DE2238040B1 - Verfahren zum Abdecken von Flachentei len an Isolierkörpern beim Aufdampfen von elektrisch leitenden Schichten, vorzugswei se aus Zinnoxid - Google Patents

Verfahren zum Abdecken von Flachentei len an Isolierkörpern beim Aufdampfen von elektrisch leitenden Schichten, vorzugswei se aus Zinnoxid

Info

Publication number
DE2238040B1
DE2238040B1 DE19722238040D DE2238040DA DE2238040B1 DE 2238040 B1 DE2238040 B1 DE 2238040B1 DE 19722238040 D DE19722238040 D DE 19722238040D DE 2238040D A DE2238040D A DE 2238040DA DE 2238040 B1 DE2238040 B1 DE 2238040B1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
tin oxide
vapor deposition
covering
electrically conductive
flachentei
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19722238040D
Other languages
English (en)
Other versions
DE2238040C2 (de
Inventor
Fritz 8011 Poing Engel
Heinz 8000 Muenchen Leppin
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Publication of DE2238040B1 publication Critical patent/DE2238040B1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2238040C2 publication Critical patent/DE2238040C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08Oxides
    • C23C14/086Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Description

  • Patentansprüche: 1. Verfahren zum Abdecken von Flächenteilen an Isolierkörpern mittels eines Überzugs beim Aufbringen, wie Aufdampfen, von elektrisch leitenden Schichten, insbesondere aus Zinnoxid (SnO2), dadurch gekennzeichnet, daß auf die abzudeckenden Teilflächen ein Überzug aus einer anorganischen pulverförmigen Substanz aufgebracht wird, der bei einer Temperatur von 4500 C noch stabil, für die Aufdampfstoffe aus der Gasphase ausreichend dicht ist und der in einfacher Weise ohne Veränderung des den Untergrund bildenden Isolierkörpers durch Lösen entfernbar ist.
  • 2. Verfahren nach Anspruch, dadurch gekennzeichnet, daß das Aufbringen der pulverförmigen Substanz in Form einer Suspension, z.B.
  • durch Tauchen, erfolgt.
  • 3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Abdeckschicht in schwachen Säuren leicht löslich ist.
  • 4. Verfahren nach einem oder mehreren der vorangehenden Ansprüche 1 bis3, dadurch gekennzeichnet, daß als anorganische Pulver Oxide oder Karbonate der Alkali- oder Erdalkali-Metalle verwendet werden.
  • 5. Verfahren nach einem oder mehreren der vorangehenden Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die pulvrige Substanz aus MgO besteht Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abdekken von Flächenteilen an Isolierkörpern mittels eines Überzugs beim Aufbringen, wie Aufdampfen, von elektrisch leitenden Schichten, insbesondere aus Zinnoxid (SnO2).
  • Sie hat besondere Bedeutung u. a. für die- Herstellung von elektrischen Entladungsgefäßen, bei denen es notwendig ist, Flächenteile, z. B. von der Gefäßwandung oder aber auch sonstigen, aus einem Substrat bestehenden Systemteilen mit definierter Berandung mit einer leitenden Schicht zu versehen, um dann mit einer Zuleitung versehen, im Betrieb als Elektrode z. B. mit einem Potential beaufschlagt zu werden. Däzu- ist es erforderlich, - daß die übrigen Teile des betreffenden Isolierkörpers beim Aufdampfvorgang gegen ein Bedampfen geschützt werden und außerdem hinterher ihre vollen ursprünglichen Eigenschaften, insbesondere Isoliereigenschaften, wieder aufweisen Bei geometrisch einfachen Formen, wie z.B. bei stabförmigen Fotoblitzlampen, ist es an sich bekannt, die auszusparenden Flächen z. B. durch eine entsprechende Metallmaske vor dem Bedampfen abzudekken. Dieses Verfahren hat sich aber zumindest bei der Herstellung großer Stückzahlen als umständlich und kostspielig erwiesen, weil z. B. die betreffenden Metallkappen nicht beliebig häufig, sondern vielfach nur einige wenige Male benutzt werden können.
  • Bei komplizierten Flächenmustern, z.B. bei der Herstellung von Flüssigkristall-Displays, ist diese Methode beim Aufbringen von SnO2-Schichten durchwegs gar nicht zu verwirklichen. Wegen der Schwierigkeiten, derartige komplizierte Muster mit Hilfe von z. B. Masken oder ähnlichen Einrichtungen abzudecken, ist es bisher meist üblich, zunächst die gesamte Fläche des Isolierkörpers mit z.B. SnO2 zu bedecken und danach das gewünschte Muster mit einem üblichen fotosensiblen Lack nach einem an sich geläufigen Verfahren zu bedecken.
  • Bei diesem bekannten Verfahren werden dann wegen der hohen chemischen Beständigkeit von SnO2 die endgültig freizuhaltenden Flächenteile mit naszierendem Wasserstoff unter Eintauchen der dazu mit Zinkpulver bedeckten Flächen in Salzsäure von SnO2 befreit und dann der Abdecklack mit einem entsprechenden Lösungsmittel wieder entfernt.
  • An Stelle dieser umständlich zu handhabenden und deshalb auch kostspieligen Methode der Musterherstellung für aufzubringende leitende Schichten ein einfach arbeitendes Verfahren zu erstellen, ist Ziel der der Erfindung zugrunde liegenden Aufgabe.
  • Erreicht wird dies bei einem im ersten Absatz beschriebenen Verfahren nach der Erfindung dadurch, daß auf die abzudeckenden Teile ein Überzug aus einer anorganischen -puiverörmigen Substanz aufgebracht wird, der bei einer Temperatur von etwa 4500 C noch stabil, für die Aufdampfstoffe aus der Gasphase ausreichend dicht ist und der in einfacher Weise ohne Veränderung des den Untergrund bildenden Isolierkörpers durch Lösen-wieder entfernbar ist.
  • Bei einer bevorzugten Ausführungsform erfolgt das Aufbringen der pulverförmigen Substanz in Form einer Suspension:-;auf Wasser-Alkohol-Basis, z.B. durch Tauchen. - Es-kann jedoch auch -durch Sprühen, Streichen, Drucken pd. dgl. vorgenommen werden. Mit besonderem'Vorteil kann die nach dem Verfahren aufgebrachte Abdeckschicht in schwachen Säuren leicht durch Lösen entfernt werden.
  • Als besonders geeignete anorganische Pulver haben sich Oxide und Karlan-n'te-dér Alkali- oder Erdalkali-Metalle erwiesen.
  • Für die Durchfiihrun'g dès Verfahrens dient z.B.
  • nachfolgendes Ausführungsbeispiel: 21Qg Magnesiurzkarboiåt werden etwa 2 Stunden bei 7000 C geglüht und langsam abgekühlt. Das erkaltete Magnesiumoxid (etwa 100 g) wird mit 100 g handelsüblichem :hlagn;i;-nod-und mit mit etwa 1,81 Wasser vermischt.
  • Nach einer guten Homogenisierung mit einem Rührwerk werden etwa 180 ml Äthanol zugefügt und nochmals kurzzeitig homogenisiert. Der Ansatz muß zur Oewährleistuu ei'her'-gleichmäßigen Hydratisierung und Gelbildung etwa 4bis 5 Tage stehen. Danach werden noch 11 Äthanol hinzugefügt und etwa 15 bis 2Q Minuten mit einem hochtourigen Rührwerk homogenisiert.
  • In diese Suspension werden z.B. die abzudeckenden Enden von Blitzlampen getaucht, so daß sich ein Film bildet, der an Luft leicht trocknet.
  • Die so vorbehandelten Lampen können in bekannter Weise mit einer Zinnoxidschicht bedampft werden.

Claims (1)

  1. Nach der Bedampfung werden die Lampen in verdünnte Essigsäure getaucht, dadurch wird die Magnesiumoxidschicht quantitativ abgelöst und die an dieser Stelle unerwünschte Zinnoxidschicht dabei abgeschwemmt, ohne daß die übrigen mit Zinnoxid bedeckten Teilflächen angegriffen werden. Eine Spülbehandlung in Wasser und Methanol verhindert eine eventuelle Korrosion an den Anschlußdrähten.
DE19722238040D 1972-08-02 1972-08-02 Verfahren zum Abdecken von Flächenteilen an Isolierkörpern beim Aufdampfen von elektrisch leitenden Schichten, vorzugsweise aus Zinnoxid Expired DE2238040C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2238040 1972-08-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2238040B1 true DE2238040B1 (de) 1973-10-11
DE2238040C2 DE2238040C2 (de) 1974-05-22

Family

ID=5852493

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19722238040D Expired DE2238040C2 (de) 1972-08-02 1972-08-02 Verfahren zum Abdecken von Flächenteilen an Isolierkörpern beim Aufdampfen von elektrisch leitenden Schichten, vorzugsweise aus Zinnoxid

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE2238040C2 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007027474A1 (de) * 2007-06-14 2008-12-18 Burgmann Industries Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Ausbildung einer planen Schicht aus einem Diamantmaterial auf einer Werkstückoberfläche

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004015878A1 (de) * 2004-03-31 2005-10-20 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung von Funktionsschichten auf definierten Bereichen eines Substrates und damit hergestellte Brennstoffzelle

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007027474A1 (de) * 2007-06-14 2008-12-18 Burgmann Industries Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Ausbildung einer planen Schicht aus einem Diamantmaterial auf einer Werkstückoberfläche

Also Published As

Publication number Publication date
DE2238040C2 (de) 1974-05-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1908625B2 (de) Bad zu elektrolytischen abloesen von metallueberzuegen von grundkoerpern aus rostfreiem stahl
DE2548478B2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Elektrode für elektrolytische Prozesse
DE1026874B (de) Selengleichrichter mit Kunststoff-Zwischenschicht zwischen Selen und Gegenelektrode
DE1764758A1 (de) Verfahren zum Bilden von Anschlussleitungen an einen Koerper aus Halbleitermaterial
DE2635245A1 (de) Verfahren zur herstellung elektrisch leitender indiumoxidmuster auf einem isolierenden traeger
DE2238040C2 (de) Verfahren zum Abdecken von Flächenteilen an Isolierkörpern beim Aufdampfen von elektrisch leitenden Schichten, vorzugsweise aus Zinnoxid
DE1496673B2 (de)
DE1639202A1 (de) Elektrisch leitfaehige Mischungen und Verwendung derselben als Beschichtungsmaterial
US3684569A (en) Process of producing conductive gold patterns
DE2541675A1 (de) Verfahren zum aetzen von zinn- oder indium-dioxyd
DE2259182A1 (de) Verfahren zum herstellen einer matrix zur verwendung in der galvanoformung
DE3514094C2 (de)
DE1519311A1 (de) Elektrostatisches Spritzen
DE2448526B2 (de) Verfahren zum stromlosen abloesen einer nickelschicht von nickelbeschichteten gegenstaenden aus leichtmetall
DE2145905B2 (de) Verfahren zur Herstellung von oberflächlich metallisierten Isolierstoffen durch stromlose Metallabscheidung
DE2259033A1 (de) Verfahren zum entfernen von zinnoder indiumoxid von einem glaskoerper
DE2001548A1 (de) Verfahren zum Erhoehen der Haftung von Polymeren auf Metallen
DE2253498A1 (de) Verfahren zum herstellen von mindestens einseitig offenen hohlkoerpern aus halbleitermaterial
AT141833B (de) Verfahren zur Herstellung elektrisch leitender Schichten auf nichtleitenden Gegenständen.
DE963454C (de) Verfahren zur Herstellung elektrischer Heizelemente
DE459914C (de) Sockel fuer elektrische Lampen und aehnliche geschlossene Glasgefaesse
DE1080275B (de) Verfahren zum UEberziehen von aus Glas, Quarz, keramischen Stoffen oder Metall bestehenden Gegenstaenden mit Metalloxydschichten
DE1446067A1 (de) Verfahren zum Polieren von Halbleiterscheiben unter gleichzeitiger Anwendung einer elektrolytischen und einer mechanischen Behandlung
DE1496673C (de) Verfahren zum Aufbringen eines Glas films auf vorbestimmte Flachenabschnitte eines Halbleiterbauelements unter Verwen dung einer Photoresistmasse
DE1621252A1 (de) Verfahren zum Herstellen oxydfreier Metallkontakte an Siliciumsubstraten

Legal Events

Date Code Title Description
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977
EF Willingness to grant licences
8339 Ceased/non-payment of the annual fee