DE2125085C3 - Vorrichtung zum Herstellen von einseitig geschlossenen Rohren aus Halbleitermaterial - Google Patents
Vorrichtung zum Herstellen von einseitig geschlossenen Rohren aus HalbleitermaterialInfo
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
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Description
Die vorliegende Anmeldung betrifft eine Vorrichtung zum Herstellen von einseitig geschlossenen Rohren aus
Halbleitermaterial durch Abscheiden aus einer gasförmigen Verbindung des Halbleitermaterials auf einen
durch direkten Stromfluß erhitzten hohlen, an einem Ende geschlossenen rohrförmigen Trägerkörper, bei
dem im Inneren des Trägerkörpers ein Stab aus leitendem Material in eine, im geschlossenen Ende des
Trägerkörpers vorgesehene Ausnehmung eingepaßt und mit dem Trägerkörper elektrisch leitend verbunden
ist.
Eine solche Vorrichtung ist bereits in der DE-OS 05 970 beschrieben worden. Bei dieser Vorrichtung
besteht der im Inneren des Trägerkörpers angeordnete Stab aus Eisen. Beim Betrieb dieser Vorrichtung stellte
es sich heraus, daß die Temperatur des Trägerkörpers am geschlossenen Ende viel geringer als am übrigen
Trägerkörper war. Bei der Abscheidung des Halbleitermaterials aus der gasförmigen Verbindung verlief daher
an dieser Stelle die Reaktion langsamer, so daß eine gleichmäßige Wandstärke der Rohre nicht gewährleistet
war.
Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe besteht darin, eine Vorrichtung der eingangs erwähnten
Gattung so weiterzubilden, daß eine gleichmäßige Abscheidung des Halbleitermaterials über die gesamte
Länge des Trägerkörpers erzielt wird.
Dies wird dadurch erreicht, daß der Stab aus Graphit,
60
b5 Glaskohle, Spektralkohle oder Pyrographit besteht
Ein Stab aus diesem Material hat einen relativ hohen spezifischen Widerstand und wird, da er vom gleichen
Strom wie der Trägerkörper durchflossen wird, ebenfalls aufgeheizt. Die vom Stab abgegebene Wärme
bewirkt dadurch eine Anhebung der Temperatur am geschlossenen Ende des Trägerkörpers, so daß eine im
wesentlichen gleichförmige Abscheidung über die ganze Länge des Trägerkörpers erzielt wird.
Ein solcher Stab aus Graphit oder einem der genannten anderen Stoffe hat darüber hinaus noch den
Vorteil, daß es im Gegensatz zu Metallen wie Eisen oder Kupfer bei hohen Temperaturen von , gasförmigen
Verbindungen des Halbleitermaterials nicht angegriffen wird.
Eine vorteilhafte Weiterbildung des Anmeldungsgegenstandes besteht darm, daß die Ausnehmung eine das
geschlossene Ende des Trägerkörpers durchdringende Bohrung ist, wobei die Bohrung durch das in die
Bohrung eingeschraubte oder eingepreßte Ende des Stabes verschlossen ist und auf die Stirnseite des Stabes
das Mittelteil einer im Querschnitt pilzförmigen Kappe aufgepreßt oder aufgeschraubt ist. Die pilzförmige
Kappe kann zweckmäßigerweise ein Dach aufweisen, dessen Durchmesser so groß wie der Außendurchmesser
des Trägerkörpers ist. Ist die Ausnehmung eine das geschlossene Ende des Trägerkörpers durchdringende
Bohrung, kann die Bohrung auch durch einen eingeschraub'en
oder eingepreßten Deckel verschlossen sein, wobei der Stab an seiner Stirnseite mit dem Deckel
verschraubt oder in den Deckel eingepreßt ist.
Die Erfindung wird an Hand zweier Ausführungsbeispiele in Verbindung mit den Fig. 1 bis 3 näher
erläutert. Es zeigt
Fig. 1 eine Vorrichtung zum Herstellen einseitig geschlossener Rohre aus Halbleitermaterial,
Fig. 2 einen Querschnitt durch das Oberteil eines Trägerkörpers gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel
und
F i g. 3 einen Querschnitt durch das Oberteil eines Trägerkörpers gemäß einem zweiten Ausführungsbeispiel
der Erfindung.
Die Vorrichtung nach Fig. 1 weist ein Reaktionsgefäß
1 auf, das mit einem Bodenteil 2 gasdicht verbunden ist. Im Bodenteil 2 sind Rohre 4 angeordnet, durch die
eine gasförmige Verbindung des abzuscheidenden Halbleitermaterials und ein Reaktionsgas eingeleitet
wird. Die Rohre 4 sind von weiteren Rohren 5 umgeben,
durch die das Restgas ausströmt. Im Boden 2 sind Durchführungen 6 vorgesehen, durch die Stromzuführungen
7 in das Innere des Reaktionsgefäßes 1 geführt sind. Die Durchführungen 6 können z. B. aus Teflon und
die Stromzuführungen 7 z. B. aus Silber bestehen. Auf der Oberseite der Stromzuführungen 7 sitzen zwei
Halter 8 und 9, die z. B. aus Graphit bestehen können. Auf dem Halter 8 ist ein rohrförmiger Trägerkörper U,
z. B. aus Graphit, angeordnet, während der Halter 9 einen Stab 10 aus Graphit trägt. Der Trägerkörper U
und der Stab 10 sind an der Oberseite mit einem Gewinde 12 versehen, das den Stab 10 mit dem
Trägerkörper 11 mechanisch und elektrisch verbindet. Der Stab kann auch aus Glaskohle, Pyrographit oder
Spektralkohle bestehen.
Wird an die Elektroden 7 eine Spannung angelegt, so werden der Trägerkörper 11 und der Stab 10 aufgeheizt.
Der Stab 10 gibt dabei durch Strahlen nach allen Seiten und durch Leitung nach oben Wärme ab, so daß
insbesondere die Oberseite des Trägerkörpers auf eine
Temperatur erhitzt wird, die nicht wesentlich unter der Temperatur des übrigen Trägerkorpers liegt. Die
Wirkung des Stabes 10 kann dadurch weiter verbessert werden, daß der Stab 10 und der Trägerkörper 11
mittels eines Gewindes 12 an ihren Stirnseiten verschraubt sind. Hierdurch erhöht sich der Übergangswiderstand
zwischen dem Stab 10 und uern Trägerkörper 11, so daß an der Stirnseite beider Teile
entsprechend dem Ohmschen Gesetz eine dem höheren Widerstand proportionale Leistung in Wärme umgesetzt
wird, je nachdem, wie weit der Stab 10 in die Stirnseite des Trägerkörpers i 1 hineingeschraubt wird,
läßt sich der Übergangswiderstand und damit das Temperaturprofil über die Länge des Trägerkörpers
optimal einstellen. Die Einstellung erfolgt vor dem !5
Aufheizen der Anordnung und vor dem Abscheiden von Halbleitermaterial. Die Stirnseite des Trägerkorpers
wiH zweckmäßigerweise mit einem Deckel 13 abgeschlossen, so daß der Trägerkörper nach ^ußen eine
vorkommen glatte Fläche bietet. Zu diesem Zweck ist in
ein Mittelteil des Deckels 13 und in die Stirnseite des Stabes 10 ein Gewinde 14 eingeschnitten, durch das sich
der Deckel 13 mit dem Stab 10 und damit mit dem Trägerkörper 11 verschrauben läßt.
Das Abscheiden des Rohres 15 aus Halbleitermaterial >3
erfolgt in bekannter Weise wie beim Herstellen von Stäben aus Halbleitermaterial, so daß sich hier weitere
Ausführungen, betreffend das eigentliche Verfahren, erübrigen. Als gasförmige Verbindung kommt in erster
Linie Silicochloroform SiHCU und als Reaktionsgas so Wasserstoff H2 in Frage. Abgeschieden wird bei
Temperaturen von etwa 1100 bis 12000C, vorzugsweise
11500C.
In F i g. 2 ist ein Querschnitt durch die Oberseite von Stab 10, Trägerkörper 11 und Deckel 13 dargestellt. Die
Gewinde 12 und 14 sind nur schematisch gezeigt. Der Übergangswiderstand läßt sich durch mehr oder
weniger tiefes Einschrauben des Stabes einstellen.
In Fig. 3 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung zu sehen, bei dem der Stab 10 und der
Trägerkörper 11 mittels eines Deckels 16 verbunden sind. Der Deckel 16 weist eine Paßfläche 17 auf, die so
bemessen ist, daß der Deckel in den Trägerkörper 11 eingepreßt werden kann. Auf der Innenseite weist der
Deckel 16 eine Paßfläche 18 auf, die so bemessen ist, daß der Stab 10 in den Deckel 16 eingepreßt bzw. der Deckel
16 auf den Stab 10 aufgepreßt werden kann. Auch in diesem Ausführungsbeispiel liegt zwischen dem Stab 10
und dem Trägerkörper 11 eine durch die Paßflächen 17
und 18 gebildete Zone höheren Übergangswiderstandes. Dadurch wird auch hier die Temperatur an der
Stirnseite der Anordnung zusätzlich so weit angehoben, daß sich eine gleichmäßige Abscheidung über die
gesamte Fläche des Trägerkorpers erzielen läßt. Der Übergangswiderstand läßt sich durch Ändern des
Einpreßweges einstellen.
Es ist nicht zwingend, daß das in F i g. 2 gezeigte Ausführungsbeispiel eine Verschraubung und das in
Fig. 3 gezeigte Ausführungsbeispiel eine Einpressung aufweist. Umgekehrt kann auch das Ausführungsbeispiel
nach F i g. 2 mit Paßflächen und das Ausführungsbeispiel nach Fig.3 mit Gewinden versehen sein.
Ebenso kann bei jedem der Ausführungsbeispiele eine Verschraubung und eine Einpressung vorgesehen sein.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (4)
1. Vorrichtung zum Herstellen von einseitig geschlossenen Rohren aus Halbleitermaterial durch
Abscheiden aus einer gasförmigen Verbindung des Halbleitermaterials auf einen durch direkten Stromfluß
erhitzten, hohlen, an einem Ende geschlossenen rohrförmigen Trägerkörper, bei dem im Inneren des
Trägerkörpers ein Stab aus leitendem Material in eine im geschlossenen Ende des Trägerkörpers
vorgesehene Ausnehmung eingepaßt und mit dem Trägerkörper elektrisch leitend verbunden ist,
dadurch gekennzeichnet, daß der Stab (10)
aus Graphit, Glaskohle, Spektralkohle oder Pyrographit besteht.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Ausnehmung eine das geschlossene
Ende des Trägerkörpers (11) durchdringende Bohrung ist, daß die Bohrung durch das in die Bohrung
eingeschraubte oder eingepreßte Ende des Stabes (10) verschlossen ist und daß auf die Stirnseite des
Stabes (10) das Mittelteil einer im Querschnitt pilzförmigen Kappe (13) aufgepreßt oder aufgeschraubt
ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekenn- 2r>
zeichnet, daß die pilzförmige Kappe (13) ein Dach aufweist, dessen Durchmesser so groß wie der
Außendurchmesser des Trägerkörpers (11) ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Ausnehmung eine das geschlossene
Ende des Trägerkörpers (11) durchdringende Bohrung ist, daß die Bohrung durch einen eingeschraubten
oder eingepreßten Deckel (16) verschlossen ist und daß der Stab (10) an seiner Stirnseite mit dem
Deckel (16) verschraubt oder in den Deckel (16) π eingepreßt ist.
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