DE19758072A1 - Verfahren zum Beizen von Gegenständen aus Kupfer und einem gegenüber Kupfer unedleren Metall - Google Patents
Verfahren zum Beizen von Gegenständen aus Kupfer und einem gegenüber Kupfer unedleren MetallInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beizen von Gegen
ständen aus Kupfer und einem gegenüber Kupfer unedleren
Metall, insbesondere von Gegenständen aus Kupfer und
Messing, mit anschließender Regenerierung der eingesetzten
Beizlösung, wobei die Gegenstände in einer wäßrigen per
oxosulfathaltigen Beizlösung gebeizt werden, wobei die
Beizlösung anschließend einer kathodischen Reduktion zur
kathodischen Abscheidung von in der Beizlösung gelöstem
Kupfer sowie einer anodischen Oxidation zur Rückbildung von
Peroxosulfat aus Sulfat unterworfen wird, wobei der Beiz
lösung zumindest ein die Stromausbeute der anodischen Per
oxosulfatbildung erhöhender Zusatzstoff aus der Gruppe
"organische Schwefelverbindung, anorganische Schwefelver
bindung, organische schwefelfreie Stickstoffverbindung, an
organische schwefelfreie Stickstoffverbindung" zugegeben
wird. - Bei Messing handelt es sich bekanntlich um eine Le
gierung aus Kupfer und Zink. Insoweit handelt es sich bei
dem genannten unedlen Metall insbesondere um Zink.
Es ist grundsätzlich bekannt, Gegenstände aus Kupfer zur
Verbesserung der Oberflächenqualität mit Peroxodisulfat
enthaltenden Beizlösungen zu beizen. Nach dem Beizen wird
die erschöpfte Beizlösung regeneriert bzw. aufbereitet. Die
erschöpfte Beizlösung wird zunächst einer kathodischen Re
duktion unterzogen, wobei die Hauptmenge des beim Beizen in
der Beizlösung gelösten Kupfers abgeschieden wird. Gleich
zeitig werden noch vorhandene Peroxosulfate kathodisch
reduziert. In einem anschließenden Verfahrensschritt wird
Peroxodisulfat regeneriert, indem Sulfationen durch
anodische Oxidation, vorzugsweise an glatten Platinanoden,
oxidiert werden. Um eine ausreichend hohe Stromausbeute der
anodischen Oxidation zu erzielen, muß die Sulfationenkon
zentration in der Lösung relativ hoch sein. Im Rahmen der
bekannten Maßnahmen wird eine Lösung mit hohen Konzentra
tionen an Alkalimetallsulfationen oder Ammoniumsulfationen
eingesetzt. Zur Erhöhung der Stromausbeute der anodischen
Peroxodisulfatbildung werden der Lösung fernerhin die oben
genannten Zusatzstoffe als sogenannte potentialerhöhende
Stoffe zugegeben. Übliche Zusatzstoffe sind beispielsweise
Ammoniumthiocyanat, Natriumthiocyanat oder Thioharnstoff.
Im Rahmen der bekannten Maßnahmen werden die Zusatzstoffe
in einer Konzentration von 0,5 × 10-3 Mol/l bis 5 × 10-3
Mol/l eingesetzt.
Bei dem Verfahren der eingangs genannten Art, von dem die
Erfindung ausgeht, werden mit den vorstehend beschriebenen
Beizlösungen Kupferlegierungen aus Kupfer und einem un
edleren Metall, insbesondere Messing gebeizt. Messing
zeichnet sich beim Beizvorgang durch eine im Vergleich zum
Kupfer höhere Abtragsgeschwindigkeit aus. Um mit dem Beiz
vorgang ein zufriedenstellendes Ergebnis zu erzielen,
können daher die zum Beizen von Kupfergegenständen einge
stellten Beizbedingungen nicht unmodifiziert übernommen
werden. Insoweit muß zum Beizen von Messinggegenständen die
Zusammensetzung der Beizlösung und/oder die Beizdauer bzw.
Expositionszeit geändert werden. Dies ist erforderlich, um
zufriedenstellende Oberflächenqualitäten an dem Metall zu
erreichen und ein sogenanntes "Überbeizen" des Messings zu
verhindern. - Besondere Probleme ergeben sich beim Beizen
von Gegenständen, die einerseits aus Kupfer und anderer
seits aus Messing bestehen. Werden die Beizbedingungen auf
das Kupfer abgestimmt, resultiert ein "Überbeizen" des
Messings, so daß hier nachteilhafte Oberflächenqualitäten
erreicht werden. Wenn aber die Beizbedingungen auf das
Messing abgestimmt werden, wird die Kupferoberfläche unzu
reichend gebeizt, so daß auch hier die Oberflächenqualität
zu wünschen übrig läßt.
Demgegenüber liegt der Erfindung das technische Problem zu
grunde, ein Verfahren der eingangs genannten Art anzugeben,
mit dem sowohl für Kupfer als auch für das unedlere Metall,
insbesondere für Kupfer und Messing, eine zufrieden
stellende Oberflächenqualität bei gleichen Beizbedingungen
erreicht wird. - Gleiche Beizbedingungen meint insbesondere
gleiche Zusammensetzung der Beizlösung und gleiche
Beizdauer bzw. gleiche Expositionszeit.
Zur Lösung dieses technischen Problems lehrt die Erfindung
ein Verfahren der eingangs genannten Art, welches dadurch
gekennzeichnet ist, daß eine erhöhte Konzentration des Zu
satzstoffes mit der Maßgabe eingestellt wird, daß neben der
Stromausbeuteerhöhung bei der anodischen Peroxosulfatbil
dung eine Inhibierung der Abtragsgeschwindigkeit des un
edleren Metalls bei dem Beizen der Gegenstände stattfindet
und daß der Beizlösung zumindest ein organischer Komplex
bildner zugesetzt wird.
Nach bevorzugter Ausführungsform der Erfindung wird der
Beizlösung ein Peroxodisulfat, vorzugsweise Natriumperoxo
disulfat, und/oder ein Peroxomonosulfat, vorzugsweise
Natriumperoxomonosulfat, zugesetzt. Das Peroxosulfat wird
zweckmäßigerweise in einer Menge von 30 bis 100 g/l, bevor
zugt in einer Menge von 50 bis 80 g/l, zugegeben.
Es versteht sich, daß die erfindungsgemäße Beizlösung eine
ausreichend hohe Konzentration an Sulfationen aufweisen
muß, um eine hohe Stromausbeute der anodischen Oxidation
bzw. der anodischen Peroxosulfatbildung zu erreichen. Im
Rahmen der anodischen Oxidation werden Sulfationen insbe
sondere zu Peroxodisulfationen oxidiert. Vorzugsweise wird
der Beizlösung Alkalisulfat und/oder Ammoniumsulfat zuge
setzt. Das Alkalisulfat und/oder Ammoniumsulfat wird
zweckmäßigerweise in einer Menge von 50 bis 350 g/l, bevor
zugt 100 bis 300 g/l, zugefügt. Nach bevorzugter Ausfüh
rungsform, der im Rahmen der Erfindung besondere Bedeutung
zukommt, wird der Beizlösung Zinksulfat und/oder Kupfer
sulfat und/oder Eisensulfat zugegeben. Dabei liegt es im
Rahmen der Erfindung, lediglich die genannten Sulfate des
Zinks, Kupfers oder Eisens einzusetzen oder aber diese Sul
fate zusätzlich zu dem oben genannten Alkalisulfat und/oder
Ammoniumsulfat zuzufügen. Der Erfindung liegt insoweit die
Erkenntnis zugrunde, daß das technische Problem in beson
ders vorteilhafter Weise gelöst werden kann, wenn der er
forderliche Sulfationengehalt der Beizlösung mit Hilfe von
Zinksulfat und/oder Kupfersulfat und/oder Eisensulfat ein
gestellt wird. Vorzugsweise wird Zinksulfat und/oder
Kupfersulfat und/oder Eisensulfat in einer Menge von 20 bis
250 g/l, vorzugsweise 50 bis 200 g/l, sehr bevorzugt 100
bis 200 g/l, zugefügt.
Nach bevorzugter Ausführungsform der Erfindung wird der
Beizlösung zur Erhöhung der Stromausbeute der anodischen
Peroxosulfatbildung ein Zusatzstoff aus der Gruppe
"Thiocyanat, Thioharnstoff, Thiocarbaminat, Thiosemi
carbazid" zugegeben. Als Thiocyanat wird vorzugsweise Ammo
niumthiocyanat und/oder Natriumthiocyanat eingesetzt. Es
liegt auch im Rahmen der Erfindung, der Beizlösung zumin
dest einen Zusatzstoff aus der Gruppe "Cyanid, Cyanat,
Cyanamid, Hexamethylentetramin, Urotropin" zuzugeben. Nach
bevorzugter Ausführungsform, der im Rahmen der Erfindung
besondere Bedeutung zukommt, wird der Zusatzstoff zur Erhö
hung der Stromausbeute der anodischen Peroxosulfatbildung
in einer gegenüber den eingangs geschilderten bekannten
Maßnahmen erhöhten Konzentration zugesetzt und zwar mit der
Maßgabe, daß die Abtragsgeschwindigkeit des unedleren
Metalls bei dem Beizen der Gegenständen inhibiert bzw. ver
zögert wird. Vorzugsweise wird der Zusatzstoff bzw. werden
die Zusatzstoffe in einer Gesamtkonzentration von 10-2 bis
5 × 10-2 Mol/l eingesetzt. Zweckmäßigerweise wird der Zu
satzstoff nach der anodischen Oxidation bzw. anodischen
Peroxosulfatbildung der Beizlösung zugegeben. Es liegt im
Rahmen der Erfindung, daß die erforderliche Konzentration
des Zusatzstoffes in der Beizlösung bei der Aufbereitung
der Beizlösung stets wiederhergestellt wird.
Als organischer Komplexbildner wird der Beizlösung zweck
mäßigerweise zumindest ein Stoff aus der Gruppe
"Dicarbonsäure, Carbonsäure mit mehr als zwei Carboxyl
gruppen, Hydroxycarbonsäure, mehrwertiger Alkohol, Amin mit
mehr als einer Hydroxygruppe" zugegeben. Vorzugsweise wird
der Beizlösung zumindest ein organischer Komplexbildner aus
der Gruppe "Apfelsäure, Zitronensäure, Gluconsäure,
Bernsteinsäure, Ethendiamintetraessigsäure (EDTA)", zuge
fügt. Es liegt auch im Rahmen der Erfindung, Triethanolamin
als organischen Komplexbildner einzusetzen. Fernerhin liegt
es im Rahmen der Erfindung, mehrwertige Alkohole, insbeson
dere Glycerin, als organischen Komplexbildner zu verwenden.
Vorzugsweise wird der organische Komplexbildner nach der
anodischen Oxidation bzw. nach der anodischen Regenerierung
der Peroxosulfate zugesetzt. Es liegt im Rahmen der Erfin
dung, daß der erfindungsgemäße Gehalt des organischen Kom
plexbildners in der Beizlösung bei der Regenerierung der
Beizlösung stets wiederhergestellt wird. Zweckmäßigerweise
liegt die Konzentration des organischen Komplexbildners in
der wäßrigen Beizlösung in der Größenordnung von 10-2
Mol/l. Vorzugsweise wird der organische Komplexbildner in
einer Menge von 0,5 bis 2 g/l, bevorzugt 1 bis 1,5 g/l zu
gefügt.
Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß das Beizen
von Gegenständen aus Kupfer und einem gegenüber Kupfer un
edleren Metall zu hervorragenden Oberflächenqualitäten
führt, wenn die erfindungsgemäßen Merkmale verwirklicht
werden. Insoweit können Gegenstände aus Kupfer und Messing
gleichzeitig mit der gleichen Beizlösung und unter gleichen
Beizbedingungen gebeizt werden, ohne daß die resultierende
Oberflächenqualität eines der Metalle zu wünschen übrig
läßt. Auch ein abwechselndes Beizen von Kupfer und Messing
ist in der gleichen Beizlösung und unter gleichen Beizbe
dingungen ohne weiteres und ohne Nachteile möglich. Gleiche
Beizbedingungen meint insbesondere gleiche Zusammensetzung
der Beizlösung und gleiche Beizdauer bzw. gleiche Exposi
tionszeit. Der Erfindung liegt fernerhin die Erkenntnis zu
grunde, daß die im Patentanspruch 1 genannten Zusatzstoffe,
die aus dem Stand der Technik zur Erhöhung der Stromaus
beute der anodischen Peroxosulfatbildung bekannt sind, als
Inhibitoren bezüglich der Abtragsgeschwindigkeit des un
edleren Metalls bzw. des Messings dienen, wenn diese Zu
satzstoffe in entsprechend erhöhter Konzentration einge
setzt werden. Durch diese sogenannten potentialerhöhenden
Zusatzstoffe wird gleichsam die Abtragsgeschwindigkeit des
unedleren Metalls bzw. des Messings an die Abtragsgeschwin
digkeit des Kupfers angenähert. Zu der nichtsdestoweniger
erfindungsgemäß erzielten hohen Oberflächenqualität für
beide metallische Komponenten trägt effektiv die Zugabe des
organischen Komplexbildners bei. Durch Zugabe des orga
nischen Komplexbildners wird verhindert, daß an den
Metalloberflächen Verfärbungen oder Flächenbildungen auf
treten. - Die beim Beizvorgang als Inhibitoren wirkenden
Zusatzstoffe fördern trotz ihrer gegenüber dem Stand der
Technik erhöhten Konzentration die Stromausbeute der
anodischen Peroxodisulfatbildung effektiv. Überraschender
weise sind somit mit der Konzentrationserhöhung des Zusatz
stoffes keinerlei Nachteile für die anodische Oxidation zu
beobachten. Im übrigen wird ein Teil der Zusatzstoffe wäh
rend des Beizvorganges durch die oxidierende Wirkung des
Peroxosulfates abgebaut. Auch die erfindungsgemäß einge
setzten organischen Komplexbildner werden beim Beizvorgang
zumindest teilweise oxidiert. Dadurch wirken sich ihre
depolarisierenden Eigenschaften nicht negativ auf die
anodische Oxidation aus und die Stromausbeute der
anodischen Peroxosulfatbildung wird nicht beeinträchtigt.
Im Ergebnis werden die oben beschriebenen Vorteile auf ver
hältnismäßig einfache und kostengünstige Weise erreicht.
Im Rahmen der Erfindung ist es nicht zwingend erforderlich,
daß der Beizlösung ein Peroxosulfat zugesetzt wird. Grund
sätzlich liegt es auch im Rahmen der Erfindung, der Beiz
lösung lediglich Sulfat bzw. Sulfationen zuzusetzen, welche
Sulfationen bei der anodischen Oxidation zum Peroxosulfat,
insbesondere Peroxodisulfat, oxidiert werden.
Grundsätzlich gibt es verschiedene Möglichkeiten zur Ausge
staltung einer Vorrichtung zur Durchführung des erfindungs
gemäßen Verfahrens. Nach einer Ausführungsform der Erfin
dung werden die Metallgegenstände zunächst in einem Beizbe
hälter mit der erfindungsgemäßen Beizlösung gebeizt. An
schließend wird die Beizlösung zur Regenerierung zunächst
in einem separaten Behälter einer kathodischen Reduktion
zur Kupferabscheidung unterworfen. Es liegt im Rahmen der
Erfindung, daß die Beizlösung danach über einen Abscheider
zur Kupferabscheidung geführt wird. Anschließend wird die
so behandelte Beizlösung der anodischen Oxidation zur Rege
nerierung von Peroxodisulfat unterworfen. Die auf diese
Weise regenerierte Beizlösung wird in den Beizbehälter zu
rückgeführt. - Es liegt jedoch auch im Rahmen der Erfin
dung, daß die kathodische Reduktion zur Kupferabscheidung
direkt an der Kathode bzw. in den Kathodenräumen der Elek
trolysezelle für die Peroxosulfat-Regeneration erfolgt.
Dabei erfolgt die kathodische Kupferabscheidung gleich
zeitig mit der anodischen Oxidation bzw. der anodischen
Peroxodisulfat-Regeneration. Im übrigen findet die
anodische Oxidation zweckmäßigerweise an glatten
Platinelektroden statt.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Ausführungsbei
spielen nähert erläutert. Die Ausführungsbeispiele 1 bis 5
geben jeweils die Zusammensetzung einer wäßrigen Beizlö
sung für die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens
an:
200 g/l Natriumsulfat, 100 g/l Zinksulfat, 50 g/l Natrium
peroxodisulfat, 0,2 g/l Thioharnstoff, 1 g/l Ethendiamin
tetraessigsäure (EDTA).
(Die EDTA wird bei der anodischen Oxidation abgebaut.)
(Die EDTA wird bei der anodischen Oxidation abgebaut.)
100 g/l Natriumsulfat, 150 g/l Zinksulfat, 50 g/l Kupfer
sulfat, 0,2 g/l Natriumthiosulfat, 1 g/l Gluconsäure.
300 g/l Natriumsulfat, 70 g/l Natriumperoxodisulfat, 10 g/l
Natriumperoxomonosulfat, 0,3 g/l Natriumthiosulfat, 0,1 g/l
Apfelsäure, 0,1 g/l Zitronensäure.
150 g/l Natriumsulfat, 100 g/l Zinksulfat, 50 g/l Kupfer
sulfat, 70 g/l Natriumperoxomonosulfat, 0,5 g/l Thioharn
stoff, 0,5 g/l Bernsteinsäure, 0,5 g/l Gluconsäure.
100 g/l Natriumsulfat, 100 g/l Zinksulfat, 50 g/l Kupfer
sulfat, 50 g/l Natriumperoxodisulfat, 0,3 g/l Thioharn
stoff, 0,5 g/l Bernsteinsäure, 1 g/l Triäthanolamin.
Claims (9)
1. Verfahren zum Beizen von Gegenständen aus Kupfer und
einem gegenüber Kupfer unedleren Metall, insbesondere von
Gegenständen aus Kupfer und Messing, mit anschließender
Regenerierung der eingesetzten Beizlösung,
wobei die Gegenstände in einer wäßrigen peroxosulfathal tigen Beizlösung gebeizt werden,
wobei die Beizlösung anschließend einer kathodischen Reduk tion zur kathodischen Abscheidung von in der Beizlösung ge löstem Kupfer sowie einer anodischen Oxidation zur Rück bildung von Peroxosulfat aus Sulfat unterworfen wird,
wobei der Beizlösung zumindest ein die Stromausbeute der anodischen Peroxosulfatbildung erhöhender Zusatzstoff aus der Gruppe "organische Schwefelverbindung, anorganische Schwefelverbindung, organische schwefelfreie Stickstoffver bindung, anorganische schwefelfreie Stickstoffverbindung" zugegeben wird, dadurch gekennzeichnet, daß eine erhöhte Konzentration des Zusatzstoffes mit der Maßgabe eingestellt wird, daß neben der Stromausbeuteer höhung bei der anodischen Peroxosulfatbildung eine Inhibie rung der Abtragsgeschwindigkeit des unedleren Metalls bei dem Beizen der Gegenstände stattfindet und daß der Beiz lösung zumindest ein organischer Komplexbildner zugesetzt wird.
wobei die Gegenstände in einer wäßrigen peroxosulfathal tigen Beizlösung gebeizt werden,
wobei die Beizlösung anschließend einer kathodischen Reduk tion zur kathodischen Abscheidung von in der Beizlösung ge löstem Kupfer sowie einer anodischen Oxidation zur Rück bildung von Peroxosulfat aus Sulfat unterworfen wird,
wobei der Beizlösung zumindest ein die Stromausbeute der anodischen Peroxosulfatbildung erhöhender Zusatzstoff aus der Gruppe "organische Schwefelverbindung, anorganische Schwefelverbindung, organische schwefelfreie Stickstoffver bindung, anorganische schwefelfreie Stickstoffverbindung" zugegeben wird, dadurch gekennzeichnet, daß eine erhöhte Konzentration des Zusatzstoffes mit der Maßgabe eingestellt wird, daß neben der Stromausbeuteer höhung bei der anodischen Peroxosulfatbildung eine Inhibie rung der Abtragsgeschwindigkeit des unedleren Metalls bei dem Beizen der Gegenstände stattfindet und daß der Beiz lösung zumindest ein organischer Komplexbildner zugesetzt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
der Beizlösung ein Peroxodisulfat, vorzugsweise Natriumper
oxodisulfat, und/oder ein Peroxomonosulfat, vorzugsweise
Natriumperoxomonosulfat, zugesetzt wird.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Beizlösung ein Alkalisulfat und/oder
Ammoniumsulfat in einer Menge von 50 bis 350 g/l, vorzugs
weise 100 bis 300 g/l, zugegeben wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Beizlösung Zinksulfat und/oder
Kupfersulfat und/oder Eisensulfat zugegeben wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Beizlösung zumindest ein Zusatzstoff
aus der Gruppe "Thiocyanat, Thioharnstoff, Thiocarbaminat,
Thiosemicarbacid" zugegeben wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Beizlösung zumindest ein Zusatzstoff
aus der Gruppe "Cyanid, Cyanat, Cyanamid, Hexamethylen
tetramin, Urotropin" zugegeben wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Zusatzstoff in einer Konzentration
von 10-2 bis 5 × 10-2 Mol/l in der Beizlösung eingesetzt
wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Beizlösung zumindest ein organischer
Komplexbildner aus der Gruppe "Dicarbonsäure, Carbonsäure
mit mehr als zwei Carboxylgruppen, Hydroxycarbonsäure,
mehrwertiger Alkohol, Amin mit mehr als einer Hydroxy
gruppe" zugefügt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß
der Beizlösung zumindest ein organischer Komplexbildner aus
der Gruppe "Apfelsäure, Zitronensäure, Gluconsäure, Bern
steinsäure, Ethendiamintetraessigsäure (EDTA)" zugegeben
wird.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19758072A DE19758072A1 (de) | 1997-12-30 | 1997-12-30 | Verfahren zum Beizen von Gegenständen aus Kupfer und einem gegenüber Kupfer unedleren Metall |
US09/156,530 US6168670B1 (en) | 1997-12-30 | 1998-09-17 | Method of pickling articles of copper and metals less noble than copper |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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DE19758072A1 true DE19758072A1 (de) | 1999-07-01 |
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ID=7853498
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Country Status (2)
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US (1) | US6168670B1 (de) |
DE (1) | DE19758072A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102011012133A1 (de) | 2011-02-24 | 2012-08-30 | Wieland-Werke Ag | Verfahren zur Abtrennung von Blei aus dem Messing-Recycling-Kreislauf |
EP2604725A1 (de) * | 2011-12-15 | 2013-06-19 | Mitsubishi Materials Corporation | Verfahren zum Entfernen eines Oxidfilms auf einer Oberfläche aus Kupfer oder Legierung auf Kupferbasis und Kupfer oder Legierung auf Kupferbasis, die durch dieses Verfahren wiedergewonnen wird |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2346945C3 (de) * | 1973-09-18 | 1982-05-19 | Peroxid-Chemie GmbH, 8023 Höllriegelskreuth | Verfahren zur direkten elektrolytischen Herstellung von Natriumperoxodisulfat |
US4144144A (en) * | 1976-12-23 | 1979-03-13 | Fmc Corporation | Electrolytic production of sodium persulfate |
US4578162A (en) * | 1984-05-29 | 1986-03-25 | The Dow Chemical Company | Method for dissolving copper in the presence of iron |
FI94063C (fi) * | 1993-08-17 | 1995-07-10 | Kemira Oy | Menetelmä alkalimetalli- tai ammoniumperoksodisulfaattisuolojen ja alkalimetallihydroksidin samanaikaiseksi valmistamiseksi |
-
1997
- 1997-12-30 DE DE19758072A patent/DE19758072A1/de not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-09-17 US US09/156,530 patent/US6168670B1/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102011012133A1 (de) | 2011-02-24 | 2012-08-30 | Wieland-Werke Ag | Verfahren zur Abtrennung von Blei aus dem Messing-Recycling-Kreislauf |
EP2604725A1 (de) * | 2011-12-15 | 2013-06-19 | Mitsubishi Materials Corporation | Verfahren zum Entfernen eines Oxidfilms auf einer Oberfläche aus Kupfer oder Legierung auf Kupferbasis und Kupfer oder Legierung auf Kupferbasis, die durch dieses Verfahren wiedergewonnen wird |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6168670B1 (en) | 2001-01-02 |
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