DE2260494C2 - Reinigungsmittel für mit halogensubstituierten Polykohlenwasserstoffen verunreinigte Geräte und Geräteteile - Google Patents
Reinigungsmittel für mit halogensubstituierten Polykohlenwasserstoffen verunreinigte Geräte und GeräteteileInfo
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1 2
Patentanspruch- und ExtruderteiIe>
ώε mit halogensubstituierten
F ' Polykohlenwasserstoffen aus der Schmelze verVerwendung
von auf mindestens 200° C er- unreinigt sind, verwendet werden können,
bitzten Polyphenylen, phenylierten Kohlen- Hierfür haben sich besonders Diphenyl, Diphenylwasserstoffen, Di- und Polyaryläthem, Derivaten 5 oxid, Terphenyl und Dixylyltoluol bewährt. Gute dieser Verbindungen oder Mischungen aus Ergebnisse werden erhalten mit Mischungen aus wenigstens zwei der genannten Stoffe als Reini- Diphenyl und Diphenyloxid. Besonders vorteilhaft gungsmittel für Geräte und Geräteteile, die mit sind Mischungen, die Diphenyl und Diphenyloxid Polykohlenwasserstoffen aus der Schmelze ver- im Volumenverhältnis 1:3 enthalten,
unreinigt sind, nach Patent 2143 188, zur Rei- io Außer Mischungen aus Diphenyl und iphenylnigung von mit halogensubstituierten Poly- oxid haben sich auch Mischungen al: rauchbar kohlenwasserstoffen aus der Schmelze verunrei- erwiesen, die aus wenigrtens zwei der nachgenannten nigten Geräten oder Geräteteilen, insbesondere Verbindungen bestehen, nämlich Diphenyl, Di-Spinnplatten und Extruderteilen. phenyloxid, halogensubstituiertes Diphenyl und
bitzten Polyphenylen, phenylierten Kohlen- Hierfür haben sich besonders Diphenyl, Diphenylwasserstoffen, Di- und Polyaryläthem, Derivaten 5 oxid, Terphenyl und Dixylyltoluol bewährt. Gute dieser Verbindungen oder Mischungen aus Ergebnisse werden erhalten mit Mischungen aus wenigstens zwei der genannten Stoffe als Reini- Diphenyl und Diphenyloxid. Besonders vorteilhaft gungsmittel für Geräte und Geräteteile, die mit sind Mischungen, die Diphenyl und Diphenyloxid Polykohlenwasserstoffen aus der Schmelze ver- im Volumenverhältnis 1:3 enthalten,
unreinigt sind, nach Patent 2143 188, zur Rei- io Außer Mischungen aus Diphenyl und iphenylnigung von mit halogensubstituierten Poly- oxid haben sich auch Mischungen al: rauchbar kohlenwasserstoffen aus der Schmelze verunrei- erwiesen, die aus wenigrtens zwei der nachgenannten nigten Geräten oder Geräteteilen, insbesondere Verbindungen bestehen, nämlich Diphenyl, Di-Spinnplatten und Extruderteilen. phenyloxid, halogensubstituiertes Diphenyl und
i5 halogensubstituiertes Diphenyloxid. Als halogen-
substituierte Verbindungen werden vorteilhafterweise chlorsubstituiertes Diphenyl und chlorsubstitu-
Die Erfindung bezieht sich auf ein Reinigungs- iertes Diphenyloxid verwendet.
mittel zum Reinigen von Geräten oder Geräteteilen, Mit diesen Reinigungsmitteln lassen sich auch
insbesondere von Spinnplatten und Extruderteilen, ao vercrackte Polymerbestandteile von den verunreinig-
die mit halogensubstituierten Polykohlenwasser- ten Geräteteilen entfernen.
stoffen aus der Schmelze verunreinigt sind. Nach der Reinigung mit einem der genannten
Aus der deutschen Auslegeschrift 2 143 188 ist die Mittel kann mit einer Seifen oder andere Detergen-
Verwendung von auf mindestens 200° C erhitzten tien enthaltenden Lösung bzw. mit Alkohol oder
Polyphenylen, phenylierten Kohlenwasserstoffen, Di- as Waschbenzin nachgespült werden,
und Polyaryläthem, Derivaten dieser Verbindungen Nachfolgend wird ein Ausfühmngsbeispiel für die
oder Mischungen aus wenigstens zwei der genann- Anwendung der erfindungsgemäßen Reinigungsmittel
ten Stoffe als Reinigungsmittel für Geräte und beschrieben:
Geräteteile, insbesondere Spinndüsen, die mit Poly- Eine mit aus der Schmelze erstarrtem Polyvinylkohlenwasserstoffen
aus der Schmelze verunreinigt 30 ch'.orid verunreinigte Extruderschnecke wird in einem
sind, bekannt. geeigneten Gefäß vollständig mit einer Mischung Es hat sich nun gezeigt, daß auf mindestens aus 1 Volumteil Diphenyl und 3 Volumteilen Di-200°
C erhitzte Polyphenyle, phenylierte Kohlen- phenyloxid überdeckt. Nach dem Verschließen des
Wasserstoffe, Di- und Polyaryläther, Derivate dieser Gefäßes wird die Lösung etwa 30 bis 90 min auf
Verbindungen oder Mischungen aus wenigstens zwei 35 eine Temperatur von etwa 230 bis 260° C erhitzt,
der genannten Stoffe auch als Reinigungsmittel für Nach dem Erkalten wird die Extruderschnecke entGeräte
und Geräteteile, insbesondere Spinnplatten nommen und mit Waschbenzin nachgewaschen.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19712143188 DE2143188C2 (de) | 1971-08-28 | 1971-08-28 | Reinigungsmittel für mit Polykohlenwasserstoffen verunreinigte Geräte oder Geräteteile |
DE2260494A DE2260494C2 (de) | 1971-08-28 | 1972-12-11 | Reinigungsmittel für mit halogensubstituierten Polykohlenwasserstoffen verunreinigte Geräte und Geräteteile |
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DE19712143188 DE2143188C2 (de) | 1971-08-28 | 1971-08-28 | Reinigungsmittel für mit Polykohlenwasserstoffen verunreinigte Geräte oder Geräteteile |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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DE2260494B1 DE2260494B1 (de) | 1974-05-02 |
DE2260494C2 true DE2260494C2 (de) | 1975-01-02 |
Family
ID=61167568
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE19712143188 Expired DE2143188C2 (de) | 1971-08-28 | 1971-08-28 | Reinigungsmittel für mit Polykohlenwasserstoffen verunreinigte Geräte oder Geräteteile |
DE2260494A Expired DE2260494C2 (de) | 1971-08-28 | 1972-12-11 | Reinigungsmittel für mit halogensubstituierten Polykohlenwasserstoffen verunreinigte Geräte und Geräteteile |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE19712143188 Expired DE2143188C2 (de) | 1971-08-28 | 1971-08-28 | Reinigungsmittel für mit Polykohlenwasserstoffen verunreinigte Geräte oder Geräteteile |
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DE102009028892A1 (de) * | 2009-08-26 | 2011-03-03 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Verbesserte Waschleistung durch Polymere mit aromatischen Gruppen |
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1971
- 1971-08-28 DE DE19712143188 patent/DE2143188C2/de not_active Expired
-
1972
- 1972-12-11 DE DE2260494A patent/DE2260494C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
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DE2143188C2 (de) | 1973-03-22 |
DE2143188B1 (de) | 1972-08-17 |
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