DE2238013C3 - Weitere Ausbildung des Verfahrens zur Herstellung von Arylchlorsilanen - Google Patents
Weitere Ausbildung des Verfahrens zur Herstellung von ArylchlorsilanenInfo
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Description
Die Erfindung ist ein Zusatz zum Deutschen Patent 19 45 252 und betrifft ein verbessertes Verfahren zur
Herstellung von Arylchlorsilanen durch Umsetzung von Hydridochlorsilanen mit aromatischen Kohlenwasserstoffen
unter Bestrahlung.
Arylchlorsilane, wie Diphenyldichlorsslan oder Phenyltrichlorsilan,
sind als Ausgangsmaterialien für Silikonöle, Silikonfirnisse und Silikonkautschuk wichtig.
Die bisher vorgeschlagenen Verfahren zur Herstellung dieser Verbindungen waren:
a) Das Grignard-Verfahren, bei dem man Aryltrichlorsilan
mit Halogen-Magnesiummethyl oder Methyltrichlorsilan mit Halogen-Magnesiumary!
zur Reaktion brachte oder indem man Siliciumtetrachlorid mit Halogen-Magnesiumaryl umsetzte.
b) Ein Verfahren, bei dem Methyldichlorsilan oder -trichlorsilan zusammen mit aromatischen Kohlenwasserstoffen
unter Verwendung von Borchlorid als Katalysator dehydriert oder bei dem derartige
Chlorsilane unter Verwendung von chlorierten aromatischen Kohlenwasserstoffen durch Chlor-Wasserstoffabspaltung
dargestellt werden.
c) Die Direktsynthese aus metallischem Silicium und Chlorbenzol.
d) die Coproportionierung von Phenyltrichlorsilan mit Trimethylchlorsilan.
Von diesen Verfahren hat das Grignard-Verfahren a) den Nachteil, daß man eine große Menge Äther
verwenden muß und außerdem die Entfernung der Nebenprodukte Schwierigkeiten bereitet. Bei der
Methode b) müssen die Dehydrierung und die so Chlorwasserstoffabspaltung bei hoher Temperatur
und/oder unter hohen Drücken durchgeführt werden. Bei der Direktsynthese c) wird das gewünschte
Phenyltrichlorsilan lediglich als Nebenprodukt von Diphenyldichlorsilan erhalten und dires in kleiner ss
Menge; besonders wenn Phenylreste verschiedenartige Substituenten aufweisen, wird dieses Verfahren oftmals
schwierig. Die Coproportionierung d) hat den Nachteil, daß sie unter hohen Temperaturen und hohen Drücken
durchgeführt werden muß, dabei enthält das Reaktionsprodukt nicht zur Reaktion gelangte Phenyltrichlorsilane,
die nur schwer abgetrennt werden können.
Zur Herstellung von Arylchlorsilanen ist es auch bekannt (vgl. UdSSR-Patentschrift 162 842), eine
Mischung aromatischer Kohlenwasserstoffe und Was- <
<s serstoffchlorsilane, z. B. eine Mischung ion Benzol und
Methyldichlorsilan oder von Benzol und Trichlorsilan, mit Licht aus einer Glühfadenlampe zu bestrahlen,
wodurch man Phenylmethyldichlorsilan oder Phenyltrichlorsilan erhält
Mit dieser Methode ist es möglich, das gewünschte Produkt zu gewinnen, und zwar ohne Nebenprodukte,
die mühsam abgetrennt werden müssen. Jedoch ist die Ausbeute an den gewünschten Organochlorsilanen mit
aromatischen Resten gegenüber dem Hydridochlorsilan niedrig und beträgt bei Phenylmethyldichlorsilan 12
Gewichtsprozent und bei Phenyltrichlorsilan ungefähr 39 Gewichtsprozent. Unangenehm ist in diesem Fall
auch, daß das meiste Methyldiehlorsilan sich zu Methyltrichlorsilan umsetzt und dabei das nicht zur
Reaktion gelangte Material in nicht erwünschtes Siliciumtetrachlorid. Es ist daher schwierig, nach diesem
Verfahren Organochlorsilane mit einem anderen aromatischen Rest herzustellen als Phenylchlorsilan und
Phenylmethyldichlorsilan.
Weiterhin wurde ein Verfahren bekannt zur Herstellung von Arylchlorsilanen durch Umsetzung von
Hydridochlorsilanen mit aromalischen Kohlenwasserstoffen unter Bestrahlung, das dadurch gekennzeichnet
ist, daß man Trichlorsilan oder Methyldichlorsilan mit Benzol oder einem Alkyl-, Halogen- oder Phenoxy-Benzol
in Gegenwart von Chlor mit einem Licht bestrahlt, das mindestens zu 30% seiner Strahlung Wellenlängen
aufweist, die 3800 Ä nicht überschreiten (vgl. DT-PS 19 45 252).
Allerdings haftet auch diesem Verfahren noch ein gewisser Nachteil an in bezug auf die Einführung des
Chlorgases am Boden der flüssigen Schicht des Reaktors bei gleichzeitiger Bestrahlung. Im Rahmen des
Verfahrens wird Methyldichlorsilan nämlich umgesetzt in Siliciumtetrachlorid und Kohlenstoff als Nebenprodukte
in den Chlorabgasen, wobei sich Radikale bei der Bestrahlung bilden. In einer weiteren Nebenreaktion
wird Benzol zu Hexachlorcyclohexan umgesetzt, das dazu neigt, an der Oberfläche bzw. den Zwischenräumen
des porösen Teils des Chlorleitungsrohres anzuhaften, so daß die Zugabe von Chlor Schwierigkeiten
bereiten kann.
Ziel der Erfindung ist es, ein Verfahren bereitzustellen, das frei von den obengenannten Nachteilen die
Herstellung von Arylchlorsilanen erlaubt. Weiteres Ziel der Erfindung ist es, aus Chlorsilanen mit einer
Si-H-Bindung und aromatischen Verbindungen Organochlorsilane mit verschiedenen aromatischen Resten
herzustellen. Schließlich ist es ein Ziel der Erfindung, solche Organochlorsilane mit hohen Ausbeuten herzustellen
und Nebenprodukte weitgehend zu unterdrükken.
In Fortbildung des Verfahrens nach der DT-PS 19 45 252 zur Herstellung von Arylchlorsilanen durch
Umsetzen von Hydridochlorsilanen der Formel
(CH3)j -,,CInSiH
mit π = 2 oder 3
und aromatischen Kohlenwasserstoffen der Formel
mit Z = Wasserstoff, Halogen, Alkyl, Halogenalkyl, Alkoxy, Phenyl, Halogenphenyl, Phenoxy, Phenylmethylen
und Dialkylamino in Gegenwart'von Chlor unter Bestrahlung mit einem Licht, das mindestens zu 30%
seiner Strahlung Wellenlängen aufweist, die 3800 Ä nicht überschreiten, ist die Erfindung und weitere
Verbesserung dadurch gekennzeichnet, daß die Mischung der obengenannten Reaktioniskomponenten mit
Chlor außerhalb der bestrahlten Reaktionszone erfolgt und die mit Chlor versetzte Mischung innerhalb 1
Sekunde in die bestrahlte Zone übergeführt wird.
Die erfindungsgemäße Herstellung von Oi ganochlorsilanen
wird ausgeführt durch photochemische Reaktion eines Gemisches von Chlorsilan und einer aromatischen
Verbindung in Gegenwart von Chlor, wobei das Chlor zunächst in das Gemisch außerhalb der Bestrahlungszone
eingeführt wird und das chlorgashaltige Gemisch anschließend in die Bestrahlungszone übergeführt wird,
womit Arylchlorsilane bei üblichen Drücken und Temperaturen mit hohen Ausbeuten erhalten werden
und wobei die Bereitstellung eines speziellen Gefäßes für die Lösung des Chlors entfällt. Weiterhin wird bei
diesem Verfahren die Bildung von Nebenprodukten, wie Siliciumtetrachlorid und Methylchlorsilan auf niedriger
Stufe gehalten.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren werden Chlorsilane der obengenannten Formel ur.d aromatische
Verbindungen der obengenannten Formel in einen Reaktor eingebracht, der mit einer Lichtquelle ausgerüstet
ist, und dort gemischt. Weiterhin wird Chlorgas bzw. ein Gemisch von Chlor und einem inerten Gas, wie
Stickstoff, in das flüssige Gemisch eingeführt in einem Bereich, der außerhalb der bestrahlten Zone liegt. Dann
wird der chlorhaltige Teil des flüssigen Gemisches innerhalb sehr kurzer Zeiten von weniger als 1 Sek.,
vorzugsweise 0,1 bis 0,5 Sek., in die Bestrahlungszone überführt.
Die Zeit von der Mischung des Chlorgases mit dem Flüssigkeitsgemisch in der bestrahlungsfreien Zone bis
zur Überführung in die bestrahlte Zone muß kurz gehalten werden. Ist die Verweildauer langer als oben
angegeben, so wird die Bildung von Methyltrichlorsilanen in unerwünschtem Maße gefördert.
Bezüglich der für die Reaktion erforderlichen Lichtquelle wurde festgestellt, daß im Falle von
Strahlung mit höheren Anteilen einer Wellenlänge von mehr als 5000 Ä die Bildung von Nebenprodukten, wie
Siliciumtetrachlorid, begünstigt wird. Dies gilt, obwohl Chloratome Licht mit einem weiten Wellenlängenbereich
absorbieren, wobei das Absorptionsmaximum bei 3300 A liegt. Es ist also zur Erreichung hoher Ausbeuten
mindestens 30%, vorzugsweise 40% des Lichtanteiles mit einer Wellenlänge von nicht mehr als 3800 Ä
anzuwenden. Geeignet als Lichtquellen in diesem Sinne sind z. B. Hoch- und Niederdruckquecksilberdampflampen
sowie Xenon· und Wasserstoffbogenlampen.
Das erfindungsgemäße Verfahren weist auch den Vorteil auf, daß es bei guter Ausbeute und gewöhnliehern
Druck und gewöhnlicher Temperatur kontinuierlich durchgeführt werden kann. Ein Temperaturanstieg
durch den exothermen Ablauf der Reaktion macht keine Schwierigkeiten.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren können die Hydridochlorsilane und die aromatischen Verbindungen
gemischt werden in Molverhältnissen von 5 :95 bis 90 :10, vorzugsweise von 10 :90 bis 70 : 30. Die Menge
des eingebrachten Chlorgases sollte so bemessen sein, daß Chlor nicht als Gas entweicht. Bevorzugt ist es, das
Chlor mit einem inerten Gas, wie Stickstoff, zu verdünnen, so daß es von der Mischung gleichmäßig
absorbiert werden kann. Im allgemeinen sollte die Menge an Chlor, die während einer Reaktionsperiode
eingesetzt wird, im Bereich von 0,1 bis 3 Molen, vorzugsweise 0,2 bis 2 Molen, bezogen auf 1 Mol
Si-H-Gruppe betragen. Die Zeit bis zur Beendigung der Reaktion kann von 0.5 bis 25 Std. dauern. Die
Strahlungsintensität sollte ausreichen, um freie Chlorradikale
in solchen Mengen zu erzeugen, daß die Reaktion weiterläuft. Es empfiehlt sich ein Bereich von 1 bis 1000
Watt, bevorzugt sind 5 bis 500 Watt pro kg Reaktionsflüssigkeit
Im folgenden wird eine Vorrichtung, wie sie zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens mit
Vorteil Verwendung Finden kann, näher er'äutert.
F i g. 1 und F i g. 2 zeigen jeweils eine bevorzugte Ausführungsform einer solchen Vorrichtung.
Mit F i g. 1 ist ein Reaktor 1 gezeigt, der mit einem
gegen Chlor und Chlorwasserstoff resistenten Überzug versehen ist oder aus Nickel, Titan oder deren
Verbindungen hergestellt ist. Er weist in seinem oberen Teil einen Einlaß 2 für die Zugabe der flüssigen
Reaktionskomponenten auf, einen Auslaß 3 für die Entnahme des Reaktionsproduktes, einen Rückflußkühler
4, einen Austritt 5 für Chlorwasserstoff. Seiten- und Bodenteil des Reaktors sind verbunden mit den
Leitungen 8 und 10. Mit der Leitung 8 ist der Kühler 6 und die Pumpe 7 verbunden. Das Einleitungsrohr für
Chlor 9 ist ebenso wie die Pumpe 7 mit der Leitung 10 verbunden. Die Leitung 10 ist so ausgeführt, daß sie den
Inhalt von der Bestrahlung abschirmt. Etwa in der Mitte des Reaktors ist die Lichtquelle 11 installiert. Das Chlor,
das durch die Leitung 9 eintritt, wird mit der durch die Pumpe 7 im Kreislauf umgepumpten Reaktionsflüssigkeit
gemischt. Die Leistung der Pumpe und die Durchmesser sowie die Längen der Leitungen 9 und 10
sollten so gewählt sein, daß die Reaktionsflüssigkeit von
der abgeschirmten zu der bestrahlten Zone innerhalb weniger als 1 Sekunde strömen kann.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist nicht auf die oben beschriebene Vorrichtung begrenzt. Die Reaktionsflüssigkeit
kann z. B. vor oder hinter der Pumpe eingebracht werden. Ebenso kann das Reakiionsprodukt
vom Boden des Reaktors abgezogen werden, wiederum vor oder nach der Pumpe mit Ausnahme des
Teiles, dem das Chlor zugesetzt wird.
Bezüglich der Arbeitsweise des Reaktors ist zu sagen, daß das Reaktionsgemisch, das durch den Einlaß 2
eintritt, mit Hilfe der Pumpe 7 umgepumpt und mit dem durch die Leitung 9 eintretenden Chlor gemischt wird.
Innerhalb einer Mischperiode mit Chlor, die wie — schon gesagt — kürzer als 1 Sekunde sein muß, gelangt
das chlorhaltige Gemisch in die von der Lichtquelle 11
bestrahlte Lichtzone. Das Reaktionsprodukt wird durch die Leitung 3 entnommen, der entwickelte Chlorwasserstoff
entweicht durch die Leitung 5 über den Kondensator 4.
F i g. 2 zeigt eine andere Ausführung, wie sie zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens mit
Vorteil verwendet werden werden kann. Der Reaktor 21, der für Kühlung ausgelegt ist, ist aus einem nicht
korrodierenden Material hergestellt. Der Einlaß der Reaktionsflüssigkeit ist mit 22 bezeichnet, der Rückflußkühler mit 24, der Auslaß für Chlorwasserstoff im
oberen Teil mit 25.
Im Zentrum des Reaktors ist ein Rührer angeordnet und ein Eintrittsrohr, das mit 29 bezeichnet ist. Die
Rührwelle verläuft koaxial zum Reaktor. Das Einlaßrohr 29 ist so konstruiert, daß es den Inhalt von der
Lichtquelle oder anderem Licht abschirmt. An zwei Seiten sind mit 31 bezeichnete Lichtquellen in der oben
beschriebenen Art installiert. Das mit 33 bezeichnete Rührelement ist so ausgelegt, daß eine vollständige
Mischung der Reaktionsflüssigkeit mit dem durch das Rohr 29 eintretenden Chlor erfolgt. Der mit 35
bezeichnete Konus unterhalb des Rührelementes dient zur gleichmäßigen Verteilung des chlorhaltigen Reaktionsgemisches
auf den mit den Lichtquellen 31 bestrahlten Bereich. Rührer und Linlaßrohr 29 sind
umgeben von einem zylindrischen Mantel, der ebenfalls lichtundurchlässig ausgelegt ist. Der Durchmesser der
Chloreinlaßleitung 29, die Fließgeschwindigkeit und die Rührgeschwindigkeit, sowie die Formen des Rührelementes
sollen so gewählt sein, daß das Reaktionsgemisch in weniger als 1 Sekunde nach Mischung mit
Chlor bestrahlt wird.
Die Arbeitsweise des Reaktors ist folgende:
Das Reaktionsgemisch wird durch den Einlaß 22 aufgegeben und wird ausreichend mit Chlor aus dem Einlaßrohr 29 mit Hilfe des Rührelementes 33 gemischt, sodann wird es gleichmäßig auf die bestrahlte Zone verteilt und mit dem von der Lichtquelle 31 stammenden Licht bestrahlt, wobei die Reaktion einsetzt. Das Reaktionsprodukt wird durch die Leitung 23 entfernt, der entwickelte Chlorwasserstoff entweicht durch den Kondensator 24.
Das Reaktionsgemisch wird durch den Einlaß 22 aufgegeben und wird ausreichend mit Chlor aus dem Einlaßrohr 29 mit Hilfe des Rührelementes 33 gemischt, sodann wird es gleichmäßig auf die bestrahlte Zone verteilt und mit dem von der Lichtquelle 31 stammenden Licht bestrahlt, wobei die Reaktion einsetzt. Das Reaktionsprodukt wird durch die Leitung 23 entfernt, der entwickelte Chlorwasserstoff entweicht durch den Kondensator 24.
Zur näheren Erläuterung der Erfindung dienen die folgenden Beispiele und Kontrollversuche. Soweit nicht
anders angegeben, handelt es sich bei den angegebenen Teilen um Gewichtsteile.
Beispiele 1 bis 7 und
Kontrollversuche 1 bis 6
Kontrollversuche 1 bis 6
Der für die folgenden Beispiele verwendete Reaktor gemäß Fig. 1 wies eine 100-Watt-Hochdruckquecksil-
berdampflampe auf, ausgerüstet mit einem Kühlmantel 54% der Strahlung hatte eine Wellenlänge von weniger
als 3800 Ä. 863 Teile Methyldichlorsilan und 1365 Teile Benzol wurden in den Reaktor gegeben und mittels der
Pumpe 7 umgepumpt. Nachdem die Atmosphäre im Reaktor mit Stickstoff ausgetauscht wurde, wurde die
Quecksilberlampe eingeschaltet. Gleichzeitig wurde durch den Einlaß 9 Chlorgas zugegeben. Die daran
anschließenden Reaktionen wurden unter verschiedenen Bedingungen durchgeführt, wie in der folgenden
Tabelle 1 als Beispiele 1 bis 7 bezeichnet. Die mit dieser Reaktionen erreichten Ergebnisse sind ebenfalls in
dieser Tabelle dargestellt. Beispiel 4 ist ein Vergleichsversuch, bei dem die Zeit zwischen Mischen und
Bestrahlen langer als 1 sist.
Zum Vergleich wurden außerdem Kontrollversuche durchgeführt. Der für diese Kontrollversuche verwendete
Reaktor war mit einem Rückflußkühler, einerr Thermometer und einem in der Mitte des Reaktors
endenden Gaseinlaß ausgerüstet, sowie mit einei lOO-Watt-Hochdruckquecksilberdampflampe, wie sie
auch für die Beispiele 1 bis 7 Verwendung fand.
863 Teile Methyldichlorsilan und 1365 Teile Benzo wurden in den Reaktor eingebracht, worauf gerühri
wurde. Die Atmosphäre im Reaktor wurde dann durcr Stickstoff ersetzt, worauf die Quecksilberlampe eingeschaltet
wurde. Gleichzeitig wurde der Chlorgasstrorr eingeführt am Boden des Flüssigkeitsgemisches. Di«
Reaktionen wurden unter verschiedenen Bedingunger durchgeführt, wie in der Tabelle I als Kontrollversuche 1
bis 6 angeführt. Die erhaltenen Ergebnisse sind ebenfall! in der Tabelle enthalten.
1 2 3
Kontrollversuche
1 2 3
| 420 | 240 | 60 | 8 | 420 | 420 |
| 0,11 | 0,23 | 0,90 | 6,80 | 0,11 | 0,11 |
71 71 71 25 100
6,8 6,8 6,8 6,8 19,2 4,8
2260 2240 2255 2235 2242
6,8 6,8 6,8 6,8 19,2 4,8
2260 2240 2255 2235 2242
Aufgegebene Menge an Methyldichlorsilan (Teile)
Aufgegebene Menge an Benzol
(Teile)
(Teile)
Umlaufgeschwindigkeit (l/h)
Zeit zwischen Mischen mit
Chlor und Bestrahlen (Sek.)
Chlor und Bestrahlen (Sek.)
Chlorzugabegeschwindigkeit
Reaktionszeit
Reaktionszeit
Menge an erhaltener Reaktionsflüssigkeit (Teile)
Analyse der erhaltenen
Flüssigkeit:
Methyldichlorsilan (%)
Methyltrichlorsilan (%)
Benzol (%)
Phenylmethyldichlorsilan (%)
Reaktionsprodukte mit hohem
Siedepunkt (%)
Ausbeute an Phenylmethyldichlorsilan, bezogen auf
Methyldichlorsilan (%)
*) Die Reaktionsflüssigkeit wurde schwarz und die Reaktion abgebrochen.
*") Die Chlorgas-Zuleitung verstopfte, und die Reaktion wurde abgebrochen.
863 863 863 863 863 863 863 863 863 863 863 863
1365 1365 1365 1365 1365 1365 1365 1365 1365 1365 1365 1365
1365 1365 1365 1365 1365 1365 1365 1365 1365 1365 1365 1365
420 ------
142 25 50 71 100 142 71
3,4 19,2 9,6 6,8 4,8 - -
2248 2233 2245 2263 2275 - -
| 4,0 | 4,0 | 4,0 | 4,5 | 4,0 | 3,8 | 4,0 | 45 | 4,0 | 4,0 | 4,2 |
| 6,7 | 9,5 | 11,8 | 19,7 | 4,2 | 6,9 | 73 | 155 | 203 | 23,8 | 27,2 |
| 44,4 | 44,2 | 45,7 | 465 | 45,0 | 43,8 | 43,6 | 41,8 | 43,2 | 44,8 | 46,5 |
| 335 | 313 | 265 | 22,5 | 373 | 32,5 | 31,7 | 305 | 27,0 | 22,0 | 12,8 |
| 11,4 | 11,0 | 12,0 | 6,8 | 9,5 | 13,0 | 13,7 | 7,7 | 5,5 | 5,4 | 73 |
58,6 55,2 46,2 40,1 65,0 56,4 55,5 53,8 47,2 38,8 22,9 *) ")
Beispiele 8 und 9
Unter Verwendung der in Fig. 2 beschriebenen Apparatur mit einem Propellerrührer mit einer Leistung
von 50 Litern pro Minute und 2 Hochdruckquecksilberdampflampen gemäß den für die Beispiele 1 bis 7
verwendeten, wurden Reaktionen unter verschiedenen Bedingungen durchgeführt, wie sie in der folgenden
Tabelle Il gekennzeichnet sind. Dort sind auch die erhaltenen Ergebnisse eingetragen.
Aufgegebene Menge an Methyldichlorsilan (Teile)
Aufgegebene Menge an Benzol (Teile)
Umlaufgeschwindigkeit (l/h)
Umlaufgeschwindigkeit (l/h)
Zeit zwischen Mischen mit Chlor
und Bestrahlen (Sek.)
und Bestrahlen (Sek.)
Chlorzugabegeschwindigkeit
Reaktionszeit
Reaktionszeit
Menge an erhaltener Reaktionsflüssigkeit (Teile)
Analyse der erhaltenen Flüssigkeit:
Methyldichlorsilan (%)
Methyltrichlorsilan (%)
Methyldichlorsilan (%)
Methyltrichlorsilan (%)
863 863
| 1365 | 1365 |
| 3000 | 3000 |
| 0.17 | 0,17 |
| 71 | 142 |
| 6,8 | 3,4 |
| 2239 | 2248 |
| 4.0 | 4.5 |
| 6,5 | 7.4 |
| Beispiele 8 9 |
42.9 | |
| Benzol (%) | 44.6 | 32.0 |
| Phenylmethyldichlorsilan (%) | 33.7 | 13,2 |
| Reaktionsprodukte mit hohem Siedepunkt (%) |
11,2 | 56,9 |
| Ausbeute an Phenylmethyldichlorsilan, bezogen auf Methyldichlorsilan (%) |
58.8 |
Beispiele 10bis13und
Kontrollversuche 7 bis 9
Kontrollversuche 7 bis 9
Mit dem im Beispiel 1 beschriebenen Reaktor und der entsprechenden Lichtquelle wurde die Reaktion gemäß
Beispiel 1 wiederholt, jedoch wurde Methyldichlorsilan durch Trichlorsilan ersetzt. Die Reaktionen wurden
unter verschiedenen Bedingungen durchgeführt, wie in der folgenden Tabelle III gekennzeichnet. Die erhaltenen
Ergebnisse befinden sich ebenfalls in Tabelle III. Die Beispiele 11 und 12 sind Vergleichsversuche, bei denen
die Zeit zwischen Mischen und Bestrahlen langer als 1 s ist.
Zum Vergleich wurden außerdem Kontrollversuche durchgeführt mit einem Reaktor und einer Lichtquelle
gemäß Kontrollversuch 1. Das Verfahren gemäß Kontrollversuch 1 wurde wiederholt, mit der Abänderung,
daß Methyldichlorsilan durch Trichlorsilan ersetzt wurde. Die Reaktionen wurden unter verschiedenen
Bedingungen, wie in Tabelle III angegeben, durchgeführt.
| Beispiele | 11 | 12 | 13 | Kontrollversuche | 8 | 9 |
| 10 | 813 | 813 | 813 | 7 | 813 | 813 |
| ile) 813 | 1092 | 1092 | 1092 | 813 | 1092 | 1092 |
| 1092 | 8 | 2 | 420 | 1092 | — | — |
| 420 | 6,8 | 27.3 | 0,11 | — | - | — |
| 0,11 | 71 | 71 | 142 | - | 71 | 142 |
| 71 | 5.4 | 5,4 | 2,7 | 25 | 5,4 | 2,7 |
| 5,4 | 1920 | 1930 | 1918 | 15,5 | 1923 | 1930 |
| :) 1915 | 4,5 | 4.2 | 4,5 | 1920 | 4,5 | 4.0 |
| 4,3 | 1,0 | 5,3 | 0,8 | 4,0 | 5.7 | 11,0 |
| 0,7 | 38,7 | 37,0 | 38,0 | 3,5 | 37,8 | 4Z5 |
| 37.8 | 47,8 | 37,7 | 50,6 | 35,7 | 38,0 | 29.5 |
| 52,3 | 8.0 | 15,8 | 6,1 | 4ZO | 15,0 | 13.0 |
| 4,9 | 80.9 | 63,8 | 85,5 | 14,8 | 64.4 | 49,6 |
| 86.8 | 70,1 | |||||
Aufgegebene Menge an Methyldichlorsilan (Teile)
Aufgegebene Menge an Benzol (Teile)
Umlaufgeschwindigkeit (I/h)
Aufgegebene Menge an Benzol (Teile)
Umlaufgeschwindigkeit (I/h)
Zeit zwischen Mischen mit Chlor und
Bestrahlen (Sek.)
Bestrahlen (Sek.)
Chlorzugabegeschwindigkeit
Reaktionszeit
Menge an erhaltener Reaktionsflüssigkeit (Teile)
Analyse der erhaltenen Flüssigkeit:
Trichlorsilan (%)
Silikontetrachlorid (%)
Benzol (%)
Phenyltrichlorsilan (%)
Reaktionsprodukte mit hohem Siedepunkt (%)
Ausbeute an Phenyltrichlorsflan, bezogen auf
zugegebenes Trichlorsilan (%)
zugegebenes Trichlorsilan (%)
eispic c 1 Dis
Das Verfahren gemäß Beispiel 1 wurde wiederholt. mit der Abänderung, daß Benzol durch andere
aromatische Verbindungen ersetzt wurde. Die Rcaktioncn mjt
chlorsilan wurden unter verschiedenen
Bedingungen durchgeführt, wie in der folgenden Tabelle
IV gekennzeichnet. Die erhaltenen F.rgcbnissc sind ebenfalls dieser Tabelle zu entnehmen.
Art der aromatischen Verbindungen (A) Interessierendes Reaktionsprodukt (B)
Aufgegebene Menge an Trichlorsilan (Teile) Aufgegebene Menge an Methyldichlorsilan (Teile)
Erhaltene Menge (A) (Teile) Umlaufgeschwindigkeit (l/h) Zeit zwischen Mischen mit Chlor und
Bestrahlen (Sek.) Chlorzugabegeschwindigkeit Reaktionszeit
Menge an erhaltener Reaktionsflüssigkeit (Teile) Analyse der erhaltenen Flüssigkeit:
Trichlorsilan (%) Methyldichlorsilan (%) Silikontetrachlorid (%) Methyltrichlorsilan (%)
Nicht umgesetztes (A) (%) Erhaltenes Reaktionsprodukt (B) (%) Reaktionsprodukte mit hohem Siedepunkt (%)
Ausbeute an (B), bezogen auf zugegebenes Chlorsilan (%)
| 22 38 013 | 15 | 10 | Ib |
| Beispiele 14 |
Toluol | Diphenyl älher |
|
| Chlor- bcn/ol |
ToIyI- trichlor- silan |
Phenoxy- phenyl- trichlor- silan |
|
| Chlor- phenyl- trichlor- silan |
|||
813
813
813
| 1575 | 1288 | 2380 |
| 420 | 420 | 420 |
| 0,11 | 0.11 | 0,11 |
| 71 | 71 | 71 |
| 5,4 | 5,4 | 5,4 |
| 2398 | 2107 | 3201 |
| 9.2 | 7,8 | 8,3 |
| 5,3 | 5,2 | 5,7 |
| 47,0 | 47,4 | 54,5 |
| 31.3 | 33,5 | 20.6 |
| 7,2 | 6.1 | 10,9 |
| 69.7 | 65,4 | 53,8 |
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
| 17 | 18 |
| Chlor | Toluol |
| benzol | |
| Chlor- | ToIyI- |
| phenyl- | methyl- |
| mcthyl- | dichlor- |
| dichlor- | silan |
| silan. | |
| 690 | 690 |
| 1575 | 1288 |
| 420 | 420 |
| 0,11 | 0,11 |
| 71 | 71 |
| 5,4 | 5,4 |
| 2283 | 1990 |
| 4.3 | 4,2 |
| 10.2 | 12,0 |
| 48,3 | 47,1 |
| 25,1 | 26,1 |
| 12,1 | 10,6 |
| 49,4 | 48,0 |
Claims (1)
1. Weitere Ausbildung des Verfahrens zur Herstellung von Arylchlorsilanen durch Umsetzung
von Hydridochlorsilanen mit aromatischen Kohlenwasserstoffen in Gegenwart von Chlor unter
Bestrahlung mit einem Licht, das mindestens zu 30% seiner Strahlung Wellenlängen aufweist die 3800 Ä
nicht überschreiten, nach DTPS I9 45 252, dadurch gekennzeichnet, daß die Mischung
der Reaktionsteilnehmer außerhalb der bestrahlten Reaktionszone erfolgt und die Mischung innerhalb
einer Sekunde in die bestrahlte Zone übergeführt wird.
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6413168 | 1968-09-06 | ||
| JP3380869 | 1969-05-01 | ||
| JP44059226A JPS4948948B1 (de) | 1969-07-26 | 1969-07-26 | |
| JP46058147A JPS5110237B1 (de) | 1971-08-02 | 1971-08-02 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2238013A1 DE2238013A1 (de) | 1973-02-15 |
| DE2238013B2 DE2238013B2 (de) | 1977-09-01 |
| DE2238013C3 true DE2238013C3 (de) | 1978-05-11 |
Family
ID=33033238
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19691945252 Withdrawn DE1945252A1 (de) | 1968-09-06 | 1969-09-06 | Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen |
| DE2238013A Expired DE2238013C3 (de) | 1968-09-06 | 1972-08-02 | Weitere Ausbildung des Verfahrens zur Herstellung von Arylchlorsilanen |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19691945252 Withdrawn DE1945252A1 (de) | 1968-09-06 | 1969-09-06 | Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (2) | DE1945252A1 (de) |
-
1969
- 1969-09-06 DE DE19691945252 patent/DE1945252A1/de not_active Withdrawn
-
1972
- 1972-08-02 DE DE2238013A patent/DE2238013C3/de not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2238013A1 (de) | 1973-02-15 |
| DE1945252A1 (de) | 1970-03-19 |
| DE2238013B2 (de) | 1977-09-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
| 8340 | Patent of addition ceased/non-payment of fee of main patent |