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Diese
Erfindung bezieht sich allgemein auf einen aktiven Pixelsensor.
Insbesondere bezieht sich die Erfindung auf einen aktiven Pixelsensor,
der Transistoren umfaßt,
die in einem ausgeprägten
Integrationsmodus betrieben werden.
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Eine
elektronische Kamera wandelt allgemein ein optisches Bild in einen
Satz von elektronischen Signalen um. Die elektronischen Signale
können
Intensitäten
von Licht darstellen, das durch die Kamera empfangen wird. Die elektronische
Kamera umfaßt
typischerweise ein Array von Bildsensoren, die die Intensität des Lichts,
das durch die Kamera empfangen wird, erfassen. Die Bildsensoren
erzeugen typischerweise elektronische Signale, die Amplituden aufweisen,
die proportional zu der Intensität des
Lichts sind, das durch die Sensoren empfangen wird. Die elektronischen
Signale können
abgetastet und digitalisiert werden, um ein Bildverarbeiten zu ermöglichen.
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Die
Integration der Bildsensoren mit Signalverarbeitungsmodulen ist
wichtig, da eine Integration eine Miniaturisierung und eine Verbesserung
von Bilderzeugungssystemen ermöglicht.
Die Integration der Bildsensoren zusammen mit analogen und digitalen
Signalverarbeitungsmodulen ermöglicht,
daß elektronische
Kamerasysteme kompakt und kostengünstig sind und niedrige Leistungsmengen
dissipieren. Der Grad der Integration hängt jedoch von der Miniaturisierung
der Bildsensoren ab.
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Ursprünglich sind
Bildsensoren überwiegend ladungsgekoppelte
Bauelemente (CCDs; CCD = Charged Coupled Device). Die CCDs sind
relativ klein, und dieselben können
einen hohen Füllfaktor liefern.
CCDs sind jedoch sehr schwer mit digitalen und analogen Signalverarbeitungsmodulen
integrierbar. Ferner dissipieren CCDs große Leistungsmengen und dieselben
können
unter Bildverschmierproblemen leiden.
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Eine
Alternative zu den CCD-Sensoren sind aktive Pixelsensoren. Mehrere
Typen von bekannten aktiven Pixelsensorstrukturen existieren derzeit. Jede
Struktur der bekannten Strukturen von aktiven Pixelsensoren umfaßt jedoch
Merkmale, die die Attraktivität
der spezifischen Sensorstruktur begrenzen.
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1 zeigt
eine bekannte Struktur für
aktive Pixelsensoren, die vier Transistoren Q1, Q2, Q3, Q4, eine
schwebende Diode FD (FD = Floating Diode) und einen MOS-Kondensator
CM1 umfaßt.
Aufgrund der großen
Anzahl von Schaltungselementen erfordert diese aktive Pixelstruktur
eine wesentliche Menge an integriertem Schaltungsbereich. Die NEUEINSTELLEN-Leitung
dieser Struktur ermöglicht
es, daß die
schwebende Diode FD entladen werden kann. Eine PG-Verbindung umfaßt einen
Polysiliziumdraht. Durch Einstellen des Spannungspotentials der PG-Verbindung
wird der MOS-Kondensator CM1 aufgrund der Verarmung einer Kanalregion
erzeugt, die unter der PG-Verbindung erzeugt wird. Eine TX-Verbindung
wird auf ein festes Spannungspotential getrieben, um eine Potentialbarriere
für den MOS-Kondensator
CM1 vorzusehen. Die Verarmungsregion, die den MOS-Kondensator CM1
erzeugt, wird durch Vorspannen der PG-Verbindung auf ein hohes Spannungspotential
(Vdd) erzeugt. Der MOS-Kondensator CM1 wird Elektronen ansammeln,
wenn derselbe Licht ausgesetzt wird, das die Elektronen anregt.
Nach einer Integrationszeit werden die Elektronen, die auf dem MOS-Kondensator angesammelt
sind, zu der schwebenden Diode FD übertragen, da der MOS-Kondensator
CM1 aufhört zu
existieren. Eine Signalspannung wird quer zu der schwebenden Diode
FD gespeichert, die proportional zu der Intensität des Lichts ist, das durch
den aktiven Pixelsensor empfangen wird. Die AUSWÄHLEN-Verbindung ermöglicht es,
daß die
Signalspannung quer zu der schwebenden Diode abgetastet werden kann. Wie
vorher erwähnt,
erfordert die beträchtliche
Anzahl von elektrischen Komponenten, die diesem aktiven Pixelsensor zugeordnet
ist, eine große
Menge an integriertem Schaltungsbereich, was den Füllfaktor des
Sensors begrenzt.
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2 zeigt
eine bekannte Struktur eines aktiven Pixelsensors, die drei Transistoren
Q5, Q6, Q7 und eine Photodiode PD1 erfordert. Die Photodiode PD1
sammelt Ladung mit einer Rate, die proportional zu der Intensität von Licht
ist, das durch die Photodiode PD1 empfangen wird. Die Kapazität, die mit
dem Knoten ND (ND = node = Knoten) gekoppelt ist, sammelt Ladung,
sowie die Photodiode PD1 Elektronen sammelt. Die Struktur eines
aktiven Pixelsensors, die in 2 gezeigt
ist, umfaßt
weniger Transistoren als die Struktur eines aktiven Pixelsensors,
die in 1 gezeigt ist. Daher ist die in 2 gezeigte
Struktur eines aktiven Pixelsensors kleiner als die in 1 gezeigte
Struktur eines aktiven Pixelsensors. Eine Miniaturisierung eines
Arrays dieser Pixelsensoren ist jedoch durch den Füllfaktor
der Pixelsensoren begrenzt. Um den Füllfaktor zu verbessern, muß die Anzahl
der Transistoren in jedem Pixelsensor weiter reduziert werden.
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3 zeigt
einen bekannten einzelnen aktiven Pixelsensor mit einem NPN-Bipolartransistor. Die
Größenvorteile
des Umfassens lediglich eines Transistors innerhalb des aktiven
Pixelsensors werden durch die Größenerfordernisse
zum Implementieren des aktiven Pixelsensors zunichte gemacht. Das
heißt
der einzelne Transistor ist ein NPN-Bipolartransistor, der eine
N-Wanne erfordert, wenn der aktive Pixelsensor unter Verwendung
eines P-dotierten Substrats implementiert wird. Typischerweise sind
die N-Wannen groß,
wenn dieselben unter Verwendung eines CMOS-Fertigungsprozesses implementiert
werden. Ferner ist ein Basisknoten des NPN-Bipolartransistors im
wesentlichen schwebend. Daher ist das Neueinstellen des aktiven
Pixelsensors an dem Basisknoten nicht sehr leicht. Als ein Resultat kann
dieser aktive Pixelsensor unter einem Bildnacheilen leiden.
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4 zeigt
eine bekannte Struktur eines passiven Pixel sensors, die zwei Transistoren
Q9, Q10 und eine Photodiode PD2 erfordert. Die Photodiode PD2 umfaßt eine
Sperrschichtkapazität
CD. Ein Ausgang des passiven Pixels ist mit einer Bitleitung verbunden,
die eine Buskapazität
CBUS umfaßt.
Der Transistor Q10 wird eingeschaltet, wenn der aktive Pixelsensor
ausgewählt
wird. Die Kapazität der
Sperrschichtkapazität
CD ist effektiv parallel zu einer Kapazität eines Busses CBUS geschaltet.
Der Füllfaktor
dieses Pixelsensors ist hoch. Das Signal-Zu-Rausch-Verhältnis ist
jedoch nicht mit einer Erhöhung
der Anzahl von Pixelsensoren innerhalb eines Arrays der Pixelsensoren
steigerbar. Ein Spannungspotential, das durch eine Ladung erzeugt
wird, die auf der Kapazität
der Photodiode gespeichert ist, wird mit der Kapazität des Busses
geteilt. Wenn der aktive Pixelsensor ausgewählt ist, wird die Spannungsladung,
die auf der Kapazität
der Photodiode gesammelt ist, stark reduziert, da die Ladung auf
der Kapazität
der Photodiode mit der Kapazität
des Busses geteilt wird. Die Kapazität des Busses nimmt zu, sowie
die Größe des Arrays
von aktiven Pixelsensoren zunimmt. Daher wird das Signal-Zu-Rausch-Verhältnis eines
Signals, das durch den aktiven Pixelsensor erzeugt wird, stark reduziert,
wenn sich der aktive Pixelsensor innerhalb eines großen Arrays
von aktiven Pixelsensoren befindet.
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Aus
der
EP 0494694 A2 und
der
US 5677201 A sind
jeweils photoelektrische Elemente bekannt, bei denen eine Photodiode
zum Erzeugen eines Photostroms dient. Ein bipolarer Auslesetransistor
ist vorgesehen, dessen Basis-Anschluß mit der Kathode der Photodiode
verbunden ist. Ferner ist der Basis-Anschluß des Auslesetransistors mit
einem Rücksetzschalter
in Form eines Feldeffekttransistors und einem Kondensator zum Erhöhen des
Potentials am Basis-Anschluß des
Auslesetransistors verbunden. Der Rücksetzschalter und der Kondensator
werden über
eine gemeinsame Steuerleitung getrieben.
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Die
GB 2192488 A offenbart eine
photoelektrische Umwandlungsvorrichtung unter Verwendung eines Phototransistors,
wobei ein Kondensator zum Steuern des Potentials eines Steuerelektrodenbereichs
des Phototransistors und eine Schalteinrichtung zum Schalten des
Steuerelektrodenbereichs auf ein vorbestimmtes Potential vorgesehen
sind.
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Eine
Struktur, wie sie oben bezugnehmend auf
1 beschrieben wurde, ist aus der
US 5587596 A bekannt.
Ferner sind aus H. Beneking, "Feldeffekttransistoren", Springer-Verlag, Berlin 1973,
S. 25 – 31,
Feldeffekttransistoren mit eindiffundierten Zonen und Schwellenspannungen
von etwa 3 V bekannt.
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Die
Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, einen aktiven
Pixelsensor zu schaffen, der physisch klein ist und einen hohen
Füllfaktor
besitzt, wobei derselbe rauscharme Auslesesignale liefert und ein
elektronisches Verschließen
und ein Antiüberstrahlen
vorsieht, und wobei derselbe in eine Bildverarbeitungsschaltungsanordnung
integriert und unter Verwendung eines kostengünstigen CMOS-Prozesses gefertigt
werden kann.
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Diese
Aufgabe wird durch einen aktiven Pixelsensor gemäß Anspruch 1 gelöst.
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Die
vorliegende Erfindung schafft einen aktiven Pixelsensor, der mit
kostengünstigen CMOS-Fertigungsprozessen
kompatibel ist. Der aktive Pixelsensor ist physisch klein und besitzt
einen hohen Füllfaktor.
Der aktive Pixelsensor liefert rauscharme Auslesesignale und sieht
ein Antiüberstrahlen
und ein elektronisches Verschließen vor. Ferner kann der aktive
Pixelsensor mit analogen und digitalen Verarbeitungsschaltungsanordnungen
integriert werden.
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Ein
erstes Ausführungsbeispiel
dieser Erfindung umfaßt
einen aktiven Pixelsensor. Der aktive Pixelsensor umfaßt einen
Verstärkungs/Vergleichs-Transistor,
der eine Schwellenspannung aufweist. Der Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
koppelt einen Eingang des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors
mit einem Ausgang des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors,
wenn der Eingang des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors
die Schwellenspannung überschreitet.
Eine Photodiode erzeugt eine Signalspannung, die einen Spannungspegel aufweist,
der von der Intensität
des Lichts abhängt, das
durch die Photodiode empfangen wird. Die Signalspannung ist mit
dem Eingang des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors
gekoppelt. Ein Neueinstelltransistor koppelt eine Neueinstelleitung
mit der Photodiode und entlädt
die Photodiode, wenn die Neueinstellleitung aktiv ist. Ein Koppelkondensator koppelt
eine Auswahlleitung mit dem Eingang des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors. Die
Auswahlleitung bewirkt, daß das
Eingangssignal des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors
die Schwellenspannung überschreitet,
und dadurch die Signalspannung mit dem Ausgang des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors
koppelt. Die Schwellenspannung wird eingestellt, um den dynamischen
Bereich der Signalspannung zu verbessern, die mit dem Ausgang des
Verstärkungs/Vergleichs-Transistors
gekoppelt ist.
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Der
Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
ist als ein N-Typ-MOSFET
und der Neueinstelltransistor als ein N-Typ-MOSFET ausgeführt.
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Ferner
ist ein Rückseiten-Gate
des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors mit einer
P-Wanne verbunden, die mit einer variablen Spannung verbunden ist.
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Ein
weiteres Ausführungsbeispiel
der Erfindung ist ähnlich
zu dem ersten Ausführungsbeispiel, dasselbe
umfaßt
jedoch den Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
als einen P-Typ-MOSFET
und den Neueinstelltransistor als einen N-Typ-MOSFET. Ferner ist
ein Rückseiten-Gate
(= Back-Gate) des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors
mit einer variablen Spannung verbunden, die die Schwellenspannung einstellt.
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Ein
weiteres Ausführungsbeispiel
der Erfindung ist ähnlich
zu dem ersten Ausführungsbeispiel, dasselbe
umfaßt
jedoch den Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
als einen P-Typ-MOSFET
und den Neueinstelltransistor als einen P-Typ-MOSFET. Ferner ist
ein Rückseiten-Gate
des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors mit einer
variablen Spannung verbunden, die die Schwellenspannung einstellt.
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Bevorzugte
Ausführungsbeispiele
der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend unter Bezugnahme auf
die beigefügten
Zeichnungen näher
erläutert.
Es zeigen:
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1 eine
bekannte Struktur eines aktiven Pixelsensors, die vier Transistoren
umfaßt;
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2 eine
bekannte Struktur eines aktiven Pixelsensors, die drei Transistoren
umfaßt;
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3 eine
bekannte Struktur eines aktiven Pixelsensors, die einen einzigen
NPN-Bipolartransistor umfaßt;
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4 eine
bekannte Struktur eines passiven Pixelsensors, die zwei Transistoren
umfaßt;
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5 ein
Schaltungsschema eines Vergleichsbeispiels;
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6 eine
Implementation des Beispiels, das in 5 gezeigt
ist;
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7 ein
Taktdiagramm der Signale, die in dem Schema von 5 gezeigt
sind, wenn die Intensität
von Licht erfaßt
wird, das durch den aktiven Pixelsensor erfaßt wird;
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8 ein
Schaltungsschema eines ersten Ausführungsbeispiels der Erfindung;
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9 eine
Implementation des Ausführungsbeispiels,
das in 8 gezeigt ist;
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10 ein
Schaltungsschema eines zweiten Ausführungsbeispiels der Erfindung;
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11 eine
Implementation des Ausführungsbeispiels,
das in 10 gezeigt ist;
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12 ein
Schaltungsdiagramm eines dritten Ausführungsbeispiels der Erfindung;
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13 eine
Implementation des Ausführungsbeispiels,
das in 12 gezeigt ist;
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14 ein
Taktdiagramm der Signale, die in dem Schema von 12 gezeigt
sind, wenn die Intensität
von Licht erfaßt
wird, das durch den aktiven Pixelsensor der Erfindung empfangen
wird; und
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15 ein
Schaltungsdiagramm eines Vergleichsbeispiels.
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Wie
es in den Zeichnungen zum Zweck der Darstellung gezeigt ist, ist
die Erfindung mit einem aktiven Pixelsensor mit einem ausgeprägten Integrationsmodus
gezeigt. Der aktive Pixelsensor sieht eine kleine Pixelgröße und einen
hohen Füll faktor vor.
Der aktive Pixelsensor liefert rauscharme Auslesesignale und sieht
ein Antiüberstrahlen
und ein elektronisches Verschließen vor. Ferner kann der aktive Pixelsensor
mit einer analogen und digitalen Verarbeitungsschaltungsanordnung
unter Verwendung eines kostengünstigen
Fertigungsprozesses integriert werden.
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5 ist
ein Schaltungsschema eines Vergleichsbeispiels. Dieses Beispiel
ist ein aktiver Pixelsensor, der einen N-Typ-MOSFET-Neueinstelltransistor
M1, einen N-Typ-MOSFET-Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M2, einen Koppelkondensator C1 und eine Photodiode D1 umfaßt. Der
Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M2 umfaßt
ein Kanalimplantat, das eine hohe Substratstörstellenkonzentration umfaßt. Das
Kanalimplantat führt
dazu, daß der Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M2 eine Schwellenspannung aufweist, die größer als bei einem typischen
N-Typ-MOSFET-Transistor ist. Der Eingang (Gate) des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors M2 ist
mit der Kathode der Photodiode D1 verbunden. Der Verbindungsknoten
wird als ein Signalknoten N1 in 5 bezeichnet.
Das Bilden von Kanalimplantaten in MOSFET-Transistoren ist in der
Technik der Transistorfertigung gut bekannt.
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Das
Schaltungsschema von 5 umfaßt mehrere gesteuerte Eingangssignale
und ein einziges Ausgangssignal. Die gesteuerten Eingangssignale
umfassen Vdd, Vreset, MASSE, AUSWÄHLEN und NEUEINSTELLEN. Vdd
ist eine Leistungsversorgung, die allgemein ferner die digitale
und analoge Signalverarbeitungsschaltungsanordnung mit Leistung
versorgt, die den aktiven Pixelsensoren zugeordnet ist. MASSE ist
eine Schaltungsmasse. Vneueinstellen ist eine Bezugsspannung, die
die Vorspannung des Signalknotens N1 quer zu der Photodiode D1 bestimmt,
wenn der aktive Pixelsensor neu eingestellt wird. Vneueinstellen
kann ferner mit der Leistungsversorgungsspannung Vdd verbunden sein.
Dies führt
jedoch dazu, daß der
aktive Pixelsensor einen längeren
Zeitbetrag erfordert, um neu eingestellt zu werden. Das Eingangssignal
AUSWÄHLEN
ist aktiv, wenn der aktive Pixelsensor zum Zweck des Erfassens der
Intensität
von Licht, das durch den aktiven Pixelsensor empfangen wird, ausgewählt wird.
Das Eingangssignal AUSWÄHLEN
ist ein gepulstes Eingangssignal, das die Schaltungselemente des
aktiven Pixelsensors zum Zweck des Koppelns eines Spannungspotentials
quer zu der Photodiode D1 mit einem Ausgangssignal vorspannt. Das
Eingangssignal NEUEINSTELLEN stellt den aktiven Pixelsensor durch
Vorspannen des Signalknotens N1 und Entladen der Photodiode D1 neu
ein.
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Das
gepulste Eingangssignal AUSWÄHLEN und
der Koppelkondensator C1 können
physisch durch Fertigen einer Polysiliziumschicht über einer N-Insel-Diffusionsschicht
realisiert werden. Die Fertigung einer Polysiliziumschicht über einer
N-Insel-Diffusionsschicht
ist in der Technik der Halbleiterfertigung gut bekannt.
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6 zeigt
eine Implementation des Ausführungsbeispiels,
das in 5 gezeigt ist. Dieses Ausführungsbeispiel umfaßt ein P-dotiertes
Substrat 20. Das P-dotierte Substrat 20 umfaßt mehrere
N-dotierte Diffusionsregionen 22, 24, 26, 28.
Das Ausführungsbeispiel
umfaßt
ferner Gateoxidregionen 29, 30, 31, eine
Polysiliziumschicht 33, eine Metallschicht 32,
eine Metallschicht 35 und eine Feldoxidregion 34.
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Der
Neueinstelltransistor M1 ist durch die N-dotierte Diffusionsregion 22,
die Gateoxidregion 29, das P-dotierte Substrat 20 und
die N-dotierte Diffusionsregion 24 gebildet. Der Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M2 ist durch die N-dotierte
Diffusionsregion 26, die Gateoxidregion 31, das
P-dotierte Substrat 20 und
die N-dotierte Diffusionsregion 28 gebildet. Der Verstärkungs/Vergleichstransistor
M2 umfaßt
ferner ein Kanalimplantat 37. Die Photodiode D1 ist durch
das P-dotierte Substrat 20 und die N-dotierte Diffusionsregion 24 gebildet.
Der Koppelkondensator ist durch die Gateoxidregion 30 und
die Polysiliziumschicht 33 gebildet.
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7 ist
ein Taktdiagramm der Signale, die in dem Schema von 5 gezeigt
sind, wenn die Intensität
des Lichts erfaßt
wird, das durch den aktiven Pixelsensor erfaßt wird. Das Erfassen der Intensität des Lichts
kann in vier Hauptereignisse oder Hauptschritte eingeteilt werden.
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Ein
erstes Ereignis 71 umfaßt, daß die Neueinstelleitung (NEUEINSTELLEN)
des aktiven Pixelsensors von einer niedrigen Neueinstellspannung 81 zu
einer hohen Neueinstellspannung 83 pulst. Wenn die Neueinstelleitung
(NEUEINSTELLEN) sich auf der hohen Neueinstellspannung befindet,
schaltet der Neueinstelltransistor M1 ein und leitet Strom. Wenn
der Neueinstelltransistor M1 Strom leitet, wird der Signalknoten
N1 zu dem Spannungspotential des Eingangssignals Vneueinstellen
gezogen. Das Spannungspotential des Eingangssignals Vneueinstellen ist
einstellbar. Im allgemeinen sollte jedoch Vneueinstellen auf ein
Spannungspotential eingestellt werden, das kleiner als die hohe
Neueinstellspannung 83 minus der Schwellenspannung des
Neueinstelltransistors M1 ist, um die Einschwingzeit und das Rauschen
zu reduzieren. Wenn beispielsweise die hohe Neueinstellspannung 83 5
Volt ist, und die Schwelle des Neueinstelltransistors M1 0,7 Volt
ist, dann sollte das Spannungspotential der Spannung Vneueinstellen
kleiner als 4,3 Volt sein.
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Ein
zweites Ereignis 73 umfaßt, daß das Spannungspotential des
Eingangssignals AUSWÄHLEN
von einer hohen Auswahlspannung 85 zu einer niedrigen Auswahlspannung 87 pulst.
Das Eingangssignal NEUEINSTELLEN befindet sich auf der niedrigen
Neueinstellspannung 81 für die Zeitdauer, für die das
Eingangssignal AUSWÄHLEN
auf der niedrigen Auswahlspannung 87 verbleibt. Das Eingangssignal AUSWÄHLEN ist
mit dem Signalknoten N1 durch den Koppelkondensator C1 gekoppelt.
Die schnelle Änderung
der Spannung quer zu dem Koppelkondensator C1 zieht Ladung weg von
dem Koppelkondensator C1. Das Spannungspotential des Signalknotens
N1 ändert
sich durch die Differenz zwischen der hohen Auswahlspannung 85 und
der niedrigen Auswahlspannung 87 multipliziert mit (C1/(C1
+ CSperrschicht)), wobei CSperrschicht eine
Sperrschichtkapazität
der Photodiode D1 ist. Nach der schnellen Spannungspotentialänderung
des Signalknotens N1 nimmt das Spannungspotential des Signalknotens N1
nach dem zweiten Ereignis 73 weiter ab, sowie sich Elektronen
auf der Kapazität
des Signalknotens N1 aufgrund dessen ansammeln, daß die Photodiode
Licht empfängt.
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Das
Spannungspotential des Signalknotens N1 wird weiter abnehmen, bis
eines von zwei möglichen
Ereignisse auftritt. Entweder pulst das Spannungspotential des Eingangssignals
AUSWÄHLEN zurück zu der
hohen Auswahlspannung 85, oder das Spannungspotential des
Signalknotens N1 wird bis zu dem Punkt abnehmen, bei dem der Neueinstelltransistor
M1 zu leiten beginnt. Rampen 91, 93, 95 zeigen
mehrere unterschiedliche Rampenraten des Spannungspotentials des
Signalknotens N1. Die Rate, mit der das Spannungspotential des Signalknotens
N1 abnimmt, ist proportional zu der Intensität des Lichts, das durch die
Photodiode empfangen wird. Je größer die
Intensität
des Lichts ist, desto schneller werden Elektronen auf der Kapazität des Signalknotens
N1 gesammelt und desto schneller nimmt das Spannungspotential auf
dem Signalknoten N1 ab. Beispielsweise zeigt die Rampe 91 eine schnellere
Rampenrate als die Rampe 95. Daher ist die Intensität des Lichts,
das durch die Photodiode D1 beim Erzeugen der Rampe 91 empfangen
wird, größer als
die Intensität
des Lichts, das durch die Photodiode D1 beim Erzeugen der Rampe 95 empfangen
wird.
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Wenn
das Eingangssignal AUSWÄHLEN
zurück
zu der hohen Auswahlspannung pulst, wie es durch ein drittes Ereignis 75 dargestellt
ist, wird das Spannungspotential des Signalknotens N1 mit dem gleichen
Betrag zunehmen, mit dem das Spannungspotential des Signalknotens
N1 abgenommen hat, als das Eingangssignal AUSWÄHLEN zu der niedrigen Auswahlspannung
gepulst ist. Genauer gesagt nimmt das Spannungspotential des Signalknotens N1
mit der Differenz zwischen der hohen Auswahlspannung und der niedrigen
Auswahlspannung multipliziert mit (C1/(C1 + CSperrschicht))
zu.
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Je
größer die
Dauer der Pulsbreite des Eingangssignals AUSWÄHLEN ist, desto wahrscheinlicher
wird der Signalknoten N1 hinunter zu einem Spannungspotential laufen,
bei dem der Neueinstelltransistor M1 zu leiten beginnt, wie es durch
die Rampe 91 dargestellt ist. Daher wird die Pulsbreite
des Eingangssignals AUSWÄHLEN
durch die Kenntnis der Intensität
des Lichts, das durch die Photodiode D1 empfangen werden soll, bestimmt.
Allgemein ist es wünschenswert
den Zustand zu vermeiden, der resultiert, wenn der Neueinstelltransistor
M1 aufgrund der Ladung leitet, die durch die Photodiode geleitet
wird. Ein Merkmal der Erfindung umfaßt jedoch das Verhindern des
Auftretens des Überstrahlens, wenn
dieser Zustand auftritt. Wenn der Neueinstelltransistor M1 nicht
geleitet hat, würde
das Spannungspotential des Signalknotens N1 weiter abnehmen, bis
die Leistung eines benachbarten aktiven Pixelsensors beeinflußt würde. Der
Neueinstelltransistor M1 verhindert, daß der aktive Pixelsensor unter einem Überstrahlen
leidet.
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Mehrere
Faktoren können
den Betrag, mit dem das Spannungspotential des Signalknotens N1 während des
zweiten Ereignisses 73 variieren kann, beeinflussen. Die
Faktoren umfassen die Schwellenspannung des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors M2
und das Spannungspotential der niedrigen Neueinstellspannung 81.
Das Erhöhen
der Schwelle des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors
M2 wird den Betrag des Spannungspotentials, mit dem das Spannungspotential
des Signalknotens N1 variieren kann, erhöhen. Das Verringern des Spannungspotentials der
niedrigen Neueinstellspannung 81 wird den Betrag erhöhen, mit
dem das Spannungspotential des Signalknotens N1 variieren kann.
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Ein
drittes Ereignis 75 umfaßt, daß das Spannungspotential des
Eingangssignals AUSWÄHLEN
von der niedrigen Auswahlspannung 87 zu der hohen Auswahlspannung 85 übergeht.
Wie vorher erwähnt,
wird das Spannungspotential des Signalknotens N1 mit der Differenz
zwischen der hohen Auswahlspannung 85 und der niedrigen
Auswahlspannung 87 multipliziert mit (C1/(C1 + CSperrschicht)) zunehmen. Typische Werte des
Spannungspotentials des Signalknotens N1 sind als Pegel 97, 99 dargestellt.
Diese Zunahme des Spannungspotentials des Signalknotens N1 wird
bewirken, daß das
Spannungspotential an dem Eingang des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors
M2 größer als
die Schwellenspannung des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors
M2 ist. Daher wird der Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M2 beginnen zu leiten. Als ein Resultat ist das Spannungspotential
an dem Signalknoten N1 durch den Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M2 mit dem Ausgangssignal gekoppelt. Zu diesem Zeitpunkt wird das
Ausgangssignal abgetastet. Das abgetastete Ausgangssignal ist eine
Darstellung der Intensität
des Lichts, das durch die Photodiode D1 empfangen wird.
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Das
Ausgangssignal kann durch eine Analog-zu-Digital-Wandler- (ADC-; ADC = Analog to Digital
Converter) Schaltung abgetastet werden. Es können gut bekannte ADC-Schaltungen
verwendet werden. Das Abtasten muß jedoch nach dem dritten Ereignis 75 und
vor einem vierten Ereignis 77 auftreten, bei dem das NEUEINSTELLEN
des aktiven Pixels von der niedrigen Neueinstellspannung 81 zu
der hohen Neueinstellspannung 83 übergeht.
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Der
Ausdruck ausgeprägter
Integrationsmodus deutet drauf hin, daß die Integration der Ladung, die
durch die Photodiode D1 gesammelt wird, auftritt, während sich
der Signalknoten N1 unterhalb der Schwellenspannung des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors
M2 befindet. Das heißt
die Integration der gesammelten Ladung tritt auf, während der
Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M2 nicht leitet.
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8 ist
ein Schaltungsschema, das ein erstes Ausführungsbeispiel der Erfindung
darstellt. Dieses Schema ist sehr ähnlich zu dem Schaltungsschema,
das in 5 gezeigt ist. Der N-Typ-MOSFET-Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M2 ist jedoch durch einen N-Typ-MOSFET-Verstärkungs/Vergleichs-Transistor M3 ersetzt,
der ein Rückseiten-Gate
umfaßt,
das mit einer P-Wanne verbunden ist. Der N-Typ-MOSFET-Neueinstelltransistor
M1 ist durch einen N-Typ-MOSFET-Neueinstelltransistor M4
ersetzt, der ein Rückseiten-Gate
umfaßt,
das mit der P-Wanne verbunden ist. Die P-Wanne ist mit einer einstellbaren
Spannung verbunden. Im Gegensatz zu dem ersten Ausführungsbeispiel
der Erfindung, das in 5 gezeigt ist, ist die Schwellenspannung
dieses Ausführungsbeispiels
einstellbar. Ein Array von aktiven Pixelsensoren, wobei jeder derselben diesem
Ausführungsbeispiel
entspricht, sieht die selektive Einstellung der Schwellenspannung
jedes aktiven Pixelsensors einzeln vor. Die P-Wanne erfordert jedoch
eine größere Menge
an integriertem Schaltungssubstratbereich. Daher ist der Füllfaktor
dieses Ausführungsbeispiels
nicht so groß wie
bei dem Beispiel gemäß 5.
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9 zeigt
eine Implementation des Ausführungsbeispiels,
das in 8 gezeigt ist. Dieses Ausführungsbeispiel umfaßt ein N-dotiertes
Substrat 21 und eine P-Wanne 23.
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Der
Neueinstelltransistor M4 ist durch die N-dotierte Diffusionsregion 22,
die Gateoxidregion 29, die P-Wanne 23 und die
N-dotierte Diffusionsregion 24 gebildet. Der Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M3 ist durch die N-dotierte Diffusionsregion 26, die Gateregion 31,
die P-Wanne 23 und die N-dotierte Diffusionsregion 28 gebildet.
Die Photodiode D1 ist durch die P-Wanne 23 und die N-dotierte
Diffusionsregion 24 gebildet. Der Koppelkondensator ist
durch die Gateoxidregion 30 und die Polysiliziumschicht 33 gebildet.
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10 ist
ein Schaltungsschema, das ein zweites Ausführungsbeispiel der Erfindung
darstellt. Dieses Schema ist sehr ähnlich zu dem Schaltungsschema,
das in 5 gezeigt ist, der N-Typ-MOSFET-Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M2 wird jedoch durch einen P-Typ-MOSFET-Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M5 ersetzt, und der N-Typ-MOSFET-Neueinstelltransistor M1 wird durch
einen P-Typ-MOSFET-Neuein stelltransistor M6 ersetzt. Ein Rückseiten-Gate
des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors
M5 ist mit einer N-Wanne verbunden. Die N-Wanne ist mit einer einstellbaren
Spannung verbunden.
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11 zeigt
eine Implementation des Ausführungsbeispiels,
das in 10 gezeigt ist. Dieses Ausführungsbeispiel
umfaßt
eine N-Wanne 41 und eine P-dotierte Diffusionsregion 43, 45.
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Der
Neueinstelltransistor M6 ist durch die N-dotierte Diffusionsregion 22,
die Gateoxidregion 29, das P-dotierte Substrat 20 und
die N-dotierte Diffusionsregion 24 gebildet. Der Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M5 ist durch die P-dotierte
Diffusionsregion 43, die Gateoxidregion 31, die
N-Wanne 41 und
die P-dotierte Diffusionsregion 45 gebildet. Die Photodiode
D1 ist durch das P-dotierte Substrat 20 und die N-dotierte
Diffusionsregion 24 gebildet. Der Koppelkondensator ist
durch die Gateoxidregion 30 und die Polysiliziumschicht 33 gebildet.
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12 ist
ein Schaltungsschema, das ein drittes Ausführungsbeispiel der Erfindung
darstellt. Dieses Ausführungsbeispiel
umfaßt
einen P-Typ-MOSFET-Verstärkungs/Vergleichs-Transistor M7 und
einen P-Typ-MOSFET-Neueinstelltransistor M8. Ein Rückseiten-Gate
des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors
M7 ist mit einer N-Wanne verbunden, die mit einer einstellbaren
Spannung verbunden ist. Ein Rückseiten-Gate
des Neueinstelltransistors M8 ist mit einer N-Wanne verbunden, die
mit einer einstellbaren Spannung verbunden ist.
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13 zeigt
eine Implementation des Ausführungsbeispiels,
das in 12 gezeigt ist. Dieses Ausführungsbeispiel
umfaßt
eine P-dotiertes Substrat 25, eine N-Wanne 27 und
P-dotierte Diffusionsregionen 46, 48.
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Der
Neueinstelltransistor M8 ist durch die P-dotierte Diffusionsregion 42,
die Gateoxidregion 29, die N-Wanne 27 und die
P-dotierte Diffusionsregion 44 gebildet. Der Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M7 ist durch die P-dotierte Diffusionsregion 46, die Gateoxidregion 31,
die N-Wanne 27 und die P-dotierte Diffusionsregion 48 gebildet.
Die Photodiode D1 ist durch die N-Wanne 27 und die P-dotierte
Diffusionsregion 44 gebildet. Der Koppelkondensator ist durch
die Gateoxidregion 30 und die Polysiliziumschicht 33 gebildet.
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14 ist
ein Taktdiagramm der Signale, die in dem Schema von 12 gezeigt
sind, wenn die Intensität
des Lichts erfaßt
wird, das durch den aktiven Pixelsensor der Erfindung erfaßt wird.
Das Erfassen der Intensität
des Lichts kann in vier Hauptereignisse oder Hauptschritte eingeteilt
werden.
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Ein
erstes Ereignis 201 umfaßt die Neueinstelleitung (NEUEINSTELLEN)
des aktiven Pixelsensors, die von einer hohen Neueinstellspannung 103 zu
einer niedrigen Neueinstellspannung 101 pulst. Wenn die
Neueinstelleitung (NEUEINSTELLEN) sich auf einer niedrigen Neueinstellspannung 101 befindet,
schaltet sich der Neueinstelltransistor M8 ein und leitet Strom.
Wenn der Neueinstelltransistor M8 Strom leitet, wird der Signalknoten
N1 hinunter zu dem Spannungspotential des Eingangs Vneueinstellen
gezogen. Das Spannungspotential des Eingangssignals Vneueinstellen
ist einstellbar. Im allgemeinen sollte Vneueinstellen jedoch auf
ein Spannungspotential eingestellt sein, das größer als die niedrige Neueinstellspannung 101 plus
der Schwellenspannung des Neueinstelltransistors M8 ist, um die
Einschwingzeit zu reduzieren. Wenn beispielsweise die niedrige Neueinstellspannung 101 0
Volt ist, und die Schwelle des Neueinstelltransistors M8 0,7 Volt
ist, dann sollte das Spannungspotential der Spannung Vneueinstellen
größer als
0,7 Volt sein.
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Ein
zweites Ereignis 203 umfaßt das Spannungspotential des
Eingangssignals AUSWÄHLEN, das
von einer niedrigen Auswahlspannung 105 zu einer hohen
Auswahlspannung 107 pulst. Das Eingangssignal NEUEINSTELLEN
befindet sich für
die Zeit dauer, mit der das Eingangssignal AUSWÄHLEN auf der hohen Auswahlspannung 107 verbleibt,
auf der hohen Neueinstellspannung 103. Das Eingangssignal
AUSWÄHLEN
ist mit dem Signalknoten N1 durch den Koppelkondensator C1 gekoppelt.
Die schnelle Änderung
der Spannung quer zu dem Koppelkondensator C1 bewirkt, daß sich Ladung
auf dem Koppelkondensator C1 sammelt. Das Spannungspotential des
Signalknotens N1 ändert
sich durch die Differenz zwischen der niedrigen Auswahlspannung 105 und
der hohen Auswahlspannung 107 multipliziert mit (C1/(C1
+ CSperrschicht)), wobei CSperrschicht eine Sperrschichtkapazität der Photodiode
D1 ist. Nach der schnellen Spannungspotentialänderung des Signalknotens N1
nimmt das Spannungspotential des Signalknotens N1 nach dem zweiten
Ereignis 93 weiter zu, sowie Ladung, dadurch, daß die Photodiode Licht
empfängt,
von der Kapazität
des Signalknotens N1 weggezogen wird.
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Das
Spannungspotential des Signalknotens N1 wird weiter zunehmen, bis
eines der zwei möglichen
Ereignisse auftritt. Entweder pulst das Spannungspotential des Eingangssignals
AUSWÄHLEN zurück hinunter
zu der niedrigen Auswahlspannung 105, oder das Spannungspotential
des Signalknotens N1 wird zu dem Punkt zunehmen, bei dem der Neueinstelltransistor
M8 zu leiten beginnt. Rampen 111, 113, 115 zeigen
mehrere unterschiedliche Rampenraten des Spannungspotentials des
Signalknotens N1. Die Rate, mit der das Spannungspotential des Signalknotens
N1 zunimmt, ist proportional zu der Intensität des Lichts, das durch die
Photodiode empfangen wird. Je größer die
Intensität
des Lichts ist, desto schneller werden Elektronen von der Kapazität des Signalknotens
N1 weggezogen und desto schneller nimmt das Spannungspotential an
dem Signalknoten N1 zu. Beispielsweise zeigt die Rampe 111 eine
schnellere Rampenrate als die Rampe 115. Daher ist die
Intensität
von Licht, das durch die Photodiode D1 beim Erzeugen der Rampe 111 empfangen
wird, größer als
die Intensität
von Licht, das durch die Photodiode D1 beim Erzeugen der Rampe 115 empfangen
wird.
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Wenn
das Eingangssignal AUSWÄHLEN
zurück
hinunter zu der Auswahlspannung 105 pulst, wie es durch
ein drittes Ereignis 205 dargestellt ist, wird das Spannungspotential
des Signalknotens N1 mit dem gleichen Betrag abnehmen, mit dem das
Spannungspotential des Signalknotens N1 zugenommen hat, als das
Eingangssignal AUSWÄHLEN
zu der hohen Auswahlspannung 107 gepulst ist. Genauer gesagt,
nimmt das Spannungspotential des Signalknotens N1 mit der Differenz
zwischen der niedrigen Auswahlspannung 105 und der hohen
Auswahlspannung 107 multipliziert mit (C1/(C1 + CSperrschicht)) zu.
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Je
größer die
Dauer der Pulsbreite des Eingangssignals AUSWÄHLEN, desto wahrscheinlicher ist
es, daß der
Signalknoten N1 zu einem Spannungspotential hinauflaufen wird, bei
dem der Neueinstelltransistor M8 zu leiten beginnt, wie es durch die
Rampe 111 dargestellt ist. Daher wird die Pulsbreite des
Eingangssignals AUSWÄHLEN
durch Kenntnis der Intensität
des Lichts, das durch die Photodiode D1 empfangen werden soll, bestimmt.
Allgemein ist es wünschenswert
den Zustand zu vermeiden, der resultiert, wenn der Neueinstelltransistor
M8 aufgrund der Ladung leitet, die durch die Photodiode geleitet
wird. Ein Merkmal der Erfindung umfaßt jedoch das Verhindern des
Auftretens des Überstrahlens,
wenn dieser Zustand auftritt. Wenn der Neueinstelltransistor M8
nicht geleitet hat, würde
das Spannungspotential des Signalknotens N1 weiter zunehmen, bis
die Leistung des benachbarten aktiven Pixelsensors beeinflußt wird.
Der Neueinstelltransistor M8 verhindert, daß der aktive Pixelsensor unter
einem Überstrahlen
leidet.
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Mehrere
Faktoren können
den Betrag beeinflussen, mit dem das Spannungspotential des Signalknotens
N1 während
des zweiten Ereignisses 203 variieren kann. Die Faktoren
umfassen die Schwellenspannung des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors
M7 und das Spannungspotential der niedrigen Neueinstellspannung 101.
Das Erhöhen
der Schwelle des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors M1 wird den
Betrag erhöhen,
mit dem das Spannungspotential des Signalknotens N1 variieren kann.
Das Ver ringern des Spannungspotentials der niedrigen Neueinstellspannung 101 wird
den Betrag erhöhen,
mit dem das Spannungspotential des Signalknotens N1 variieren kann.
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Ein
drittes Ereignis 205 umfaßt, daß das Spannungspotential des
Eingangssignals AUSWÄHLEN
von der hohen Auswahlspannung 107 zu der niedrigen Auswahlspannung 105 übergeht.
Wie vorher erwähnt,
wird das Spannungspotential des Signalknotens N1 mit der Differenz
zwischen der niedrigen Auswahlspannung 105 und der hohen
Auswahlspannung 107 multipliziert mit (C1/(C1 + CSperrschicht)) zunehmen. Typische Werte des
Spannungspotentials des Signalknotens N1 sind als Pegel 117, 119 dargestellt.
Diese Abnahme des Spannungspotentials des Signalknotens N1 wird
bewirken, daß das Spannungspotential
an dem Eingang des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors
M7 kleiner als die Schwellenspannung des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors
M7 ist. Daher wird der Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M7 beginnen zu leiten. Als ein Resultat ist das Spannungspotential
an dem Signalknoten N1 durch den Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M7 mit dem Ausgangssignal gekoppelt. Zu diesem Zeitpunkt wird das
Ausgangssignal abgetastet. Das abgetastete Ausgangssignal ist eine
Darstellung der Intensität
des Lichts, das durch die Photodiode D1 empfangen wird.
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Das
Ausgangssignal kann durch eine Analog-zu-Digital-Wandler-(ADC-)Schaltung
abgetastet werden. Es können
gut bekannte ADC-Schaltungen verwendet werden. Das Abtasten muß jedoch
nach dem dritten Ereignis 205 und vor einem vierten Ereignis 207 auftreten,
bei dem das Signal NEUEINSTELLEN des aktiven Pixelsensors von der
hohen Neueinstellspannung 103 zu der niedrigen Neueinstellspannung 101 übergeht.
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15 ist
ein Schaltungsschema, das ein Vergleichsbeispiel darstellt, das
lediglich einen einzigen Transistor erfordert. Dieses Beispiel umfaßt eine Neueinstelldiode
D2, einen N-Typ-MOSFET-Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M9, einen Koppelkondensator C1 und eine Photodiode D1. Der Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M9 umfaßt
ein Kanalimplantat, das eine hohe Substratstörstellenkonzentration umfaßt, die
eine Einstellung der Schwellenspannung des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors
M9 ermöglicht.
Das Kanalimplantat führt
dazu, daß der Verstärkungs/Vergleichs-Transistor
M9 eine Schwellenspannung aufweist, die größer als bei einem typischen
N-Typ-MOSFET-Transistor ist. Der Eingang (Gate) des Verstärkungs/Vergleichs-Transistors M9 ist
mit der Kathode der Photodiode D1 verbunden. Dieser Verbindungsknoten
wird als Signalknoten N1 in 15 bezeichnet.
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Das
Eingangssignal NEUEINSTELLEN stellt den aktiven Pixelsensor durch
Vorwärtsvorspannen der
Neueinstelldiode D2 und Laden oder Entladen der Photodiode D1 neu
ein. Das Eingangssignal NEUEINSTELLEN ist mit einem höheren Spannungspotential
vorgespannt, wie z. B. Vdd, um den aktiven Pixelsensor neu einzustellen.
Das Eingangssignal NEUEINSTELLEN ist auf einem niedrigeren Spannungspotential
während
der Zeitdauer vorgespannt, bei der Elektronen auf der Kapazität des Signalknotens
gesammelt werden, da die Photodiode D1 Licht empfängt.