DE2155217A1 - Verfahren zur herstellung dielektrischer und/oder photoleitfaehiger schichten fuer den elektrostatischen druck bzw. elektrophotographie - Google Patents

Verfahren zur herstellung dielektrischer und/oder photoleitfaehiger schichten fuer den elektrostatischen druck bzw. elektrophotographie

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DE2155217A1
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B7/00Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
    • B05B7/16Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed
    • B05B7/22Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed electrically, magnetically or electromagnetically, e.g. by arc
    • B05B7/222Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed electrically, magnetically or electromagnetically, e.g. by arc using an arc
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
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    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/0202Dielectric layers for electrography
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Description

  • Verfahren zur Herstellung dielektrischer und/oder photoleitfähiger Schichten für den elektrostatischen Druck bzw. Elektrophotographie Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung dielektrischer und/oder photoleitfähiger Schichten für den elektrostatischen Druck bzw. Elektrophotographie.
  • Bei der Elektrophotographie und beim elektrostatischen Druck möchte man die angefertigten Drucke möglichst auf Normalpapier ausgeben. Man verwendet dazu oft einen festen meistens trommel-oder plattenförmigen Zwischenträger, dessen obere Schicht die gewünschten dielektrischen oder elektrophotographischen Eigenschaften aufweist.
  • Zur Herstellung solcher Schichten bieten sich oxidische, anorganische Metallverbindungen und Mischoxide an. In dieser Stoffgruppe findet man viele Photoleiter (z.B. ZnO, TiO2, ZnS, PbO, PbS, CdS) und viele dielektrische und ferroelektrische Materialien (z.B. alle keramischen Werkstoffe, A1203, BaTiO3, HDK-Keramiken, SiO2 usw.).
  • Die nötige Dicke dieser Schichten liegt je nach der Dielektrizitätskonstanten des verwendeten Stoffes zwischen ca. 10/um und einigen Millimetern (HDK-Keramik). Die gängigen Verfahren zur Herstellung dünner. Schichten, wie beispielsweise das Aufdampfen, das Sputtern oder die Pyrolyse, sind für den Aufbau von Schichten der oben angegebenen Dicken und den erforderlichen speziellen Eigenschaften wenig-geeignet.
  • Zur Herstellung von piezoelektrischen Schichten ist ferner Flammenspritzen bekannt, aber solche mit verhältnismäßig geringer Flammentemperatur hergestellten Schichten sind wegen ihres relativ niedrigen Isolationswiderstandes und der kleinen Zeitkonstanten für die Elektrophotographie und den elektrostatischen Druck ungeeignet. Auch die bekannte Herstellung von geschmolzenen Pulverschichten mittels Plasmabrenner ist wegen der unvermeidlichen Hohlraumbildung innerhalb dieser Schichten für den angestrebten Zweck unbrauchbar.
  • Aufgabe der Erfindung ist es, die dielektrischen oder elektrophotographischen Schichten mit wesentlich besseren mechanischen Ei den schaften als bisher bekannte herzustellen. Gelöst wird diese Aufgabe dadurch, daß die Schichten durch Plasmaspritzen aufgebracht werden, wobei in der Plasmaflamme und in ihrer Nähe eine oxidierende Atmosphäre erzeugt wird.
  • Durch die Verwendung von insbesondere Stoffen mit hoher Dielektrizitätskonstanten und der damit verbundenen größeren Schichtdicken werden die mechanischen Eigenschaften verbessert sowie deren Lebensdauer verlängert, so daß diese Schichten vor allem bei Zwischenträgern für den elektrostatischen Druck und die Elektrophotographie vorteilhaft verwendet werden können.
  • In der Fig, 1 der Zeichnung ist ein zur Durchführung des Verfahrens verwendbarer Plasmabrenner schematisch dargestellt.
  • Zwischen den wassergekühlten Elektroden 1 und 2 wird ein Lichtbogen gezündet. Das entstehende Plasma wird durch dås ständig nachströmende Plasmagas 3 durch das Loch in der Anode hinausgeblasen. In der sich vor dem Brenner ausbildenden Plasmaflamme werden Temperaturen bis 20 000°C erreicht. Bei 4 oder 5 wird das aufzuspritzende Material in die Flamme gegeben. Entweder man bläst ein Pulver mit Hilfe eines Trägergases in die Flamme, oder man schmilzt laufend das Ende eines nachgeführten Drahtes, Stabes oder Rohres ab. Bei 6 kann schließlich noch e.n Schutzgas eingeblasen werden, um z.B. beim Spritzen von Metallen eine Oxydation zu verhindern. Normalerweise werden als Plasmagas und als Trägergas Argon, Stickstoff, Wasserstoff oder Gemische aus diesen oder anderen inerten oder reduzierenden Gasen verwendet.
  • Die Herstellung von Schichten für den elektrostatischen Druck und die Elektrophotographie sei am Beispiel des BaTi03 näher erläutert. BaTiO) zahlt zu den HDK-Keramiken. Gesinterte Proben weisen bei Zimmertemperatur relative Dielektrizitätskonstanten e - 1000... 2000 auf, der spezifische Volumenwiderstand beträgt y = 1013...1012 cm. Damit erhält man für die theoretische Zeitkonstante von Schichten aus diesem Material T = e C e0 = 100 1000 s (cO = 8,85 10-14 As/(Vcm)), was bedeutet, daß diese Schichten für den elektrostatischen Druck gut brauchbar sein müssen. Mit Hilfe des Plasmaspritzens kann man BaTiO,-Schich-ten in Dicken zwischen 100/um und einigen mm gut herstellen. Solche Schichten sollten die für den elektrostatischen Druck geeigneten Kapazitäten besitzen. Die Schichten (10 in Fig. 2) werden normalerweise auf einem metallischen Träger 9 (Fig. 2) gespritzt. Auch Träger aus anderen Materialien können verwendet werden. Man muß dann zusätzlich für einen elektrischen Kontakt an der Schichtunterseite sorgen. Die Zeitkonstante solcher Schichten kann man auf recht einfache Art und Weise messen, indem man die (in Fig. 2 skizziert) Proben mit Hilfe einer Koronaentladung oberflächlich elektrisch auflädt und den zeitlichen Verlauf des Oberflächenpotentials nach Abschalten der Korona mit Hilfe einer Elektrometersonde verfolgt.
  • Unter den bisher bekannten Bedingungen plasmagespritSe BaXiO3-Schichten hätten jedoch Zeitkonstanten weit unterhalb einer Sekunde (typischer Wert: 0,01s). Sie sind nicht für den elektrostatischen Druck geeignet, weil ein auf die Schicht aufgebrachtes latentes elektrostatisches Ladungsbild praktisch sofort durch Selbs-tentladung wieder verschwindet und nicht mit hilfe eines geeigneten Entwicklers sichtbar gemacht werden kann. Die Ursache ist vermutlich eine Umwandlung oder Zersetzung des Bariumtitanates durch Anreduktion im Plasmagas. Die entstehenden Schichten sind grau bis blau-schwarz gefärbt und haben, obwohl sie an sich: noch als isolierend bezeichnet werden können, für den elektrostatischen Druck einen zu kleinen elektrischen Durchgangswiderstand.
  • Der wesentliche Gedanke dieser Erfindung besteht nun darin, entgegen der üblichen neutralen oder reduzierenden Atmosphäre in der Plasmaflamme oxidierende Bedingungen zu schafen. Das kann durch Zugabe von Sauerstoff oder anderen oxidierenden ,Gasen in das Plasmagas 3 oder in das Trägergas 4, 5 erreicht werden.
  • Eine andere Nöglichkeit besteht darin, den Sauerstoff oder die anderen oxi-dierenden Gase außerhalb des Brenners in die Flamme zu blasen. Das kann z.B. an der Stelle geschehen, wo sonst das Schutzgas zugegeben wird (6). Ebenso kann man der Flamme von außen andere Oxydationsmittel beigeben, oder 0xi'dationsmittel von vornherein dem zu verspritzenden Material beimengen.
  • Auf diese Art und Weise durch Plasmaspritzen in oxidierender Flamme hergestellte Bariumbitanat-Schichten erreicheIl Zeitkonstanten von 100 s und mehr. Sie sind für den elektrostatischen Druck hervorragend geeignet. Die gleichen BrgeUnisse wurden mit anderen keramischen, dielektrischen und pliotoleitenden Materialien erzielt. Das Verfahren laßt sich auf alle Materialien anwenden, bei denen man durch Erzeugung einer oxldierenden Atmosphäre eine Zersetzung verhindern oder eine vorteilhafte Aufoxidation erreichen kann.
  • Es sei noch darauf hingewiesen, daß plasmagespritzte ;cllich-ten häufig zur Schließung der auftretenden Poren nachträglich mit Hilfe von Flüssigkeiten, Kunstharzen oder- anderen Stoffen versiegelt werden. Außerdem kann man die fertigen Schichten mechanisch nachbearbeiten.
  • Patentansprüche:

Claims (4)

  1. Patentansprüche = 1.,Verfahren zur Herstellung dielektrischer und/oder photoleitfähiger Schichten fürGen elektrostatischen Druck bzw.
    Blektrophotograpllie, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten durch Plasmaspritzen aufgebracht werden, wobei in der Plasmaflamme und in ihrer Nähe eine oxidierende Atmosphäre erzeugt wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die ox Sierende Atmosphäre durch Zugabe von Sauerstoff oder anderer oxidierender Gase oder eines anderen Oxidationsmittels zum Plasmagas (3) oder zum Trägergas (4, 5) erzeugt wird.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die oy dierende Atmosphäre außerhalb des Plasmabrenners durch Einblasen von Sauerstoff oder anderer oxidierender Gase oder eines anderen Oxidationsmittels in die Plasmaflamme erzeugt wird oder der Flamme ein oxidierendes Schutzgas zugeführt wird.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die oxidierende Atmosphäre durch Beimischung eines Oxidationsmittels zum Spritzpulver oder zum Ausgangsmaterial erzeugt wird.
    L e e r s e i t e
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0180433A2 (de) * 1984-10-30 1986-05-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Ladungsübertragendes Medium und sein Herstellungsverfahren
EP0288711A2 (de) * 1987-04-28 1988-11-02 International Business Machines Corporation Schnelle grossflächige Beschichtung aus Supraleitern mit hoher Sprungtemperatur
EP0324121A1 (de) * 1987-12-26 1989-07-19 The Tokai University Juridical Foundation Verfahren zum metallisierenden Aufbringen von supraleitendem Material auf die Oberfläche eines Substrates unter Verwendung eines Plasmas
EP0326944A1 (de) * 1988-02-04 1989-08-09 The Perkin-Elmer Corporation Supraleitendes Pulver und Verfahren zur Herstellung von supraleitendem Pulver
EP0330196A1 (de) * 1988-02-24 1989-08-30 The Perkin-Elmer Corporation Plasmaspritzen unter subathmosphärischem Druck von superleitenden keramischen Werkstoffen
EP0413296A1 (de) * 1989-08-17 1991-02-20 Hoechst Aktiengesellschaft Verfahren zum thermischen Spritzen von oxidkeramischen supraleitenden Materialien
EP0423370A1 (de) * 1989-03-31 1991-04-24 Leningradsky Politekhnichesky Institut Imeni M.I.Kalinina Verfahren zur plasmabearbeitung und plasmatron
US5356674A (en) * 1989-05-04 1994-10-18 Deutsche Forschungsanstalt Fuer Luft-Raumfahrt E.V. Process for applying ceramic coatings using a plasma jet carrying a free form non-metallic element
EP0887432A2 (de) * 1997-06-19 1998-12-30 The BOC Group plc Verbessertes Plasmaspruhen
EP2465965A1 (de) * 2010-12-15 2012-06-20 LEONI Bordnetz-Systeme GmbH Vorrichtung sowie Verfahren zum Aufspritzen einer Struktur aus leitfähigem Material auf ein Substrat
WO2023225470A1 (en) * 2022-05-16 2023-11-23 Praxair S.T. Technology, Inc. Oxygen interception for air plasma spray processes

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0180433A3 (de) * 1984-10-30 1987-11-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Ladungsübertragendes Medium und sein Herstellungsverfahren
EP0180433A2 (de) * 1984-10-30 1986-05-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Ladungsübertragendes Medium und sein Herstellungsverfahren
EP0288711A3 (en) * 1987-04-28 1990-01-17 International Business Machines Corporation Rapid, large area coating of high-tc superconductors
EP0288711A2 (de) * 1987-04-28 1988-11-02 International Business Machines Corporation Schnelle grossflächige Beschichtung aus Supraleitern mit hoher Sprungtemperatur
EP0324121A1 (de) * 1987-12-26 1989-07-19 The Tokai University Juridical Foundation Verfahren zum metallisierenden Aufbringen von supraleitendem Material auf die Oberfläche eines Substrates unter Verwendung eines Plasmas
EP0326944A1 (de) * 1988-02-04 1989-08-09 The Perkin-Elmer Corporation Supraleitendes Pulver und Verfahren zur Herstellung von supraleitendem Pulver
EP0330196A1 (de) * 1988-02-24 1989-08-30 The Perkin-Elmer Corporation Plasmaspritzen unter subathmosphärischem Druck von superleitenden keramischen Werkstoffen
EP0423370A1 (de) * 1989-03-31 1991-04-24 Leningradsky Politekhnichesky Institut Imeni M.I.Kalinina Verfahren zur plasmabearbeitung und plasmatron
EP0423370A4 (en) * 1989-03-31 1991-11-21 Leningradsky Politekhnichesky Institut Imeni M.I.Kalinina Method of treatment with plasma and plasmatron
US5356674A (en) * 1989-05-04 1994-10-18 Deutsche Forschungsanstalt Fuer Luft-Raumfahrt E.V. Process for applying ceramic coatings using a plasma jet carrying a free form non-metallic element
EP0413296A1 (de) * 1989-08-17 1991-02-20 Hoechst Aktiengesellschaft Verfahren zum thermischen Spritzen von oxidkeramischen supraleitenden Materialien
EP0887432A2 (de) * 1997-06-19 1998-12-30 The BOC Group plc Verbessertes Plasmaspruhen
EP0887432A3 (de) * 1997-06-19 1999-01-20 The BOC Group plc Verbessertes Plasmaspruhen
EP2465965A1 (de) * 2010-12-15 2012-06-20 LEONI Bordnetz-Systeme GmbH Vorrichtung sowie Verfahren zum Aufspritzen einer Struktur aus leitfähigem Material auf ein Substrat
WO2023225470A1 (en) * 2022-05-16 2023-11-23 Praxair S.T. Technology, Inc. Oxygen interception for air plasma spray processes

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