DE19902125A1 - Isolierpastenzusammensetzung und Leiterfähigkeitspastenzusammensetzung und Leiterplatte, welche selbige verwendet - Google Patents
Isolierpastenzusammensetzung und Leiterfähigkeitspastenzusammensetzung und Leiterplatte, welche selbige verwendetInfo
- Publication number
- DE19902125A1 DE19902125A1 DE19902125A DE19902125A DE19902125A1 DE 19902125 A1 DE19902125 A1 DE 19902125A1 DE 19902125 A DE19902125 A DE 19902125A DE 19902125 A DE19902125 A DE 19902125A DE 19902125 A1 DE19902125 A1 DE 19902125A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- paste composition
- weight
- parts
- conductivity
- oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
- C03C8/10—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing lead
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/24—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49866—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers characterised by the materials
- H01L23/49883—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers characterised by the materials the conductive materials containing organic materials or pastes, e.g. for thick films
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
- H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/095—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00 with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials provided in the groups H01L2924/013 - H01L2924/0715
- H01L2924/097—Glass-ceramics, e.g. devitrified glass
- H01L2924/09701—Low temperature co-fired ceramic [LTCC]
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0137—Materials
- H05K2201/017—Glass ceramic coating, e.g. formed on inorganic substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/07—Electric details
- H05K2201/0753—Insulation
- H05K2201/0769—Anti metal-migration, e.g. avoiding tin whisker growth
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Isolierpasten
zusammensetzung und eine Leitfähigkeitspastenzusammenset
zung für eine Leiterplatte.
Eine Dickfilmleiterplatte ist als eine Leiterplatte be
kannt, welche ein zum Beispiel aus Aluminiumoxid gebildetes
isolierendes Substrat umfaßt, mit einer darauf gedruckten
und gebackenen bzw. eingebrannten oder ausgehärteten Leit
fähigkeitspastenzusammensetzung. Die Leitfähigkeitspasten
zusammensetzung umfaßt leitfähige Metallpulverhauptbestand
teile aus Silber und Palladium (Pd) oder einem Edelmetall
wie Platin und ein anorganisches Bindemittel wie eine Glas
fritte, welche in einem organischen Trägermedium (vehicle)
dispergiert sind.
Seit kurzem besteht eine hohe Nachfrage nach einer Lei
terplatte mit einer hohen Dichte, kompakten Abmessungen und
einer Beständigkeit gegenüber Umwelteinflüssen. Bei zum
Beispiel einer IC-Leiterplatte für ein Kraftfahrzeug wird
in Betracht gezogen, daß eine hohe Integration aufgrund der
Verwendung von Hybridschaltungen gefordert ist, und daß die
Installation der Platte, welche in einer Fahrzeugkabine in
stalliert worden ist, in einem Motorraum erforderlich ist.
Es ist folglich erforderlich, daß auf einem isolieren
den Substrat ausgebildete Verdrahtungsteile höhere Bestän
digkeitscharakteristiken als in der Vergangenheit besitzen.
Auch wenn zum Beispiel eine Spannung zwischen den Verdrah
tungsteilen, welche einen engen Verdrahtungsabstand zwi
schen sich besitzen, angelegt wird und die Platte über ei
nen längeren Zeitraum einer Außenumgebung ausgesetzt wird,
sollte sich die Isolationseigenschaft zwischen den Verdrah
tungsteilen nicht verschlechtern.
Es ist jedoch allgemein bekannt, daß wenn das Verdrah
tungsteil unter Verwendung einer Leitfähigkeitspaste, wel
che Silber enthält, auf einem isolierenden Substrat gebil
det wird, das in dem Verdrahtungsteil enthaltene Silber
beim Anlegen einer Spannung in der Gegenwart von Wasser
oder Wasserdampf ionisiert wird und von einem positiven
Elektrodenabschnitt zu einem negativen Elektrodenabschnitt
wandert, was Dendriten aus Silber erzeugt, und die soge
nannte Migration von Silber tritt sehr wahrscheinlich auf,
was zu einer Verschlechterung der Isoliereigenschaft zwi
schen den Verdrahtungsteilen führt. Es wurde daher eine
Dichtungsstruktur verwendet, um die Migration von Silber zu
verhindern.
Die Erfinder fanden jedoch ein Phänomen, bei dem der
Isolationswiderstand beim Anlegen einer Spannung unter ei
ner Atmosphäre von hoher Temperatur auch dann verringert
wird, wenn Wasser oder Wasserdampf abwesend sind. Das Phä
nomen wird nachfolgend unter Bezug auf die Ergebnisse von
Experimenten, die von den Erfindern durchgeführt wurden,
beschrieben.
Das Phänomen kann wie folgt zusammengefaßt werden. Wenn
zum Beispiel Verdrahtungsteile, welche Silber enthalten,
auf einem isolierenden Substrat mit einem engen Abstand da
zwischen von ungefähr 100 µm angeordnet werden, eine Span
nung von ungefähr 16 V (der maximale Standard für elektri
sche Vorrichtungen, die in Kraftfahrzeugen installiert wer
den) zwischen den Verdrahtungsteilen angelegt wird und die
ses einer Hochtemperaturatmosphäre von ungefähr 150°C aus
gesetzt wird, wird der Isolierwiderstand zwischen den Ver
drahtungsteilen im Laufe der Zeit stark verringert und es
tritt schließlich ein Isolationsfehler dazwischen auf.
Das Phänomen tritt auf unter einer Atmosphäre, in der
kein Wasser vorhanden ist, wie bei einer Temperatur von
100°C oder höher oder in einem Vakuum. Ferner, wenn die
Verdrahtungsteile im wesentlichen im Zustand eines Kurz
schlusses vorliegen, werden zwischen den Verdrahtungsteilen
keine Dendriten aus Silber beobachtet, welche bei der Bil
dung der Migration in Gegenwart von Wasser beobachtet wer
den müssen, und bei dem Phänomen wird ebenfalls keine Po
larität beobachtet (d. h., das Phänomen tritt unabhängig von
der Polarität eines positiven Elektrodenteils und eines ne
gativen Elektrodenteils auf). Es kann somit festgehalten
werden, daß dies ein neu gefundenes Phänomen ist, welches
von der Migration, die in Gegenwart von Wasser stattfindet,
verschieden ist. Ein solches Phänomen wird nachfolgend als
ein Hochtemperatur-Leckverlustphänomen bezeichnet.
Obwohl der Mechanismus des Phänomens nicht vollständig
geklärt ist, ist die Zusammenfassung gemäß den Untersuchun
gen der Erfinder wie folgt.
Üblicherweise werden Verdrahtungsteile auf einer allge
meinen Dickfilmleiterplatte erhalten durch ein Drucken ei
ner Leitfähigkeitspastenzusammensetzung auf ein isolieren
des Substrat, wie einem aus Aluminiumoxid gebildeten kera
mischen Substrat, gefolgt von einem Backen. Die Leitfähig
keitspastenzusammensetzung umfaßt leitfähige Metallpulver,
welche Silber enthalten, und ein anorganisches Bindemittel
wie Glasfritte, welche in einem organischen Trägermedium
dispergiert sind. Die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung
wird im allgemeinen bei einer Temperatur von 800°C bis
900°C gebacken. Während des Backens verdampfen Teile des
Silbers und des anorganischen Bindemittels von den durch
das Drucken auf dem isolierenden Substrat ausgebildeten
Verdrahtungsteilen, und sie sind als ein Reaktionsprodukt,
welches Silber enthält, an dem isolierenden Substrat ange
lagert. Da das Reaktionsprodukt im allgemeinen in einer ex
trem dünnen Form vorhanden ist, wird es im allgemeinen
nicht beobachtet. Das Reaktionsprodukt besitzt eine
Isoliereigenschaft, welche gleich der des darunter liegen
den isolierenden Substrats ist.
Wenn jedoch eine Spannung zwischen den Verdrahtungstei
len, zwischen denen das Reaktionsprodukt vorhanden ist, an
gelegt wird und diese einer Hochtemperaturatmosphäre ohne
dem Einfluß eines Wasseranteils (welche nachfolgend als ei
ne Hochtemperaturatmosphäre bezeichnet wird) ausgesetzt
wird, wird das in dem Reaktionsprodukt enthaltene Silber
einen leitfähigen Zustand bekommen, und die Isoliereigen
schaft zwischen den Verdrahtungsteilen wird im Laufe der
Zeit verringert.
Der oben zusammengefaßte Mechanismus des Hochtempera
tur-Leckverlustphänomens wurde durch einige folgende Veri
fizierungsexperimente (Verifizierungsexperiment A und Ve
rifizierungsexperiment B) geklärt.
Das Verifizierungsexperiment A wird nachfolgend be
schrieben. Es wurde eine Leiterplatte hergestellt, auf wel
cher Verdrahtungsteile mit einer Vielzahl an voneinander
verschiedenen Verdrahtungsabständen unter Verwendung einer
allgemeinen Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, welche
Silber enthält, durch Drucken und Backen auf einem aus
Aluminiumoxid gebildeten Keramiksubstrat ausgebildet wur
den. Es wurde eine Spannung zwischen den Verdrahtungsteilen
angelegt, und sie wurde einer Hochtemperaturatmosphäre aus
gesetzt. In dem Verifizierungsexperiment A hatte die zwi
schen den Verdrahtungsteilen angelegte Spannung einen Wert
(zum Beispiel 60 V), welcher, um die Reaktion zu verstär
ken, höher war als die Spannung, die im allgemeinen ange
legt wird.
Wie in Fig. 1 aufgezeigt, zeigte sich, daß der Iso
lierwiderstandswert zwischen den Verdrahtungsteilen unter
der Hochtemperaturatmosphäre im Laufe der Zeit verringert
wurde. Fig. 1 ist ein Graph, welcher das Verhältnis zwi
schen der Verweilzeit unter einer Hochtemperaturatmosphäre
und dem Isolierwiderstandswert (Log10X, Einheit: Ω) auf
zeigt. Bei den Auftragungsmarkierungen in der Figur stehen
weiße Kreise und schwarze Kreise für den Fall der Tempera
tur von 125°C, weiße Dreiecke und schwarze Dreiecke für den
Fall der Temperatur von 150°C, weiße Kreise und weiße Drei
ecke für den Fall eines Verdrahtungsabstands von 100 µm und
schwarze Kreise und schwarze Dreiecke für den Fall eines
Verdrahtungsabstands von 50 µm.
Bei diesen Fällen wurde eine Änderung der Erscheinung,
wie die bekannten Dendrite von Silber, die durch einen Was
sergehalt erzeugt werden, bei den Verdrahtungsteilen, zwi
schen denen sich der Isolierwiderstandswert verringert,
nicht beobachtet. Es zeigte sich daher, daß das Phänomen
eine Natur besaß, die von Bedingungen wie dem Verdrahtungs
abstand, der angelegten Spannung und der Umgebungstempera
tur beeinflußt werden.
Ferner wurde die Zeit, bei der der Isolierwiderstands
wert sich auf 100 MΩ erniedrigt, als eine Isolierfehler
zeit in Abhängigkeit von der elektrischen Feldstärke, wel
che aus der zwischen den Verdrahtungsteilen angelegten
Spannung erhalten werden konnte, untersucht. Die Ergebnisse
sind in Fig. 2 aufgezeigt. Fig. 2 ist ein Graph, welcher
das Verhältnis zwischen der elektrischen Feldstärke und der
Isolierfehlerzeit aufzeigt. Bei den Auftragungsmarkierungen
in der Figur stehen Kreise für den Fall einer Temperatur
von 150°C und Dreiecke für den Fall einer Temperatur von
125°C.
Es zeigte sich aus den Ergebnissen des Verifizierungs
experiments A, welche in den Fig. 1 und 2 aufgezeigt
sind, daß die Verschlechterung der Isoliereigenschaft zwi
schen den Verdrahtungsteilen vom Verdrahtungsabstand und
der elektrischen Feldstärke, die durch die angelegte Span
nung bestimmt ist, abhängt und weiter beschleunigt wird, je
höher die Umgebungstemperatur ist.
Es wurde eine ausführliche Betrachtung durchgeführt, um
den Grund der Verschlechterung der Isoliereigenschaft zu
untersuchen.
Unter Verwendung eines Rasterelektronenmikroskops (SEM)
wurde hinsichtlich den Verdrahtungsteilen, zwischen denen
die Isolierverschlechterung beobachtet wurde, und deren Um
gebung vor und nach der Isolierverschlechterung keine Ände
rung der Erscheinung beobachtet. Ferner wurden die an der
selben Stelle vorhandenen Substanzen mittels eines Elektro
nensonden-Mikroanalysators (EPMA) untersucht, welcher mit
einem wellenlängendispersiven Röntgenanalysator ausgestat
tet war, es wurde jedoch kein Unterschied vor und nach der
Isolierverschlechterung beobachtet.
Nach der Isolierverschlechterung wurden jedoch Teile
des Silbers und des anorganischen Bindemittels der Zusam
mensetzungen der Leitfähigkeitspaste, welche als solche
nicht in dem keramischen Substrat enthalten waren, auf dem
keramischen Substrat beobachtet. Sie waren in der Umgebung
der Verdrahtungsteile vorhanden, und umso näher an den Ver
drahtungsteilen, desto größer war deren Menge.
Der spezifische Zustand, mit dem sie vorhanden waren,
wurde mittels eines Transmissionselektronenmikroskops (TEM)
untersucht. Als Ergebnis wurde bestätigt, wie in Fig. 3
aufgezeigt, daß feine Silberteilchen A3 in dem Teil der
Glassubstanz A2 vorhanden sind, die an den Grenzen der
Aluminiumoxidteilchen A1 vorhanden ist.
Der Grund für das Obige wird wie folgt abgeschätzt. In
der Umgebung der Verdrahtungsteile, die durch Drucken und
Backen der Leitfähigkeitspaste ausgebildet werden, werden
Teile des Silbers und des anorganischen Bindemittels ver
dampft und an das keramische Substrat angelagert, wenn die
Leitfähigkeitspaste gebacken wird. Zu diesem Zeitpunkt wird
die an den Grenzen der Aluminiumoxidteilchen des kerami
schen Aluminiumoxidsubstrats vorhandene Glassubstanz er
weicht und das verdampfte Material neigt dazu, absorbiert
zu werden.
Es ist natürlich so, daß wenn ein keramisches Substrat,
auf dem keine Leitfähigkeitspaste aufgedruckt und gebacken
ist, auf die gleiche Weise beobachtet wird, daß die Anlage
rung der Zusammensetzungen der Leitfähigkeitspaste, wie
Silberteilchen, nicht beobachtet wird. Es zeigte sich so
mit, daß Teile des Silbers und des anorganischen Bindemit
tels, welche in der Leitfähigkeitspaste enthalten sind, auf
irgendeine Weise zu dem Hochtemperatur-Leckverlustphänomen
beitragen.
Das folgende Verifizierungsexperiment (Verifizierungs
experiment B) wurde durchgeführt, um den Grund zu
untersuchen, weswegen Teile des Silbers und des anorgani
schen Bindemittels in der Umgebung der Verdrahtungsteile
vorhanden sind. Als ein Ergebnis wurde bestätigt, daß eine
Substanz, welche durch Umsetzen des organischen Bindemit
tels und des Silbers (nachfolgend abgekürzt als Reaktions
produkt bezeichnet) erzeugt wird, an dem Substrat angela
gert ist, wenn die Leitfähigkeitspaste gebacken wird, und
durch das in dem Reaktionsprodukt enthaltene Silber wird
dessen elektrisches Leiten verursacht.
Als ein erster Schritt des Verifizierungsexperiments B
wird das Verifizierungsexperiment B1 beschrieben, wobei ei
ne Platte α, eine Platte β und eine Platte γ verwendet wer
den.
Die Platte α ist eine allgemeine Leiterplatte, bei der
die Verschlechterung einer Isoliereigenschaft bei den Ver
drahtungsteilen auftritt. Die Platte β wurde auf die fol
gende Weise hergestellt. Durch Drucken und Backen einer
Leitfähigkeitspaste, welche Silber enthält, auf einem iso
lierenden Substrat wurden Verdrahtungsteile gebildet, und
es wurde auf der Oberfläche des isolierenden Substrats zwi
schen den Verdrahtungsteilen parallel zu den Verdrahtungs
teilen mittels eines Schneideverfahrens unter Verwendung
eines Lasers, welcher im allgemeinen zur Einstellung des
Widerstands eines Dickfilmwiderstands verwendet wird
(nachfolgend als das Laserschneiden abgekürzt), eine Rille
ausgebildet, um auf diese Weise das zwischen den Verdrah
tungsteilen vorhandene Reaktionsprodukt mechanisch zu ent
fernen.
Die Platte γ wurde hergestellt, indem zuerst eine Rille
auf der Oberfläche des isolierenden Substrats zwischen den
Verdrahtungsteilen auf dieselbe Weise wie oben beschrieben
unter Verwendung des Laserschneidens ausgebildet wurde und
dann die Verdrahtungsteile durch Drucken und Backen aus
gebildet wurden.
Es wurde eine Spannung zwischen den Verdrahtungsteilen
von jeder der Platte α, der Platte β und der Platte γ ange
legt, und sie wurden einer Hochtemperaturatmosphäre ausge
setzt. Als Ergebnis zeigte sich, daß die Isoliereigenschaft
lediglich bei der Platte α und der Platte γ verschlechtert
wurden.
Aus dem Obigen wird verständlich, daß in der Umgebung
von Verdrahtungsteilen, die durch Drucken und Backen einer
Leitfähigkeitspaste, welche Silber enthält, auf einem iso
lierenden Substrat ausgebildet werden, ein Teil der Leit
fähigkeitspastenzusammensetzung an dem isolierenden
Substrat angelagert ist, um die Isoliereigenschaft zwischen
den Verdrahtungsteilen unter den bestimmten Bedingungen zu
verschlechtern. Das heißt, aus dem Verifizierungsexperiment
B1 wurde deutlich, daß ein Teil der Leitfähigkeitspasten
zusammensetzung durch das Backen an dem isolierenden
Substrat angelagert wird.
Als den zweiten Schritt des Verifizierungsexperiments B
wird nachfolgend das Verifizierungsexperiment B2 unter Be
zug auf die Fig. 4 bis 6 beschrieben, wobei eine Platte
δ und eine Platte ε verwendet wurden.
Die Platte δ wurde gebildet durch ein isolierendes
Substrat b1 und einer dicken Leitfähigkeitspaste a1, welche
auf im wesentlichen die gesamte Oberfläche des Substrats b1
gedruckt ist, wie in Fig. 4 aufgezeigt. Wie in Fig. 5 auf
gezeigt, wurde die Platte ε durch ein isolierendes Substrat
f1 und Goldverdrahtungsteile e1, welche unter Verwendung
eines Goldmaterials darauf ausgebildet sind, gebildet, wo
durch bestätigt wurde, daß keine Isolierverschlechterung
verursacht wurde.
Die Platte δ und die Platte ε wurden auf eine solche
Weise angeordnet, daß sie aneinander gegenüberstehen, mit
Hilfe eines Abstandhalters c1, welcher dazwischengestellt
wurde, um einen beliebigen Spalt d1 auszubilden, wie in
Fig. 6 aufgezeigt, und sie wurden bei einer Temperatur zum
Backen der Leitfähigkeitspaste a1 gebacken. Es wurde eine
Oberfläche h des isolierenden Substrats f1 zwischen den
Goldverdrahtungsteilen e1 der Platte ε mittels einer EPMA-
Vorrichtung beobachtet, und es zeigte sich, daß Teile des
Silbers und des anorganischen Bindemittels, welche die Zu
sammensetzungen der Leitfähigkeitspaste a1 waren, auf der
Oberfläche h1 vorhanden waren.
Die Verteilung des Silbers und des anorganischen Bin
demittels war im wesentlichen gleich der Leitfähigkeits
paste a1, welche auf das isolierende Substrat b1 gedruckt
ist, d. h. der gesamten Oberfläche der Platte δ. Es wurde
eine Spannung zwischen den Goldverdrahtungsteilen e1 in ei
nem derartigen Zustand angelegt, und es zeigte sich, daß
die Isoliereigenschaft zwischen den Goldverdrahtungsteilen
e1 unter einer Hochtemperaturatmosphäre verringert war.
Es kann folglich behauptet werden, daß Teile des Sil
bers und des anorganischen Bindemittels aus der allgemeinen
Leitfähigkeitspaste, welche Silber enthält, während des
Backens verdampft und verstreut werden, d. h. in dem Veri
fizierungsexperiment B2 werden sie von der Platte δ über
den Spalt d1 zu der Platte ε verteilt, und sie werden an
der Oberfläche des umgebenden isolierenden Substrats als
ein Reaktionsprodukt angelagert. Das heißt, der Weg der
Anlagerung der Teile des Silbers und des anorganischen Bin
demittels während des Backens der Leitfähigkeitspaste wurde
durch das Verifizierungsexperiment B2 gefunden.
Als den dritten Schritt des Verifizierungsexperiments B
wird das Verifizierungsexperiment B3, welches die Platte δ
und die Platte ε verwendet, unter Bezug auf die Fig. 7A
und 7B beschrieben.
Die Platte δ und die Platte ε wurden auf eine solche
Weise angeordnet, daß sie sich gegenüberstehen, mit Hilfe
eines Abstandhalters c2 zur Ausbildung eines beliebigen
Spalts g1, wie in Fig. 7A aufgezeigt. Ferner wurden die
Platte δ und die Platte ε auf eine solche Weise angeordnet,
daß sie gegenüberstehen, mit Hilfe eines Abstandhalters c3
zur Ausbildung eines beliebigen Spalts g2, der geringer ist
als der Spalt g1, wie in Fig. 7B aufgezeigt. Als Folge
davon konnte die Ausbreitungsdistanz des Reaktionsprodukts
zwischen den in den Fig. 7A und 7B aufgezeigten Vorrich
tungen verändert werden, und es konnte ebenfalls die Menge
des an die Platte ε angelagerten Reaktionsprodukts dazwi
schen verändert werden.
Das heißt, durch Verändern des Abstands g1, g2 zwischen
den Platten δ, ε konnte die Menge des an der Platte ε ange
lagerten Silbers verändert werden. Je größer der Abstand g
zwischen den Platten δ, ε war, desto geringer war die ange
lagerte Menge an Silber. Es wurde eine Spannung zwischen
den Verdrahtungsteilen e1 einer jeden der in den Fig. 7A
und 7B aufgezeigten Vorrichtungen unter einer Hochtempera
turatmosphäre angelegt. Als Ergebnis zeigte sich, daß Un
terschiede hinsichtlich der Isolierverschlechterung in Ab
hängigkeit von der abgelagerten Menge an Silber auftraten,
wie in Fig. 8 aufgezeigt. Fig. 8 ist ein Graph, welcher das
Verhältnis zwischen der angelagerten Menge an Silber und
der Isolierfehlerzeit aufzeigt.
Anhand des Verifizierungsexperiments B3 kann behauptet
werden, daß das Auftreten des Phänomens von der Menge an
Silber abhängt, die als das Reaktionsprodukt in der Umge
bung der Verdrahtungsteile existiert, und wenn die angela
gerte Menge an Silber größer ist, wird die Isolierver
schlechterung gefördert.
Es wurde daher aus dem Verifizierungsexperiment B be
stätigt, daß das in der Umgebung der Verdrahtungsteile vor
handene Reaktionsprodukt während des Backens der Leitfähig
keitspaste in die Luft verteilt und an dem isolierenden
Substrat angelagert wird, und die Isolierverschlechterung
durch das in dem Reaktionsprodukt enthaltene Silber, wel
ches durch Anlegen einer Spannung unter einer Hochtempera
turatmosphäre leitend wird, verursacht wird.
Das Hochtemperatur-Leckverlustphänomen würde aus den
folgenden Gründen nicht gefunden werden. Bei der herkömmli
chen Leiterplatte wurde eine Dichtungsstruktur verwendet,
um die Migration von Silber unter einer Atmosphäre, welche
Wasser oder Wasserdampf enthält, zu verhindern. Das Reak
tionsprodukt, welches das Hochtemperatur-Leckverlustphäno
men verursacht, wird normalerweise nicht beobachtet, und
die Erscheinung der Platte ist nicht verändert, sogar wenn
Silber des Reaktionsprodukts leitfähig wird, um einen Kurz
schluß zu bilden.
Aus dem Obigen kann geschlußfolgert werden, daß es in
hohem Maße möglich ist, daß die Isolierfehler, von denen
man annimmt, daß sie durch die Migration von Silber verur
sacht werden, eine bestimmte Anzahl an Fällen des Hochtem
peratur-Leckverlustphänomens enthalten.
Aus dem Obigen läßt sich ebenfalls annehmen, daß auf
grund dessen, daß die Substanz (Reaktionsprodukt), als ein
Faktor des Hochtemperatur-Leckverlustphänomens, während des
Backens auch unter den Bedingungen ohne Wasser gebildet
wird und sich an dem isolierenden Substrat anlagert, es
auch durch eine Dichtungsstruktur zum Verhindern der
Migration von Silber schwierig ist, das Auftreten dieses
Phänomens zu verhindern.
Die Erfindung wurde im Hinblick auf das von den Erfin
dern gefundene Hochtemperatur-Leckverlustphänomen durchge
führt. Es ist daher eine Aufgabe der Erfindung, die Iso
lierverschlechterung zwischen Verdrahtungsteilen, welche
unabhängig von der Gegenwart oder Abwesenheit von Wasser
oder Wasserdampf auftritt, wenn eine Spannung zwischen den
Verdrahtungsteilen, die Silber enthalten, in einer Leiter
platte unter einer Hochtemperaturatmosphäre angelegt wird,
geeignet zu unterdrücken.
Um nicht zu bewirken, daß Silber, welches in einem
Reaktionsprodukt enthalten ist, beim Anlegen einer Spannung
unter einer Hochtemperaturatmosphäre leitfähig wird, sogar
wenn das Reaktionsprodukt (eine durch eine chemische Reak
tion eines anorganischen Bindemittels und Silber gebildete
Substanz) in der Umgebung der Verdrahtungsteile durch ein
Backen der Leitfähigkeitspaste gebildet wird, richteten die
Erfinder ihr Augenmerk darauf, ein Material zur Verfügung
zu stellen, welches verhindert, daß das Reaktionsprodukt
zwischen den Verdrahtungsteilen leitfähig ist, d. h. ein
Leitfähigkeitsunterdrückungsmittel.
Die vorliegende Erfindung wurde basierend auf der obi
gen Betrachtung gemacht und betrifft eine Leiterplatte, um
fassend Verdrahtungsteile, welche Silber enthalten, und ein
Leitfähigkeitsunterdrückungsmittel, welches zwischen den
Verdrahtungsteilen vorgesehen ist, um zu verhindern, daß
das zwischen den Verdrahtungsteilen angelagerte Silber
leitfähig ist.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird aufgrund der Tat
sache, daß das Leitfähigkeitsunterdrückungsmittel zwischen
den Verdrahtungsteilen vorhanden ist, auch dann, wenn das
Reaktionsprodukt zwischen den Verdrahtungsteilen angelagert
ist, das in dem Reaktionsprodukt enthaltene Silber nicht
leitfähig. Daher kann die Isolierverschlechterung zwischen
den Verdrahtungsteilen geeignet unterdrückt werden, welche
für gewöhnlich auftritt, wenn eine Spannung zwischen den
Verdrahtungsteilen, die Silber enthalten, auf der Leiter
platte unter einer Hochtemperaturatmosphäre angelegt wird,
unabhängig davon, ob Wasser oder Wasserdampf anwesend oder
abwesend sind. Das heißt, daß Hochtemperatur-Leckverlust
phänomen kann geeignet unterdrückt werden.
Wenn das Leitfähigkeitsunterdrückungsmittel zwischen
den Verdrahtungsteilen zur Verfügung gestellt wird, muß es
gut an dem isolierenden Substrat, wie einem Aluminiumoxid
substrat, anhaften. Um eine solche gute Anhaftung zu rea
lisieren, ist es bevorzugt, eine Isolierpastenzusammenset
zung zu verwenden, welche mittels einer anorganischen Fest
stoffkomponente gebildet wird, die das Leitfähigkeitsunter
drückungsmittel enthält. In diesem Fall kann die Isolier
pastenzusammensetzung durch Drucken, Backen usw. gut an dem
isolierenden Substrat angehaftet werden.
Als ein Ergebnis des Experiments und der Untersuchung
zur Findung eines geeigneten Materials für das Leitfähig
keitsunterdrückungsmittel zeigte es sich, daß eine Kalium
verbindung bevorzugt ist. Es wird daher bevorzugt, daß eine
Kaliumverbindung als das Leitfähigkeitsunterdrückungsmittel
verwendet wird.
Die Leiterplatte wird erhalten, wenn, wie oben be
schrieben, die Verdrahtungsteile durch Drucken und Backen
einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, welche Silber
enthält, auf einem isolierenden Substrat ausgebildet wer
den. Zu diesem Zeitpunkt kann eine Kaliumverbindung zwi
schen den Verdrahtungsteilen vorhanden sein, indem eine
Isolierpastenzusammensetzung, welche die Kaliumverbindung
enthält, durch Drucken usw. aufbeschichtet wird, gefolgt
von einer Wärmebehandlung der Leitfähigkeitspastenzusammen
setzung, wie einem Backen. Durch Beschichten (wie z. B.
Drucken) und Backen der Leitfähigkeitspastenzusammenset
zung, wird, wie oben beschrieben, ein Reaktionsprodukt
gebildet.
Gleichzeitig wird die zuvor zur Verfügung gestellte und
zwischen den Verdrahtungsteilen vorhandene Kaliumverbindung
durch die Wärmebehandlung zu einem Kaliumoxid oder Glas,
welches dieses enthält, (nachfolgend als Kaliumoxide be
zeichnet). Sie sind in dem aus der Leitfähigkeitspasten
zusammensetzung gebildeten Reaktionsprodukt zwischen den
Verdrahtungsteilen vorhanden und unterdrücken den Vorgang
des Leitfähig-Werdens von Silber beim Anlegen einer Span
nung zwischen den Verdrahtungsteilen unter einer Hochtempe
raturatmosphäre. Es kann daher das Hochtemperatur-Leckver
lustphänomen gut unterdrückt werden.
Als ein Ergebnis einer weiteren Untersuchung zeigte
sich, daß das Hochtemperatur-Leckverlustphänomen geeignet
unterdrückt werden kann, sogar wenn eine Kaliumverbindung
in einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung enthalten ist,
welche Verdrahtungsteile auf einer Leiterplatte durch Bak
ken ausbildet. Es ist daher bevorzugt, daß eine Kaliumver
bindung in einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung ent
halten ist, welche erhalten wird durch Dispergieren eines
leitfähigen Metallpulvers, welches Silber enthält, und ei
nes anorganischen Bindemittels in einem organischen Träger
medium.
Unter Verwendung einer solchen Leitfähigkeitspasten
zusammensetzung ist, obwohl das Reaktionsprodukt, welches
Silber enthält, in der Umgebung der Verdrahtungsteile ange
lagert ist, welche durch Beschichten (wie z. B. Drucken) und
Backen der Leitfähigkeitspastenzusammensetzung auf einem
isolierenden Substrat gebildet sind, die Kaliumverbindung,
welche in der Leitfähigkeitspastenzusammensetzung enthalten
ist, durch Verdampfen während des Backens ebenfalls in dem
Reaktionsprodukt in der Form des Kaliumoxids vorhanden. Es
kann daher das Hochtemperatur-Leckverlustphänomen geeignet
unterdrückt werden, indem unter Verwendung der oben be
schriebenen Leitfähigkeitspastenzusammensetzung der Erfin
dung ein Isolierfehler zwischen den Verdrahtungsteilen
verhindert wird.
Die oben beschriebene Erfindung basiert auf dem Kon
zept, daß sogar wenn das Reaktionsprodukt durch Backen in
der Umgebung der Verdrahtungsteile vorhanden ist, Silber,
welches in dem Reaktionsprodukt vorhanden ist, beim Anlegen
einer Spannung unter einer Hochtemperaturatmosphäre durch
die Kaliumverbindung, die zwischen den Verdrahtungsteilen
vorhanden ist, daran gehindert wird, leitfähig zu werden.
Die Erfinder führten ferner folgende Untersuchung und
Experiment durch. Ein Pastenmaterial, welches kein anorga
nisches Bindemittel enthielt, wurde unter Verwendung einer
allgemeinen Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, welche
Silber enthielt, hergestellt, und es wurden Verdrahtungs
teile durch Drucken und Backen des nichtanorganischen Bin
demittels auf einem keramischen Aluminiumoxidsubstrat aus
gebildet. Mittels einer SEM-Vorrichtung wurde bestätigt,
daß Silberteilchen in einem isolierten Zustand in der Umge
bung der Verdrahtungsteile vorhanden waren. Wenn eine Span
nung zwischen den Verdrahtungsteilen unter einer Hochtempe
raturatmosphäre angelegt wurde, wurde die Isoliereigen
schaft zwischen den Verdrahtungsteilen nicht verschlech
tert.
Es zeigte sich ebenfalls, daß das Silberpulver als eine
Komponente der Leitfähigkeitspastenzusammensetzung durch
Backen an dem isolierenden Substrat angelagert und vorhan
den war; es bei einer Backtemperatur von 700°C zu verdamp
fen begann; und seine angelagerte Menge plötzlich zunahm,
wenn die Backtemperatur ungefähr 800°C oder höher wurde.
Anhand des Obigen läßt sich feststellen, daß bei den
Verdrahtungsteilen, welche durch Drucken und Backen der
Leitfähigkeitspaste, welcher Silber enthält, gebildet wer
den, das Silber enthaltende Reaktionsprodukt, welches in
der Umgebung der Verdrahtungsteile angelagert ist, um die
Isolierverschlechterung zu verursachen, ohne dem anorgani
schen Bindemittel nicht gebildet wird.
Daher wird das Hochtemperatur-Leckverlustphänomen, das
heißt, die Bildung des Reaktionsprodukts und die Bildung
einer Leitfähigkeit des Silbers, in großem Maße beeinflußt
durch die Zusammensetzung des anorganischen Bindemittels in
der Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, des Mischungsver
hältnisses des anorganischen Bindemittels relativ zu dem
Silberpulver und der Zusammensetzung des verwendeten iso
lierenden Substrats. Ferner werden zusätzlich zu dem Obigen
durch die Dichte und die Backbedingungen der Leitfähig
keitspastenzusammensetzung, die auf dem isolierenden
Substrat gebildet wird, die angelagerte Menge des Reak
tionsprodukts und ihr Zustand des Leitfähig-Werdens eben
falls beeinflußt.
Daher wurden im Hinblick auf die Möglichkeit einer Un
terdrückung der Bildung des Reaktionsprodukts selbst, wel
ches die Isolierverschlechterung verursacht, Experimente
und Untersuchungen durchgeführt, bezüglich des anorgani
schen Bindemittels, des isolierenden Substrats und der
Backbedingungen der Leitfähigkeitspastenzusammensetzung,
welche erhalten wird durch Dispergieren eines leitfähigen
Metallpulvers, welche Silber enthält, und eines anorgani
schen Bindemittels in einem organischen Trägermedium.
Als ein Ergebnis wurde bestätigt, daß es ein anorgani
sches Bindemittel gibt, welches die Bildung des Reaktions
produkts, das die Isolierverschlechterung verursacht, un
terdrücken kann. Das heißt, wenn eine Substanz, welche das
Verdampfen von Silber unterdrückt, als das anorganische
Bindemittel in der Leitfähigkeitspastenzusammensetzung ver
wendet wird, welche erhalten wird durch Dispergieren eines
leitfähigen Metallpulvers, welches Silber enthält, und ei
nes anorganischen Bindemittels in einem organischen Träger
medium, kann die Bildung des Reaktionsprodukts, welches
bewirkt, daß das Silber leitfähig wird, unterdrückt werden,
und somit kann das Hochtemperatur-Leckverlustphänomen ge
eignet verhindert werden. Als solches kann ein anorgani
sches Bindemittel, eine Glasfritte und eine Glasfritten
mischung verwendet werden.
Ferner kann das anorganische Bindemittel ein Bismutoxid
sein. Das Bismutoxid verdampft während des Backens der
Leitfähigkeitspastenzusammensetzung und ist in dem Reak
tionsprodukt, welches an dem isolierenden Substrat angela
gert ist, vorhanden. Wenn das Bismutoxid in dem Reaktions
produkt vorhanden ist, ist es schwierig, daß das Reaktions
produkt leitfähig wird, und je größer die Menge des Bismut
oxids ist, desto schwieriger ist es, daß es leitfähig wird.
Das anorganische Bindemittel kann eine Mischung aus einer
Glasfritte und einem Bismutoxid sein.
Basierend auf dem wie oben beschriebenen Wissen über
das Pastenmaterial mit einem nichtanorganischen Bindemittel
kann eine Leitfähigkeitspastenzusammensetzung verwendet
werden, welche kein anorganisches Bindemittel zur Bildung
des Reaktionsprodukts enthält, welches bewirkt, daß das
Silber darin leitfähig wird. Das heißt, es kann eine Leit
fähigkeitspastenzusammensetzung, welche ein leitfähiges
Metallpulver, das Silber enthält, und ein organisches Trä
germedium umfaßt, ohne der Miteinbeziehung eines anorgani
schen Bindemittels gebildet werden.
Die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung wird auf ein
Substrat gedruckt und das organische Trägermedium wird
durch eine Trocknungsbehandlung (bei ungefähr von 100°C bis
150°C) verdampft, gefolgt von einem Backen. Daher beginnt
lediglich Silber während des Backens zu verdampfen und wird
an das isolierende Substrat in der Form von isoliertem Sil
ber angelagert. Auch wenn eine Spannung zwischen den Ver
drahtungsteilen unter einer Hochtemperaturatmosphäre ange
legt wird, wobei Silber in der isolierten Form vorhanden
ist, wird das Silber nicht leitfähig. Es kann folglich eine
Leiterplatte mit einer guten Isoliereigenschaft zwischen
den Verdrahtungsteilen erhalten werden.
Da das Auftreten des Hochtemperatur-Leckverlustphäno
mens von dem Abstand zwischen den Verdrahtungsteilen ab
hängt (siehe Fig. 1), wird ferner angenommen, daß dies be
einflußt wird durch die Ausbreitungsdistanz des Silbers
usw. von der Leitfähigkeitspastenzusammensetzung. Als ein
Ergebnis einer weiteren Untersuchung in diesem Zusammenhang
wurde gefunden, daß die Ausbreitungsdistanz des Silbers un
gefähr 200 µm beträgt. Es wird daher angenommen, daß das
Hochtemperatur-Leckverlustphänomen auftritt, wenn der Ab
stand zwischen den Verdrahtungsteilen ungefähr 400 µm oder
weniger beträgt. Zum Beispiel beträgt bei der allgemeinen
Leiterplatte wie einer Hybrid-IC-Platte der Abstand zwi
schen den Verdrahtungsteilen im allgemeinen 500 µm oder
weniger, wobei das Hochtemperatur-Leckverlustphänomen dazu
neigt, aufzutreten. Es ist daher wirksam, die oben be
schriebene Isolierpastenzusammensetzung und die Leitfähig
keitspastenzusammensetzung bei der Leiterplatte, bei wel
cher der Abstand zwischen den Verdrahtungsteilen 500 µm
oder weniger beträgt, zu verwenden.
Das Silberpulver als eine Komponente der Leitfähig
keitspastenzusammensetzung beginnt bei einer Backtemperatur
von 700°C oder höher zu verdampfen, und dessen an das
Substrat angelagerte Menge nimmt bei ungefähr 800°C oder
höher plötzlich zu. Es ist somit wirksam, die oben be
schriebene Isolierpastenzusammensetzung und die Leitfähig
keitspastenzusammensetzung in einer Leiterplatte mit Ver
drahtungsteilen zu verwenden, welche auf eine Temperatur
von 700°C oder höher erhitzt wird.
Ferner haben die Erfinder bestätigt, daß das Hochtempe
ratur-Leckverlustphänomen gerne dann auftritt, wenn das
Substrat, das Verdrahtungsteile besitzt, die Silber enthal
ten, ein Aluminiumoxidsubstrat ist.
Basierend auf der Kenntnis des Abstands zwischen den
Verdrahtungsteilen, den Backbedingungen der Leitfähig
keitspastenzusammensetzung und der Zusammensetzung des ver
wendeten isolierenden Substrats ist es bevorzugt, die Iso
lierpastenzusammensetzung, die Leitfähigkeitspastenzusam
mensetzung, die Leiterplatte, das Verfahren zur Verwendung
der Isolierpastenzusammensetzung, das Verfahren zur Verwen
dung der Leitfähigkeitspastenzusammensetzung und das Ver
fahren zur Herstellung einer Leiterplatte, welche geeignet
das Hochtemperatur-Leckverlustphänomen unterdrücken kann,
anzuwenden.
Weitere Vorteile und Merkmale der vorliegenden Erfin
dung ergeben sich aufgrund der Beschreibung von Ausfüh
rungsbeispielen sowie anhand der Zeichnungen.
Es zeigt:
Fig. 1 einen Graph, welcher das Verhältnis zwischen
der abgelaufenen Zeit unter einer Hochtempera
turatmosphäre und einem Isolierwiderstandswert
zwischen Verdrahtungsteilen aufzeigt;
Fig. 2 einen Graph, welcher das Verhältnis zwischen
der an die Verdrahtungsteile angelegten elek
trischen Feldstärke und der Isolierfehlerzeit
aufzeigt;
Fig. 3 eine vergrößerte schematische Ansicht, welche
auf der Betrachtung der Umgebung der Verdrah
tungsteile auf einem isolierenden Substrat mit
tels TEM basiert;
Fig. 4 eine schematische Ansicht, welche ein Substrat
δ in dem Verifizierungsexperiment B2 aufzeigt;
Fig. 5 eine schematische Ansicht, welche ein Substrat
ε in dem Verifizierungsexperiment B3 aufzeigt;
Fig. 6 eine schematische Ansicht, welche einen Zustand
aufzeigt, bei dem das Substrat δ und das
Substrat ε sich gegenüberstehen;
Fig. 7A und 7B schematische Ansichten, welche Zustände
aufzeigen, bei denen die Substratabstände zwi
schen dem Substrat δ und dem Substrat ε vari
iert werden;
Fig. 8 einen Graph, welcher ein Verhältnis zwischen
einer angelagerten Menge an Silber und der
Isolierfehlerzeit in dem Verifizierungsexperi
ment B3 aufzeigt;
Fig. 9 eine Querschnittsansicht, welche den Aufbau ei
ner Leiterplatte gemäß einer ersten Ausfüh
rungsform aufzeigt;
Fig. 10A bis 10C erläuternde Ansichten, welche ein Bei
spiel des Verfahrens zur Herstellung der Lei
terplatte unter Verwendung der Isolierpasten
zusammensetzung gemäß der ersten Ausführungs
form aufzeigen;
Fig. 11A bis 11D erläuternde Ansichten, welche ein ande
res Beispiel des Verfahrens zur Herstellung der
Leiterplatte unter Verwendung der Isolier
pastenzusammensetzung gemäß der ersten Ausfüh
rungsform aufzeigen;
Fig. 12 eine Tabelle, welche Verbindungen aufzeigt, die
in Leitfähigkeitspastenzusammensetzungen gemäß
einer zweiten Ausführungsform verwendet werden;
Fig. 13 eine Tabelle, welche Mischungsverhältnisse und
verschiedene Charakteristiken der Proben 1 bis
15 zusammen mit den Leitfähigkeitspastenzusam
mensetzungen in der zweiten Ausführungsform
aufzeigt;
Fig. 14 eine Tabelle, welche Mischungsverhältnisse und
verschiedene Charakteristiken der Proben 16 bis
31 zusammen mit den Leitfähigkeitspastenzusam
mensetzungen in der zweiten Ausführungsform
aufzeigt;
Fig. 15 eine Tabelle, welche Mischungsverhältnisse und
Hochtemperatur-Leckverlustcharakteristiken der
Leitfähigkeitspastenzusammensetzungen gemäß ei
ner dritten Ausführungsform aufzeigt;
Fig. 16 einen Graph, welcher ein Verhältnis zwischen
einem Gewichtsverhältnis des Glasanteils und
einem Verhältnis bezüglich des Vorkommens von
Isolierfehlern und ein Verhältnis zwischen dem
Gewichtsverhältnis des Glasanteils und einem
Widerstandswert zwischen den Verdrahtungsteilen
aufzeigt;
Fig. 17 eine Tabelle, welche Mischungsverhältnisse und
verschiedene Eigenschaften der Leitfähigkeits
pastenzusammensetzungen in der vierten Ausfüh
rungsform aufzeigt; und
Fig. 18 eine Tabelle, welche Mischungsverhältnisse und
verschiedene Eigenschaften der Leitfähigkeits
pastenzusammensetzungen in der fünften Ausfüh
rungsform aufzeigt.
Diese Ausführungsform betrifft eine Isolierpastenzusam
mensetzung, welche dadurch charakterisiert ist, daß eine
Kaliumverbindung in einer Menge von 5 Gewichtsanteilen bis
30 Gewichtsanteilen berechnet als Kaliumoxid in Relation zu
100 Gewichtsanteilen eines anorganischen Feststoffanteils
enthalten ist. Diese Ausführungsform kann angewendet werden
auf eine Leiterplatte, welche Verdrahtungsteile umfaßt, die
Silber enthalten und auf einem Substrat ausgebildet sind,
zwischen denen ein Abstand von 500 µm oder weniger besteht,
eine Leiterplatte, welche Verdrahtungsteile umfaßt, die
Silber enthalten und auf einem Substrat ausgebildet sind,
die auf 700°C oder höher erhitzt wird, und dergleichen. Es
ist insbesondere dann wirksam, wenn die Isolierpastenzusam
mensetzung dieser Ausführungsform auf die Leiterplatte an
gewendet wird, die ein Aluminiumoxidsubstrat verwendet.
Fig. 9 zeigt eine Querschnittsansicht der Leiterplatte
gemäß der ersten Ausführungsform auf. Die Zahl 10 bezeich
net eine Leiterplatte, 1 bezeichnet ein Aluminiumoxid
substrat, welches eine elektrisch isolierende Eigenschaft
besitzt und eine Glassubstanz und Aluminiumoxidpulver um
faßt, und 2 bezeichnet Verdrahtungsteile (Dickfilmver
drahtungsteile) in der Form einer Vielzahl an Streifen,
welche Silber enthalten und auf dem Substrat 1 ausgebildet
sind. Die Verdrahtungsteile 2 sind mit dazwischen einem
Verdrahtungsabstand L1 (zum Beispiel 100 µm) angeordnet und
erstrecken sich in der zum Papier senkrechten Richtung. In
dieser Ausführungsform ist zwischen den Verdrahtungsteilen
2 auf dem Substrat 1 ein Kaliumoxid oder Glas, welches
dieses enthält (nachfolgend wird auf Kaliumoxid Bezug
genommen), vorhanden.
Die Leiterplatte 10 wird durch Ausbilden der Verdrah
tungsteile 2 auf dem Substrat 1 erhalten. Die Verdrahtungs
teile 2 werden durch Drucken und Backen einer Leitfähig
keitspastenzusammensetzung, welche Silber enthält, gebil
det. Da Kaliumoxide in dem Reaktionsprodukt vorhanden sind,
welches während des Backens der Leitfähigkeitspastenzusam
mensetzung zwischen den Verdrahtungsteilen 2 gebildet wird,
wird das Reaktionsprodukt daran gehindert, leitfähig zu
sein. Als ein Ergebnis kann eine Leiterplatte mit einer ho
hen Isoliereigenschaft zwischen den Verdrahtungsteilen 2
erhalten werden, und das Hochtemperatur-Leckverlustphänomen
kann geeignet unterdrückt werden.
Als die Kaliumverbindung können Kaliumoxid, Kalium
gluconat, Kaliumhydroxid, Kaliumcitrat und Kaliumhydrogen
tartrat verwendet werden.
Die Kaliumverbindung wird auf eine solche Weise ge
mischt, daß deren Menge von 5 Gewichtsanteilen bis
30 Gewichtsanteilen in Einheiten von Kaliumoxid in Relation
zu 100 Gewichtsanteilen des anorganischen Feststoffanteils
beträgt, um auf diese Weise die Isolierpastenzusammenset
zung dieser ersten Ausführungsform herzustellen. Als ein
Ergebnis der Untersuchungen mit Hinblick auf die Menge der
Kaliumverbindung wurde festgestellt, daß wenn die Menge der
Kaliumverbindung weniger als 5 Gewichtsanteile beträgt, die
Unterdrückung der Leitfähigkeit von Silber nicht in ausrei
chendem Maße erreicht wird, und wenn sie 30 Gewichtsanteile
übersteigt, die Haftungseigenschaft zwischen der Isolier
pastenzusammensetzung und dem isolierenden Substrat unzu
reichend wird.
Die Fig. 10A bis 10C sind erläuternde Ansichten,
welche ein Beispiel des Verfahrens zur Herstellung einer
Leiterplatte unter Verwendung der Isolierpastenzusammenset
zung der ersten Ausführungsform aufzeigen.
Die Isolierpastenzusammensetzung 3 wird vor dem Drucken
einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung 2 auf das
Substrat 1 angewendet. Als ein Ergebnis kann die Kalium
verbindung an zumindest dem Abschnitt zwischen den Verdrah
tungsteilen 2 auf dem Substrat 1 vorhanden sein. Zu diesem
Zeitpunkt kann die Kaliumverbindung durch Maskieren nur an
dem Abschnitt zwischen den Verdrahtungsteilen vorhanden
sein.
Wenn die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung gedruckt
und gebacken wird, wird ein Reaktionsprodukt gebildet und
zwischen den Verdrahtungsteilen 2 ebenso wie auf den Ver
drahtungsteilen 2 verteilt. Gleichzeitig wird die Kalium
verbindung, welche zuvor angewendet und zwischen den Ver
drahtungsteilen 2 vorhanden ist, durch das Backen (zum Bei
spiel bei 700°C oder höher) zu Kaliumoxiden und ist eben
falls in dem Reaktionsprodukt, welches durch die Leitfähig
keitspastenzusammensetzung gebildet wird, vorhanden, um auf
diese Weise das Reaktionsprodukt daran zu hindern, leit
fähig zu sein.
Vor dem Drucken und Backen der Leitfähigkeitspasten
zusammensetzung kann die Isolierpastenzusammensetzung 3
einer Wärmebehandlung unterzogen werden, um die Kaliumver
bindung in den Zustand von Kaliumoxiden überzuführen.
Während in den später beschriebenen Fig. 10A-10C und
11A-11D die resultierende Isolierpastenzusammensetzung 3
der Einfachheit halber in der Form eines Films dargestellt
ist, ist die Kaliumverbindung in der Form von Granalien auf
dem Substrat 1 dispergiert, da die flüchtigen Komponenten
in der Isolierpastenzusammensetzung beim Backen verdampfen.
Die Anwendung und die Wärmebehandlung der Isolier
pastenzusammensetzung können wie oben beschriebenen in Be
zug auf das Drucken und Backen der Leitfähigkeitspastenzu
sammensetzung jederzeit durchgeführt werden. Die Fig.
11A bis 11D zeigen ein anderes Beispiel des Verfahrens zur
Herstellung einer Leiterplatte unter Verwendung der Iso
lierpastenzusammensetzung der ersten Ausführungsform.
Wie in den Fig. 11A bis 11D aufgezeigt, wird nach
dem Drucken einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung 2 auf
ein Substrat 1 eine Isolierpastenzusammensetzung 3 auf min
destens Abschnitte zwischen den Verdrahtungsteilen 2 aufbe
schichtet (gedruckt). Dann werden die beiden Pasten gleich
zeitig gebacken. Alternativ dazu kann die Leitfähigkeits
pastenzusammensetzung auf das Substrat 1 gedruckt und ge
backen werden, um die Verdrahtungsteile 2 auszubilden, und
dann kann die Isolierpastenzusammensetzung 3 aufbeschichtet
(gedruckt) und gebacken werden, so daß das Kaliumoxid zwi
schen den Verdrahtungsteilen 2 vorhanden ist. In beiden
Verfahren kann das Kaliumoxid in dem Reaktionsprodukt vor
handen sein und das Reaktionsprodukt daran hindern, leit
fähig zu sein.
Die Kaliumverbindung oder die Kaliumoxide, welche zwi
schen den Verdrahtungsteilen 2 bereitgestellt werden, kön
nen in der Form verwendet werden, in der sie in einem Lö
sungsmittel gelöst sind. Es kann zum Beispiel eine Kalium
hydroxidlösung verwendet werden.
Der anorganische Feststoffanteil kann eine Glassubstanz
sein, welche eine Zusammensetzungskomponente des kerami
schen Substrats ist. Das keramische Substrat wird im allge
meinen erhalten durch Dispergieren von Aluminiumoxidpulver
und einer Glassubstanz in einem Lösungsmittel und dem For
men zu einer Plattenform, gefolgt von einem Sintern bei
800°C bis 1200°C. Zu diesem Zeitpunkt wird die Kaliumver
bindung zu Kaliumoxiden, und die Kaliumoxide sind in der
Glassubstanz enthalten, welche an den Aluminiumoxidgrenzen
und im Oberflächenbereich des Substrats 1 vorhanden ist.
Die Glassubstanz wird bei der Backtemperatur der Leitfähig
keitspastenzusammensetzung etwas erweicht. Wenn die Leit
fähigkeitspastenzusammensetzung auf das Substrat gedruckt
und gebacken wird, ist das während des Backens gebildete
Reaktionsprodukt als eine angelagerte Schicht auf dem
Substrat 1 vorhanden, in dem Zustand, in dem die Kalium
oxide in der Glassubstanz enthalten sind. Das Reaktionspro
dukt, welches die Kaliumoxide enthält, wird daran gehindert
leitfähig zu sein, wodurch eine in hohem Maße zuverlässige
Leiterplatte erhalten wird und das Hochtemperatur-Leckver
lustphänomen geeignet unterdrückt werden kann.
In dieser zweiten Ausführungsform ist eine Kaliumver
bindung enthalten in einer Leitfähigkeitspastenzusammenset
zung (Dickfilmleitfähigkeitspaste) zum Ausbilden mittels
Backen von Verdrahtungsteilen in der Form eines Dickfilms
(Dickfilmverdrahtungsteile) einer Leiterplatte. Das heißt,
die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung (Dickfilmleitfähig
keitspaste), welche erhalten wird durch Dispergieren eines
leitfähigen Metallpulvers, das Silber enthält, und eines
anorganischen Bindemittels in einem organischen
Trägermedium, enthält ferner die Kaliumverbindung. Die
Leitfähigkeitspastenzusammensetzung dieser Ausführungsform
wird geeignet für die Leiterplatten verwendet, welche
gleich denen sind, die in der ersten Ausführungsform
beschrieben sind.
Das heißt, die Leiterplatte der zweiten Ausführungsform
besitzt denselben Aufbau wie die in Fig. 9 aufgezeigte. Die
Dickfilmleitfähigkeitspaste, welche mindestens Silber als
ein leitfähiges Metall und eine Kaliumverbindung umfaßt,
wird auf ein elektrisch isolierendes Substrat 1, welches
durch eine Glassubstanz und Aluminiumoxidpulver gebildet
ist, gedruckt und gebacken. Somit werden auf dem Substrat 1
Verdrahtungsteile 2 ausgebildet, um eine Leiterplatte 10 zu
erhalten. Die in der Dickfilmleitfähigkeitspaste enthaltene
Kaliumverbindung wird während des Backens der Leitfähig
keitspaste zusammen mit dem Silber und dem anorganischen
Bindemittel verdampft. Sie ist in dem Reaktionsprodukt als
die Kaliumoxide vorhanden.
Es wird daher das Reaktionsprodukt, welches Silber ent
hält, in der Umgebung der Verdrahtungsteile 2 angelagert,
und die Kaliumoxide sind in dem Reaktionsprodukt vorhanden.
Die in dem Reaktionsprodukt vorhandenen Kaliumoxide besit
zen eine Wirkungsweise, welche verhindert, daß das Reak
tionsprodukt leitfähig ist. Daher kann das Hochtemperatur-
Leckverlustphänomen unterdrückt werden. Je größer die Menge
der Kaliumoxide in dem Reaktionsprodukt ist, desto größer
ist der Effekt, der verhindert, daß das Reaktionsprodukt
leitfähig ist.
Als das leitfähige Metallpulver kann in der Dickfilm
leitfähigkeitspaste verwendetes Silberpulver verwendet wer
den. Das Silberpulver kann, falls notwendig, Palladium,
Platin, Gold, Kupfer usw. enthalten. Es kann ein Pulver
verwendet werden, in welchem Silber und die oben beschrie
benen Metalle zuvor in der Form einer Legierung ausgebildet
sind.
Das im allgemeinen verwendete Silberpulver besitzt ei
nen mittleren Teilchendurchmesser von 0,5 µm bis 7 µm und
eine spezifische Oberfläche von 0,5 m2/g bis 3 m2/g, und
das Pulver aus Palladium, Platin und dergleichen besitzt
einen mittleren Teilchendurchmesser von 0,1 µm bis 1 µm und
eine spezifische Oberfläche von 10 m2/g bis 40 m2/g.
Die Kaliumverbindung zur Bildung von Kaliumoxid, oder
einer Glassubstanz, die Kaliumoxid enthält, während des
Backens der Dickfilmleitfähigkeitspaste, kann Kaliumoxid,
Kaliumcarbonat und dergleichen sein, und es kann auch eine
organische Kaliumverbindung wie Kaliumgluconat verwendet
werden. Die Kaliumverbindung kann beim Vermischen in der
Form von Kaliumoxid vorliegen oder kann ein Vorläufer sein,
welcher während des Backens der Dickfilmleitfähigkeitspaste
Kaliumoxid bildet.
Die notwendige Mischmenge der Kaliumverbindung ist
extrem gering. Sie kann direkt als Kaliumoxid in die
Dickfilmleitfähigkeitspaste gemischt und dispergiert wer
den. Alternativ dazu kann sie als ein Bestandteil der Glas
fritte in das anorganische Bindemittel gemischt werden. Die
Mischmenge von 0,01 Gewichtsanteilen oder mehr in Einheiten
von Kaliumoxid relativ zu 100 Gewichtsanteilen des leitfä
higen Metallpulvers kann einen Isolierfehler zwischen den
Verdrahtungsteilen 2 verhindern. Bei Berücksichtigung der
Lotcharakteristiken beträgt die Mischmenge der Kaliumver
bindung vorzugsweise von 0,01 Gewichtsanteilen bis 0,4 Ge
wichtsanteilen in Einheiten von Kaliumoxid relativ zu 100
Gewichtsanteilen des leitfähigen Metallpulvers. Ein Teil
der vermischten Kaliumverbindung verbleibt während des Bak
kens der Leitfähigkeitspaste in der Form von Glas zusammen
mit dem anorganischen Bindemittel in dem leitfähigen Film,
welcher als die Verdrahtungsteile fungiert. Wenn eine große
Menge an Kaliumoxid in der Form von Glas in dem leitfähigen
Film verbleibt, beeinflußt es die Lotcharakteristiken des
leitfähigen Films. Es wurde bestätigt, daß wenn die Misch
menge der Kaliumverbindung 0,4 Gewichtsanteile übersteigt,
das Kaliumoxid, wenn auch allmählich, die Lotcharakteristi
ken des leitfähigen Films nachteilig beeinflußt.
Wenn die Kaliumverbindung als die organische Metall
verbindung verwendet wird, kann sie in einem Lösungsmittel
des organischen Trägermediums gelöst sein oder kann an der
Oberfläche des leitfähigen Metallpulvers wie Silber angela
gert sein.
In der Leitfähigkeitspastenzusammensetzung dieser zwei
ten Ausführungsform können eine Bismutverbindung, eine
Rutheniumverbindung und eine Nickelverbindung zur Verbesse
rung der Lotcharakteristiken verwendet werden.
Die Bismutverbindung kann Bismutoxid oder ein Vorläufer
zur Ausbildung von Bismutoxid beim Backen sein. Ferner kann
eine organische Verbindung wie Bismutoctylat verwendet wer
den. Sie kann als eine Komponente der Glasfritte in dem an
organischen Bindemittel vermischt sein. Als Bismutoxidpul
ver kann Dibismutpentoxid, welches zu einer mittleren Teil
chengröße von 1 µm bis 4 µm pulverisiert ist, verwendet
werden. Die vermischte Bismutverbindung ist in dem Reak
tionsprodukt ähnlich wie die Kaliumverbindung vorhanden und
weist einen Effekt auf, der verhindert, daß das Reaktions
produkt leitfähig ist. Wenn eine überschüssige Menge der
Bismutverbindung zugegeben wird, beeinflußt diese ver
gleichbar zu der Kaliumverbindung die Lotcharakteristiken
des leitfähigen Films.
Der Gehalt der Bismutverbindung beträgt vorzugsweise
von 0,1 Gewichtsanteilen bis 20 Gewichtsanteilen in Einhei
ten von Bismutoxid relativ zu 100 Gewichtsanteilen des
leitfähigen Metallpulvers, um sowohl die Hochtemperatur-
Leckverlustcharakteristiken (Leistungsfähigkeit zur Unter
drückung des Hochtemperatur-Leckverlustphänomens) als auch
die Lotcharakteristiken zu erreichen.
Das anorganische Bindemittel kann aus solchen ausge
wählt werden, welche für die Dickfilmleitfähigkeitspaste
verwendet wurden, unter Berücksichtigung der Kombination
aus herkömmlichen anorganischen Bindemitteln, welche nach
dem Backen verschiedene notwendige Charakteristiken in dem
leitfähigen Film erzielen können.
In einigen Fällen werden die Lotcharakteristiken des
leitfähigen Films nach dem Backen verbessert, wenn als das
anorganische Bindemittelpulver der Dickfilmleitfähig
keitspaste ein Borsilicatglas der Zinkoxidreihe mit einem
großen Zinkanteil, eine Vanadiumverbindung, eine Kupfer
verbindung, eine Manganverbindung oder eine Chromverbindung
verwendet werden. Eine solche Zusammensetzung besitzt je
doch gleichzeitig eine Tendenz zur Verschlechterung der
Hochtemperatur-Leckverlustcharakteristiken. Sie werden da
her in Bezug auf die Lotcharakteristiken vorzugsweise so
lange zugemischt, solange die Hochtemperatur-Leckverlust
charakteristiken ausreichend sind.
Als die Rutheniumverbindung können Rutheniumoxid und
ein Vorläufer, wie Rutheniumoctylat, welcher während des
Backens der Dickfilmleitfähigkeitspaste Rutheniumoxid bil
det, verwendet werden. Als Rutheniumoxidpulver kann Ruthe
niumdioxidpulver mit einer mittleren Teilchengröße von 1 µm
bis 10 µm und einer spezifischen Oberfläche von 10 m2/g bis
50 m2/g verwendet werden.
Als die Nickelverbindung können Nickeloxidpulver und
ein Vorläufer, wie Nickelmetallpulver, welcher während des
Backens der Dickfilmleitfähigkeitspaste Nickeloxid bildet,
verwendet werden. Als das Nickelmetallpulver kann Nickel
pulver mit einer mittleren Teilchengröße von 0,1 µm bis
2 µm und einer spezifischen Oberfläche von 10 m2/g bis
20 m2/g verwendet werden.
Das Vermischen einer geeigneten Menge der Ruthenium
verbindung verbessert im extremen Maße die Lotcharakte
ristiken, insbesondere die Löteigenschaft. Wenn dessen
Mischmenge erhöht wird, steigt die Wahrscheinlichkeit des
Auftretens des Isolierfehlers, jedoch werden die Lotcharak
teristiken verbessert, was den Isolierfehler überlagert.
Wenn sie jedoch in einer überschüssigen Menge (mehr als 3
Gewichtsanteile in Einheiten von Rutheniumoxid relativ zu
100 Gewichtsanteilen des leitfähigen Metallpulvers) ver
mischt wird, wird sie auf der Oberfläche des leitfähigen
Films in Abhängigkeit von den Backbedingungen der Dickfilm
leitfähigkeitspaste abgelagert, wodurch die Löteigenschaft
verschlechtert wird.
Das Vermischen einer geeigneten Menge der Nickelverbin
dung verbessert die Lotcharakteristiken, insbesondere das
Haftvermögen des Lots. Wenn sie in einer überschüssigen
Menge (mehr als 3 Gewichtsanteile in Einheiten von Nickel
oxid relativ zu 100 Gewichtsanteilen des leitfähigen Me
tallpulvers) vermischt wird, werden die Löteigenschaft und
die Isoliereigenschaft allmählich verschlechtert, jedoch
ist das Ausmaß gering.
Wenn die vermischten Mengen der Rutheniumverbindung und
der Nickelverbindung weniger als 0,01 Gewichtsanteile in
Einheiten der entsprechenden Oxide relativ zu 100 Gewichts
anteilen des leitfähigen Metallpulvers betragen, können sie
nicht ihr Zweck des Vermischens (eine Verbesserung der
Lotcharakteristiken) erreichen. Daher reichen die Anteile
der Rutheniumverbindung und der Nickelverbindung vorzugs
weise von 0,01 Gewichtsanteile bis 3 Gewichtsanteile in
Einheiten der entsprechenden Oxide relativ zu 100 Gewichts
anteilen des leitfähigen Metallpulvers.
Als das organische Trägermedium können solche verwendet
werden, welche in der Dickfilmleitfähigkeitspaste verwendet
wurden, in welcher zum Beispiel ein Harz wie Ethylcellulose
in einem organischen Lösungsmittel wie Terpineol und
Butylcarbitol gelöst ist. Die Mischmenge des organischen
Trägermediums kann unter Berücksichtigung der Viskosität
und der Fließfähigkeit der Paste bestimmt werden, um ein
geeignetes Drucken zu erreichen.
Gemäß dieser zweiten Ausführungsform werden die neu ge
fundenen Hochtemperatur-Leckverlustcharakteristiken er
füllt, unter Beibehaltung der verschiedenen Charakteristi
ken, die für die herkömmliche Dickfilmleitfähigkeitspaste
notwendig sind. Sie hat daher eine Wirkung zur Erhöhung der
mechanischen und elektrischen Zuverlässigkeit der Dickfilm
leiterplatte.
Spezifische Beispiele, welche die Wirkungen der oben
beschriebenen Additive aufzeigen, werden nachfolgend unter
Bezug auf die Fig. 12 bis 14 beschrieben. Diese Bei
spiele zeigen lediglich die Wirkungen der oben beschriebe
nen Additive als eine qualitative Tendenz auf, und deren
bevorzugte Anteile sollten unter Berücksichtigung der Kom
ponenten der verschiedenen Leitfähigkeitspastenzusammenset
zungen quantitativ bestimmt werden.
Fig. 12 ist eine Tabelle, welche die in den Leitfähig
keitspastenzusammensetzungen der Beispiele verwendeten
Verbindungen aufzeigt. In der Tabelle entsprechen die Bis
mutverbindungen A und B, die Kaliumverbindungen A bis C und
die Glasfritten A bis E den Verbindungen der in den rechten
Spalten aufgezeigten Mischungen. Die Kaliumverbindung C ist
eine kaliumhaltige Glasfritte, in welcher K2O in einer
Glasfritte enthalten ist. Die Einheit der Zahlen in Klam
mern für die Glasfritten A bis E ist Gewichtsprozent.
Die Mischungsverhältnisse und die verschiedenen Charak
teristiken der Leitfähigkeitspastenzusammensetzungen der
spezifischen Beispiele sind in Fig. 13 (Proben 1 bis 15)
und Fig. 14 (Proben 16 bis 31) aufgezeigt. In beiden Figu
ren bedeutet Ru-Oxid Rutheniumoxid und V-Oxid bedeutet
Vanadiumoxid. In den Figuren bedeutet das Symbol den
Wert einschließlich der Menge der in der Glasfritte enthal
tenen Kaliumverbindung.
In einem organischen Trägermedium, in welchem ein
Ethylcelluloseharz in Terpineol aufgelöst ist, wurden Silb
er, Palladium (Pd) oder Platin als ein leitfähiges Metall
pulver und die Bismutverbindung, die Kaliumverbindung, die
Glasfritte und die verschiedenen anorganischen Bindemittel
pulver, welche in der Tabelle der Fig. 12 aufgezeigt sind,
mit den in den Tabellen der Fig. 13 und 14 aufgezeigten
Mischungsverhältnissen vermischt, gefolgt von einem Kneten
und Dispergieren, um 31 Arten von Dickfilmleitfähigkeits
pasten der Proben 1 bis 31 herzustellen. Die Proben 1, 3
und 30 sind Leitfähigkeitspastenzusammensetzungen, welche
keine Kaliumverbindung enthalten und welche als Vergleichs
beispiele verwendet werden.
Die resultierenden Dickfilmleitfähigkeitspasten wurden
auf ein 96% Al2O3-Isoliersubstrat gedruckt und getrocknet
und zweimal während 10 Minuten unter Verwendung eines För
derbandofens bei 850°C (Spitzenwert) gebacken, um Dickfilm
leiterplatten herzustellen, welche mit einem leitfähigen
Film mit einer Filmdicke von 9 µm bis 13 µm ausgestattet
sind. Es wurde ein Sieb mit 325 mesh mit einer Gesamtdicke
von 75 µm verwendet.
Auf der Oberfläche des leitfähigen Films einer jeden
der auf diese Weise hergestellten Dickfilmleiterplatten
wurde ein Kolophoniumflußmittel aufbeschichtet und es wurde
darauf ein Lotball mit einem Durchmesser von 1 mm plaziert,
welcher aus einem Lot aus 2Ag/62Sn/36Pb bestand. Dann wurde
die Leiterplatte einer Lotwiederverflüssigung während 15
Sekunden bei 230°C ausgesetzt und es wurde die Höhe des ge
schmolzenen und verteilten Lotballs gemessen, welche als
der Index für die Benetzbarkeit mit Lot genommen wurde.
Nachdem ein anderer Satz von Dickfilmleiterplatten in
ein Kolophoniumharz getaucht worden war, wurden diese wäh
rend 5 Sekunden in ein Lot aus 2Ag/62Sn/36Pb bei 250°C ge
taucht. Auf jeder davon wurde mittels eines Lötkolbens ein
lotbeschichteter Kupferdraht mit einem Durchmesser von
0,6 mm auf einen Fleck von 2 × 2 mm gelötet. Diese wurden
dann während 1000 Stunden in einen Inkubator bei 150°C
gegeben und es wurde die Haftfestigkeit mittels eines Ablö
seversuchs gemessen, welche als der Index der Lothaft
festigkeit genommen wurde.
Zwischen den sich gegenüberstehenden Elektroden
(Elektrodenabstand: 100 µm, Länge der sich gegenüberstehen
den Elektroden: 20 mm) eines anderen Satzes an Dickfilmlei
terplatten wurde eine DC-Spannung von 16 V angelegt, und
diese wurden während 1000 Stunden in einen Inkubator bei
150°C gegeben. Proben, welche einen Widerstand von 100 MΩ
zwischen den sich gegenüberstehenden Elektroden aufwiesen,
wurden als akzeptabel angesehen, und das Akzeptanzverhält
nis (%) wurde als der Index der Hochtemperatur-Leckverlust
charakteristiken genommen.
Die Ergebnisse sind auch in den Fig. 13 und 14 auf
gezeigt. In den Figuren ist die Lotbenetzbarkeit
(Einheit: mm) umso besser, je geringer sie ist, und ist die
Lothaftfestigkeit (Einheit: kg/2 mm) umso besser, je
größer sie ist.
Aus dem Vergleich der Proben 1 und 3
(Vergleichsbeispiele) mit der Probe 2 wird deutlich, daß
die Hochtemperatur-Leckverlustcharakteristiken in großem
Maße durch das Vorhandensein und Fehlen der Kaliumverbin
dung (100% für Probe 2 gegenüber 20% und 50% für die Proben
1 und 3) verändert werden.
Aus dem Vergleich der Proben 4, 5, 6, 7 und 8 wird
deutlich, daß wenn die Menge der enthaltenen Kaliumverbin
dung erhöht wird, die Hochtemperatur-Leckverlustcharakte
ristiken verbessert werden, jedoch die Lotcharakteristiken
verschlechtert werden. Aus dem Vergleich der Proben 6, 9
und 10 wird deutlich, daß die Hochtemperatur-Leckverlust
charakteristiken unabhängig von der Art der Kaliumverbin
dung gut sind und die Lotcharakteristiken bei diesen Proben
keine signifikante Änderung aufweisen.
Aus dem Vergleich der Proben 6 und 11 wird deutlich,
daß die Art der zugegebenen Bismutverbindung keine Bezie
hung zu den Hochtemperatur-Leckverlustcharakteristiken und
den Lotcharakteristiken besitzt. Aus dem Vergleich der Pro
ben 6, 12, 13 und 14 wird deutlich, daß die Art der enthal
tenen Glasfritte keine Beziehung zu den Hochtemperatur-
Leckverlustcharakteristiken und den Lotcharakteristiken
besitzt. Aus dem Vergleich der Proben 15, 16 und 17 wird
deutlich, daß die Art des leitfähigen Metallpulvers keine
Beziehung zu den Hochtemperatur-Leckverlustcharakteristiken
und den Lotcharakteristiken besitzt.
Aus dem Vergleich der Proben 18, 19, 20 und 21 wird
deutlich, daß wenn die Menge der Bismutverbindung zu groß
ist, die Lotbenetzbarkeit verschlechtert wird. Aus dem
Vergleich der Proben 19, 22, 23, 24 und 25 wird deutlich,
daß wenn die Menge an Rutheniumoxid größer wird, die Lot
haftfestigkeit verbessert wird, jedoch wenn dessen Menge zu
groß ist, die Hochtemperatur-Leckverlustcharakteristiken
verschlechtert werden.
Aus dem Vergleich der Proben 19, 26, 27, 28 und 29 wird
deutlich, daß wenn die Menge an Nickeloxid größer wird, die
Lothaftfestigkeit verbessert ist.
Aus dem Vergleich der Probe 30 (Vergleichsbeispiel) mit
der Probe 31 wird deutlich, daß sogar bei der Dickfilmleit
fähigkeitspaste, welche Vanadiumoxid enthält, das dazu
neigt, einen Leckverlust zu verursachen, die Hochtempera
tur-Leckverlustcharakteristiken gut sein können, wenn die
Leitfähigkeitspaste die Kaliumverbindung enthält.
Unter Verwendung der oben beschriebenen Proben wurden
für die verschiedenen Komponenten, aus welchen das anorga
nische Bindemittel besteht, das zu der Dickfilmleitfähig
keitspaste gegeben wird, im Hinblick auf die Unterdrückung
des Isolierfehlers und der Verhinderung der Verringerung
der Lotcharakteristiken Untersuchungen durchgeführt. Als
ein Ergebnis wurde die folgende Schlußfolgerung erhalten.
Das anorganische Bindemittel enthält vorzugsweise min
destens eine Glasfritte, welche zusammengesetzt ist aus ei
nem Glas, umfassend B2O3 von 3 Gew.-% bis 10 Gew.-%, SiO2
von 40 Gew.-% bis 60 Gew.-%, Al2O3 von 10 Gew.-% bis
20 Gew.-%, CaO von 15 Gew.-% bis 30 Gew.-% und MgO von
0,5 Gew.-% bis 5 Gew.-%, und/oder einem Glas umfassend B2O3
von 5 Gew.-% bis 15 Gew.-%, SiO2 von 10 Gew.-% bis
20 Gew.-%, PbO von 40 Gew.-% bis 70 Gew.-% und ZnO von
10 Gew.-% bis 30 Gew.-%.
Unter den verschiedenen Oxiden und Glasfritten, welche
als das anorganische Bindemittel in der herkömmlichen all
gemeinen Leitfähigkeitspastenzusammensetzung verwendet wer
den, gibt es einige Beispiele, die Substanzen enthalten,
welche in dem während des Backens der Leitfähigkeitspasten
zusammensetzung gebildeten Reaktionsprodukt vorhanden sind
und dazu neigen, leitfähig zu sein (wie V, W, Mn, Mo, Cu
und Zn).
Die oben beschriebenen Glasfritten enthalten keine der
artigen Substanzen, von denen jede in dem Reaktionsprodukt
vorhanden ist und dazu neigt, leitfähig zu sein, oder sogar
wenn sie diese enthalten, ist deren Menge extrem gering.
Der Isolierfehler wird daher kaum auftreten, und die für
die allgemeine Leitfähigkeitspastenzusammensetzung notwen
digen Charakteristiken wie die Lotcharakteristiken
(Hafteigenschaft) können in zufriedenstellendem Maße erhal
ten werden.
Unter den oben beschriebenen Glasfritten ist
B2O3-SiO2-Al2O3-CaO-MgO-Glas ein
amorphes Glas mit einem Erweichungspunkt zwischen 700°C und
900°C, welches kaum einen Isolierfehler verursacht. Bei einer Verwendung
dieser Glasfritte zusammen mit der oben beschriebenen Bismutverbindung, der
Rutheniumverbindung oder der Nickelverbindung können die
Lotcharakteristiken sichergestellt werden.
Unter den oben beschriebenen Glasfritten ist B2O3-SiO2-PbO-ZnO-Glas
ein amorphes Glas mit einem Erweichungspunkt
zwischen 400°C und 600°C, welches schwerlich einen Isolier
fehler verursacht. Es besitzt ähnlich zu den oben beschrie
benen Kaliumoxiden (K2O) ebenfalls einen Effekt zur Inhi
bierung eines Isolierfehlers. Ferner weist dieses Glas
selbst bestimmte Lotcharakteristiken auf.
Wenn das Verhältnis der Zinkkomponente in den Glasfrit
ten erhöht wird, werden die Lotcharakteristiken weiter ver
bessert, jedoch besteht die Neigung zum Auftreten des Iso
lierfehlers. In dem Fall, in dem die Kaliumverbindung ver
mischt wird, wird der Effekt zur Unterdrückung des Isolier
fehlers hoch, wenn dessen Mischungsverhältnis groß ist, je
doch werden, wenn auch allmählich, die Lotcharakteristiken,
insbesondere die Löteigenschaft, verschlechtert. Im Hin
blick auf diese Punkte sind die Verhältnisse der Elemente,
welche die oben beschriebenen Glasarten bilden, bevorzugt.
Durch eine weitere Zugabe der Rutheniumverbindung und
der Nickelverbindung zu der Leitfähigkeitspastenzusammen
setzung, welche die Glasfritte verwendet, die zur Unter
drückung des Isolierfehlers in der Lage ist, können ferner
ausgezeichnete Lotcharakteristiken erhalten werden.
Ferner kann durch Vermischen des organischen Bindemit
tels, der Bismutverbindung, der Rutheniumverbindung und der
Nickelverbindung in geeigneten Verhältnissen eine Leitfä
higkeitspastenzusammensetzung erhalten werden, welche unter
den allgemeinen Backbedingungen für die allgemeine Leiter
platte geeignet ist. Das heißt, es kann eine Leitfähig
keitspastenzusammensetzung erhalten werden, die auf einem
Aluminiumoxidsubstrat, welches im allgemeinen bei der
Dickfilmleiterplatte verwendet wird, ausgebildet ist, deren
Backtemperatur von ungefähr 800°C bis 900°C reicht, und
welche so optimiert ist, daß sowohl die Lotcharakteristiken
als auch die Isoliereigenschaften ausgezeichnet sind.
Eine solche Leitfähigkeitspastenzusammensetzung kann
erhalten werden durch Dispergieren eines leitfähigen Me
tallpulvers, welches Silber enthält, und eines anorgani
schen Bindemittels in einem organischen Trägermedium. Das
anorganische Bindemittel kann erhalten werden durch Dis
pergieren einer Glasfritte von 2 Gewichtsanteilen bis 8
Gewichtsanteilen, umfassend zwei Arten von Glas, Bismutoxid
von 4 Gewichtsanteilen bis 12 Gewichtsanteilen, Ruthenium
oxid von 0,4 Gewichtsanteilen bis 1,6 Gewichtsanteilen und
Nickeloxid von 0,1 Gewichtsanteilen bis 0,4 Gewichtsantei
len in dem organischen Trägermedium, in Relation zu dem
leitfähigen Metallpulver mit 100 Gewichtsanteilen.
Unter den beiden Arten an Glas ist die erste Art an
Glas zusammengesetzt aus B2O3 von 3 Gew.-% bis 10 Gew.-%,
SiO2 von 40 Gew.-% bis 60 Gew.-%, Al2O3 von 10 Gew.-% bis
20 Gew.-%, CaO von 15 Gew.-% bis 30 Gew.-% und MgO von
0,5 Gew.-% bis 5 Gew.-%, und ist die zweite Glasart zusam
mengesetzt aus B2O3 von 5 Gew.-% bis 15 Gew.-%, SiO2 von
10 Gew.-% bis 20 Gew.-%, PbO von 40 Gew.-% bis 70 Gew.-%,
ZnO von 10 Gew.-% bis 30 Gew.-% und K2O von 0,5 Gew.-% bis
5 Gew.-%.
Die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung mit den oben
beschriebenen Charakteristiken kann hergestellt werden un
ter Verwendung eines anorganischen Bindemittels, welches
erhalten wird durch Dispergieren einer Glasfritte von 0,1
Gewichtsanteilen bis 2 Gewichtsanteilen, wobei die Glas
fritte SiO2 von 40 Gew.-% bis 70 Gew.-%, ZnO von 5 Gew.-%
bis 20 Gew.-%, Al2O3 von 5 Gew.-% bis 20 Gew.-%, CaO von
10 Gew.-% bis 30 Gew.-% und K2O von 0,5 Gew.-% bis
15 Gew.-% umfaßt, Bismutoxid von 0,1 Gewichtsanteilen bis 6
Gewichtsanteilen und mindestens eines von Kupferoxid und
Manganoxid von 0,1 Gewichtsanteilen bis 2 Gewichtsanteilen
in dem organischen Trägermedium, in Relation zu 100 Ge
wichtsanteilen des leitfähigen Metallpulvers.
In der wie oben beschriebenen Leitfähigkeitspasten
zusammensetzung erzielt das K2O in der Glasfritte in dem
anorganischen Bindemittel die Funktion der Kaliumverbin
dung, um so den Isolierfehler zu unterdrücken.
In der oben beschriebenen ersten und zweiten Ausfüh
rungsform wird das Hochtemperatur-Leckverlustphänomen auf
eine solche Weise geeignet unterdrückt, daß sogar wenn das
Reaktionsprodukt (die aus der chemischen Reaktion des anor
ganischen Bindemittels und Silber resultierende Substanz)
in der Umgebung der Verdrahtungsteile durch das Backen der
Leitfähigkeitspaste vorhanden ist, das in dem Reaktionspro
dukt enthaltene Silber bei dem Anlegen einer Spannung unter
einer Hochtemperaturatmosphäre daran gehindert wird, lei
tend zu werden.
In dieser dritten Ausführungsform wird das Hochtempera
tur-Leckverlustphänomen durch Verwenden einer Leitfähig
keitspastenzusammensetzung, welche keine Komponente ent
hält, die dazu neigt, die Leitung in dem anorganischen Bin
demittel zu verursachen, geeignet unterdrückt. Die Leitfä
higkeitspaste gemäß dieser dritten Ausführungsform wird
ebenfalls für die gleiche Leiterplatte wie in der ersten
und zweiten Ausführungsform bevorzugt.
Da die Leiterplatte gemäß dieser dritten Ausführungs
form denselben Aufbau besitzt wie die in Fig. 9 aufge
zeigte, ist das Kaliumoxid daher nicht zwischen den Ver
drahtungsteilen 2 vorhanden. Die Leitfähigkeitspastenzu
sammensetzung dieser dritten Ausführungsform wird gebildet
durch Dispergieren eines leitfähigen Metallpulvers, welches
Silber enthält, und eines anorganischen Bindemittels,
welches aus einer nachfolgend beschriebenen Glasfritte be
steht, in einem organischen Trägermedium. Die Verdrahtungs
teile 2 werden auf dem elektrisch isolierenden Substrat 1,
welches aus einer Glassubstanz und Aluminiumoxidpulver be
steht, durch Drucken und Backen (zum Beispiel 700°C oder
höher) der Leitfähigkeitspastenzusammensetzung gebildet, um
auf diese Weise die Leiterplatte 10 zu erhalten.
Das anorganische Bindemittel ist zusammengesetzt aus
der Glasfritte, welche weder eine Verbindung enthält, die
mindestens ein Element einschließt, welches dazu neigt, die
Leitung zu verursachen, wie V, Cr, Mo, Mn, W, Cu und Zn,
noch einen Vorläufer der Verbindung, der das Element ent
hält, das dazu neigt, die Leitung zu verursachen.
Die Glasfritte verdampft während des Backens der Leit
fähigkeitspaste und wird als das Reaktionsprodukt auf dem
Substrat angelagert. Das Reaktionsprodukt kann jedoch kaum
die Leitung verursachen, sogar wenn eine Spannung zwischen
den Verdrahtungsteilen 2 und einer Hochtemperaturatmosphäre
angelegt wird. Somit kann der Isolierfehler zwischen den
Verdrahtungsteilen verhindert werden und das Hochtempera
tur-Leckverlustphänomen kann geeignet unterdrückt werden.
Als das leitfähige Metallpulver kann in der herkömmli
chen Leitfähigkeitspaste verwendetes Silberpulver verwendet
werden. Ferner kann das Silberpulver nur Silber umfassen
und kann, falls notwendig, Palladium, Platin, Gold und Kup
fer enthalten. Als das Silberpulver kann ein Pulver verwen
det werden, welches zuvor zu einer Legierung aus Silber und
den oben erwähnten Metallen gemacht wurde.
Das allgemein verwendete Silberpulver besitzt einen
mittleren Teilchendurchmesser von 0,5 µm bis 7 µm und eine
spezifische Oberfläche von 0,5 m2/g bis 3 m2/g. Das Pulver
aus Palladium, Platin oder dergleichen besitzt einen mitt
leren Teilchendurchmesser von 0,1 µm bis 1 µm und eine
spezifische Oberfläche von 10 m2/g bis 40 m2/g.
Als die in dem anorganischen Bindemittel enthaltene
Glasfritte können ein bei hoher Temperatur erweichendes
Glas der B-Si-Al-Ca-Reihe und ein Glas der B-Si-Pb-Reihe
verwendet werden, wobei beide einen Erweichungspunkt zwi
schen 700°C bis 950°C besitzen. Diese Glasarten können eine
Verdampfung von Silber in der wie oben beschriebenen
Dickfilmleitfähigkeitspaste unterdrücken.
Als das erstere Glas kann ein Glas mit einer Zusammen
setzung aus B2O3(10)-SiO2(50)-Al2O3(15)-CaO(25) (die Ein
heit der Zahlen in Klammern ist Gewichtsprozent) verwendet
werden. Als das letztere Glas kann ein Glas mit einer Zu
sammensetzung aus B2O3(10)-SiO2(15)-PbO(75) (die Einheit
der Zahlen in Klammern ist Gewichtsprozent) verwendet wer
den. Das Glas kann zu einem mittleren Teilchendurchmesser
von 1 µm bis 10 µm pulverisiert sein. Die Mischmenge des
Glases sollte so eingestellt sein, daß sie hinsichtlich der
verschiedenen notwendigen Charakteristiken des leitfähigen
Films nach dem Backen optimiert ist.
Da eine Temperatur, bei der das bei hoher Temperatur
erweichende Glas der B-Si-Al-Ca-Reihe erweicht, hoch ist,
wenn die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung gebacken wird,
ist deren Dampfdruck notwendigerweise gering. Als ein Er
gebnis ist die angelagerte Menge des Reaktionsprodukts auf
dem Substrat, welches während des Backens der Leitfähig
keitspaste verdampft und mit Silber chemisch reagiert,
verringert. Es kann somit eine hohe Isoliereigenschaft zwi
schen den Verdrahtungsteilen erhalten werden. Im Hinblick
auf deren Zweck der Zugabe besitzen die meisten der allge
mein als das Material der Dickfilmleitfähigkeitspaste ver
wendeten Glasfritten einen Erweichungspunkt zwischen 400°C
bis 700°C.
Da die Glasfritte der B-Si-Pb-Reihe eine relativ nied
rige Erweichungstemperatur besitzt, ist sie geneigt, wäh
rend des Backens der Leitfähigkeitspastenzusammensetzung zu
verdampfen. Daher wird der Anteil der Glasfritte in dem
Reaktionsprodukt hoch, wodurch es schwierig wird, die Lei
tung des Reaktionsprodukts zu verursachen. Die Glasfritte
wird bei einer Temperatur unterhalb einer Temperatur, bei
der Silber stark verdampft (ungefähr 800°C), erweicht und
geschmolzen. Daher bedeckt die geschmolzene Glasfritte ei
nen Teil oder einen Großteil des Silberpulvers, um so die
freiliegende Oberfläche des Silbers zu verringern und die
Verdampfungsmenge des Silbers zu bremsen. Als Folge davon
wird die Menge des als das Reaktionsprodukt angelagerten
Silbers verringert, um es zu erschweren, daß die Leitung
des Reaktionsprodukts verursacht wird.
Das anorganische Bindemittel kann eine Mischung aus den
beiden oben beschriebenen Glasfritten sein.
Es kann ein anderes anorganisches Bindemittel erhalten
werden durch eine Auswahl von Kombinationen, welche für die
verschiedenen Charakteristiken geeignet sind, die für den
leitfähigen Film nach dem Backen notwendig sind, aus sol
chen, welche in den Dickfilmleitfähigkeitspasten verwendet
wurden.
Als das organische Trägermedium kann zum Beispiel ein
Harz wie Ethylcellulose, das in einem organischen Lösungs
mittel wie Terpineol und Butylcarbitol gelöst ist, verwen
det werden, das heißt, solche, welche in den herkömmlichen
Dickfilmleitfähigkeitspasten verwendet wurden. Die Misch
menge des organischen Trägermediums kann unter Berücksich
tigung der Viskosität und der Fließfähigkeit der Paste ge
wählt werden, um deren Drucken geeignet zu erreichen.
Spezifische Beispiele der dritten Ausführungsform wer
den nachfolgend unter Bezug auf Fig. 15 beschrieben, jedoch
ist diese Ausführungsform nicht auf solche Beispiele be
schränkt. Fig. 15 ist eine Tabelle, welche die Mischungs
verhältnisse und die Hochtemperatur-Leckverlustcharakteri
stiken der Leitfähigkeitspastenzusammensetzungen gemäß der
spezifischen Beispiele aufzeigt. Die Zahlen in Klammern für
die Glasfritten A und B zeigen Mischungsverhältnisse der
entsprechenden Verbindungen auf, und die Einheiten davon
sind in Gewichtsprozent angegeben. Die Erweichungspunkte
der Gla 21815 00070 552 001000280000000200012000285912170400040 0002019902125 00004 21696sfritten A und B sind 790°C bzw. 380°C.
In einem organischen Trägermedium, welches durch Auflö
sen einer Ethylcelluloseharzes in Terpineol erhalten wurde,
wurden das leitfähige Metallpulver, die Glasfritte und das
andere anorganische Bindemittelpulver mit den in Fig. 15
aufgezeigten Mischungsverhältnissen vermischt, gefolgt von
einem Kneten und Dispergieren, um fünf Arten an Dickfilm
leitfähigkeitspasten für die Proben 40 bis 44 herzustellen.
Die auf diese Weise hergestellten Dickfilmleitfähig
keitspasten werden auf ein 96% Al2O3-Isoliersubstrat ge
druckt und getrocknet und zweimal während 10 Minuten unter
Verwendung eines Förderbandofens bei 850°C (Spitzenwert)
gebacken, um Dickfilmleiterplatten herzustellen, welche mit
einem leitfähigen Film mit einer Filmdicke von 9 µm bis
13 µm ausgestattet sind. Es wurde ein Sieb mit 325 mesh mit
der Gesamtdicke von 75 µm verwendet.
Zwischen den gegenüberliegenden Elektrodenteilen
(Elektrodenabstand: 100 µm, Länge der sich gegenüberstehen
den Elektroden: 20 mm) der hergestellten Dickfilmleiter
platte wurde eine Spannung von DC 16 V angelegt, und sie
wurde während 1000 Stunden in einen Inkubator bei 150°C ge
geben. Proben, welche einen Widerstandswert zwischen den
Elektroden von 100 MΩ aufwiesen, wurden als akzeptabel an
gesehen, und das Akzeptanzverhältnis (%) wurde als der In
dex der Hochtemperatur-Leckverlustcharakteristiken genom
men.
Wie in Fig. 15 aufgezeigt, wiesen die Dickfilmleiter
platten, welche unter Verwendung der Proben 40 bis 44 her
gestellt wurden, gute Hochtemperatur-Leckverlustcharakteri
stiken auf.
Die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung dieser dritten
Ausführungsform kann eine solche wie in der zweiten Ausfüh
rungsform beschriebene sein, zu der die Kaliumverbindung
gegeben wird. In diesem Fall kann der Effekt der Kalium
verbindung zusätzlich zu den Effekten dieser dritten Aus
führungsform erhalten werden.
In der vierten Ausführungsform wird die Menge an wäh
rend des Backens der Leitfähigkeitspaste verdampfendem Sil
ber reduziert, indem der Gehalt an Silber in der Leitfähig
keitspastenzusammensetzung verringert wird, um so geeignet
das Hochtemperatur-Leckverlustphänomen zu unterdrücken. Die
Leitfähigkeitspastenzusammensetzung dieser dritten Ausfüh
rungsform ist ebenfalls auf die in der ersten bis dritten
Ausführungsform beschriebene Leiterplatte anwendbar.
Während die Leiterplatte gemäß dieser dritten Ausfüh
rungsform denselben Aufbau besitzt wie der in Fig. 9, ist
das Kaliumoxid nicht zwischen den Verdrahtungsteilen 2 vor
handen. Die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung dieser
dritten Ausführungsform wird durch Dispergieren eines leit
fähigen Metallpulvers, welches Silber enthält, und eines
anorganischen Bindemittels, welches aus mindestens einer
Glasfritte und einem Bismutoxid zusammengesetzt ist, in ei
nem organischen Trägermedium mit einem nachfolgend be
schriebenen vorherbestimmten Verhältnis gebildet.
Die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung wird auf ein
elektrisch isolierendes Substrat 1, welches aus einer Glas
substanz und Aluminiumoxidpulver zusammengesetzt ist, ge
druckt und gebacken (zum Beispiel 700°C oder höher), um
Verdrahtungsteile 2 zu bilden, um auf diese Weise eine Lei
terplatte 10 zu erhalten.
Das leitfähige Metallpulver und das anorganische Bin
demittel werden vorzugsweise so gemischt, daß der Gehalt
des anorganischen Bindemittels 45 Gewichtsanteile oder mehr
in Relation zu 100 Gewichtsanteilen des leitfähigen Metall
pulvers beträgt. Wenn es mehr als 45 Gewichtsanteile sind,
wird die Menge an auf dem isolierenden Substrat angelager
ten Silber groß, und der Isolierfehler zwischen den Ver
drahtungsteilen kann nicht verhindert werden. Der Grund da
für ist in Fig. 16 aufgezeigt.
In Fig. 16 zeigt die Abszisse den Gewichtsanteil
(Gew.-%) an Glas, was den Anteil des anorganischen Binde
mittels, welches mindestens aus einer Glasfritte und einem
Bismutoxid zusammengesetzt ist, anzeigt, in Relation zu 100
Gewichtsanteilen des leitfähigen Metallpulvers, die linke
Ordinate zeigt den Gesamtfehleranteil (%), welcher den An
teil des Vorkommens von Isolierfehlern aufgrund des Hoch
temperatur-Leckverlustphänomens anzeigt, und die rechte
Ordinate zeigt den Widerstand (mΩ/) der Verdrahtungs
teile, welche durch Backen der Leitfähigkeitspastenzusam
mensetzung gebildet wurden.
Aus Fig. 16 wird deutlich, daß wenn der Gehalt des an
organischen Bindemittels 45 Gewichtsanteile oder mehr be
trägt, der Gesamtfehleranteil null sein kann und das Hoch
temperatur-Leckverlustphänomen geeignet unterdrückt werden
kann. Wenn er weniger als 45 Gewichtsanteile beträgt, wird
die Menge an auf dem isolierenden Substrat angelagertem
Silber groß. Daher kann der Isolierfehler zwischen den Ver
drahtungsteilen nicht in ausreichendem Maße verhindert wer
den.
Wenn er 100 Gewichtsanteile oder weniger beträgt, kön
nen 5 mΩ/ erreicht werden, was ein wünschenswerter Wert
für den Verdrahtungswiderstand in der allgemeinen Leiter
platte darstellt. Wenn daher der Gehalt des anorganischen
Bindemittels vorzugsweise von 45 Gewichtsanteilen bis
100 Gewichtsanteilen in Relation zu 100 Gewichtsanteilen des
leitfähigen Metallpulvers beträgt, kann sowohl die Verhin
derung des Isolierfehlers zwischen den Verdrahtungsteilen
als auch die guten Widerstandscharakteristiken der Verdrah
tungsteile erreicht werden.
Wenn er mehr als 100 Gewichtsanteile beträgt, können
die Verdrahtungsteile nicht ihre Funktion aufweisen, da der
Widerstand der Verdrahtungsteile extrem hoch wird, oder es
wird deren Löteigenschaft verschlechtert. Es gibt einige
Fälle, bei denen die maximale Zugabemenge des anorganischen
Bindemittels weniger als 100 Gewichtsanteile beträgt, in
Abhängigkeit von der Art oder Zusammensetzung des verwende
ten leitfähigen Metallpulvers und der Zusammensetzung des
anorganischen Bindemittels. Daher sollte der Anteil des an
organischen Bindemittels für jede der Dickfilmleitfähig
keitspastenzusammensetzungen optimiert werden.
Als das leitfähige Metallpulver kann ein in der her
kömmlichen Leitfähigkeitspaste verwendetes Silberpulver
verwendet werden, und es kann aus nur Silber bestehen und
kann, falls notwendig, Palladium, Platin, Gold und Kupfer
enthalten. Es kann ein Pulver verwendet werden, welches zu
vor zu einer Legierung aus Silber und den oben beschriebe
nen Metallen gemacht wurde.
Das allgemein verwendete Silberpulver besitzt einen
mittleren Teilchendurchmesser von 0,5 µm bis 7 µm und eine
spezifische Oberfläche von 0,5 m2/g bis 3 m2/g. Das Pulver
von Palladium, Platin oder dergleichen besitzt einen mitt
leren Teilchendurchmesser von 0,1 µm bis 1 µm und eine
spezifische Oberfläche von 10 m2/g bis 40 m2/g.
Als die Glasfritte kann ein Borsilicatbleiglas verwen
det werden, welches in den herkömmlichen, Dickfilmleitfähig
keitspasten verwendet wurde, und es können Glasfritten ei
ner beliebigen Zusammensetzung verwendet werden, welche ei
nen Erweichungspunkt von ungefähr 800°C oder weniger besit
zen. Als das Glasfrittenpulver können die oben erwähnten zu
einer mittleren Teilchengröße von 1 µm bis 10 µm pulveri
sierten Glasfritten verwendet werden. Durch Verwenden von
irgendeiner dieser Glasfritten kann die Inhibierung der
Silberverdampfung durch ihr Schmelzen erreicht werden.
Als das Bismutoxidpulver kann Dibismutpentoxid verwen
det werden, welches zu einer mittleren Teilchengröße von
1 µm bis 4 µm pulverisiert wurde. Da das Bismutoxid eine
gute Affinität zu Silberpulver besitzt und bei einer Back
temperatur von ungefähr 800°C geschmolzen ist, können die
gleichen Effekte wie bei der Glasfritte erhalten werden.
Als das organische Trägermedium können solche verwendet
werden, welche in den herkömmlichen Dickfilmleitfähig
keitspasten verwendet wurden, wie ein Harz, z. B. Ethylcel
lulose, das in einem organischen Lösungsmittel, z. B. Terpi
neol oder Butylcarbitol, gelöst ist. Die Mischmenge des
organischen Trägermediums kann unter Berücksichtigung der
Viskosität und der Fließfähigkeit der Paste gewählt werden,
um das Drucken der Paste geeignet zu erreichen.
Spezifische Beispiele der vierten Ausführungsform wer
den nachfolgend unter Bezug auf Fig. 17 beschrieben, jedoch
ist diese Ausführungsform nicht auf solche Beispiele be
schränkt. Fig. 17 ist eine Tabelle, welche die Mischungs
verhältnisse und die verschiedenen später beschriebenen
Charakteristiken (Widerstände und Hochtemperatur-Leckver
lustcharakteristiken) der Leitfähigkeitspastenzusammenset
zungen gemäß der spezifischen Beispiele aufzeigt. Die Zif
fern in Klammern für die Glasfritten A und B zeigen Mi
schungsverhältnisse der Elemente für die Glasfritten auf,
und deren Einheit ist Gewichtsprozent.
In einem organischen Trägermedium, welches durch Auflö
sen eines Ethylcelluloseharzes in Terpineol erhalten wurde,
wurden das leitfähige Metallpulver, die Glasfritte und das
Bismutoxidpulver mit den in Fig. 17 aufgezeigten Verhält
nissen gemischt, gefolgt von einem Kneten und Dispergieren,
um Dickfilmleitfähigkeitspasten für die Proben 50 bis 56
herzustellen.
Die auf diese Weise hergestellten Dickfilmleitfähig
keitspasten wurden auf ein 96% Al2O3-Isoliersubstrat ge
druckt und getrocknet und zweimal während 10 Minuten unter
Verwendung eines Förderbandofens bei 850°C (Spitzenwert)
gebacken, um Dickfilmleiterplatten herzustellen, welche mit
einem leitfähigen Film mit einer Filmdicke von 9 µm bis
13 µm versehen sind. Es wurde ein Sieb mit 325 mesh mit ei
ner Gesamtdicke von 75 µm verwendet.
Die Widerstandswerte (Einheit: mΩ/) der leitfähigen
Verdrahtungsteile auf der somit hergestellten Dickfilmlei
terplatte wurden gemessen.
Es wurde ferner zwischen den sich gegenüberstehenden
Elektrodenteilen (Elektrodenabstand: 100 µm, Länge der sich
gegenüberstehenden Elektroden: 20 mm) eines anderen Satzes
von Dickfilmleiterplatten eine DC-Spannung von 16 V ange
legt, und diese wurden während 1000 Stunden in einen Inku
bator bei 150°C gegeben. Proben, welche einen Widerstand
zwischen den Elektroden von 100 MΩ aufwiesen, wurden als
akzeptabel angesehen, und das Akzeptanzverhältnis (%) wurde
als der Index für die Hochtemperatur-Leckverlustcharakteri
stiken genommen.
Die Widerstandswerte (Einheit: mΩ/) und die Ergebnis
se der Hochtemperatur-Leckverlustcharakteristiken sind in
Fig. 17 zusammengefaßt. In Fig. 17 weist die unter Verwen
dung der Proben 50 bis 56 hergestellte Dickfilmleiterplatte
einen guten Widerstandswert und Hochtemperatur-Leckverlust
charakteristiken auf.
Da die Probe 54 Silber-Pd (Palladium), dem ein hoher
Widerstand eigen ist, als das leitfähige Metallpulver ver
wendet, ist der Widerstandswert der Verdrahtungsteile höher
als bei den anderen. Dies liegt jedoch nicht außerhalb des
Konzepts der vorliegenden Ausführungsform. Wenn Silber oder
Silber-Platin in der Probe 54 verwendet werden, kann der
Widerstandswert der Verdrahtungsteile das gleiche Niveau
wie die anderen Proben besitzen.
Die in der zweiten Ausführungsform beschriebene Kalium
verbindung kann zu den Leitfähigkeitspastenzusammenset
zungen gemäß der vierten Ausführungsform gegeben werden. In
diesem Fall können zusätzlich zu den Wirkungen der vierten
Ausführungsform die Wirkungen der oben beschriebenen Kali
umverbindung erhalten werden. Ferner kann das organische
Bindemittel eine Mischung aus einer Glasfritte und einem
Bismutoxid sein.
Die fünfte Ausführungsform stellt eine Leitfähig
keitspastenzusammensetzung zur Verfügung, welche kein anor
ganisches Bindemittel enthält, welches das Reaktionsprodukt
bildet, das zusammen mit Silber die Leitung verursacht. Die
Leitfähigkeitspaste dieser fünften Ausführungsform ist
ebenfalls für die in der ersten bis vierten Ausführungsform
beschriebene Leiterplatte anwendbar.
Während die Leiterplatte gemäß dieser fünften Ausfüh
rungsform denselben Aufbau wie die in Fig. 9 besitzt, ist
das Kaliumoxid nicht zwischen den Verdrahtungsteilen 2 vor
handen. Die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung dieser
fünften Ausführungsform (Dickfilmleitfähigkeitspaste) um
faßt leitfähige Metallpulver, welche Silber enthalten, und
ein organisches Trägermedium, enthält jedoch kein anorgani
sches Bindemittel.
Die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung wird auf ein
elektrisch isolierendes Substrat 1, welches zusammengesetzt
ist aus einer Glassubstanz und Aluminiumoxidpulver, ge
druckt und gebacken (zum Beispiel 700°C oder höher), um
Verdrahtungsteile 2 zu bilden, um auf diese Weise eine Lei
terplatte 10 zu erhalten.
Die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung wird auf das
Substrat 1 gedruckt, und das organische Trägermedium wird
durch eine Trocknungsbehandlung (bei einer Temperatur von
100°C bis 150°C) verdampft, gefolgt von einem Backen. Daher
beginnt lediglich Silber während des Backens der Leitfähig
keitspaste zu verdampfen und wird an dem isolierenden
Substrat 1 in der Form von isoliertem Silber angelagert.
Sogar wenn eine Spannung zwischen den Verdrahtungsteilen
unter einer Hochtemperaturatmosphäre angelegt wird, wird
das Silber nicht leitfähig, da zwischen den Verdrahtungs
teilen lediglich das isolierte Silber vorhanden ist. Es
kann folglich eine Leiterplatte mit einer guten Isolierei
genschaft zwischen den Verdrahtungsteilen erhalten werden.
Als das leitfähige Metallpulver kann ein in den her
kömmlichen Leitfähigkeitspasten verwendetes Silberpulver
verwendet werden, und es kann nur Silber umfassen und kann,
falls notwendig, Palladium, Platin, Gold und Kupfer enthal
ten. Als das leitfähige Metallpulver kann ein Pulver ver
wendet werden, welches zuvor zu einer Legierung aus Silber
und den oben beschriebenen Metallen gemacht wurde.
Das im allgemeinen verwendete Silberpulver besitzt ei
nen mittleren Teilchendurchmesser von 0,5 µm bis 7 µm und
eine spezifische Oberfläche von 0,5 m2/g bis 3 m2/g. Das
Pulver von Palladium, Platin oder dergleichen besitzt einen
mittleren Teilchendurchmesser von 0,1 µm bis 1 µm und eine
spezifische Oberfläche von 10 m2/g bis 40 m2/g.
Abhängig von der Zusammensetzung und der Pulverform des
leitfähigen Metallpulvers, welches Silber enthält, und des
sen Backbedingungen wird die Leitfähigkeitspastenzusammen
setzung in einigen Fällen hinsichtlich des Haftvermögens in
Bezug auf das isolierende Substrat als einem darunterlie
genden Substrat unzureichend. Es wird folglich bevorzugt,
der Leitfähigkeitspastenzusammensetzung eine Substanz zur
Unterstützung der Haftfestigkeit zuzugeben, um so die
Hafteigenschaft in Bezug auf das isolierende Substrat si
cherzustellen.
Als das Mittel zur Unterstützung der Haftfestigkeit
kann mindestens eines von Bismutoxid, Kupferoxid, Zinkoxid,
Manganoxid, Titanoxid, Siliciumoxid, Chromoxid und Nickel
oxid verwendet werden.
Wenn die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung gebacken
wird, schmilzt jedes dieser Oxide bei einer Temperatur un
terhalb der Backtemperatur (zum Beispiel ungefähr 800°C)
und wandert zu der Grenze mit dem isolierenden Substrat.
Die gewanderten Oxide reagieren bei einer hohen Temperatur
chemisch mit der Glassubstanz, welche das isolierende
Substrat bildet. Die Hafteigenschaft der Verdrahtungsteile
in Bezug auf das isolierende Substrat kann durch die Reak
tion verbessert werden. Seine Zugabemenge kann eine geringe
Menge sein, welche das Isoliervermögen zwischen den Ver
drahtungsteilen nicht beeinflußt.
Als das Bismutoxidpulver kann speziell Dibismutpentoxid
verwendet werden, welches zu einem mittleren Teilchendurch
messer von 1 µm bis 4 µm pulverisiert wurde. Als das Kup
feroxidpulver kann Kupfersuboxid verwendet werden, welches
zu einem mittleren Teilchendurchmesser von 0,5 µm bis 3 µm
pulverisiert wurde. Ferner können Mangandioxid, Nickeloxid,
Zinkoxid, Dichromtrioxid, Titandioxid und Siliciumdioxid
verwendet werden, welche zu einem mittleren Teilchendurch
messer von 0,1 µm bis 3 µm pulverisiert wurden.
Als das organische Trägermedium können solche verwendet
werden, welche in den Dickfilmleitfähigkeitspasten verwen
det wurden, wie ein Harz, z. B. Ethylcellulose, das in einem
organischen Lösungsmittel, z. B. Terpineol oder Butylcar
bitol, aufgelöst ist. Die Mischmenge des organischen Trä
germediums kann unter Berücksichtigung der Viskosität und
der Fließfähigkeit der Paste gewählt werden, um das Drucken
der Paste geeignet zu erreichen.
Spezifische Beispiele der fünften Ausführungsform wer
den nachfolgend unter Bezug auf Fig. 18 beschrieben, jedoch
ist diese Ausführungsform nicht auf solche Beispiele be
schränkt. Fig. 18 ist eine Tabelle, welche die Mischungs
verhältnisse und die verschiedenen Charakteristiken, welche
nachfolgend beschrieben werden (Widerstände und Hochtempe
ratur-Leckverlustcharakteristiken), der Leitfähigkeits
pastenzusammensetzungen gemäß der spezifischen Beispiele
aufzeigt.
In einem organischen Trägermedium, welches erhalten
wurde durch Auflösen eines Ethylcelluloseharzes in Terpi
neol, wurden das leitfähige Metallpulver und Dibismutpent
oxid, Kupfersuboxid, Mangandioxid, Nickeloxid, Zinkoxid,
Dichromtrioxid, Titandioxid und Siliciumdioxid, welche die
Substanz zur Unterstützung der Haftfestigkeit darstellen,
mit den in Fig. 18 aufgezeigten Verhältnissen vermischt,
gefolgt von einem Kneten und Dispergieren, um Dickfilmleit
fähigkeitspastenzusammensetzungen für die Proben 63 bis 70
herzustellen.
Die somit hergestellten Dickfilmleitfähigkeitspasten
wurden auf ein 96% Al2O3-Isoliersubstrat gedruckt und ge
trocknet und zweimal während 10 Minuten unter Verwendung
eines Förderbandofens bei 850°C (Spitzenwert) gebacken, um
Dickfilmleiterplatten herzustellen, welche mit einem leit
fähigen Film mit einer Filmdicke von 9 µm bis 13 µm verse
hen sind. Es wurde ein Sieb mit 325 mesh mit einer Gesamt
dicke von 75 µm verwendet.
Nachdem die somit hergestellten Dickfilmleiterplatten
in ein Kolophoniumflußmittel getaucht worden waren, wurden
sie während 5 Sekunden bei 250°C in ein Lot aus
2Ag/62Sn/36Pb getaucht, und es wurde ein lotüberzogener
Kupferdraht mit einem Durchmesser von 0,6 mm mittels eines
Lötkolbens auf einen Fleck von 2 × 2 mm gelötet. Es wurde
dann die Haftfestigkeit mittels eines Ablöseversuchs ge
messen, welche als der Index der Lothaftfestigkeit
(Einheit: kg/2 mm) genommen wurde.
Zwischen den sich gegenüberstehenden Elektroden
(Elektrodenabstand: 100 µm, Länge der sich gegenüberstehen
den Elektroden: 20 mm) eines anderen Satzes von Dickfilm
leiterplatten wurde eine DC-Spannung von 16 V angelegt, und
diese wurden während 1000 Stunden in einen Inkubator bei
150°C gegeben. Proben, die einen Widerstand von 100 MΩ
zwischen den Elektroden aufwiesen, wurden als akzeptabel
angesehen, und das Akzeptanzverhältnis wurde als der Index
der Hochtemperatur-Leckverlustcharakteristiken genommen.
Wie in Fig. 18 aufgezeigt, weisen die als die Proben 60
bis 70 hergestellten Dickfilmleiterplatten gute Hochtempe
ratur-Leckverlustcharakteristiken auf, und die Dickfilmlei
terplatten der Proben 63 bis 70 zeigen durch die Substanz
zur Unterstützung der Haftfestigkeit ein bestimmtes Niveau
der Lothaftfestigkeit auf.
Sogar wenn die Substanz zur Unterstützung der Haft
festigkeit nicht verwendet wird, können solche, die eine
geringe Lothaftfestigkeit aufweisen, durch eine solche
Weise auf dem Substrat angeordnet und fixiert werden, daß
die gebildeten Verdrahtungsteile mit einem Versiegelungs
mittel usw. bedeckt werden.
Die in der zweiten Ausführungsform beschriebene Kalium
verbindung kann zu der Leitfähigkeitspastenzusammensetzung
dieser fünften Ausführungsform gegeben werden. In diesem
Fall können zusätzlich zu den Wirkungen dieser fünften Aus
führungsform die oben beschriebenen Wirkungen der Kalium
verbindung erhalten werden.
Somit betrifft die vorliegende Erfindung eine Leiter
platte (10), umfassend Verdrahtungsteile (2), welche Silber
enthalten, auf einem Substrat (1) und ein Leitfähigkeits
unterdrückungsmittel wie eine Kaliumverbindung, welche zwi
schen den Verdrahtungsteilen zur Verfügung gestellt wird,
um das Silber, welches an dem Substrat (1) zwischen den
Verdrahtungsteilen (2) angelagert ist, daran zu hindern,
leitfähig zu sein. Damit kann die Isolierverschlechterung
zwischen den Verdrahtungsteilen (2) geeignet unterdrückt
werden, welche für gewöhnlich auftritt, wenn eine Spannung
zwischen den Verdrahtungsteilen (2), welche Silber enthal
ten, auf dem Substrat (1) unter einer Hochtemperaturat
mosphäre angelegt wird, unabhängig davon, ob Wasser oder
Wasserdampf anwesend oder abwesend sind. Das heißt, das
Hochtemperatur-Leckverlustphänomen kann geeignet unter
drückt werden.
Claims (59)
1. Leiterplatte, umfassend:
ein Substrat (1);
auf dem Substrat ausgebildete Verdrahtungsteile (2), die Silber enthalten; und
ein Leitfähigkeitsunterdrückungsmittel, das zwischen den Verdrahtungsteilen zur Verfügung gestellt wird, um zu verhindern, daß das auf dem Substrat zwischen den Verdrahtungsteilen angelagerte Silber leitfähig ist.
ein Substrat (1);
auf dem Substrat ausgebildete Verdrahtungsteile (2), die Silber enthalten; und
ein Leitfähigkeitsunterdrückungsmittel, das zwischen den Verdrahtungsteilen zur Verfügung gestellt wird, um zu verhindern, daß das auf dem Substrat zwischen den Verdrahtungsteilen angelagerte Silber leitfähig ist.
2. Leiterplatte nach Anspruch 1, wobei das Leitfähigkeits
unterdrückungsmittel eine Kaliumverbindung ist.
3. Isolierpastenzusammensetzung, dadurch gekennzeichnet,
daß sie eine Kaliumverbindung enthält.
4. Isolierpastenzusammensetzung nach Anspruch 3, wobei die
Kaliumverbindung mit 5-30 Gewichtsanteilen in Einheiten
eines Oxids davon relativ zu 100 Gewichtsanteilen einer
in der Isolierpastenzusammensetzung enthaltenen anor
ganischen Feststoffkomponente enthalten ist.
5. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, umfassend:
ein organisches Trägermedium;
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes leitfähiges Metallpulver, das Silber enthält; und
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes an organisches Bindemittel, wobei die Leitfähigkeits pastenzusammensetzung ferner eine Kaliumverbindung enthält.
ein organisches Trägermedium;
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes leitfähiges Metallpulver, das Silber enthält; und
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes an organisches Bindemittel, wobei die Leitfähigkeits pastenzusammensetzung ferner eine Kaliumverbindung enthält.
6. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 5,
wobei die Kaliumverbindung entweder ein Kaliumoxid oder
ein Vorläufer des Kaliumoxids ist.
7. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 6,
wobei der Vorläufer des Kaliumoxids eine organische
Kaliumverbindung ist.
8. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 6,
wobei das anorganische Bindemittel eine Glasfritte ent
hält und das Kaliumoxid als eine Komponente der Glas
fritte enthalten ist.
9. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 5,
wobei ein Gehalt der Kaliumverbindung 0,01-0,4 Ge
wichtsanteile in Einheiten eines Kaliumoxids relativ zu
100 Gewichtsanteilen des leitfähigen Metallpulvers be
trägt.
10. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 5,
welche ferner eine Bismutverbindung umfaßt.
11. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 10,
wobei die Bismutverbindung entweder ein Bismutoxid oder
ein Vorläufer des Bismutoxids ist.
12. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 10,
wobei ein Gehalt der Bismutverbindung 0,1-20 Gewichts
anteile in Einheiten eines Bismutoxids relativ zu 100
Gewichtsanteilen des leitfähigen Metallpulvers beträgt.
13. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 5,
wobei das anorganische Bindemittel eine Glasfritte ent
hält, die gebildet wird aus einem Glas, das zusammenge
setzt ist aus 3-10 Gew.-% an B2O3, 40-60 Gew.-% an
SiO2, 10-20 Gew.-% an Al2O3, 15-30 Gew.-% an CaO und
0,5-5 Gew.-% an MgO, und/oder einem Glas, das zusammen
gesetzt ist aus 5-15 Gew.-% an B2O3, 10-20 Gew.-% an
SiO2, 40-70 Gew.-% an PbO und 10-30 Gew.-% an ZnO.
14. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 13,
wobei das anorganische Bindemittel mindestens eine
Verbindung enthält, ausgewählt aus einer Rutheniumver
bindung und einer Nickelverbindung.
15. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 14,
wobei jede der Rutheniumverbindung und der Nickelver
bindung entweder ein Oxid davon oder ein Vorläufer des
Oxids ist.
16. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 14,
wobei ein Gehalt von jeder der Rutheniumverbindung und
der Nickelverbindung 0,01-3 Gewichtsanteile in Einhei
ten eines Oxids davon relativ zu 100 Gewichtsanteilen
des leitfähigen Metallpulvers beträgt.
17. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, umfassend:
ein organisches Trägermedium;
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes leitfähiges Metallpulver, das Silber enthält; und
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes an organisches Bindemittel, wobei das anorganische Bindemittel relativ zu 100 Gewichtsanteilen des leitfähigen Metallpulvers folgendes enthält:
2-8 Gewichtsanteile einer Glasfritte, die gebil det wird aus sowohl einem Glas, das zusammenge setzt ist aus 3-10 Gew.-% an B2O3, 40-60 Gew.-% an SiO2, 10-20 Gew.-% an Al2O3, 15-30 Gew.-% an CaO und 0,5-5 Gew.-% an MgO, als auch einem Glas, das zusammengesetzt ist aus 5-15 Gew.-% an B2O3, 10-20 Gew.-% an SiO2, 40-70 Gew.-% an PbO, 10-30 Gew.-% an ZnO und 0,5-5 Gew.-% an K2O,
4-12 Gewichtsanteile eines Bismutoxids,
0,4-1,6 Gewichtsanteile eines Rutheniumoxids, und
0,1-0,4 Gewichtsanteile eines Nickeloxids.
ein organisches Trägermedium;
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes leitfähiges Metallpulver, das Silber enthält; und
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes an organisches Bindemittel, wobei das anorganische Bindemittel relativ zu 100 Gewichtsanteilen des leitfähigen Metallpulvers folgendes enthält:
2-8 Gewichtsanteile einer Glasfritte, die gebil det wird aus sowohl einem Glas, das zusammenge setzt ist aus 3-10 Gew.-% an B2O3, 40-60 Gew.-% an SiO2, 10-20 Gew.-% an Al2O3, 15-30 Gew.-% an CaO und 0,5-5 Gew.-% an MgO, als auch einem Glas, das zusammengesetzt ist aus 5-15 Gew.-% an B2O3, 10-20 Gew.-% an SiO2, 40-70 Gew.-% an PbO, 10-30 Gew.-% an ZnO und 0,5-5 Gew.-% an K2O,
4-12 Gewichtsanteile eines Bismutoxids,
0,4-1,6 Gewichtsanteile eines Rutheniumoxids, und
0,1-0,4 Gewichtsanteile eines Nickeloxids.
18. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 17,
wobei das leitfähige Metallpulver entweder Silber oder
eine Mischung aus Silber und Platin umfaßt.
19. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, umfassend:
ein organisches Trägermedium;
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes leitfähiges Metallpulver, das Silber enthält; und
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes an organisches Bindemittel, wobei das anorganische Bindemittel relativ zu 100 Gewichtsanteilen des leitfähigen Metallpulvers folgendes enthält:
0,1-2 Gewichtsanteile einer Glasfritte, die ge bildet wird aus einem Glas, das zusammengesetzt ist aus 40-70 Gew.-% an SiO2, 5-20 Gew.-% an ZnO, 5-20 Gew.-% an Al2O3, 10-30 Gew.-% an CaO und 0,5-15 Gew.-% an K2O,
0,1-6 Gewichtsanteile eines Bismutoxids, und
0,1-2 Gewichtsanteile an einem Kupferoxid und/oder einem Manganoxid.
ein organisches Trägermedium;
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes leitfähiges Metallpulver, das Silber enthält; und
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes an organisches Bindemittel, wobei das anorganische Bindemittel relativ zu 100 Gewichtsanteilen des leitfähigen Metallpulvers folgendes enthält:
0,1-2 Gewichtsanteile einer Glasfritte, die ge bildet wird aus einem Glas, das zusammengesetzt ist aus 40-70 Gew.-% an SiO2, 5-20 Gew.-% an ZnO, 5-20 Gew.-% an Al2O3, 10-30 Gew.-% an CaO und 0,5-15 Gew.-% an K2O,
0,1-6 Gewichtsanteile eines Bismutoxids, und
0,1-2 Gewichtsanteile an einem Kupferoxid und/oder einem Manganoxid.
20. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, umfassend:
ein organisches Trägermedium;
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes leitfähiges Metallpulver, das Silber enthält; und
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes an organisches Bindemittel, wobei das anorganische Bindemittel gebildet ist aus einer Substanz zum Un terdrücken des Verdampfens des in dem leitfähigen Metallpulver enthaltenen Silbers.
ein organisches Trägermedium;
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes leitfähiges Metallpulver, das Silber enthält; und
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes an organisches Bindemittel, wobei das anorganische Bindemittel gebildet ist aus einer Substanz zum Un terdrücken des Verdampfens des in dem leitfähigen Metallpulver enthaltenen Silbers.
21. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 20,
wobei das anorganische Bindemittel eine bei hoher Tem
peratur erweichende Glasfritte mit einem Erweichungs
punkt von zwischen 700°C und 950°C ist.
22. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 21,
wobei die bei hoher Temperatur erweichende Glasfritte
von der B-Si-Al-Ca-Reihe ist.
23. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 20,
wobei das anorganische Bindemittel eine Glasfritte der
B-Si-Pb-Reihe ist.
24. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, umfassend:
ein organisches Trägermedium;
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes leitfähiges Metallpulver, das Silber enthält; und
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes an organisches Bindemittel, wobei das anorganische Bindemittel eine Mischung aus einer Glasfritte der B-Si-Al-Ca-Reihe und einer Glasfritte der B-Si-Pb-Reihe ist.
ein organisches Trägermedium;
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes leitfähiges Metallpulver, das Silber enthält; und
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes an organisches Bindemittel, wobei das anorganische Bindemittel eine Mischung aus einer Glasfritte der B-Si-Al-Ca-Reihe und einer Glasfritte der B-Si-Pb-Reihe ist.
25. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, umfassend:
ein organisches Trägermedium;
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes leitfähiges Metallpulver, das Silber enthält; und
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes an organisches Bindemittel, wobei das anorganische Bindemittel gebildet ist aus einer Glasfritte und/oder einem Bismutoxid, und wobei ein Gehalt da von 45 Gewichtsanteile oder mehr, relativ zu 100 Gewichtsanteilen des leitfähigen Metallpulvers beträgt.
ein organisches Trägermedium;
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes leitfähiges Metallpulver, das Silber enthält; und
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes an organisches Bindemittel, wobei das anorganische Bindemittel gebildet ist aus einer Glasfritte und/oder einem Bismutoxid, und wobei ein Gehalt da von 45 Gewichtsanteile oder mehr, relativ zu 100 Gewichtsanteilen des leitfähigen Metallpulvers beträgt.
26. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 25,
wobei Gehalt des anorganischen Bindemittel 45-100 Ge
wichtsanteile relativ zu 100 Gewichtsanteilen des leit
fähigen Metallpulvers beträgt.
27. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, umfassend:
ein organisches Trägermedium; und
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes leitfähiges Metallpulver, das Silber enthält;
wobei die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung kein anorganisches Bindemittel enthält.
ein organisches Trägermedium; und
ein in dem organischen Trägermedium dispergiertes leitfähiges Metallpulver, das Silber enthält;
wobei die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung kein anorganisches Bindemittel enthält.
28. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 27,
welche ferner umfaßt:
ein Mittel zur Unterstützung der Haftfestigkeit, um die Hafteigenschaft in Bezug auf ein Substrat, auf welches die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung ange wendet wird, sicherzustellen.
ein Mittel zur Unterstützung der Haftfestigkeit, um die Hafteigenschaft in Bezug auf ein Substrat, auf welches die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung ange wendet wird, sicherzustellen.
29. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 28,
wobei das Mittel zur Unterstützung der Haftfestigkeit
mindestens eines ist von einem Bismutoxid, einem
Kupferoxid, einem Zinkoxid, einem Manganoxid, einem
Titanoxid, einem Siliciumoxid, einem Chromoxid und
einem Nickeloxid.
30. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach einem der An
sprüche 20, 24, 25 und 27, welche ferner eine Kalium
verbindung umfaßt.
31. Isolierpastenzusammensetzung, die für eine Leiterplatte
verwendet wird, in der Verdrahtungsteile (2), welche
Silber enthalten, auf einem Substrat (1) zur Verfügung
gestellt werden, wobei die Isolierpastenzusammensetzung
folgendes umfaßt:
eine die Leitfähigkeit unterdrückende Substanz, um zu verhindern, daß das an dem Substrat zwischen den Ver drahtungsteilen angelagerte Silber leitend ist.
eine die Leitfähigkeit unterdrückende Substanz, um zu verhindern, daß das an dem Substrat zwischen den Ver drahtungsteilen angelagerte Silber leitend ist.
32. Isolierpastenzusammensetzung nach Anspruch 31, wobei
die die Leitfähigkeit unterdrückende Substanz eine Ka
liumverbindung ist.
33. Isolierpastenzusammensetzung nach Anspruch 32, wobei
die Kaliumverbindung mit 5-30 Gewichtsanteilen in Ein
heiten eines Kaliumoxids relativ zu
100 Gewichtsanteilen einer in der Isolierpastenzusam
mensetzung enthaltenen anorganischen Feststoffkomponen
te enthalten ist.
34. Isolierpastenzusammensetzung nach Anspruch 31, wobei
der Abstand zwischen den Verdrahtungsteilen (2) 500 µm
oder weniger beträgt.
35. Isolierpastenzusammensetzung nach Anspruch 34, wobei
das Substrat (1) einen Abschnitt besitzt, der auf eine
Temperatur von 700°C oder mehr erhitzt wird.
36. Isolierpastenzusammensetzung nach Anspruch 31, wobei
das Substrat (1) ein Aluminiumoxidsubstrat ist.
37. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, die zur Ausbildung
von Verdrahtungsteilen (2), welche Silber enthalten,
auf einem Substrat (1) verwendet wird, wobei die Leit
fähigkeitspastenzusammensetzung folgendes umfaßt:
eine die Leitfähigkeit unterdrückende Substanz, um zu verhindern, daß das an dem Substrat zwischen den Ver drahtungsteilen angelagerte Silber leitend ist.
eine die Leitfähigkeit unterdrückende Substanz, um zu verhindern, daß das an dem Substrat zwischen den Ver drahtungsteilen angelagerte Silber leitend ist.
38. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 37,
wobei die die Leitfähigkeit unterdrückende Substanz ei
ne Kaliumverbindung ist, welche enthalten ist in einem
organischen Trägermedium, in dem ein leitfähiges Me
tallpulver, welches Silber enthält, und ein anorgani
sches Bindemittel dispergiert sind.
39. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach einem der An
sprüche 20, 25 und 27, wobei die Leitfähigkeitspasten
zusammensetzung zur Ausbildung von Verdrahtungstei
len (2), welche Silber enthalten, auf einem
Substrat (1) verwendet wird.
40. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 37,
wobei der Abstand zwischen den Verdrahtungsteilen (2)
500 µm oder weniger beträgt.
41. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 40,
wobei das Substrat (1) einen Abschnitt besitzt, der auf
eine Temperatur von 700°C oder mehr erhitzt wird.
42. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 37,
wobei das Substrat (1) ein Aluminiumoxidsubstrat ist.
43. Leitfähigkeitspastenzusammensetzung nach Anspruch 3,
wobei die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung zwischen
auf einem Substrat (1) ausgebildeten Verdrahtungstei
len (2), welche Silber enthalten, angewendet wird.
44. Leiterplatte nach Anspruch 1, wobei ein Abstand zwi
schen den Verdrahtungsteilen (2) 590 µm oder weniger
beträgt.
45. Leiterplatte nach Anspruch 44, wobei das Substrat (1)
einen Abschnitt besitzt, der auf eine Temperatur von
700°C oder mehr erhitzt wird.
46. Leiterplatte nach Anspruch 1, wobei das Substrat (1)
ein Aluminiumoxidsubstrat ist.
47. Herstellungsverfahren für eine Leiterplatte, bei der
Verdrahtungsteile (2), welche Silber enthalten, auf ei
nem isolierenden Substrat (1) ausgebildet sind, wobei
das Herstellungsverfahren die folgenden Schritte um
faßt:
Herstellen des isolierenden Substrats (1);
Anwenden und Sintern einer Isolierpastenzusammenset zung (3), welche eine Kaliumverbindung enthält, auf das isolierende Substrat, so daß die Kaliumverbin dung auf dem isolierenden Substrat zwischen den Verdrahtungsteilen vorhanden ist; und
Ausbilden der Verdrahtungsteile (2) auf dem isolie renden Substrat durch Anwenden und Sintern einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, welche Silber enthält, auf Stellen, an denen die Verdrahtungs teile gebildet werden sollen.
Herstellen des isolierenden Substrats (1);
Anwenden und Sintern einer Isolierpastenzusammenset zung (3), welche eine Kaliumverbindung enthält, auf das isolierende Substrat, so daß die Kaliumverbin dung auf dem isolierenden Substrat zwischen den Verdrahtungsteilen vorhanden ist; und
Ausbilden der Verdrahtungsteile (2) auf dem isolie renden Substrat durch Anwenden und Sintern einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, welche Silber enthält, auf Stellen, an denen die Verdrahtungs teile gebildet werden sollen.
48. Herstellungsverfahren für eine Leiterplatte, bei der
Verdrahtungsteile (2), welche Silber enthalten, auf ei
nem isolierenden Substrat (1) ausgebildet sind, wobei
das Herstellungsverfahren die folgenden Schritte um
faßt:
Herstellen des isolierenden Substrats (1);
Anwenden einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, welche Silber enthält, auf Stellen auf dem isolie renden Substrat, an denen die Verdrahtungsteile gebildet werden sollen;
Anwenden einer Isolierpastenzusammensetzung (3), wel che eine Kaliumverbindung enthält, auf das isolie rende Substrat zwischen den Verdrahtungsteilen; und
Sintern der Leitfähigkeitspastenzusammensetzung und der Isolierpastenzusammensetzung, so daß Verdrah tungsteile (2) auf dem isolierenden Substrat aus gebildet werden und die Kaliumverbindung auf dem isolierenden Substrat zwischen den Verdrahtungstei len vorhanden ist.
Herstellen des isolierenden Substrats (1);
Anwenden einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, welche Silber enthält, auf Stellen auf dem isolie renden Substrat, an denen die Verdrahtungsteile gebildet werden sollen;
Anwenden einer Isolierpastenzusammensetzung (3), wel che eine Kaliumverbindung enthält, auf das isolie rende Substrat zwischen den Verdrahtungsteilen; und
Sintern der Leitfähigkeitspastenzusammensetzung und der Isolierpastenzusammensetzung, so daß Verdrah tungsteile (2) auf dem isolierenden Substrat aus gebildet werden und die Kaliumverbindung auf dem isolierenden Substrat zwischen den Verdrahtungstei len vorhanden ist.
49. Herstellungsverfahren für eine Leiterplatte, bei der
Verdrahtungsteile (2), welche Silber enthalten, auf ei
nem isolierenden Substrat (1) ausgebildet sind, wobei
das Herstellungsverfahren die folgenden Schritte um
faßt:
Herstellen des isolierenden Substrats (1);
Ausbilden der Verdrahtungsteile (2) auf dem isolie renden Substrat durch Anwenden und Sintern einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, welche Silber enthält, auf Stellen, an denen die Verdrahtungs teile gebildet werden sollen; und
Anwenden und Sintern einer Isolierpastenzusammenset zung (3), welche eine Kaliumverbindung enthält, auf dem isolierenden Substrat an Stellen zwischen den Verdrahtungsteilen, so daß die Kaliumverbindung zwischen den Verdrahtungsteilen vorhanden ist.
Herstellen des isolierenden Substrats (1);
Ausbilden der Verdrahtungsteile (2) auf dem isolie renden Substrat durch Anwenden und Sintern einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, welche Silber enthält, auf Stellen, an denen die Verdrahtungs teile gebildet werden sollen; und
Anwenden und Sintern einer Isolierpastenzusammenset zung (3), welche eine Kaliumverbindung enthält, auf dem isolierenden Substrat an Stellen zwischen den Verdrahtungsteilen, so daß die Kaliumverbindung zwischen den Verdrahtungsteilen vorhanden ist.
50. Herstellungsverfahren für eine Leiterplatte, bei der
Verdrahtungsteile (2), welche Silber enthalten, auf ei
nem isolierenden Substrat (1) ausgebildet sind, wobei
das Herstellungsverfahren die folgenden Schritte um
faßt:
Herstellen des isolierenden Substrats (1);
Ausbilden der Verdrahtungsteile (2) auf dem isolie renden Substrat durch Anwenden und Sintern einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, welche Silber enthält, auf Stellen, an denen die Verdrahtungsteile gebildet werden sollen;
wobei die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung gebil det wird durch Dispergieren eines leitfähigen Me tallpulvers, welches Silber enthält, und eines an organischen Bindemittels, welches in einem organi schen Trägermedium dispergiert ist und ferner eine Kaliumverbindung enthält.
Herstellen des isolierenden Substrats (1);
Ausbilden der Verdrahtungsteile (2) auf dem isolie renden Substrat durch Anwenden und Sintern einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, welche Silber enthält, auf Stellen, an denen die Verdrahtungsteile gebildet werden sollen;
wobei die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung gebil det wird durch Dispergieren eines leitfähigen Me tallpulvers, welches Silber enthält, und eines an organischen Bindemittels, welches in einem organi schen Trägermedium dispergiert ist und ferner eine Kaliumverbindung enthält.
51. Herstellungsverfahren für eine Leiterplatte, bei der
Verdrahtungsteile (2), welche Silber enthalten, auf ei
nem isolierenden Substrat (1) ausgebildet sind, wobei
das Herstellungsverfahren die folgenden Schritte um
faßt:
Herstellen des isolierenden Substrats (1); und
Ausbilden der Verdrahtungsteile (2) auf dem isolie renden Substrat durch Anwenden und Sintern einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, welche Silber enthält, auf Stellen, an denen die Verdrahtungs teile gebildet werden sollen;
wobei die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung gebil det wird durch Dispergieren eines leitfähigen Me tallpulvers, welches Silber enthält, und eines an organischen Bindemittels, welches in einem organi schen Trägermedium dispergiert ist, und wobei das anorganische Bindemittel gebildet wird durch eine Substanz zum Unterdrücken der Verdampfung des in dem leitfähigen Metallpulver enthaltenen Silbers.
Herstellen des isolierenden Substrats (1); und
Ausbilden der Verdrahtungsteile (2) auf dem isolie renden Substrat durch Anwenden und Sintern einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, welche Silber enthält, auf Stellen, an denen die Verdrahtungs teile gebildet werden sollen;
wobei die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung gebil det wird durch Dispergieren eines leitfähigen Me tallpulvers, welches Silber enthält, und eines an organischen Bindemittels, welches in einem organi schen Trägermedium dispergiert ist, und wobei das anorganische Bindemittel gebildet wird durch eine Substanz zum Unterdrücken der Verdampfung des in dem leitfähigen Metallpulver enthaltenen Silbers.
52. Herstellungsverfahren für eine Leiterplatte, bei der
Verdrahtungsteile (2), welche Silber enthalten, auf ei
nem isolierenden Substrat (1) ausgebildet sind, wobei
das Herstellungsverfahren die folgenden Schritte um
faßt:
Herstellen des isolierenden Substrats (1); und
Ausbilden der Verdrahtungsteile (2) auf dem isolie renden Substrat durch Anwenden und Sintern einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, welche Silber enthält, auf Stellen, an denen die Verdrahtungs teile gebildet werden sollen;
wobei die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung gebil det wird durch Dispergieren eines leitfähigen Me tallpulvers, welches Silber enthält, und eines an organischen Bindemittels, welches in einem organi schen Trägermedium dispergiert ist, und wobei das anorganische Bindemittel gebildet wird durch minde stens einer Komponente, ausgewählt aus einer Glas fritte und einem Bismutoxid, und wobei ein Gehalt davon 45 Gewichtsanteile oder mehr relativ zu 100 Gewichtsanteilen des leitfähigen Metallpulvers beträgt.
Herstellen des isolierenden Substrats (1); und
Ausbilden der Verdrahtungsteile (2) auf dem isolie renden Substrat durch Anwenden und Sintern einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, welche Silber enthält, auf Stellen, an denen die Verdrahtungs teile gebildet werden sollen;
wobei die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung gebil det wird durch Dispergieren eines leitfähigen Me tallpulvers, welches Silber enthält, und eines an organischen Bindemittels, welches in einem organi schen Trägermedium dispergiert ist, und wobei das anorganische Bindemittel gebildet wird durch minde stens einer Komponente, ausgewählt aus einer Glas fritte und einem Bismutoxid, und wobei ein Gehalt davon 45 Gewichtsanteile oder mehr relativ zu 100 Gewichtsanteilen des leitfähigen Metallpulvers beträgt.
53. Herstellungsverfahren für eine Leiterplatte, bei der
Verdrahtungsteile (2), welche Silber enthalten, auf ei
nem isolierenden Substrat (1) ausgebildet sind, wobei
das Herstellungsverfahren die folgenden Schritte um
faßt:
Herstellen des isolierenden Substrats (1); und
Ausbilden der Verdrahtungsteile (2) auf dem isolie renden Substrat durch Anwenden und Sintern einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, welche Silber enthält, auf Stellen, an denen die Verdrahtungs teile gebildet werden sollen;
wobei die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung gebil det wird durch Dispergieren eines leitfähigen Me tallpulvers, welches Silber enthält, das in einem organischen Trägermedium dispergiert ist, und wobei die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung kein anor ganisches Bindemittel enthält.
Herstellen des isolierenden Substrats (1); und
Ausbilden der Verdrahtungsteile (2) auf dem isolie renden Substrat durch Anwenden und Sintern einer Leitfähigkeitspastenzusammensetzung, welche Silber enthält, auf Stellen, an denen die Verdrahtungs teile gebildet werden sollen;
wobei die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung gebil det wird durch Dispergieren eines leitfähigen Me tallpulvers, welches Silber enthält, das in einem organischen Trägermedium dispergiert ist, und wobei die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung kein anor ganisches Bindemittel enthält.
54. Herstellungsverfahren nach Anspruch 53, wobei die Leit
fähigkeitspastenzusammensetzung ferner ein Mittel zur
Unterstützung der Haftfestigkeit enthält, um die Haft
eigenschaft im Hinblick auf das isolierende Substrat,
auf welches die Leitfähigkeitspastenzusammensetzung an
gewendet wird, sicherzustellen.
55. Herstellungsverfahren nach Anspruch 54, wobei das Mit
tel zur Unterstützung der Haftfestigkeit mindestens ei
nes ist von einem Bismutoxid, einem Kupferoxid, einem
Zinkoxid, einem Manganoxid, einem Titanoxid, einem
Siliciumoxid, einem Chromoxid und einem Nickeloxid.
56. Herstellungsverfahren nach Anspruch 53, wobei die Leit
fähigkeitspastenzusammensetzung ferner eine Kaliumver
bindung umfaßt.
57. Herstellungsverfahren nach einem der Ansprüche 47-53,
wobei ein Abstand zwischen den Verdrahtungsteilen (2)
500 µm oder weniger beträgt.
58. Herstellungsverfahren nach Anspruch 57, wobei das iso
lierende Substrat (1) einen Abschnitt besitzt, der auf
eine Temperatur von 700°C oder mehr erhitzt wird.
59. Herstellungsverfahren nach einem der Ansprüche 47-53,
wobei das isolierende Substrat (1) ein Aluminiumoxid
substrat ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP00904698A JP3941201B2 (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | 導体ペースト組成物及び回路基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19902125A1 true DE19902125A1 (de) | 1999-07-22 |
Family
ID=11709710
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19902125A Withdrawn DE19902125A1 (de) | 1998-01-20 | 1999-01-20 | Isolierpastenzusammensetzung und Leiterfähigkeitspastenzusammensetzung und Leiterplatte, welche selbige verwendet |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6174462B1 (de) |
JP (1) | JP3941201B2 (de) |
DE (1) | DE19902125A1 (de) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6451127B1 (en) | 1999-06-01 | 2002-09-17 | Motorola, Inc. | Conductive paste and semiconductor component having conductive bumps made from the conductive paste |
KR100369565B1 (ko) * | 1999-12-17 | 2003-01-29 | 대주정밀화학 주식회사 | 전기발열체용 저항 페이스트 조성물 |
TW507484B (en) * | 2000-03-15 | 2002-10-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method of manufacturing multi-layer ceramic circuit board and conductive paste used for the same |
US20030000938A1 (en) * | 2000-12-01 | 2003-01-02 | Yanling Zhou | Ceramic heater, and ceramic heater resistor paste |
WO2002092533A1 (en) * | 2001-05-16 | 2002-11-21 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Dielectric composition with reduced resistance |
US7510995B2 (en) * | 2003-04-01 | 2009-03-31 | United Technologies Corporation | Application of a mixed metal oxide catalyst to a metallic substrate |
US7982166B2 (en) | 2003-12-24 | 2011-07-19 | Kyocera Corporation | Ceramic heater and method for manufacturing the same |
US7202154B2 (en) * | 2004-01-05 | 2007-04-10 | International Business Machines Corporation | Suspension for filling via holes in silicon and method for making the same |
JP4416556B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2010-02-17 | パナソニック株式会社 | プラズマディスプレイ用電極修理方法及び電極修理装置 |
US7494041B2 (en) * | 2004-06-23 | 2009-02-24 | Intel Corporation | In-situ alloyed solders, articles made thereby, and processes of making same |
CN101983543B (zh) | 2008-03-31 | 2012-08-01 | 三菱电机株式会社 | 低温烧成陶瓷电路基板 |
US20090266409A1 (en) * | 2008-04-28 | 2009-10-29 | E.I.Du Pont De Nemours And Company | Conductive compositions and processes for use in the manufacture of semiconductor devices |
JP2010251645A (ja) * | 2009-04-20 | 2010-11-04 | Namics Corp | 太陽電池及びその電極形成用導電性ペースト |
EP2444148A1 (de) * | 2010-10-25 | 2012-04-25 | Bayer Material Science AG | Metallpartikelsol mit dotierten Silbernanopartikeln |
TW201227761A (en) | 2010-12-28 | 2012-07-01 | Du Pont | Improved thick film resistive heater compositions comprising ag & ruo2, and methods of making same |
CN102280162A (zh) * | 2011-07-19 | 2011-12-14 | 彩虹集团公司 | 一种用于厚膜电路的隔离介质材料及其制备方法 |
CN102354687B (zh) * | 2011-07-19 | 2013-08-14 | 彩虹集团公司 | 一种用于厚膜电路的阻挡介质材料及其制备方法 |
SG190520A1 (en) * | 2011-11-09 | 2013-06-28 | Heraeus Precious Metals Gmbh | Thick film conductive composition and use thereof |
CN102810343A (zh) * | 2012-07-06 | 2012-12-05 | 苏州开元民生科技股份有限公司 | 晶硅太阳能电池背面电极银浆及其制备方法 |
CN103177796A (zh) * | 2013-03-22 | 2013-06-26 | 苏州开元民生科技股份有限公司 | 一种晶硅太阳能电池背面电极银浆及其制备方法 |
TWI652694B (zh) * | 2014-01-17 | 2019-03-01 | 日商納美仕有限公司 | 導電性糊及使用該導電性糊製造半導體裝置之方法 |
CN103886931B (zh) * | 2014-01-27 | 2017-06-16 | 无锡光富光伏材料有限公司 | 一种上转换太阳能电池用铝浆 |
CN104934103B (zh) * | 2015-06-07 | 2017-06-09 | 贵研铂业股份有限公司 | 一种适合两种焊接工艺的环保型氧化锌压敏电阻器用电极银浆及其制备方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5254194A (en) | 1975-10-29 | 1977-05-02 | Murata Manufacturing Co | Conductive paste |
JPS55151707A (en) | 1979-05-16 | 1980-11-26 | Nippon Electric Co | Powder inorganic composition for insulating layer calcining paste |
JPS5883073A (ja) | 1981-11-11 | 1983-05-18 | Shoei Kagaku Kogyo Kk | 導電性塗料 |
US4369063A (en) * | 1981-11-12 | 1983-01-18 | Ciba-Geigy Corporation | Silver containing conductive coatings |
JPS5946702A (ja) | 1982-09-10 | 1984-03-16 | 日本電気株式会社 | 絶縁性セラミツクペ−スト用無機組成物 |
JPS5946701A (ja) | 1982-09-10 | 1984-03-16 | 日本電気株式会社 | 絶縁性セラミツクペ−スト用無機組成物 |
JPS5951406A (ja) | 1982-09-16 | 1984-03-24 | 松下電器産業株式会社 | 導電性ないし半導電性重合体組成物の製造法 |
JPS61251101A (ja) | 1985-04-30 | 1986-11-08 | 住友金属鉱山株式会社 | 導体ペ−スト |
JPS62140304A (ja) | 1985-12-13 | 1987-06-23 | 古河電気工業株式会社 | 導電性ペ−スト |
JP2503974B2 (ja) | 1986-06-03 | 1996-06-05 | 株式会社村田製作所 | 導電性ペ−スト |
JPS649883A (en) | 1987-07-02 | 1989-01-13 | Tanaka Massey Kk | Conductor composition |
JPS6481106A (en) | 1987-09-22 | 1989-03-27 | Sumitomo Metal Mining Co | Composition for forming conductive film |
CA2058414C (en) | 1990-03-19 | 1995-11-14 | Akinori Yokoyama | High temperature baking paste |
JPH04192208A (ja) | 1990-11-26 | 1992-07-10 | Tanaka Kikinzoku Internatl Kk | 導体ペースト |
JPH06239646A (ja) | 1993-02-17 | 1994-08-30 | Asahi Glass Co Ltd | 被覆用ガラス組成物及びそれを使用したペースト |
JPH08148030A (ja) | 1994-11-24 | 1996-06-07 | Murata Mfg Co Ltd | 導電性ペースト |
JP3019138B2 (ja) * | 1995-03-30 | 2000-03-13 | 株式会社住友金属エレクトロデバイス | 銀系導電性ペースト及びそれを用いた多層セラミック回路基板 |
-
1998
- 1998-01-20 JP JP00904698A patent/JP3941201B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-01-19 US US09/233,153 patent/US6174462B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-01-20 DE DE19902125A patent/DE19902125A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH11214829A (ja) | 1999-08-06 |
US6174462B1 (en) | 2001-01-16 |
JP3941201B2 (ja) | 2007-07-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE19902125A1 (de) | Isolierpastenzusammensetzung und Leiterfähigkeitspastenzusammensetzung und Leiterplatte, welche selbige verwendet | |
DE10157443B4 (de) | Glas-Keramikzusammensetzung für ein elektronisches Keramikbauteil, Verwendung der Glas-Keramikzusammensetzung für ein elektronisches Keramikbauteil und Vefahren zur Herstellung eines elektronischen Vielschicht-Keramikbauteils | |
DE602004006951T2 (de) | Leitfähige paste | |
DE2746320C2 (de) | Kupfer-Glas-Stoffzusammensetzung und ihre Verwendung | |
DE4401616B4 (de) | Keramische Mehrfachschichten-Verdrahtungskarte | |
DE3621667C2 (de) | ||
DE69630332T2 (de) | Leitpaste zum Verschluss von Vias in keramischen Leiterplatten | |
DE2523009A1 (de) | Silbermasse und ihre verwendung | |
DE102004032903B4 (de) | Leitfähiges Pulver und Verfahren zur Herstellung desselben | |
DE19961537B4 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramiktafel | |
DE102008032554A1 (de) | Metallhaltige Zusammensetzung, Verfahren zur Herstellung von elektrischen Kontaktstrukturen auf elektronischen Bauteilen sowie elektronisches Bauteil | |
US5518663A (en) | Thick film conductor compositions with improved adhesion | |
DE19608484B4 (de) | Bei niedriger Temperatur gebranntes Keramik-Schaltungssubstrat | |
DE3434449A1 (de) | Keramisches mehrschichtsubstrat und verfahren zu seiner herstellung | |
DE60212439T2 (de) | Silberleiterzusammensetzung für Solarzellelektroden | |
DE3139750C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Dickschicht-Schaltungen | |
EP0327816B1 (de) | Nicht-oxidierende Kupfer-Dickfilmleiter | |
DE10319106A1 (de) | Elektrisch leitfähige Paste und Verfahren zum Bilden eines Elektrodenmusters | |
DE3700912C2 (de) | ||
US4394171A (en) | Thick film conductor compositions | |
DE2610303A1 (de) | Siebdruckpaste fuer dicke, elektrisch leitende, leiterbahnen bildende schichten auf einem keramischen substrat | |
DE1646606C3 (de) | Masse zum Metallisieren von keramischen Werkstücken | |
DE2550275C2 (de) | Verfahren zum Herstellen von Barrieren für Lötzinn auf Leiterzügen | |
DE60212950T2 (de) | Verwendung von leiterzusammensetzungen in elektronischen schaltungen | |
JP2007095705A (ja) | 導体ペースト組成物及び回路基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |
Effective date: 20110802 |