DE19929215A1 - Verfahren zur Herstellung eines BGA-Halbleiterbauelements, ein TAB-Band für ein BGA-Halbleiterbauelement und ein BGA-Halbleiterbauelement - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines BGA-Halbleiterbauelements, ein TAB-Band für ein BGA-Halbleiterbauelement und ein BGA-HalbleiterbauelementInfo
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Abstract
In einem TAB-Band werden ]-förmige Schlitze und Verbindungsabschnitte vorgesehen, so daß sie einen Halbleiterchip-Montagebereich in dem TAB-Band umgeben. Ein Halbleiterchip wird auf den Halbleiterchip-Montagebereich aufgebracht. Der Halbleiterchip wird an seinem Elektrodenanschluß durch Bonden mit dem TAB-Band an seiner inneren Leitung befestigt. Die Bondverbindung wird einer plastischen Formung unterzogen. Lötbällchen werden auf der Rückseite des TAB-Bandes in demjenigen Bereich vorgesehen, der dem Halbleiterchip-Montagebereich entspricht. Danach wird der Gehäuseabschnitt an der Schneidstelle in dem Verbindungsabschnitt der Schlitze abgeschnitten. Aufgrund des vorangehend beschriebenen Aufbaus können sehr zuverlässige BGA-Halbleitervorrichtungen erzeugt werden, während die Dicke und die Größe verringert werden.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines BGA-(Ball Grid Array)-Halb
leiterbauelements mit einer Struktur, die einen Halbleiterchip und Lötbällchen (solder
balls) aufweist, die auf einem TAB-Band (Tape Automatic Bonding) aufgebracht sind, ein
TAB-Band für ein BGA-Halbleiterbauelement und ein BGA-Halbleiterbauelement.
Ein BGA-Halbleiterbauelement ist als ein Halbleiterbauelement mit einer Struktur bekannt,
bei der eine Befestigung mit Hilfe von Lötbällchen direkt auf der Oberfläche eines Substrats
vorhanden ist. Bei diesem BGA-Halbleiterbauelement kann die elektrische Verbindung mit
dem Substrat über die gesamte Fläche des ebenen Gehäuseanteils durchgeführt werden. Daher
kann, anders als bei einem QFP (Quad Flat Package (quadratisches Flachgehäuse)) und dgl.,
wo die Kontaktierung an jeder Seite des Gehäuses durchgeführt wird, die Mehrfachkontaktie
rung (Mehrfachanschluß) vorteilhaft erreicht werden, ohne den Abstand von Zuleitung zu
Zuleitung (Anschluß zu Anschluß) zu verringern. Insbesondere kann die Verwendung eines
TAB-Bandes als ein Strukturmaterial für das Gehäuse eine Verringerung der Dicke und eine
Verringerung der Größe (Gehäuse mit Chipgröße) bewirken.
Das kömmliche Verfahren zur Herstellung eines BGA-Halbleiterbauelements weist die
folgenden Schritte auf: Befestigen von Chips auf einem TAB-Band; Durchführung des Bon
dens der inneren Leitungen; Abdichten mit Harz und das Befestigen der Lötbällchen, in dieser
Reihenfolge, und abschließend das gleichzeitige Ausstanzen des TAB-Bandes an seinen vier
Rändern mit einem Stempel.
Das herkömmliche Herstellungsverfahren eines BGA-Halbleiterbauelements wird ausführli
cher erklärt.
Bin TAB-Band aus einer Harzfolie weist auf seinen beiden Seiten Führungslöcher in vorge
gebenen Abständen auf, und Halbleiterchips werden in vorgegebenen Abständen auf dem
mittleren Teil des TAB-Bandes befestigt. Der Halbleiterchip wird durch ein Elastomer mit
einer Haftfläche befestigt. Die Elektrodenanschlußfläche des befestigten Halbleiterchips (in
diesem Beispiel zwei Anschlußflächen auf dem oberen und unteren Rand) wird durch Bonden
mit einer inneren Leitung verbunden, die derart vorgesehen ist, daß sie von dem TAB-Band
absteht. Um die inneren Leitungen zu schützen, wird ein Kunststofformvorgang mit einem
Dichtungsharz durchgeführt. Eine Mehrzahl von Lötbällchen wird zweidimensional regelmä
ßig auf einem Verdrahtungsmuster befestigt, das auf der dem montierten Halbleiterchip ge
genüberliegenden Seite des TAB-Bandes vorgesehen ist. Schließlich schneidet man aus dem
TAB-Band Halbleiterchip für Halbleiterchip.
Der Aufbau eines Halbleiterchip-Befestigungsabschnitts wird nun ausführlicher erklärt. Eine
gürtelförmige Öffnung, durch die eine innere Leitung geführt werden soll, wird in dem
TAB-Band vorgesehen. Nach dem Bonden wird auf die Öffnung ein Kunststofformprozeß mit ei
nem Dichtungsharz angewandt.
Das Verfahren zur Herstellung eines BGA-Halbleiterbauelements wird nun erklärt. Zu Beginn
werden die Halbleiterchips mit einem Elastomer auf einer Seite des TAB-Bandes aufgebracht.
Als nächstes wird die Elektrodenanschlußfläche des Halbleiterchips durch Bonden mit einer
inneren Leitung auf der Seite des TAB-Bandes verbunden und dann ein Kunststofformvor
gang durchgeführt, bei dem ein Dichtungsharz verwendet wird, um die gebondete Steile zu
schützen. Lötbällchen werden an ihren vorbestimmten Positionen auf einem Verdrahtungsmu
ster befestigt. Danach werden vier Seiten des TAB-Bandes gleichzeitig ariden Schneidstellen
mit einem Stempel geschnitten, um ein Gehäuse (package) zu erhalten.
Bin weiteres herkömmliches BGA-Halbleiterbauelement wird z. B. in den japanischen Patent-Of
fenlegungsschriften Nr. 31869/1996 und Nr. 153819/1996 beschrieben. Bei dem
BGA-Halbleiterbauelement, das in der ersteren Veröffentlichung beschrieben wurde, sind in einem
TAB-Band Bauteilöffnungen vorgesehen. Eine Mehrzahl von Elektrodenanschlußflächen für
Elektrodenhöcker (Lötbällchen), die mit einer inneren Leitung verbunden sind, sind um die
Bauteilöffnungen verteilt. Längliche Schneidlöcher sind auf vier Seiten um den Anschlußbe
reich vorgesehen. Nach der Bildung der Elektrodenhöcker und vor dem Befestigen auf einem
Befestigungssubstrat wird das Schneiden in den Bereichen der Schneidlöcher durchgeführt,
um die Halbleiterbauelemente voneinander zu trennen. Andererseits ist in dem
BGA-Halbleiterbauelement der letzteren Veröffentlichung ein Halbleiterchip auf einem Befesti
gungssubstrat so befestigt, daß die eine Elektrode bildende Oberfläche des Halbleiterchips
nach oben weist. Das Verdrahtungsmuster auf der oberen Fläche des Substrats wird mit dieser
durch Drahtbonden verbunden. Ein Teil der oberen und unteren Verdrahtungsmuster im Sub
strat sind miteinander mit Hilfe durchgängiger Löcher verbunden. Lötbällchen sind auf dem
unteren Verdrahtungsmuster befestigt. Wie bei dem Halbleiterbauelement, das in der japani
schen Patent-Offenlegungsschrift Nr. 31869/1996 offenbart wurde, werden die länglichen
Löcher, die an der äußersten Umrandung vorgesehen sind, als Stellen zum Herausschneiden
und zum Trennen der Halbleiterbauelemente voneinander verwendet, bevor sie auf dem Befe
stigungssubstrat aufgebracht werden.
In den herkömmlichen Verfahren zur Herstellung eines BGA-Halbleiterbauelements wird die
gesamte Umrandung des Gehäuses gleichzeitig mit dem Trennen der Halbleiterbauelemente
ausgestanzt. Daher ist es wahrscheinlich, daß eine Spannung auf die Klebeverbindung des
TAB-Bandes und des Dichtungsharzes oder auf den Halbleiterchip und eine Verbindung zwi
schen der Elektrodenanschlußfläche des Halbleiterchips und der Zuleitung ausgeübt wird, was
zur Trennung der Verbindung und zum Aufbrechen des dichtenden Kunstharzes führt. Dies
verringert häufig die Zuverlässigkeit des Gehäuses.
Da sich das TAB-Band ständig außen an dem Halbleiterchip befindet, bewirkt der Kunststof
formvorgang mit einem flüssigen Kunstharz in diesem Abschnitt eine Schwankung der Be
netzung und der Ausbreitung des Kunstharzes. Dies führt zu ungleichmäßiger Dicke der
schließlich gebildeten Schicht aus Dichtungsharz. Insbesondere führt die übermäßige Benet
zung und Ausbreitung des flüssigen Kunstharzes zu einer zu geringen Dicke der Kunstharz
schicht. Ebenso wird bei einem Benetzen des Kunstharzes und seinem Ausbreiten zu der
Schneidposition des TAB-Bandes (Außenkante des Gehäuses) durch den abschließenden
Schritt des Schneidens das Kunstharz gemeinsam mit dem TAB-Band geschnitten. Dies führt
auch zu dem Brechen der Verbindung, d. h. zur Trennung zwischen der Elektrodenanschluß
fläche und der Zuleitung und zum Aufbrechen des Dichtungsharzes, das oft zu einer verrin
gerten Zuverlässigkeit des Gehäuses führt.
Bei den BGA-Halbleiterbauelementen, die in den japanischen Patent-Offenlegungsschriften
Nr. 1869/1996 und Nr. 153819/1996 offenbart sind, liegt die Klebeverbindung und der An
schluß in jedem der Lötbällchen. Insbesondere werden Lötbällchen so vorgesehen, daß sie
den Halbleiterchip umgeben. Gemäß diesem Aufbau kann das Problem des Brechens der
Verbindung, d. h. der Trennung zwischen der Elektrodenanschlußfläche des Halbleiterchips
und der Zuleitung, sowie das Aufbrechen des Dichtungsharzes aufgrund der Anwendung von
Spannung vermieden werden.
Demnach ist es ein Ziel der Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung eines
BGA-Halbleiterbauelements, ein TAB-Band für ein BGA-Halbleiterbauelement und ein
BGA-Halbleiterbauelement vorzusehen, das hohe Zuverlässigkeit bietet, während die Dicke und die
Größe des Gehäuses verkleinert wird.
Nach dem ersten Element der Erfindung weist ein Verfahren zur Herstellung eines BGA-(Ball
Grid Array)-Halbleiterbauelements die Schritte auf: Bilden von Öffnungen um jeden Chip-Be
festigungsbereich in einem TAB-Band, während Verbindungsstellen zum Verbinden der
Chip-Befestigungsbereiche mit anderen Bereichen beibehalten werden; Befestigen eines
Halbleiterchips auf jedem der Chip-Befestigungsbereiche des TAB-Bandes; Verbinden der
Elektrodenanschlußflächen von jedem Halbleiterchip mit dem Verdrahtungsmuster des
TAB-Bandes durch Bonden; Anwenden eines Kunststofformprozesses mit einem Harz auf die ge
bondete Verbindung zwischen dem Halbleiterchip und der Elektrodenanschlußfläche; Vorse
hen von Lötbällchen an Stellen auf der Rückseite des TAB-Bandes, die den Chip-Be
festigungsstellen entsprechen; und Durchschneiden der Verbindungsabschnitte, um dis
krete Halbleiterbauelemente zu bilden.
Gemäß dem zweiten Element der Erfindung weist ein TAB-Band für ein
BGA-Halbleiterbauelement eine große Zahl von Befestigungslöchern für Lötbällchen auf, welche in
den Chip-Befestigungsbereichen vorgesehen sind, wobei eine Öffnung um den Chip-Be
festigungsbereich vorgesehen ist, während ein Verbindungsbereich zum Verbinden des
Chip-Befestigungsbereiches mit dem anderen Bereich beibehalten wird.
Nach einem dritten Merkmal der Erfindung wird ein BGA-Halbleiterbauelement durch einen
Prozeß mit den folgenden Schritten erzeugt: Vorsehen eines TAB-Bandes für ein
BGA-Halbleiterbauelement, welches eine große Zahl von Befestigungslöchern für Lötbällchen auf
weist, welche in den Chip-Befestigungsbereichen vorgesehen sind, wobei eine Öffnung um
den Chip-Befestigungsbereich vorgesehen ist, während ein Verbindungsbereich zum Verbin
den des Chip-Befestigungsbereiches mit dem anderen Bereich beibehalten wird; Befestigen
eines Halbleiterchips auf jedem der Chip-Befestigungsbereiche des TAB-Bandes; Verbinden
der Elektrodenanschlußfläche von jedem Halbleiterchip mit dem Verdrahtungsmuster des
TAB-Bandes durch Bonden; Versehen der Verbindung zwischen dem Halbleiterchip und der
Elektrodenanschlußfläche durch Kunststofformen mit einem Kunstharz; Befestigen der Löt
bällchen an den Befestigungslöchern für die Lötbällchen auf dem TAB-Band; und Schneiden
der Verbindungsstellen, um diskrete Halbleiterbauelemente zu bilden.
Diese Erfindung wird ausführlicher in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen erklärt,
wobei:
Fig. 1 eine Draufsicht ist, die ein Halbleiterbauelement zeigt, das durch einen herkömmli
chen Prozeß zur Herstellung eines BGA-Halbleiterbauelements erzeugt worden ist;
Fig. 2 eine Querschnittsansicht entlang der Linie B-B aus Fig. 1 ist;
Fig. 3 eine Querschnittsansicht ist, die den Aufbau eines Halbleiterchip-Be
festigungsbereiches des BGA-Halbleiterbauelements nach Fig. 1 im Detail zeigt;
Fig. 4 eine Draufsicht ist, die ein Halbleiterbauelement zeigt, das durch den Prozeß zur Her
stellung eines BGA-Halbleiterbauelements nach der ersten bevorzugten Ausführungs
form der Erfindung erzeugt worden ist; und
Fig. 5 eine Querschnittsansicht entlang der Linie A-A aus Fig. 4 ist.
Bevor die bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung beschrieben werden, wird das her
kömmliche Verfahren zur Herstellung eines BGA-Halbleiterbauelements mit den Fig. 1 bis 3
erklärt.
Fig. 1 ist eine Draufsicht, die ein Halbleiterbauelement zeigt, das durch einen herkömmlichen
Prozeß zur Herstellung eines BGA-Halbleiterbauelements erzeugt worden ist, und Fig. 2 ist
eine Querschnittsansicht entlang der Linie B-B aus Fig. 1. Fig. 1 und 2 zeigen einen Zustand
vor dem Herausschneiden des Gehäuses.
Ein TAB-Band 1 aus einer Harzfolie weist auf seinen beiden Seiten Führungslöcher 2 in vor
gegebenen Abständen auf, und Halbleiterchips 3 sind in vorgegebenen Abständen auf dem
mittleren Teil des TAB-Bandes 1 befestigt. Der Halbleiterchip 3 ist durch ein Elastomer 4 mit
einer Haftfläche befestigt. Die Elektrodenanschlußfläche 3a des befestigten Halbleiterchips 3
(in diesem Beispiel zwei Anschlußflächen auf dem oberen und unteren Rand) ist durch Bon
den mit einer inneren Leitung 5 verbunden, die so vorgesehen ist, daß sie von dem TAB-Band
absteht. Um die innere Leitung 5 zu schützen, wird eine Kunststofformprozeß durchgeführt,
bei dem Dichtungsharz 6 verwendet wird. Eine Mehrzahl von Lötbällchen 8 sind zweidimen
sional regelmäßig auf einem Verdrahtungsmuster 7 befestigt, das auf der dem Halbleiterchip
3 gegenüberliegenden Seite des TAB-Bandes 1 vorgesehen ist. Schließlich wird von dem
TAB-Band Halbleiterchip 3 für Halbleiterchip 3 abgeschnitten. Nummer 9 gibt die
Schneidposition (durch eine gepunktete Linie angedeutet) an.
Fig. 3 zeigt den detaillierten Aufbau des Befestigungsabschnitts des Halbleiterchips 3. Eine
gürtelförmige Öffnung, durch die eine innere Zuleitung 5 geführt werden soll, ist in dem
TAB-Band 1 vorgesehen. Nach dem Bonden wird die Öffnung einem Kunststofformprozeß
mit einem Dichtungsharz 6 unterzogen.
Das Verfahren zur Herstellung eines BGA-Halbleiterbauelements, das in den Fig. 1 bis 3 ge
zeigt wird, wird erklärt. Zu Beginn werden die Halbleiterchips 3 mit einem Elastomer 4 auf
einer Seite des TAB-Bandes 1 aufgebracht. Als nächstes wird, wie in Fig. 3 gezeigt, die
Elektrodenanschlußfläche 3a des Halbleiterchips durch Bonden auf dem Seite des
TAB-Bandes 1 mit einer inneren Leitung 5 verbunden und dann eine Kunststofformprozeß mit ei
nem Dichtungsharz 6 durchgeführt, um die gebondete Stelle zu schützen. Wie in Fig. 1 ge
zeigt, werden dann Lötbällchen 8 an ihren vorbestimmten Positionen auf einem Verdrah
tungsmuster 7 befestigt. Danach werden vier Seiten des TAB-Bandes 1 gleichzeitig an ihren
Schneidstellen 9 mit einem Stempel geschnitten, um ein Gehäuse zu erhalten.
Bei den herkömmlichen Prozessen zur Herstellung eines BGA-Halbleiterbauelements wird
jedoch der gesamte Rand des Gehäuses beim Trennen der Halbleiterbauelemente voneinander
gleichzeitig herausgestanzt. Daher ist es wahrscheinlich, daß mechanische Spannung auf die
Klebestelle des TAB-Bandes und des Dichtungsharzes oder auf den Halbleiterchip und eine
Verbindung zwischen der Elektrodenanschlußfläche des Halbleiterchips und der Leitung aus
geübt wird, was zu einem Brechen der Verbindung, d. h. zur Trennung von Elektrodenan
schlußfläche und Zuleitung, sowie zum Brechen des Dichtungsharzes führt. Dies vermindert
häufig die Zuverlässigkeit des Gehäuses.
Als nächstes werden die bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung in den Fig. 4 und 5
erklärt.
Fig. 4 zeigt Halbleiterbauelemente, bevor sie voneinander getrennt werden, die durch den
Prozeß zur Herstellung eines BGA-Halbleiterbauelements gemäß der Erfindung erzeugt wor
den sind. Fig. 5 zeigt ein Diagramm entlang der Linie A-A aus Fig. 4.
Ein TAB-Band 1 aus einer Harzfolie weist auf seinen beiden Seiten Führungslöcher 2 auf, die
in vorgegebenen Abständen vorgesehen sind. Die Halbleiterchips 3 sind in vorgegebenen Ab
ständen auf dem mittleren Teil des TAB-Bandes befestigt.
"]"-förmige Schlitze 1a, 1b, die als Öffnung dienen, sind in einem oberen und unteren Teil
des Bereichs des befestigten Halbleiterchips 3 so vorgesehen, daß sie einander gegenüberlie
gen. Der Halbleiterchip 3 ist mit Hilfe eines Elastomers 4 befestigt, das eine Haftfläche auf
weist und eine klebende Schicht bildet. Die Elektrodenanschlußfläche (nicht gezeigt) des
Halbleiterchips 3 ist durch Bonden mit einer inneren Leitung 5 verbunden, die derart vorgese
hen ist, daß sie von dem TAB-Band 1 absteht. Ein Kunststofformprozeß mit einem flüssigem
Dichtungsharz 6 wird durchgeführt, um die innere Leitung 5 zu schützen. Ein Verdrahtungs
muster 7 ist auf der Rückseite des TAB 1 vorgesehen. Eine Mehrzahl von Lötbällchen 8 ist
zweidimensional regelmäßig auf dem Verdrahtungsmuster 7 angeordnet.
Wie in Fig. 4 gezeigt, sind zwischen den Schlitzen 1a, 1b des TAB-Bandes 1 Verbindungsab
schnitte 1c, 1d beibehalten, die als Schneidstelle dienen. Die Verbindungsabschnitte 1c, 1d
sind an Stellen vorgesehen, die von der Klebestelle des TAB-Bandes 1 und der Dichtungshar
zes 6 oder von dem Halbleiterchip 3 und der Verbindung zwischen den Elektrodenanschluß
fläche 3a und der inneren Leitung 5 entfernt liegen, d. h. sie sind an Seiten vorgesehen, die
senkrecht zur mit dem Dichtungsharz 6 versehenen Verbindung der inneren Leitung liegen.
Der Chip-Befestigungsbereich, der innerhalb der Schlitze 1a, 1b des TAB-Bandes 1 gebildet
wird, ist ein rechtwinkliger Bereich miteinander gegenüberliegenden ersten und dritten Seiten
und gegenüberliegenden zweiten und vierten Seiten. Die durch Bonden verbundene und mit
dem Kunstharz geformten Abschnitte liegen auf der ersten und dritten Seite. Andererseits
liegen die Verbindungsstellen 1c, 1d auf der zweiten und vierten Seite.
Die Details des Halbleiterchip-Befestigungsbereiches sind in Fig. 3 gezeigt. Die Elektroden
anschlußfläche 3a des Halbleiterchips 3 wird mit der inneren Leitung 5 gebondet, die zu dem
Verdrahtungsmuster 7 geführt ist, gefolgt von einem Kunststofformprozeß mit einem flüssi
gen Dichtungsharz 6 zu Schutzzwecken. Die Schlitze 1a, 1b sind knapp außerhalb des mit
Dichtungsharz 6 geformten Abschnitts vorgesehen. Daher konzentriert sich die Spannung, die
auf das TAB-Band 1 wirkt, wenn der gesamte Rand des Gehäuses gleichzeitig herausgestanzt
wird, auf einen Teil der Verbindungen um die Verbindungsstellen 1c, 1d, während eine redu
zierte Spannung auf die anderen Verbindungen ausgeübt wird. Dies reduziert Schäden wäh
rend des Zusammenbaus merklich. Ebenso wird, da die Schlitze 1a, 1b gerade außerhalb des
mit dem Dichtungsharz geformten Abschnitts 6 vorgesehen sind, die Ausbreitung des dich
tenden Harzes durch die Schlitze 1a, 1b beschränkt. Dies führt zur Bildung von Verkleidung
aus Harz mit einer vorgegebenen Form. Dadurch ist die Regulierung der Dicke der dichtenden
Harzschicht einfach und zusätzlich fließt wenig oder kein Harz in die Verbindungsstellen 1c,
1d, wenn das abschließende Schneiden durchgeführt wird. Es wird keine wesentliche Last
während des Schneidens angelegt, so daß Schaden an dem Gehäuse aufgrund von Spannung
vermieden werden kann.
In dem Halbleiterbauelement, das in den Fig. 4 und 5 gezeigt wird, ist der Halbleiterchip 3
mit der Elektrodenanschlußfläche 3a durch die innere Leitung 5 verbunden, die von dem Ver
drahtungsmuster 7 absteht. Drahtbonden kann anstelle dieser Verbindungsmethode verwendet
werden.
Als nächstes wird der Prozeß zur Herstellung eines BGA-Halbleiterbauelements gemäß der
bevorzugten Ausführungsform der Erfindung erklärt.
- (1) Die Schlitze 1a, 1b werden gebildet, wobei Verbindungsstellen 1c, 1d um einen Chip-Be festigungsbereich eines TAB-Bandes beibehalten werden.
- (2) Ein Halbleiterchip 3 wird auf das TAB-Band mit Hilfe eines Elastomers 4 aufgebracht.
- (3) Das Bonden der inneren Leitung wird durchgeführt, um die Elektrodenanschlußfläche 3a des Halbleiterchips 3 elektrisch mit dem Verdrahtungsmuster 7 des TAB-Bandes 1 zu verbinden.
- (4) Ein Kunststofformprozeß mit einem flüssigen Dichtungsharz 6 wird durchgeführt, um den Abschnitt der gebondeten inneren Leitung zu schützen.
- (5) Lötbällchen 5 werden auf dem Verdrahtungsmuster 7 befestigt.
- (6) Das Herausstanzen wird mit einem Stempel an einer Gehäuse-Schneidstelle (eine Schneidstelle 10, die durch eine gepunktete Linie innerhalb der Schlitze 1a, 1b in Fig. 4 ange deutet ist) in dem TAB-Band durchgeführt.
Bei dem Herstellungsprozeß gemäß der bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ent
spricht durch das Vorsehen von Schlitzen 1a, 1b die Länge der Gehäuseschneidstelle nur der
Länge der Verbindungsabschnitte 1c, 1d und ist daher viel kürzer als die Schneidlänge bei
dem Verfahren gemäß dem Stand der Technik. Da weiterhin die Verbindungsstellen 1c, 1d,
die als Schneidstellen dienen, auf der Seite, die von dem mit Dichtungsharz 6 geformten Ab
schnitt verschieden ist, vorgesehen sind, kann dies beim Ausstanzen die Spannung reduzieren,
die auf die Verbindung zwischen dem Verdrahtungsmuster 7 des TAB-Bandes 1 und der
Elektrodenanschlußfläche 3a wirkt und die zu der Befürchtung führt, daß das Dichtungsharz 6
herausgestanzt wird.
Wie aus der vorangehenden Beschreibung ersichtlich ist, werden gemäß der Erfindung Öff
nungen vorab um einen Halbleiterchip vorgesehen und in der Endphase das Schneiden in dem
Bereich der Öffnungen durchgeführt. Das kann die Schnittlänge nach dem Zusammenbau
reduzieren und das Brechen der gebondeten Stelle, d. h. die Trennung der Elektrodenan
schlußfläche von der Leitung, und das Brechen des dichtenden Harzes verhindern. Dadurch
kann eine erhöhte Ausbeute beim Gehäusezusammenbau und eine erhöhte Zuverlässigkeit
erreicht werden.
Die Erfindung wurde im einzelnen unter besonderer Bezugnahme auf bevorzugte Ausfüh
rungsformen beschrieben, aber es ist selbstverständlich, daß Variationen und Änderungen in
dem Bereich der Erfindung vorgenommen werden können, wie es in den beigefügten Ansprü
chen angegeben ist.
Claims (8)
1. Verfahren zur Herstellung eines BGA-(Ball Grid Array)-Halbleiterbauelements, das
folgende Schritte aufweist:
- - Bilden von Öffnungen um jeden Chip-Befestigungsbereich in einem TAB (Tape Automated Bonding)-Band, wobei Verbindungsabschnitte zum Verbinden der Chip-Be festigungsbereiche mit dem anderen Bereich beibehalten werden;
- - Befestigen eines Halbleiterchips auf jedem der Chip-Befestigungsbereiche des TAB-Bandes;
- - Verbinden der Halbleiterchips jeweils an ihrer Elektrodenanschlußfläche mit dem TAB-Band an seinem Verdrahtungsmuster durch Bonden;
- - Vornehmen eines Kunststofformprozesses mit einem Harz an der gebondeten Ver bindung zwischen dem Halbleiterchip und der Elektrodenanschlußfläche;
- - Vorsehen von Lötbällchen auf der Rückseite des TAB-Bandes in Abschnitten, die den Chip-Befestigungsabschnitten entsprechen; und
- - Schneiden der Verbindungsstellen, um diskrete Halbleiterbauelemente zu liefern.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Öffnung ein Schlitz mit zumindest einem
Verbindungsabschnitt ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem der Chip-Befestigungsbereich des TAB-Bandes
ein rechtwinkliger Bereich mit einander gegenüberliegenden ersten und dritten Seiten
und einander gegenüberliegenden zweiten und vierten Seiten ist, und die gebondete
Verbindung auf der ersten und dritten Seite liegt, wobei der Verbindungsabschnitt auf
der zweiten und vierten Seite liegt.
4. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem der Chip-Befestigungsbereich des TAB-Bandes
ein rechtwinkliger Bereich mit einander gegenüberliegenden ersten und dritten Seiten
und einander gegenüberliegenden zweiten und vierten Seiten ist und die durch Harz
abgedichtete Stelle auf der ersten und dritten Seite liegt, wobei der Verbindungsab
schnitt auf der zweiten und vierten Seite liegt.
5. TAB-Band für ein BGA-Halbleiterbauelement, welches eine große Zahl von Befesti
gungslöchern für Lötbällchen aufweist, die in den Chip-Befestigungsbereichen vorge
sehen sind, und bei dem eine Öffnung um den Chip-Befestigungsbereich vorgesehen
ist, wobei ein Verbindungsabschnitt zum Verbinden des Chip-Befestigungsbereiches
mit dem anderen Bereich verbleibt.
6. TAB-Band nach Anspruch 5, bei dem die Öffnung ein Schlitz mit zumindest einem
Verbindungsabschnitt ist.
7. TAB-Band nach Anspruch 5, bei dem der Chip-Befestungsbereich ein rechtwinkliger
Bereich mit einander gegenüberliegenden ersten und dritten Seiten und einander ge
genüberliegenden zweiten und vierten Seiten ist und der Verbindungsabschnitt im we
sentlichen in dem mittleren Teil der ersten bis vierten Seite liegt.
8. BGA-Halbleiterbauelement, welches durch ein Verfahren mit den folgenden Schritten
erzeugt wird:
- - Vorsehen eines TAB-Bandes für ein BGA-Halbleiterbauelement, das eine große Zahl von Befestigungslöchern für Lötbällchen aufweist, die in Chip-Befestigungs bereichen vorgesehen sind, und bei dem eine Öffnung um den Chip-Befestigungs bereich vorgesehen ist, wobei ein Verbindungsabschnitt zum Verbinden des Chip-Be festigungsbereichs mit dem anderen Bereich verbleibt;
- - Befestigen eines Halbleiterchips auf jedem der Chip-Befestigungsbereiche des TAB-Bandes;
- - Verbinden der Halbleiterchips jeweils an ihrer Elektrodenanschlußfläche mit dem TAB-Band an seinem Verdrahtungsmuster durch Bonden;
- - Anwenden eines Kunststofformprozesses mit einem Harz auf die Verbindung zwi schen dem Halbleiterchip und der Elektrodenanschlußfläche;
- - Befestigen von Lötbällchen an den Befestigungslöchern für Lötbällchen in dem TAB-Band; und
- - Schneiden der Verbindungsabschnitte, um diskrete Halbleiterbauelemente zu liefern.
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