Gittervorspannungsgenerator 14 gekoppelt, der, wie in
Fig. 2 gezeigt, aus einem MOS-Kondensator C_, besteht, der
zusammen mit dem Gitter einer MOS-Widerstandseinrichtung R7 mit dem Knoten D gekoppelt ist. Der Kondensator C^, und
der eine Anschluß der Einrichtung R7 sind mit einem Knoten E gekoppelt. Der andere Anschluß der Einrichtung R7 ist
mit der V -Leitung 22 gekoppelt. Der Knoten E ist außerdem mit der Kathode einer MOS-Diode D1 gekoppelt, deren
Anode über einen Kondensator Cc mit der V -Leitung sowie
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mit einem Knoten F am Substrat der MOS-Schaltung gekoppelt
ist. Zwischen dem Knoten F und der V -Leitui
22 kann ein Leckwiderstand RT vorhanden sein.
Im Betrieb wird an dem Knoten A eine Fehlerspannung entwickelt,
die aus den oben genannten Gründen der Schwel— lenspannung der MOS—Schaltung entspricht und daher der
Abweichung: zwischen der tatsäclüdEii Schwellenspannung
oder der Nennschwellenspannung einerseits und der gewünschten Schwellenspannung andererseits proportional ist.
Diese Fehlerspannung wird von dein FET Q3 verstärkt und umgekehrt und tritt in dieser verstärkten und umgekehrten
Form am Knoten B auf.
Der Oszillator 14 erzeugt eine Impulsfolge mit einer von
den Parametern des Oszillators in bekannter Weise bestimmten Frequenz. Die Impulsfolge tritt am Knoten C auf und
wird an das Gitter des FETs Q7 angelegt. Die verstärkte Fehlerspannung wird an das Gitter des FETs Q8 angelegt und
steuert dort in wirksamer Weise das Maß der Leitfähigkeit dieses-Transistors, so daß auch die Amplitude des am Knoten
D entwickelten Ausgangssignals des-Oszillators gesteuert
wird. Wenn beispielsweise die Fehlerspannung am Knoten B eine solche Amplitude hat, daß der FET Q8 vollständig angeschaltet wird, nähert sich der Knoten D dem
Pegel V^45. Wenn durch die Spannung am Knoten B der FET
Q8 vollständig ausgeschaltet oder nicht-leitend wird, kehrt der FET Q7» dessen Gitter mit dem Knoten C gekoppelt
ist, das Signal am Knoten C um und liefert das umgekehrt Oszillatorsignal dem Knoten D zu. Bei einem mittleren
Leitfähigkeitspegel des FETs Q8 entsprechend der Größe der Fehlerspannung am Knoten B wandelt die Steuer—
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schaltung der FETen Q7 und Q8 das Oszillatorausgangssignal
am Knoten C in einem entsprechenden Maß zwischen den beiden Leitfähigkeitsgrenzen des FETs Q8 ab.
Als Folge des Betriebes der Steuerschaltung· wird am Knoten
D eine Wellenform 2k (Fig. 3) erzeugt, die, wie dargestellt, die Form einer Impulsfolge mit der Frequenz
des Oszillatorausgangssignals und einer Amplitude hat, die zum Leitfähigkeitsgrad des FETs Q8 und somit zu den
Fehlerspannungen an den Knoten B und D und letztlich zu
dem Wert der Schwellenspannung umgekehrt proportional ist, Die Wellenform am Knoten D wird durch eine Differenzierschaltung,
bestehend aus dem Kondensator C und der Widerte
Standseinrichtung R7, zur Erzeugung eines Signals am Knoten
E mit einer Wellenform 26 (Fig. 3) differenziert. Die
Diode D1 läßt lediglich die negativen Teile des differenzierten Signals zum Substratknoten F durch, so daß an diesem
Knoten eine Spannung mit der dargestellten Wellenform. 28 herbeigeführt wird.
Die in dieser Weise erzeugte Gitterspannung am Knoten F bewirkt gemäß dem oben beschriebenen Kathoden-Körper-Effekt
eine Veränderung der Schwellenspannung der Schaltung und somit eine Veränderung der Fehlerspannungen an
den Knoten A und B. Durch die Veränderung der Spannung
am Knoten B wird wiederum die Amplitude der Wellenform Zh des Oszillatorausgangssignals am Knoten D verändert.
Durch geeignete Wahl der Einrichtungen in dem Wandler 10, dem Oszillator 1.2 und dem Gittervorspannungsgenerator 1 k
bringt die schließlich am Knoten F hergestellte Gittervorspannung die resultierende Schwellenspannung der
Schaltung auf den gewünschten Wert. Wenn die gewünschte
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Schwellenspannung auf diese Weise erzielt ist, hält die ittickkopplungsschleife mit dem Wandler, dem Oszillator,
dem Gittervorspannungsgenerator und dem Verbindungsglied des Kathode-Körper-Effekts die Substratknotenspannung und
die Schwellenspannung auf den angemessenen Werten. D.h.,
wenn die Schwellenspannung dasltetreben hat, von dem festgelegten
gewünschten Wert abzuweichen, erzeugt diese Abweichung eine entsprechende Abweichung in der Substratgittervorspannung,
durch die wiederum die Schwellenspannung geändert und auf den gewünschten Wert zurückgebracht
wird.
Fig. 5 zeigt einen Teil der Anordnung der MOS-Schaltung
mit der Schwellenspannungssteuerschaltung*mit selbsttätiger
Vorspannung gemäß der Erfindung. Der dargestellte Ausschnitt bildet die Komponenten des Gittervorspannungsgenerators
und insbesondere die Differenzierschaltung des Kondensators C und der Widerstandseinrichtung R7. Eben—
falls in Fig. 5 ist die Anordnung der Knoten D und E sowie ein Teil der Verbindung mit der V -Leitung dargestellt.
Die Diode D und der Kondensator C sind Schaltungselemente,
die inhärent in der Schaltung an der Trennfläche zwischen dem Substrat und den Kathodenbereichen (bezw, Anodenbereichen)
gebildet sind und daher in der MOS-Schaltung nicht getrennt gebildet zu Airerden brauchen.
J)ie Steuerschaltung für die selbsttätige Gittervorspannung
und für die Schwellenspannung gemäß der Erfindung löst daher zufriedenstellend die eingangs genannte Aufgabe, indem
sie es ermöglicht, die Schwellenspannung für die optimale Tätigkeit der Schaltung auf einen gewünschten Wert zu
korrigieren und anschließend die Schwellenspannung unter
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23U8819
auf
genauer Kontrolle dem gewünschten Wert zu halten. Dies alles geschieht bei der Schaltung gemä(3 der Erfindung, ohne daß es erforderlich ist, das Substrat an eine äußere Vorspannmngsquelle anzuschließen, wie dies bisher vorgeschlagen wurde. Außerdem läßt sich die Vorspannungsund Schwellenspannungssteuerschaltung gemäß der Erfindung ohne weiteres unter geringem Aufwand an zusätzlichen Herstellungskosten an einer MOS-Schaltung zusätzlich anbringen.
genauer Kontrolle dem gewünschten Wert zu halten. Dies alles geschieht bei der Schaltung gemä(3 der Erfindung, ohne daß es erforderlich ist, das Substrat an eine äußere Vorspannmngsquelle anzuschließen, wie dies bisher vorgeschlagen wurde. Außerdem läßt sich die Vorspannungsund Schwellenspannungssteuerschaltung gemäß der Erfindung ohne weiteres unter geringem Aufwand an zusätzlichen Herstellungskosten an einer MOS-Schaltung zusätzlich anbringen.
Obwohl die Erfindung vorstehend speziell unter Bezugnahme auf ein zur Zeit bevorzugtes Ausführungsbeispiel derselben
beschrieben wurde, sind natürlich Abwandlungen in mannigfaltiger Weise ohne Abweichen vom Erfindungsgedanken
möglich.
Patentansprüche
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Claims (1)
- Patentansprüche.J Selbsttätige Gittervorspannungsschaltung zum Steu- ^-^^ ern der Schwellenspannung einer Metalloxyd-Halbleiter-Vorrichtung (MOS-Vorrichtung) mit einem Substrat, gekennzeichnet durch eine Einrichtung zum Feststellen des Wertes der Schwellenspannung der MOS-Vorrichtung und zum Erzeugen eines Fehlersignals entsprechend dem Wert der Schwellenspannung und eine mit der Einrichtung zum Feststellen des Wertes der Sehwellenspannung gekoppelte Einrichtung zum Vorspannen des Substrats mit einem Spannungswert entsprechend dem Wert des Fehlersignals und zum Verändern des Schwellenspannungswertes entsprechend dem Kathode-Körper-Effekt.2. Vorspannungsschaltung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung aim Vorspannen des Substrates aus einem Oszillator und einer mit diesem und der Einrichtung zum Festetellen der Schwellenspannung gekoppelten Einrichtung zum Steuern eines ausgewählten Parameters des Ausgangssignals des Oszillators entsprechend der Amplitude des Fehlersignals besteht.3. Vorspannungsschaltung nach Anspruch 2, dadurch gekenn <-zeichnet, daß der Parameter die Amplitude ist und die Einrichtung zum Steuern dieses Parameters eine Amplitudensteuereinrichtung mit einem mit der Einrichtung zum Feststellen der Schwellenspannung gekoppelten Steueranschluß ist.-16-309848/0765k, Vorspannungsschaltung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zum Vorspannen des Substrates ferner eine zwischen die Amplitudensteuereinrichtung und das Substrat eingeschaltete Signaldifferenziereinrichtung aufweist.5. Schaltung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dai3 zwischen einer ersten und zweiten Bezugsspannungsleitung, zwischen denen an einem Zwischenpunkt ein Fehlerknoten gebildet ist, an dem das Fehlersignal erzeugt wird, als Einrichtung zum Feststellen der Schwellenspannung eine Anzahl hintereinandergeschalteter MOS-Vorrichtungen eingeschaltet ist, deren jede einen Spannungsabfall erfährt, der im wesentlichen ein Maß der Schwellenspan·. nung der Schaltung ist, so daß die an dem Fehlerknoten auftretende Fehlerspannung'gleich einer Bezugsspannung abzüglich der Zahl der Schwellenspannungsabfälle in den MOS-Vorrichtungen zwischen einer der Bezugsspannungsleitungen und dem Fehlerknoten ist.6. Selbsttätige Vorspannungsschaltung nach einem der Ansprüche 2 bis 5$ dadurch gekennzeichnet, daß die Amplitudensteuerschaltung aus zwei parallelgeschalteten MOS-Vorrichtungen besteht und daß die Gitter einer dieser Vorrichtungen mit dem Ausgang des Oszillators und das Gitter der anderen der MOS-Vorrichtungen, das den Staieranschluß bildet, mit dem Fehlerknoten gekoppelt ist.7. Schaltung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen einer ersten und zweiten Bezugsspan--17-309848/0765nungsleitung, zwischen denen an einem Zwischenpunkt ein Fehlerknoten gebildet ist, an dem das Fehlersignal erzeugt wird, als Einrichtung zum Feststellen der Schwellenspannunc eine Anzahl hintereinandergeschalteter MOS-Vorrichtungen eingeschaltet ist, deren jede einen Spannungsabfall erfährt, der im wesentlichen ein Maß der Schwellenspannung der Schaltung ist, so daß die an dem Fehlerknoten auftretende Fehlerspannung gleich einer Bezugsspannung abzüglich der Zahl der Schwellenspannungsabfälle in den MOS-Vorrichtungen zwischen einer der Bezugsspannungsleitungen und dem Fehlerknoten ist.3098A8/0765ieLeerseite
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US00254058A US3806741A (en) | 1972-05-17 | 1972-05-17 | Self-biasing technique for mos substrate voltage |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2308819A1 true DE2308819A1 (de) | 1973-11-29 |
Family
ID=22962778
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19732308819 Ceased DE2308819A1 (de) | 1972-05-17 | 1973-02-22 | Selbsttaetige vorspannungsschaltung zur steuerung der schwellenspannung einer mos-vorrichtung |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3806741A (de) |
JP (1) | JPS5346428B2 (de) |
DE (1) | DE2308819A1 (de) |
FR (1) | FR2184650A1 (de) |
GB (1) | GB1381435A (de) |
IL (1) | IL41518A0 (de) |
IT (1) | IT983294B (de) |
NL (1) | NL7306762A (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2541131A1 (de) * | 1974-11-19 | 1976-05-26 | Ibm | Schaltungsanordnung zur regelung der schaltverzoegerung und/oder verlustleistungsaufnahme von integrierten fet- schaltkreisen |
EP0010137A1 (de) * | 1978-10-24 | 1980-04-30 | International Business Machines Corporation | Substratvorspannungs-Generatorschaltung |
DE3621533A1 (de) * | 1985-06-29 | 1987-01-08 | Toshiba Kawasaki Kk | Integrierte halbleiterschaltungsanordnung |
DE3831176A1 (de) * | 1988-09-13 | 1990-03-22 | Siemens Ag | Oszillatorzelle |
Families Citing this family (66)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3975649A (en) * | 1974-01-16 | 1976-08-17 | Hitachi, Ltd. | Electronic circuit using field effect transistor with compensation means |
US3913026A (en) * | 1974-04-08 | 1975-10-14 | Bulova Watch Co Inc | Mos transistor gain block |
US3922571A (en) * | 1974-06-12 | 1975-11-25 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor voltage transformer |
GB1533231A (en) * | 1974-11-07 | 1978-11-22 | Hitachi Ltd | Electronic circuits incorporating an electronic compensating circuit |
US4011471A (en) * | 1975-11-18 | 1977-03-08 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Surface potential stabilizing circuit for charge-coupled devices radiation hardening |
US4163161A (en) * | 1975-11-24 | 1979-07-31 | Addmaster Corporation | MOSFET circuitry with automatic voltage control |
US4030084A (en) * | 1975-11-28 | 1977-06-14 | Honeywell Information Systems, Inc. | Substrate bias voltage generated from refresh oscillator |
US4049980A (en) * | 1976-04-26 | 1977-09-20 | Hewlett-Packard Company | IGFET threshold voltage compensator |
US4115710A (en) * | 1976-12-27 | 1978-09-19 | Texas Instruments Incorporated | Substrate bias for MOS integrated circuit |
US4124808A (en) * | 1977-01-28 | 1978-11-07 | National Semiconductor Corporation | MOS on-chip voltage sense amplifier circuit |
CH614837B (fr) * | 1977-07-08 | Ebauches Sa | Dispositif pour regler, a une valeur determinee, la tension de seuil de transistors igfet d'un circuit integre par polarisation du substrat d'integration. | |
US4142114A (en) * | 1977-07-18 | 1979-02-27 | Mostek Corporation | Integrated circuit with threshold regulation |
JPS54153565A (en) * | 1978-05-24 | 1979-12-03 | Nec Corp | Semiconductor circuit using insulation gate type field effect transistor |
JPS54158851A (en) * | 1978-06-06 | 1979-12-15 | Nec Corp | Field effect transistor circuit |
US4276592A (en) * | 1978-07-06 | 1981-06-30 | Rca Corporation | A-C Rectifier circuit for powering monolithic integrated circuits |
US4223238A (en) * | 1978-08-17 | 1980-09-16 | Motorola, Inc. | Integrated circuit substrate charge pump |
US4229667A (en) * | 1978-08-23 | 1980-10-21 | Rockwell International Corporation | Voltage boosting substrate bias generator |
US4260909A (en) * | 1978-08-30 | 1981-04-07 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Back gate bias voltage generator circuit |
JPS5559756A (en) * | 1978-10-30 | 1980-05-06 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device |
US4356412A (en) * | 1979-03-05 | 1982-10-26 | Motorola, Inc. | Substrate bias regulator |
JPS55124255A (en) * | 1979-03-19 | 1980-09-25 | Toshiba Corp | Self-substrate bias circuit |
JPS55162257A (en) * | 1979-06-05 | 1980-12-17 | Fujitsu Ltd | Semiconductor element having substrate bias generator circuit |
JPS5619676A (en) * | 1979-07-26 | 1981-02-24 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device |
US4307307A (en) * | 1979-08-09 | 1981-12-22 | Parekh Rajesh H | Bias control for transistor circuits incorporating substrate bias generators |
US4262298A (en) * | 1979-09-04 | 1981-04-14 | Burroughs Corporation | Ram having a stabilized substrate bias and low-threshold narrow-width transfer gates |
JPS6033314B2 (ja) * | 1979-11-22 | 1985-08-02 | 富士通株式会社 | 基板バイアス電圧発生回路 |
US4539490A (en) * | 1979-12-08 | 1985-09-03 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Charge pump substrate bias with antiparasitic guard ring |
JPS5683057A (en) * | 1979-12-11 | 1981-07-07 | Nec Corp | Integrated circuit |
JPS5694654A (en) * | 1979-12-27 | 1981-07-31 | Toshiba Corp | Generating circuit for substrate bias voltage |
DE3002894C2 (de) * | 1980-01-28 | 1982-03-18 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Monolithisch integrierte Halbleiterschaltung mit Transistoren |
JPS56117390A (en) * | 1980-02-16 | 1981-09-14 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory device |
US4376898A (en) * | 1980-02-29 | 1983-03-15 | Data General Corporation | Back bias regulator |
US4322675A (en) * | 1980-11-03 | 1982-03-30 | Fairchild Camera & Instrument Corp. | Regulated MOS substrate bias voltage generator for a static random access memory |
JPS57186351A (en) * | 1981-05-12 | 1982-11-16 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device |
JPS57199335A (en) * | 1981-06-02 | 1982-12-07 | Toshiba Corp | Generating circuit for substrate bias |
US4439692A (en) * | 1981-12-07 | 1984-03-27 | Signetics Corporation | Feedback-controlled substrate bias generator |
GB2126030A (en) * | 1982-06-25 | 1984-03-14 | Atari Inc | Digital delay circuit with compensation for parameters effecting operational speed thereof |
US4503465A (en) * | 1982-11-24 | 1985-03-05 | Rca Corporation | Analog signal comparator using digital circuitry |
US4553047A (en) * | 1983-01-06 | 1985-11-12 | International Business Machines Corporation | Regulator for substrate voltage generator |
JPS59162690A (ja) * | 1983-03-04 | 1984-09-13 | Nec Corp | 擬似スタテイツクメモリ |
JPS6052997A (ja) * | 1983-09-02 | 1985-03-26 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JPS6394714A (ja) * | 1986-10-09 | 1988-04-25 | Toshiba Corp | 制御パルス信号発生回路 |
US5377069A (en) * | 1989-04-07 | 1994-12-27 | Andreasson; Tomas | Oscillating circuit for the elimination/reduction of static electricity |
US5075572A (en) * | 1990-05-18 | 1991-12-24 | Texas Instruments Incorporated | Detector and integrated circuit device including charge pump circuits for high load conditions |
FR2674633B1 (fr) * | 1991-03-28 | 1995-06-23 | Sgs Thomson Microelectronics | Circuit de detection d'un seuil haut d'une tension d'alimentation. |
DE4337179A1 (de) * | 1993-10-30 | 1995-05-04 | Sel Alcatel Ag | Spannungswandler, LCD-Anzeige mit Kontraststeuerung sowie Fernsprechendgerät |
US5767733A (en) * | 1996-09-20 | 1998-06-16 | Integrated Device Technology, Inc. | Biasing circuit for reducing body effect in a bi-directional field effect transistor |
US5973356A (en) * | 1997-07-08 | 1999-10-26 | Micron Technology, Inc. | Ultra high density flash memory |
US6191470B1 (en) | 1997-07-08 | 2001-02-20 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor-on-insulator memory cell with buried word and body lines |
US6150687A (en) | 1997-07-08 | 2000-11-21 | Micron Technology, Inc. | Memory cell having a vertical transistor with buried source/drain and dual gates |
US6072209A (en) | 1997-07-08 | 2000-06-06 | Micro Technology, Inc. | Four F2 folded bit line DRAM cell structure having buried bit and word lines |
US5909618A (en) | 1997-07-08 | 1999-06-01 | Micron Technology, Inc. | Method of making memory cell with vertical transistor and buried word and body lines |
US6066869A (en) * | 1997-10-06 | 2000-05-23 | Micron Technology, Inc. | Circuit and method for a folded bit line memory cell with vertical transistor and trench capacitor |
US5907170A (en) | 1997-10-06 | 1999-05-25 | Micron Technology, Inc. | Circuit and method for an open bit line memory cell with a vertical transistor and trench plate trench capacitor |
KR100278608B1 (ko) * | 1998-01-16 | 2001-02-01 | 윤종용 | 문턱전압 보상회로 |
US6025225A (en) * | 1998-01-22 | 2000-02-15 | Micron Technology, Inc. | Circuits with a trench capacitor having micro-roughened semiconductor surfaces and methods for forming the same |
US6304483B1 (en) | 1998-02-24 | 2001-10-16 | Micron Technology, Inc. | Circuits and methods for a static random access memory using vertical transistors |
US5963469A (en) * | 1998-02-24 | 1999-10-05 | Micron Technology, Inc. | Vertical bipolar read access for low voltage memory cell |
US6097242A (en) | 1998-02-26 | 2000-08-01 | Micron Technology, Inc. | Threshold voltage compensation circuits for low voltage and low power CMOS integrated circuits |
US6124729A (en) | 1998-02-27 | 2000-09-26 | Micron Technology, Inc. | Field programmable logic arrays with vertical transistors |
US5991225A (en) | 1998-02-27 | 1999-11-23 | Micron Technology, Inc. | Programmable memory address decode array with vertical transistors |
US6043527A (en) | 1998-04-14 | 2000-03-28 | Micron Technology, Inc. | Circuits and methods for a memory cell with a trench plate trench capacitor and a vertical bipolar read device |
US6208164B1 (en) | 1998-08-04 | 2001-03-27 | Micron Technology, Inc. | Programmable logic array with vertical transistors |
JP2002064150A (ja) * | 2000-06-05 | 2002-02-28 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
US9287253B2 (en) | 2011-11-04 | 2016-03-15 | Synopsys, Inc. | Method and apparatus for floating or applying voltage to a well of an integrated circuit |
EP2884663B1 (de) * | 2013-12-13 | 2017-02-22 | IMEC vzw | Wiederherstellung der durch die Vorspannung im Aus-Zustand verursachte Verschlechterung der Schwellenspannung |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3604952A (en) * | 1970-02-12 | 1971-09-14 | Honeywell Inc | Tri-level voltage generator circuit |
US3609414A (en) * | 1968-08-20 | 1971-09-28 | Ibm | Apparatus for stabilizing field effect transistor thresholds |
US3643253A (en) * | 1970-02-16 | 1972-02-15 | Gte Laboratories Inc | All-fet digital-to-analog converter |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3577166A (en) * | 1968-09-17 | 1971-05-04 | Rca Corp | C-mos dynamic binary counter |
US3638047A (en) * | 1970-07-07 | 1972-01-25 | Gen Instrument Corp | Delay and controlled pulse-generating circuit |
US3673438A (en) * | 1970-12-21 | 1972-06-27 | Burroughs Corp | Mos integrated circuit driver system |
-
1972
- 1972-05-17 US US00254058A patent/US3806741A/en not_active Expired - Lifetime
-
1973
- 1973-02-12 IL IL41518A patent/IL41518A0/xx unknown
- 1973-02-22 DE DE19732308819 patent/DE2308819A1/de not_active Ceased
- 1973-04-04 GB GB1616473A patent/GB1381435A/en not_active Expired
- 1973-05-08 FR FR7316432A patent/FR2184650A1/fr not_active Withdrawn
- 1973-05-15 NL NL7306762A patent/NL7306762A/xx unknown
- 1973-05-15 IT IT9454/73A patent/IT983294B/it active
- 1973-05-17 JP JP5417673A patent/JPS5346428B2/ja not_active Expired
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3609414A (en) * | 1968-08-20 | 1971-09-28 | Ibm | Apparatus for stabilizing field effect transistor thresholds |
US3604952A (en) * | 1970-02-12 | 1971-09-14 | Honeywell Inc | Tri-level voltage generator circuit |
US3643253A (en) * | 1970-02-16 | 1972-02-15 | Gte Laboratories Inc | All-fet digital-to-analog converter |
Non-Patent Citations (7)
Title |
---|
DE-Z.: "Elektor" Juli/August 1971, S. 7022 * |
DIN 41 858 vom November 1973 * |
Feldeffekt-Transistoren, J.Wüstehube, Hamburg 1968 * |
US-Z.: "IBM Technical Disclosure Bulletin", Bd. 12, No. 12 Mai 1970, S. 2078 * |
US-Z.: "IBM Technical Disclosure Bulletin", Vol. 11, No. 10 März 1969, S. 1219 * |
US-Z.: Electronics, 4. Oktober 1965, S. 84 bis 95 * |
US-Z.: IBM Techn. Discl.Bull., Vol. 13, No. 8, Januar 1971, S. 2385-2386 * |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2541131A1 (de) * | 1974-11-19 | 1976-05-26 | Ibm | Schaltungsanordnung zur regelung der schaltverzoegerung und/oder verlustleistungsaufnahme von integrierten fet- schaltkreisen |
EP0010137A1 (de) * | 1978-10-24 | 1980-04-30 | International Business Machines Corporation | Substratvorspannungs-Generatorschaltung |
DE3621533A1 (de) * | 1985-06-29 | 1987-01-08 | Toshiba Kawasaki Kk | Integrierte halbleiterschaltungsanordnung |
US4780854A (en) * | 1985-06-29 | 1988-10-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor integrated circuit device |
DE3831176A1 (de) * | 1988-09-13 | 1990-03-22 | Siemens Ag | Oszillatorzelle |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3806741A (en) | 1974-04-23 |
JPS5346428B2 (de) | 1978-12-13 |
IL41518A0 (en) | 1973-04-30 |
JPS4942267A (de) | 1974-04-20 |
IT983294B (it) | 1974-10-31 |
FR2184650A1 (de) | 1973-12-28 |
GB1381435A (en) | 1975-01-22 |
NL7306762A (de) | 1973-11-20 |
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