DE2129167A1 - Verfahren zur Herstellung von SiIi ciumcarbid Whiskern - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von SiIi ciumcarbid WhiskernInfo
- Publication number
- DE2129167A1 DE2129167A1 DE19712129167 DE2129167A DE2129167A1 DE 2129167 A1 DE2129167 A1 DE 2129167A1 DE 19712129167 DE19712129167 DE 19712129167 DE 2129167 A DE2129167 A DE 2129167A DE 2129167 A1 DE2129167 A1 DE 2129167A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- iron
- reaction zone
- vapor
- silicon
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B11/00—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
- C30B11/04—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the melt
- C30B11/08—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the melt every component of the crystal composition being added during the crystallisation
- C30B11/12—Vaporous components, e.g. vapour-liquid-solid-growth
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
- C30B25/005—Growth of whiskers or needles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/36—Carbides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Description
(7) 11. β. 1971
JX %6
National Research Development Corp., London (Großbritannien)
Verfahren zur Herstellung von Siliciumcarbid-Whiskern
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung von Siliciumcarbid in Form von länglichen Einkristallfäden,
sogenannten Whiskern. Die Bezeichnung Whisker wird allgemein bei allen Einkristallfäden mit einer Stärke von weniger als
etwa 0,1 mm und einem Verhältnis von Länge zu Stärke von wenigstens 10 angewandt.
Siliciumcarbid-Whisker werden durch verschiedene Hochtemperatur-Gasphasenreaktionen
hergestellt, bei denen siliciumhaltige und kohlenstoffhaltige Dämpfe in einem Ofen erhitzt
werden, und zwar unter derartigen Bedingungen, daß Siliciumcarbid erzeugt wird, das sich in Form von Whiskern auf ein
geeignetes Substrat im Ofen ablagert. Silicium besitzt einen relativ niedrigen Dampfdruck und um eine zur Erzielung
einer brauchbaren Ausbeute an Whiskern aus einer Gasphasen-• reaktion ausreichende Siliciumkonzentration zu erhalten,
. ist es notwendig, einen siliciumhaltigen Dampf in Form einer Siliciumverbindung mit einem höheren Dampfdruck zu schaffen..
Typischerweise werden geeignete siliciumhaltige Dämpfe erzeugt
durch Verdampfen von Siliciummonoxid aus einer äquimolajoen
Mischung von Silicium und Siliciumdioxid (vgl.US-PS 3 39^ 991)
109851/1668
und durch Überführen von Silicium in die Dampfphase mit Chlor in Form von geeigneten Chloriden (nach einer Entwicklung
der Anmelderin). Eine direkte Pyrolyse von sowohl Silicium als auch Kohlenstoff enthaltenden Dämpfen, wie
z. B. Alkylsilane, hat in der Praxis niedrigere Ausbeuten an Whiskern ergeben.
Bei Verfahren zur Herstellung von Silieiumcarbid-Whiskern hat es sich als vorteilhaft erwiesen, an der Reaktionszone,
in der die silicium- und kohlenstoffhaltigen Dämpfe aufeinander einwirken, ein Substrat vorzusehen, das zur Abscheidung
von Whiskern dient. In der folgenden Beschreibung soll die
Bezeichnung Substrat eine Fläche bedeuten, die der die Whisker bildenden Reaktionszone benachbart liegt und auf der
sich die Siliciumcarbid-Whisker abscheiden sollen. Obwohl das Substrat aus von Teilchen gebildeten festen Stoffen
bestehen kann, wie z. B. Staub, Siliciumearbidteilehen, Whiskerbruchstücken und anderen Materialien, sind bevorzugte
Substrate feuerfeste Materialien, wie Aluminiumoxyd, Siliciumnitrid, Siliciumcarbid, Mullit und Kohlenstoff, allgemein
in Form von Platten oder Rohren, die einen brauchbaren Oberflächenbereich für die Abscheidung aufweisen. Obgleich
Whisker auf anderen Substraten abgelagert werden können, bieten die obengenannten bevorzugten Materialien offensichtlich
die größte Anzahl von Kristallisationskernbildungsstellen, auf denen sich Whisker bilden können, und ergeben daher gute
Ausbeuten an Whiskern. Die Whiskerausbeuten sind jedoch durch
die Verfügbarkeit der Substratoberfläche begrenzt und sobald diese Oberfläche im wesentlichen mit einer Whiskerschicht
bedeckt ist, hört eine weitere Kristallisationskernbildung und ein weiteres Wachstum von Whiskern, das von Bedeutung
wäre, auf. Um maximale Whiskerausbeuten zu erhalten, ist es
wünschenswert, eher einen möglichst großen Bereich der heißen
10 9851/1868
Zone des Ofens für die Whiskerabscheidung zu benutzen,
als aufweinen begrenzten Substratoberflächenbereich beschränkt
zu sein,:-. . ;
Um dieses.Ziel zu erreichen, ist es bereits bekannt .
(vgl. GB-PS 998 166), ein durchlässiges feuerfestes Substrat
in poröser oder faserartiger Form zu schaffen, das zumindest den größten Teil der heißen Zone des Ofens einnimmt, ..
so daß Whisker auf dem Substrat an, gut in der Reaktionszone verteilten Kristallisationskernbildungsstellen abgeschieden
werden« Diese bekannte Maßnahme hat sich aber in der Praxis nicht durchgesetzt, möglicherweise wegen der bei der Abtrennung
des Whiskerprodukts von den Zwischenräumen des Substrats auftretenden Schwierigkeiten. . .
Es ist daher Aufgabe der Erfindung, ein anderes Verfahren zu schaffen, durch welches die Kristallisationskernbildung
und Abscheidung von Whiskern über zumindest einen wesentlichen Teil.der heißen Zone des Ofens erreicht werden kann, ohne
Rücksicht auf die verfügbare Fläche an whiskerzüchtendem
Substrat.
Verfahren zur Herstellung von Siliciumcarbid-Whiskern,
bei denen siliciumhaltiger Dampf und kohlenstoffhaltiger Dampf bei. einer Temperatur von mindestens 1100 C in einer
Reaktionszone in Gegenwart eines Substrats unterhalten werden, ist erfindungsgemäß gekennzeichnet durch Schaffung einer
tibersättigten Konzentration an eisenhaltigem Dampf in der
Reaktionszone·. -
Die Anwesenheit des eisenhaltigen Dampfes bewirkt die
weitere Abscheidung von Whiskern, nachdem das Substrat bereits
im wesentlichen völlig mit Whiskern bedeckt jst.
109 851/1868
Bevorzugte Reaktionstemperaturen liegen vorzugsweise . zwischen etwa 1200 0C und 1400 0C und bewegen sich im allgemeinen
um 1550 C.
Der Ablauf im einzelnen des Verfahrens gemäß der Erfindung ist noch nicht völlig aufgeklärt, es scheint jedoch,
daß der übersättigte eisenhaltige Dampf sich mit Silicium und Kohlenstoff zusammen niederschlägt, um Tröpfchen einer
Eisen-Silicium-Kohlenstoff-Legierung zu bilden., und potentielle,
über das Volumen der Reaktionszone verteilte Whisker-Kristallisationskernbildungsstellen schafft, die
unter geeigneten Verfahrensbedingungen zusätzlich zur Oberfläche
des Substrats Whiskerzüchtungssteilen erzeugte^.
Der wichtige praktische Vorteil besteht darin, daß die Abscheidung und Züchtung von Whiskern selbst dann fortdauert.,
wenn die verfügbaren Substratkristallisationskernbildungsstellen gesättigt sind, weil der übersättigte eisenhaltige
Dampf umgesetzt wird und'neue Stellen eventuell auf der
Oberfläche der vorher niedergeschlagenen Whisker oder auf anderen Kristallisationskernbildungsmaterialien, wie im Ofen
vorhandenen Staub, schafft. Dadurch kann sich eine dicke : Kasse von Whiskern in der Reaktionszone bilden, im Gegensatz
zu der relativ dünnen Schicht von Whiskern, die normalerweise auf andere Art erzielt wird.
Die detaillierte Reaktion, bei der Kristallisationskernbildung
gemäß der Erfindung von Siliciumcarbid-Whiskern mittels Eisen ist nicht völlig aufgeklärt, kann jedoch in Form
einer von Wagner und Ellis (Trans.Met.Soc. A.I.M.E. ,23j3,
105Ji (1965); zum ersten Mal vorgeschlagenen Verlängerung
oder Ausdehnung des Dampf-Flüssig-Fest (v.l. s.)-Mechanismus
erklärt werden. Der Erfinder nimmt an, daß sich unter zweckmäßigen
Reaktionsbedingungen eine flüssige Eisen-Silicium-Kohlenstoff-Legierung
innerhalb der Reaktionszone abscheidet
109 8 51/1868- ■
BAD OfUGfNAL
und daß Siliciumcarbid, gebildet aus den Dampfphasen-Reaktionsteilnehmern,
innerhalb der flüssigen Legierung kristallisiert und im wesentlichen in einer Richtung von der Kristallisationskernbildungsstelle
weg weiterwächst, wobei die Spitze des wachsenden Whiskers etwas Eisen-Silicium-Kohlenstoff-Legierung
mit sich trägt, in der eine weitere Kristallisation von Siliciumcarbid stattfindet und so den Whisker weiter verlängert.
Diese Annahme wird gestützt durch die Analyse von vielen der hergestellten Whisker, die zeigt, daß die Whiskerspitze
eine Ansammlung an Siliclum-Eisen-Kohlenstoff-Legierung |
aufweist. Obwohl eine flüssige Eisen-Silicium-Kohlenstoff-Legierung
eindeutig für diesen Wachstums- oder Züchtungsmechanismus wesentlich ist, ist aus Phasendiagrammuntersuchungen
des Silicium-Kohlenstoff-Eisen-Systems ersichtlich, daß besondere Eisen-Silicium-Kohlenstoff-Legierungen das Whiskerwachstum
auch verhindern oder beendigen können, indem sie Kohlenstoff abweisen. Diese hemmenden Silicium-Eisen-Kohlenstoff-Legierungen
scheinen reich an Silicium zu sein, und es ist daher wichtig, übermäßige Konzentrationen von siliciumhaltigen Gasen über
kohlenstoffhaltigen Gasen in den Zonen zu vermeiden, wo das Whiskerwachstum stattfindet* Dies kann dadurch erreicht werden,
daß man die Menge des kohlenstoffhaltigen Dampfes im Verhältnis zum siliciumhaltigen Dampf in der Reaktionszone über einer ™
äquivalenten Menge hält.
Obwohl keine spezifische obere Grenze für die geeignete Konzentration an eisenhaltigem Dampf in der Reaktionszone
festgestellt wurde, erscheint es nicht wünschenswert, Konzentrationen von eisenhaltigem Dampf zu haben, die einen Eisenanteil
in der Reaktionszone von mehr als 5 Gew.-$ (und im
allgemeinen mehr als 2 Gewr$) ergeben, bezogen auf das Gesamtgewicht
des Siliciums und Kohlenstoffs in der Dampfphase in der Reaktionszone. Eisenhaltiger Dampf über diese Anteile
109351/1868
hinaus neigt dazu, flüssiges Eisen in unkontrollierter Weise
niederzuschlagen und potentielle Whiskerwachstumsstellen abzudecken oder zu "ersticken" und kann daher die Whiskerausbeuten
vermindern.
Für eine zweckmäßige Erhöhung der Ausbeute ist es jedoch
unwahrscheinlich, daß man die Konzentration von Eisen in der Dampfphase in der Reaktionszone unter einen Partialdruck
von 10~ at (gemessen bei 1350 °C) fallen läßt; sie beträgt
vorzugsweise ΙΟ"-3 at (entsprechend einem Anteil von
etwa 1 Gew.-^, bezogen auf das gesamte Silicium und Eisen
in der Dampfphase in der Reaktionszone bei 1350 °C). Eine
Analyse der hergestellten Siliciumcarbid-Whisker zeigt einen Eisengehalt von etwa 1 %, was beweist, daß dieser Anteil
in der ursprünglichen Mischung der Reaktionsteilnehmer wünschenswert ist.
Gemäß einem wichtigen Merkmal der Erfindung wird die Quelle
des eisenhaltigen Dampfes vom Substrat entfernt angebracht und vorzugsweise entfernt von der Hauptreaktionszone.
Außerdem kann der Strom des eisenhaltigen Dampfes zur Reaktionszone aus der Eisenquelle optimal gestaltet werden, indem man die
Quelle des eisenhaltigen Dampfes auf einer Temperatur hält, die etwas unterhalb der Temperatur der Reaktionszone liegt
und folglich auch den eisenhaltigen Dampf selbst bei dieser Temperatur zuführt. Auf diese Weise kann die Zufuhr von
eisenhaltigem Dampf so gesteuert werden, daß sie etwa dem Verbrauch von Eisen bei der Whiskerbildung entspricht,
während eine geeignete übersättigte Konzentration an Eisen in der Reaktionszone aufrechterhalten wird.
In der nachveröffentlichten GB-PS 1 213 156 ist zwar
beschrieben, das in der festen Phase befindlichejEisen auf der
109851/1868
— ι —
Oberfläche eines whiskerwachsenden Substrats zu verteilen. Ein solches Verfahren wird hier aber nicht beansprucht,
zumal es vermutlich den Nachteil aufweist, daß es ein auf eine Schicht auf dem Substrat beschränktes Whiskerwachstum
hervorbringt. Die genannte GB-PS zieht die Verwendung von Eisen in der Dampfphase zur Förderung des Whiskerwachsturns
nicht in Betracht und behandelt einzig die Verbesserung der Ausbeute an Whiskern auf einer Substratoberflächenschicht.
Obwohl vorstellbat ist, daß dabei etwas von dem Eisen in der festen Phase unter günstigen Umständen teilweise verdampft
wird, kann dieser Dampf thermodynamisch nicht übersättigt sein und könnte daher nicht an der gemeinsamen
Abscheidung bei der Kristallisationsbildung von Whiskern gemäß der Erfindung teilnehmen. Außerdem wäre natürlich der
gebildete Eisendampf eher auf die Substratzone beschränkt als über die Reaktionszone verteilt.
Die Erhöhung der erzielten Ausbeute durch die Verwendung eines eisenhaltigen Dampfes gemäß der Erfindung scheint auf
alle in der Literatur- beschriebenen Verfahren zur Bildung von Siliciumcarbid-Whisker anwendbar zu sein, wird jedoch
vorzugsweise bei Verfahren benutzt, bei denen Chlor zum Transport der Reaktionsteilnehmer Silicium, und Kohlenstoff
verwendet wird. Wie im einzelnen im älteren Vorschlag der Anmelderin (vgl. Patentanmeldung P 1709522,0-43 vom 8.5.1968,
Anwaltsakte 29:5-13·485P) beschrieben ist, werden Silicium
und Kohlenstoff in fester Phase in der Reaktionszone des Ofens in einer Atmosphäre aus Wasserstoff und einem geringen
Anteil (bis zu 10 Vol.-#) Chlor erhitzt, wodurch das
Chlor das Silicium und den Kohlenstoff als flüchtige Chloride in die Dampfphase für die whiskererzeugende Reaktion überführt..
Es ist besonders zweckmäßig gemäß einem weiteren Merkmal der Erfindung, einen eisenhaltigen Dampf bei diesem
1/106 8 '" :l ;
vorgeschlagenen Verfahren einzuführen, und zwar allgemein
in Form eines Eisenchloriddampfes. Ferner kann der eisenhaltige
Dampf dadurch hergestellt werden, daß man feinverteiltes, festes Eisen, eine eisenhaltige Verbindung
oder eine Lösung oder Dispersion einer Eisenverbindung in
die erhitzte Reaktionszone leitet, was die gewünschte Konzentration des eisenhaltigen Dampfes mit der Temperatur
der Reaktionszone ergibt.
Andere geeignete Eisenverbindungen sind wei.tere Eisenhalogenide und flüchtige Verbindungen, wie z. B. Eisenkarbonyl,
die in der Reaktionszone reduziert werden.
Der eisenhaltige Dampf kann in die Reaktionszone durch irgendein beliebiges Verfahren eingeführt werden, durch das
die Konzentration des erzeugten eisenhaltigen Dampfes gesteuert werden kann. Beispielsweise kann der eisenhaltige
Dampf durch ein entsprechendes Trägergas oder -gasgemisch mitgeführt werden, dessen bzw. deren Temperatur gesteuert
ist, und mit dem Gasstrom in die Reaktionszone geleitet werden. Dieses Vorgehen ist besonders günstig, wenn eines
oder mehrere der erhitzten Reaktionsteilnehmergase vorerhitzt und über eine Eisenquelle auf ihrem Weg zur Reaktionszone
gleitet werden. Ferner können Trägergase, wie Chlor oder Chlorwasserstoff, über eine erhitzte, aus Teilchen gebildete
Eisenquelle geleitet werden.
Die Anwesenheit von metallischem Eisen in einer Wasserstoff-Chlor-Atmosphäre
führt zur Bildung von FeCIp-Dampf, der bei Diffusion in den Bereich des Whiskerwachsturns der
oben beschriebenen gemeinsamen Abscheidung unterworfen ist. Bei Anwendung dieser Maßnahme hat man festgestellt, daß es
günstig ist, wenn die Temperatur des metallischen Eisens unter
1 0 3 ? 5 1 / 1 8 6 8
der in der Reaktionszone gehalten wird. Die eigentliche Konzentration des gasförmigen FeCl^-Dampfes, die einem
übersättigten System in bezug auf Eisen entspricht, wird von der Konzentration der anderen 'Gase im System, insbesondere
Chlorwasserstoff abhängen. Unter der Voraussetzung, daß die Konzentration des Hauptteils des Gases in der Reaktionszone 4 Mol-fo in Wasserstoff bei 1400 0C beträgt, muß
der Dampfdruck des FeClo-Gases mindestens lO"*^ at und
normalerweise zwischen 10 ^ und 10 at liegen. Einige j
vorläufige Versuche sind normalerweise erforderlich, um due beste Whiskerausbeute zu erhalten, und können durch das
folgende typische Ausftihrungsbeispiel erläutert v/erden.
Festes,fein verteiltes Silicium (1 g) und fester, fein
verteilter Kohlenstoff (1 g) wurden in eine Reaktionszone eingebracht,
die sich etwa 2 cm entlang einem Rohrofen erstreckte, der mit keramischem Material ausgekleidet und auf etwa
1200 0C in einer 1 Vol.-^ Chlor enthaltenden Wasserstoffatmosphäre
erhitzt worden war. In einer Reihe von Versuchen wurde feinverteiltes Eisen (1 g) in den Ofen mit unterschiedlichen
Abständen zu der Reaktionszone eingebracht und demgemäß Temperaturen ausgesetzt, die stufenweise niedriger als die A
der Reaktionszone waren, wobei sich natürlich "der Temperaturunterschied
bei zunehmendem Abstand zwischen der Reaktionszone und dem Eisen erhöhte.
Unter diesen Bedingungen reagierte der Chlorbestandteil der Atmosphäre mit dem festen Eisen und bildete Eisenchloriddampf,
welcher gegen den Temperaturgradienten wanderte und in die Reaktionszone eintrat. Die Ergebnisse waren wie folgt:
BAOOWGINAL
109851/1868
Abstand der Eisenquelle von der
Reaktionszone £cmj
Reaktionszone £cmj
Temperatürdifferenz
zwischen der Eisenquelle und der-Reaktionszone
L C
Ausbeute an Siliciumcarbid-Whiskern (rng^j
4
6
8
11,5
6
8
11,5
20 52
108
148 260 380 340
Die Ergebhisse zeigen, ,daß für das spezielle, oben beschriebene
Verfahren die größten Ausbeuten an Whiskern erzielt werden, indem die Quelle des eisenhaltigen Dampfes etwa
8 cm von der Reaktionszone entfernt mit einer Temperatur von etwa 60 0C unter der in der Reaktionszone gehalten wird.
Unter diesen Bedingungen wurde eine Whisker-KristalIisationskernbildung
im wesentlichen über das ganze Volumen der Reaktionszone erzielt, wobei sich weitere Whisker auf vorher abgeschiedenen
Whiskern niederschlugen und die Whiskerabscheidung nicht auf ein bloßes Überziehen des die Reaktionszone
umgebenden Substrats (der Ofenwände) beschränkt war. Ein Vergleichsversuch, bei dem eine gleiche Menge von fein verteiltem,
festen Eisen auf das die Reaktionszone umgebenden Substrats aufgebracht wurde (entsprechend der GB-PS 1 213 I56),
ergab nur eine sehr niedrige Whiskerausbeute von 114 mg.
Ferner wurde festgestellt, daß die Whiskerabscheidung im wesentlichen völlig auf eine Whiskerbeschichtung auf der
Substratoberfläche beschränkt war.
Als allgemeine Regel gilt, daß die wünschenswerte Temperaturdifferenz
zwischen der Reaktionszone und der Eisenquelle 30 - 150 0C, allgemeiner 50 - 100 0C, beträgt.
10 9 8 5 1/18 6 8
- li -
Verschiedene Formen von öfen sind geeignet, Siliciumcarbid-Whisker
mittels dem Verfahren gemäß der Erfindung herzustellen; zweckmäßig ist jedoch die Vorrichtung gemäß
der GB-PS 1 121 294 oder gemäß dem älteren Vorschlag der
Anmelderin (vgl. P 1769322.0-43).» die zur Schaffung der
Quelle von kristallisationskernbildendem Eisendampf entsprechend abgeändert wird« Eine soMie Abänderung kann
ohne weiteres erreicht werden, durch Zufuhr von auf die richtige Temperatur vorerhitztem, eisenhaltigem Dampf durch
ein Einlaßrohr in die Vorrichtung und dadurch direkt in die erhitzte Reaktionszone. Wahlweise kann das Eisen als
Eisenverbindung in einer Lösung oder einer Dispersion, die auf
dem Weg zur Reaktionszone verflüchtigt wird, oder als ein aus Teilchen gebildeter Feststoff (wahlweise durch einen Vorerhitzer
geführt) zugeführt werden, um Dampf mit der geeigneten Temperatur zu erhalten.
Obwohl es nicht das bevorzugte Vorgehen ist, findet man
möglicherweise Bereiche innerhalb eines speziellen Ofens, die erheblich kühler und ausreichend von der heißen Hauptreaktionszone
entfernt sind, um eine Eisenquelle dort anzubringen, die verdampft, um einen geeigneten eisenhaltigen
Dampf für die Reaktion zur Bildung von Whiskern in der heißen Zone zu schaffen.
Ein begrenzter Erfolg wurde durch Aufbringen eines
Überzugs aus Eisen auf die isolierenden Schamottesteine des in dem älteren Vorschlag der Anmelderin beschriebenen Ofens
erzielt. In diesem Ofen liegt der Temperaturunterschied zwischen den heißesten Teilen der Reaktionszone nahe der
Kohlenstoff-Heizelektrode und der Schamottestein-Auskleidung
in der Größenordnung von 100 0C, und der Abstand zwischen de:
Schamottesteinoberfläche und dem für das Whiskerwachstum
10 9 8 5 1/18 6 8
vorgesehenen Substrat (normalerweise eine Kohlenstoffplatte) beträgt ungefähr 10 cm.
Der wesentliche Vorteil des Verfahrens gemäß der Erfindung
besteht darin,, daß das Whiskerwachstum innerhalb einer
Reaktionszone:fortgeführt werden kann, selbst wenn das
kristallisationskernbildende Substrat im wesentlichen vollständig mit Whiskern überzogen ist« Zu einem großen Teil
ist daher die Ausbeute unabhängig von der verfügbaren. Substratfläche. Da jedoch ein erfolgreiches Kristallisationskernbilden
und Wachsturnszüchten von Whiskern innerhalb der
Reaktionszone beispielsweise auf Staub und Teilchen aus Siliciumcarbid entfernt von jedem Substrat erreicht wird,
ist es offensichtlich, daß das Verfahren gemäß der Erfindung für die Züchtung von Siliciumcarbid unter Zuhilfenahme von in
der Dampfphase befindlichem Eisen auch durchgeführt werden kann, wenn ein spezielles whisker-kristallisationskernbildendes
Substrat aus allgemein üblichen feuerfesten Materialien vollständig fehlt.
109 851/1868
Claims (11)
1. Verfahren zur Herstellung von Siliciumcarbid-Whiskern,
bei dem ein sillciumhaltiger Dampf und ein kohlenstoffhaltiger Dampf bei einer Temperatur von mindestens UOO 0C
in Gegenwart eines Substrats in einer Reaktionszone unterhalten werden, um Siliciumcarbid-Whisker auf dem Substrat
.abzuscheiden, dadurch gek e η h ζ e i c h η e t,
daß eine übersättigte Konzentration an eisenhaltigem Dampf in der Reaktionszone geschaffen wird.
2. Verfahren nach Anspruch !,dadurch gekennzeichnet, daß die
übersättigte Konzentration an eisenhaltigem Dampf unterhalten
wird, indem eisenhaltiger Dampf aus einer vom Substrat
entfernt gelegenen Quelle der Reaktionszone zugeführt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der
eisenhaltige Dampf mit einer Geschwindigkeit in die Reaktionszone eingeleitet wird, die im wesentlichen der Geschwindigkeit
entspricht,mit der das Eisen bei der whiskererzeugenden
Reaktion verbraucht wird.
4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die Zufuhr von eisenhaltigem Dampf dadurch bewirkt wird, daß ein Strom eines Reaktionsteilnehmers des Verfahrens zur Herstellung
von Whiskern über eine erhitzte, aus Teilchen gebildete Eisenquelle geleitet wird,- und zwar vor der Einleitung
des Reaktionsteilnehmerstroms in die Reaktionszone.
5. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,daß
die Zufuhr von eisenhaltigem Dampf dadurch bewirkt wird, daß
- ein Strom von Chlor oder Chlorwasserstoff über eine erhitzte,aus
Teilchen gebildete Eisenquelle geleitet wird.
109851/1868
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,
daß der Partiondruck von Eisen mindestens ΙΟ"-5 at (gemessen
bei 1350 0C). beträgt.
1^· Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Temperatur zwischen 1200 und 1400 °C gehalten wird.■
14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet,daß
die Temperatur etwa I55O 0C beträgt.
15. Verfahren nach Anspruch 1,dadurch gekennzeichnet, daß
der Anteil an siliciumhaltigem Dampf in der Reaktionszone gleich oder niedriger als ein äquimolarer Anteil gegenüber
dem Anteil an kohlenstoffhaltigem Dampf in der Reaktionszone ist,
ΐβ. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,daß
der siliciumhaltige Dampf und der kohlenstoffhaltige Dampf in der Reaktionszone durch Erhitzen von Silicium in fester
Phase in der Reaktionszone in Gegenwart von Wasserstoff und einem geringen Anteil von Chlor erzeugt werden.
17. Siliciumcarbid-Whisker, hergestellt nach einem Verfahren
gemäß den vorhergehenden Ansprüchen.
109851/1868
BAD ORIGINAL
-U-
6. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5* dadurch gekennzeichnet,
daß die eisenhaltige Quelle auf eine Temperatur von etwa 30 - 150 0C unterhalb der Temperatur der Reaktionszone
erhitzt wird, wodurch eisenhaltiger Dampf in die Reaktionszone gegen den Temperaturgradienten eingeleitet wird, um die
gewünschte übersättigte Konzentration aufrechtzuerhalten.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die
Temperatur der Eisenquelle 50 - '.
ratur der Reaktionszone beträgt.
ratur der Reaktionszone beträgt.
Temperatur der Eisenquelle 50 - 100 0C unterhalb der Tempe-
8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der eisenhaltige Dampf durch Einleiten von feinverteiltem, festen
Eisen, einer eisenhaltigen Verbindung oder einer Lösung oder Dispersion einer Eisenverbindung erzeugt wird, die die erforderliche
Konzentration an eisenhaltigem Dampf bei der Temperatur der Reaktionszone ergibt.
■ - 1 "
9. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Konzentration an eisenhaltigem Dampf äquivalent ist einer Konzentration an Eisen bis zu 5 Gew.-%9 bezogen auf das Gesamtgewicht
des in der Dampfphase befindlichen Siliciums und Kohlenstoffs in der Reaktionszone.
10. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Konzentration an Eisen bis zu etwa 2 Gew.-% beträgt, bezogen
auf das Gesamtgewicht des in der Dampfphase befindlichen Siliciums und Kohlenstoffs in der Reaktionszone.
11. Verfahren nach Anspruch !,dadurch gekennzeichnet, daß die
Konzentration an eisenhaltigem Dampf äquivalent ist einem Partialdruck des Eisens von mindestens 10~° at (gemessen bei
1350 °c).
109851/1868
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB2849270A GB1359145A (en) | 1970-06-12 | 1970-06-12 | Manufacture of silicon carbide |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2129167A1 true DE2129167A1 (de) | 1971-12-16 |
Family
ID=10276495
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19712129167 Pending DE2129167A1 (de) | 1970-06-12 | 1971-06-11 | Verfahren zur Herstellung von SiIi ciumcarbid Whiskern |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3773899A (de) |
CH (1) | CH561080A5 (de) |
DE (1) | DE2129167A1 (de) |
FR (1) | FR2096307A5 (de) |
GB (1) | GB1359145A (de) |
NL (1) | NL7108077A (de) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1517063A (en) * | 1976-03-02 | 1978-07-12 | Carless Capel & Leonard Ltd | Process for removing polonium from hydrocarbons |
JPS6170013A (ja) * | 1984-09-13 | 1986-04-10 | Nikkiso Co Ltd | 微細繊維の製造方法 |
US4789536A (en) * | 1987-01-20 | 1988-12-06 | J. M. Huber Corporation | Process for producing silicon carbide whiskers |
DE4217677A1 (de) * | 1992-05-27 | 1993-12-02 | Schmidt Peter Dr Rer Nat | Verfahren zum Herstellen von dünnen, bandförmigen Kristallen mit ebener Oberfläche und nach diesem Verfahren gewonnenes Kristallmaterial |
US7083771B2 (en) * | 2002-07-10 | 2006-08-01 | Advanced Composite Materials Corporation | Process for producing silicon carbide fibers essentially devoid of whiskers |
US20040009112A1 (en) * | 2002-07-10 | 2004-01-15 | Advanced Composite Materials Corporation | Silicon carbide fibers essentially devoid of whiskers and method for preparation thereof |
US20070235450A1 (en) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Advanced Composite Materials Corporation | Composite materials and devices comprising single crystal silicon carbide heated by electromagnetic radiation |
-
1970
- 1970-06-12 GB GB2849270A patent/GB1359145A/en not_active Expired
-
1971
- 1971-06-11 DE DE19712129167 patent/DE2129167A1/de active Pending
- 1971-06-11 NL NL7108077A patent/NL7108077A/xx unknown
- 1971-06-14 FR FR7121536A patent/FR2096307A5/fr not_active Expired
- 1971-06-14 US US00153017A patent/US3773899A/en not_active Expired - Lifetime
- 1971-06-14 CH CH864271A patent/CH561080A5/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CH561080A5 (de) | 1975-04-30 |
NL7108077A (de) | 1971-12-14 |
FR2096307A5 (de) | 1972-02-11 |
US3773899A (en) | 1973-11-20 |
GB1359145A (en) | 1974-07-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1667657C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Siliciumkarbidwhiskers | |
DE69803067T2 (de) | VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON GaN KRISTALLEN MIT HOHEM WIDERSTAND | |
DE69628425T2 (de) | Carbid-nanofibrillen und verfahren zum herstellen derselben | |
DE3446956A1 (de) | Verfahren zum herstellen eines einkristall-substrates aus siliciumcarbid | |
DE2129167A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von SiIi ciumcarbid Whiskern | |
DE3000463A1 (de) | Hochreines siliziumnitrid-pulver und verfahren zu seiner herstellung | |
DE3687529T2 (de) | Herstellung von graphiteinlagerungsverbindung und gedopte carbonfilme. | |
DE1245340B (de) | Verfahren zur Herstellung von Einkristallnadeln aus Siliciumnitrid | |
DE1193927B (de) | Verfahren zur Herstellung von Fasertonerde | |
DE60036197T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von einkristallen aus siliciumcarbid | |
DE2316602B2 (de) | Verfahren zum Herstellen polykristallinen Siliciums | |
DE1471532A1 (de) | Verfahren zum Bestaendigmachen eines Kohlenstofftiegels gegenueber geschmolzenem Silizium | |
DE69021907T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von kristallinem, sinterfähigem Aluminiumnitridpulver. | |
DE1198787B (de) | Verfahren zur Gewinnung von reinstem Silicium, Siliciumkarbid oder Germanium aus ihren gasfoermigen Verbindungen | |
DE1592095A1 (de) | Verfahren zur Dehydratisierung von wasserhaltigem Magnesiumchlorid | |
DE68908534T2 (de) | Siliziumcarbidplättchen und Verfahren zu deren Herstellung. | |
EP0242678A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Phosphorpentoxid mit verminderter Reaktivität | |
EP0403887B1 (de) | Verfahren zum Herstellen von einkristallinem Siliziumkarbid | |
DE1917136A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Kristallen,insbesondere Haarkristalle und Gegenstaende,die solche Haarkristalle enthalten | |
DE1129145B (de) | Verfahren zur Herstellung von hochreinem Silicium | |
JPH0621377B2 (ja) | 気相法炭素繊維の製造法 | |
DE1233833B (de) | Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls, insbesondere Halbleitereinkristalls | |
DE1261842B (de) | Verfahren zum Herstellen von hochreinem Silicium | |
DE1181919B (de) | Verfahren zur Herstellung von hochreinem Arsen | |
DE1182214B (de) | Verfahren zur kontinuierlichen Reinigung von Bornitrid |