DE19751079A1 - MOS-Schalter zur Verminderung des Übersprechens eines Taktgebers in einem Schalter-Kondensator-Schaltkreis - Google Patents
MOS-Schalter zur Verminderung des Übersprechens eines Taktgebers in einem Schalter-Kondensator-SchaltkreisInfo
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Description
Die Erfindung betrifft MOS-Schalter und insbesondere einen
MOS-Schalter, der das Übersprechen eines Taktgebers in einem
Schalter-Kondensator-Schaltkreis vermindert.
Bei einem MOS-Transistor handelt es sich um eine Vorrich
tung, die einen Kanalstrom steuert, der aufgrund einer an
das Gate des Transistors angelegten Spannung vom Drain zur
Source des Transistors fließt. Als Folge dieser Fähigkeit,
den Kanalstrom zu steuern, werden MOS-Transistoren gewöhn
lich als spannungsgesteuerte Schalter verwendet, wobei der
Transistor im eingeschalteten Zustand einen Strompfad mit
sehr geringem Widerstand und im ausgeschalteten Zustand ei
nen Strompfad mit einem sehr großen Widerstand zur Verfügung
stellt.
Die Fig. 1A-1B stellen einen Querschnitt und ein Schema
dar, die einen gewöhnlichen NMOS-Transistor 10 veranschauli
chen. Wie in den Fig. 1A-1B gezeigt, enthält der Tran
sistor 10 n+-Source und -Drain-Gebiete 14 und 16, die in
einem Substrat 12 vom p-Typ mit Abstand zueinander gebildet
sind, und ein Kanalgebiet 18, welches zwischen den Source- und
Drain-Gebieten 14 und 16 definiert ist. Weiterhin ent
hält der Transistor 10 eine dielektrische Schicht 20, die
über dem Kanalgebiet 18 gebildet ist sowie ein Gate 22, das
über der dielektrischen Schicht ausgebildet ist.
Wenn im Betrieb Spannungen an die Source- und Drain-Gebiete
14 und 16 angelegt werden, so daß die Spannung zwischen
Drain und Source VDS größer als Null ist, und eine Spannung
an das Gate 22 angelegt wird, so daß die Spannung zwischen
Gate und Source VGS größer als die Schwellenspannung VT ist,
schaltet der Transistor 10 ein und gestattet dadurch, daß
ein Kanalstrom IC vom Drain-Gebiet 16 zum Source-Gebiet 14
fließt.
Wenn andererseits die Spannung zwischen Drain und Source VDS
größer als Null ist und eine Spannung an das Gate 22 ange
legt wird, so daß die Spannung zwischen Gate und Source VGS
kleiner oder gleich der Schwellenspannung VT ist, so schal
tet der Transistor 10 aus und verhindert dadurch, daß ein
Kanalstrom IC vom Drain 16 zur Source 14 fließt (mit Ausnah
me eines Leckstroms).
Eine der meistverbreiteten Anwendungen für MOS-Schalter,
welche in Verbindung mit einer Vielzahl von Anwendungen ge
nutzt werden, ist die eines Schalter-Kondensator-Schaltkrei
ses. In den Fig. 2A-2B sind ein Querschnitt und ein
Schema dargestellt, welche einen gewöhnlichen Schalter-Kon
densator-Schaltkreis 50 veranschaulichen.
Wie aus den Fig. 2A-2B ersichtlich ist, enthält der
Schaltkreis 50 den Transistor 10 aus der Fig. 1 und einen
Kondensator 52, der zwischen das Source-Gebiet 14 und Erde
geschaltet ist. Zusätzlich ist das Drain-Gebiet 16 zum Emp
fang eines Eingangssignals VIN geschaltet, während das Gate
22 zum Empfang eines Taktgebersignals CLK geschaltet ist.
Wenn beim Betrieb die Spannung zwischen Drain und Source VDS
größer als Null ist und die Spannung zwischen Gate und Sour
ce VGS um die Schwellenspannung VT größer ist als die Span
nung am Source-Gebiet 14, so schaltet der Transistor 10 ein.
Wenn der Transistor 10 einschaltet, fließt ein Kanalstrom IC
vom Drain-Gebiet 16 zum Source-Gebiet 14 und lädt den Kon
densator 52 auf die Spannung des Eingangssignals VIN auf (in
der Annahme, daß die Zeit, während der das Taktgebersignal
CLK im Zustand "high" ist, wesentlich größer ist als die
Zeitkonstante, die vom Einschaltwiderstand des Transistors
10 und der Kapazität des Kondensators 52 definiert ist).
Ein Nachteil der Verwendung des Transistors 10 in dem Schal
ter-Kondensator-Schaltkreis 50 besteht jedoch darin, daß die
Spannung, die an das Gate 22 über das Taktgebersignal CLK
angelegt ist, über einen parasitären Gate-Überlappungskon
densator C1, der durch das Gate 22, die dielektrische
Schicht 20 und das Source-Gebiet 14 gebildet ist, und über
einen parasitären seitlichen Randfeldkondensator C2, der von
dem Gate 22, einer Isolationsschicht, die über dem Source-
Gebiet 14 gebildet ist und dem Source-Gebiet 14 gebildet
ist, kapazitiv an das Source-Gebiet 14 gekoppelt ist.
Diese kapazitive Kopplung, welche als Übersprechen des Takt
gebers bekannt ist, verursacht eine geringe negative La
dungsansammlung an der Oberfläche des Source-Gebietes 14
unterhalb des Gate 22 (die unteren Platten der parasitären
Kondensatoren C1 und C2), wobei sich eine entsprechende ge
ringe positive Ladung an der oberen Platte des Kondensators 52
ansammelt, wenn die Spannung des Taktgebers am Gate 22
anzusteigen beginnt, jedoch nicht ausreichend ist, um den
Transistor 10 einzuschalten, da die Spannung am Gate 22 nun
größer ist als die Spannung an dem Source-Gebiet 14.
Sobald das Taktgebersignal CLK den Transistor 10 einschal
tet, wird der Kondensator 52, wie oben bemerkt, auf die
Spannung des Eingangssignals VIN aufgeladen. Da der Kondensa
tor 52 auf die Eingangsspannung VIN aufgeladen wird, bereitet
die geringe positive Ladung, die sich an der oberen Platte
des Kondensators 52 während der Einschalt-Vorlaufsperiode
angesammelt hat, keine Schwierigkeiten.
Die Schwierigkeit entsteht jedoch, nachdem der Transistor 10
ausschaltet. Da im weiteren Verlauf die Spannung des Taktge
bers an Gate 22 abfällt, nachdem der Transistor 10 ausge
schaltet hat, bewirkt die kapazitive Kopplung, daß sich eine
geringe positive Ladung an der Oberfläche des Source-Gebie
tes 14 unterhalb des Gate 22 (die unteren Platten der para
sitären Kondensatoren C1 und C2) ansammelt, wobei sich eine
korrespondierende geringe negative Ladung an der oberen
Platte des Kondensators 52 ansammelt, da die Spannung an
Gate 22 nun geringer ist als die Spannung am Source-Gebiet
14.
Die geringe negative Ladung an der oberen Platte des Konden
sators 52 wirkt als negative Offset-Spannung, welche wieder
um die Größe der vom Kondensator 52 gehaltenen Spannung ver
mindert. Hieraus ergibt sich, daß die vom Kondensator 52 ge
haltene Spannung am Ende des Schalter-Zyklus', fälschlicher
weise die Spannung des Eingangssignals VIN durch die geringe
negative Offset-Spannung darstellt.
Eine Technik zum Vermindern der negativen Offset-Spannung
ist diejenige, einen Schalter-Kondensator-Schaltkreis mit
komplementären MOS-Transistoren zu verwenden. Fig. 3 zeigt
ein Schema, welches einen gewöhnlichen Schalter-Kondensator-
Schaltkreis 70 illustriert, der komplementäre MOS-Transisto
ren verwendet.
Wie in Fig. 3 gezeigt, enthält der Schaltkreis 70 den Tran
sistor 10 und den Kondensator 52 aus den Fig. 2A und 2B
sowie einen PMOS-Transistor 72. Wie ersichtlich, weist der
PMOS-Transistor 72 eine Source 74 auf, die an den Drain 16
des Transistors 10 angeschlossen ist, eine Drain 76, die an
die Source 14 des Transistors 10 angeschlossen ist und ein
Gate 78, das zum Empfang eines invertierten Taktgeber-Si
gnals /CLK geschaltet ist.
Wenn das Taktgeber-Signal CLK beim Betrieb im Zustand "high"
und das invertierte Taktgeber-Signal /CLK im Zustand "low"
ist, so sind beide Transistoren 10 und 72 im eingeschalteten
Zustand. Nachdem die Transistoren 10 und 72 ausschalten, be
wirkt die kapazitive Kopplung des NMOS-Transistors 10, daß
sich eine geringe negative Ladung an der oberen Platte des
Kondensators 52 ansammelt, während der PMOS-Transistor 72
bewirkt, daß sich eine geringe positive Ladung an der oberen
Platte des Kondensators 52 ansammelt.
Im Ergebnis wird die auf die obere Platte des Kondensators
52 durch den Transistor 10 gebrachte negative Ladung durch
die auf die obere Platte des Kondensators 52 durch den Tran
sistor 72 eingebrachte positive Ladung theoretisch ausge
löscht.
Jedoch gelingt es in der tatsächlichen Praxis mit dem
Schaltkreis 70 nicht, die negative Ladung von dem Kondensa
tor 52 zu entfernen, da die parasitären Übersprech-Kapazitä
ten des NMOS-Transistors 10 typischerweise nicht mit den
parasitären Übersprech-Kapazitäten des PMOS-Transistors 72
übereinstimmen.
Zusätzlich sind die Einschaltverzögerungen des NMOS-Transi
stors 10 und des PMOS-Transistors 72 nicht identisch. Hier
aus folgt, daß die Kanal-Leitfähigkeiten der Transistoren 10
und 72 sich typischerweise nicht während des Einschaltens
und des Ausschaltens folgen. Somit besteht eine Aufgabe der
Erfindung darin, einen MOS-Schalter zur Verfügung zu stel
len, welcher das Übersprechen eines Taktgebers in einem
Schalter-Kondensator-Schaltkreis vermindert.
Diese Aufgabe ist durch die unabhängigen Patentansprüche ge
löst.
Herkömmliche Schalter-Kondensator-Schaltkreise auf MOS-Basis
leiden an der Ansammlung einer geringen positiven Ladung an
der Source des MOS-Transistors, welche aufgrund der zwischen
Gate und Source des Transistors vorliegenden parasitären Ka
pazitäten auftreten, nachdem der Transistor ausgeschaltet
wurde.
Diese geringe positive Ladung, welche als Übersprechen des
Taktgebers bekannt ist, bewirkt ebenfalls, daß sich eine ge
ringe negative Ladung auf dem Kondensator ansammelt, welche
wiederum verhindert, daß eine andere Vorrichtung die Span
nung, die auf dem Kondensator gespeichert ist, genau aus
liest. Bei der Erfindung ist das Übersprechen des Taktgebers
durch das Verwenden von Transistoren mit geteiltem Gate so
wie durch das kontinuierliche Anlegen einer Vorspannung an
einem der Gates vermindert.
Ein in einem Halbleitersubstrat gebildeter Schalter-Konden
sator-Schaltkreis gemäß der Erfindung enthält einen Transi
stor, welcher in dem Substrat mit Abstand gebildete Source- und
Drain-Gebiete aufweist, sowie ein Kanalgebiet, welches
zwischen den Source- und Drain-Gebieten gebildet ist. Das
Kanalgebiet weist wiederum einen ersten, einen zweiten und
einen dritten Abschnitt auf.
Der Transistor des Schaltkreises enthält ebenfalls eine
Schicht aus einem ersten dielektrischen Material, das über
dem Kanalgebiet gebildet ist, ein erstes Gate, das auf der
Schicht aus dem ersten dielektrischen Material über dem er
sten Abschnitt des Kanalgebietes gebildet ist, sowie eine
Schicht aus einem zweiten dielektrischen Material, die über
dem ersten Gate gebildet ist. Weiterhin ist ein zweites Gate
auf den Schichten aus dem ersten und dem zweiten dielektri
schen Material über dem zweiten und dem dritten Abschnitt
des Kanalgebietes und einem Abschnitt des ersten Gate gebil
det.
Zusätzlich zu dem Transistor enthält der Schalter-Kondensa
tor-Schaltkreis ebenfalls einen Kondensator, der an das
Source-Gebiet und an Erde oder an das Source-Gebiet und ei
nen anderen Netzknoten angeschlossen ist.
Das zweite Gate wird beim Betrieb kontinuierlich mit einer
Vorspannung versorgt, während ein Steuer-Signal an das erste
Gate angelegt wird, wo das Steuer-Signal den Transistor
ein- und ausschaltet.
Die Erfindung ist im folgenden anhand von Zeichnungen am
Stand der Technik und an Ausführungsbeispielen und weiteren
Einzelheiten näher erläutert.
Fig. 1A ist eine Schnittzeichnung, die einen gewöhnlichen
NMOS-Transistor 10 veranschaulicht.
Fig. 1B ist ein Schema, welches den Transistor 10 aus Fig. 1A
veranschaulicht.
Fig. 2A ist eine Schnittzeichnung, die einen gewöhnlichen
Schalter-Kondensator-Schaltkreis 50 veranschau
licht.
Fig. 2B ist ein Schema, welches den Schalter-Kondensator-Schalt
kreis 50 aus Fig. 2A veranschaulicht.
Fig. 3 ist ein Schema, welches einen gewöhnlichen Schal
ter-Kondensator-Schaltkreis veranschaulicht, der
komplementäre MOS-Transistoren verwendet.
Fig. 4A ist eine Schnittzeichnung, die einen Schalter-Kon
densator-Schaltkreis 100 gemäß der Erfindung ver
anschaulicht.
Fig. 4B ist ein Schema, das den Schaltkreis 100 aus Fig. 4A
veranschaulicht.
Fig. 5 ist ein Schema, das einen Schalter-Kondensator-
Schaltkreis 100 als Teil eines Sample-and-Hold-
Schaltkreises 200 gemäß der Erfindung veranschau
licht.
Fig. 6 ist ein Schema, das einen Transistor 110 als Teil
eines Integrator-Schaltkreises 300 gemäß der Er
findung veranschaulicht.
Fig. 7 ist ein Schema, das einen Schalter-Kondensator-
Schaltkreis 400 veranschaulicht, welcher komple
mentäre MOS-Transistoren gemäß der Erfindung ver
wendet.
Fig. 8A ist eine Schnittzeichnung, die einen Schalter-Kon
densator-Schaltkreis 500 gemäß einer anderen Aus
führungsform der Erfindung veranschaulicht.
Fig. 8B ist ein Schema, welches den Schaltkreis 500 aus
Fig. 8A veranschaulicht.
Fig. 9 ist ein Schema, welches einen Schalter-Kondensa
tor-Verstärker-Schaltkreis 600 veranschaulicht,
welcher Transistoren 110 und 510 gemäß der Erfin
dung verwendet.
Die Fig. 4A-4B zeigen einen Schnitt sowie ein Schema,
welche einen Schalter-Kondensator-Schaltkreis 100 gemäß der
Erfindung veranschaulichen. Wie unten genauer beschrieben,
vermindert der Schaltkreis 100 das Übersprechen des Taktge
bers durch die Verwendung eines MOS-Transistors mit geteil
tem Gate, wobei eines der Gates kontinuierlich mit einer
Gleichspannung vorgespannt wird.
In den Fig. 4A-4B ist gezeigt, daß der Schaltkreis 100
einen Transistor 110 mit geteiltem Gate aufweist, welcher
Source- und Drain-Gebiete 114 und 116 vom n+-Typ enthält,
die mit Abstand in einem Substrat 112 vom p-Typ gebildet
sind, sowie ein Kanalgebiet 118, das zwischen den Source- und
Drain-Gebieten 114 und 116 definiert ist. Das Kanalge
biet 118 enthält wiederum einen ersten Abschnitt 118A, einen
zweiten Abschnitt 118B und einen dritten Abschnitt 118C.
Zusätzlich enthält der Transistor 110 eine untere dielektri
sche Schicht 120, die oberhalb des Kanalgebietes 118 gebil
det ist, ein erstes Gate 122, das auf der dielektrischen
Schicht 120 über dem ersten Abschnitt 118A des Kanalgebietes
118 gebildet ist, sowie eine obere dielektrische Schicht
124, welche auf der Oberseite und den Oberflächen der Sei
tenwände des ersten Gate 122 gebildet ist.
Weiterhin ist ein zweites Gate 126 mit einem unteren Niveau
126A, einem oberen Niveau 126B und einem mit dem oberen und
dem unteren Niveau 126A und 126B verbundenen Zwischenniveau
126C auf der dielektrischen Schicht 120 und einem Abschnitt
der dielektrischen Schicht 124 ausgebildet, so daß die unte
re Schicht 126A über dem zweiten Abschnitt 118B des Kanalge
bietes 118 gebildet ist, wobei das obere Niveau 126B über
dem dritten Abschnitt 118C des Kanalgebietes 118 und einem
Abschnitt des Gate 122 gebildet ist.
Wie weiterhin in den Fig. 4A und 4B gezeigt ist, enthält
der Schalter-Kondensator-Schaltkreis 100 ebenfalls einen
zwischen das Source-Gebiet 114 und Erde geschalteten Konden
sator 130.
Da es sich bei dem Transistor 110 um einen Transistor mit
geteiltem Gate handelt, beträgt die Kanallänge des Transi
stors 110 etwa das Doppelte der Länge des Transistors 10 aus
den Fig. 2A-2B. Um zusätzlich die Geschwindigkeit des
Transistors 110 aufrecht zu erhalten, muß die Breite so aus
gebildet werden, daß sie etwa das Doppelte der Breite des
Transistors 10 beträgt. Wenn geringere Geschwindigkeiten
ausreichen, so können geringere Breiten verwendet werden.
Das Drain-Gebiet 116 ist im Betrieb zum Empfang eines Ein
gangssignals VIN geschaltet, das erste Gate 122 ist zum Emp
fang eines Taktgebersignals CLK geschaltet und an das zweite
Gate 126 wird kontinuierlich eine Vorspannung von einer po
sitiven Gleichspannungsquelle angelegt, wie zum Beispiel die
Versorgungsspannung VCC, welche wiederum bewirkt, daß die
Oberfläche des zweiten und dritten Abschnitts 118B und 118C
des Kanalgebietes 118 invertiert wird.
Wie in Fig. 4A gezeigt ist die Oberfläche des zweiten
Abschnitts 118B, der sich unter dem unteren Niveau 126A des
zweiten Gate 126 befindet, stark invertiert, während die
Oberfläche des dritten Abschnittes 118C, die sich unter dem
oberen Niveau 126B des zweiten Gate 126 befindet, aufgrund
des größeren Trennabstandes zwischen dem oberen Niveau 126B
und der Oberfläche des Kanalgebietes 118 schwach invertiert.
Wenn die Spannung des Eingangssignals VIN größer ist als die
Spannung am Source-Gebiet 114 und die Spannung des Taktge
bersignals CLK um die Schwellenspannung VT größer ist als
die Spannung am Source-Gebiet 114, so schaltet der Transi
stor 110 ein.
Wenn der Transistor 110 einschaltet, so fließt ein Kanal
strom IC vom Drain-Gebiet 116 durch das Source-Gebiet 114
und lädt den Kondensator 130 auf die Spannung des Eingangs
signals VIN auf (vorausgesetzt, daß die Zeit, während der das
Taktgebersignal CLK "high" ist, wesentlich größer ist als
die Zeitkonstante, die durch den Einschaltwiderstand des
Transistors 110 und der Kapazität des Kondensators 130 fest
gelegt ist).
Wenn die Spannung zwischen Drain und Source VDS größer ist
als Null und die Spannung zwischen Gate und Source VGS unter
die Schwellenspannung VT abfällt, so schaltet der Transistor
110 aus. Bei der Erfindung muß die für den Abfall des Takt
gebersignals CLK von einem logischen "high" zu einem "low"
erforderliche Zeit im Vergleich zu der für das Ausschalten
des Transistors 110 erforderlichen Mindestzeit lang sein,
welche für einen skalierten CMOS etwa 1 ns beträgt.
Wenn im folgenden die Spannung am ersten Gate 122 abfällt,
nachdem der Transistor 110 ausgeschaltet hat, sammelt sich
eine sehr geringe positive Ladung an der Oberfläche des
dritten Abschnittes 118C des Kanalgebietes 118 aufgrund der
Kapazität eines parasitäten Kondensators CP an, welcher
durch das Gate 122, die zweite dielektrische Schicht 124 und
den schwach invertierten dritten Abschnitt 118C des Kanalge
bietes 118 gebildet wird, während sich eine entsprechende
sehr geringe negative Ladung an der oberen Platte des Kon
densators 130 ansammelt.
Somit eliminiert der Transistor 110 die Kapazität, die im
Zusammenhang mit dem parasitären Gate-Überlappungskondensa
tor C1 aus den Fig. 2A-2B steht, und reduziert die Ka
pazität, die mit dem parasitären seitlichen Randfeldkonden
sator C2 aus den Fig. 2A-2B in Zusammenhang steht, da
sich die untere Platte des parasitären Kondensators CP eher
in dem schwach invertierten Gebiet des dritten Abschnittes
118C des Kanalgebietes 118 befindet als das Source-Gebiet
14, wie es beim parasitären seitlichen Randfeldkondensator
C2 aus den Fig. 2A-2B der Fall ist.
Das verminderte Übersprechen des Taktgebers, welches durch
den Transistor 110 ermöglicht wird, kann in einer Vielzahl
von Schaltkreisen Verwendung finden. Fig. 5 zeigt ein Sche
ma, welches den Transistor 110 als Teil eines Sample-and-Hold-Schalt
kreises 200 gemäß der vorliegenden Erfindung ver
anschaulicht.
Wie in Fig. 5 gezeigt enthält der Schaltkreis 200 den Tran
sistor 110 und den Kondensator 130 aus den Fig. 4A und 4B
sowie einen Operationsverstärker 210, dessen positiver Ein
gang an das Source-Gebiet 114 und dessen negativer Eingang
an den Ausgang des Verstärkers 210 angeschlossen ist.
Weiterhin sind Schalter-Kondensator-Schaltkreise nicht auf
Anwendungen beschränkt, bei denen der Kondensator geerdet
ist. Fig. 6 zeigt ein Schema, welches einen Transistor 110
als Teil eines Integrator-Schaltkreises 300 gemäß der Erfin
dung zeigt.
Wie in Fig. 6 gezeigt, enthält der Schaltkreis 300 den Tran
sistor 110 aus den Fig. 4A und 4B, einen Operationsver
stärker 310, dessen positiver Eingang geerdet und dessen
negativer Eingang mit dem Source-Gebiet 114 verbunden ist,
sowie einen Kondensator 320, der zwischen den negativen Ein
gang und den Ausgang des Verstärkers 310 geschaltet ist.
Weiterhin wird der Drain 116 besser an eine Stromquelle IIN
als an eine Spannungsquelle VIN angeschlossen.
Weiterhin kann, wie bei dem Schaltkreis 70 aus Fig. 3, der
Schaltkreis 100 derart ausgebildet sein, daß er komplementä
re MOS-Transistoren aufweist. In Fig. 7 ist ein Schema dar
gestellt, welches einen Schalter-Kondensator-Schaltkreis 400
veranschaulicht, welcher komplementäre MOS-Transistoren ge
mäß der Erfindung verwendet.
Wie in Fig. 7 gezeigt, enthält der Schaltkreis 400 den Tran
sistor 110 und den Kondensator 130 aus den Fig. 4A und 4B
sowie einen PMOS-Transistor 410 mit geteiltem Gate. Wie zu
sehen ist enthält der PMOS-Transistor 410 eine Source 412,
die an den Drain 116 des Transistors 110 angeschlossen ist,
einen Drain 414, der an die Source 114 des Transistors 10
angeschlossen ist, ein erstes Gate 416, welches für den Emp
fang eines invertierten Taktgebersignals /CLK verschaltet
ist, sowie ein zweites Gate 418, das geerdet oder einer ne
gativen Spannung verbunden ist.
Die Fig. 8A-8B zeigen einen Schnitt und ein Schema,
welche einen Schalter-Kondensator-Schaltkreis 500 gemäß ei
ner alternativen Ausführungsform der Erfindung veranschauli
chen.
Wie in den Fig. 8A-8B gezeigt, enthält der Schaltkreis
500 einen Transistor 510 mit doppelt geteiltem Gate und ein
Paar abgeglichener Kondensatoren 520 und 530. Der Transistor
510 unterscheidet sich vom Transistor 110 darin, daß der
Transistor 510 ein Kanalgebiet 118 enthält, welches zusätz
lich zum ersten, zweiten und dritten Abschnitt 118A, 118B
und 118C weiterhin einen vierten Abschnitt 118D und einen
fünften Abschnitt 118E enthält.
Weiterhin enthält der Transistor 510 ein drittes Gate 540,
das ein unteres Niveau 540A, ein oberes Niveau 540B sowie
ein an das untere und das obere Niveau 540A und 540B ange
schlossenes Zwischenniveau 540C. Das dritte Gate 540 ist auf
der dielektrischen Schicht 120 und einem Abschnitt der die
lektrischen Schicht 124 ausgebildet, so daß die untere
Schicht 540A über dem vierten Abschnitt 118D des Kanalgebie
tes 118 ausgebildet ist, wobei das obere Niveau 540B über
dem fünften Abschnitt 118E des Kanalgebietes 118 und einem
Abschnitt von Gate 122 ausgebildet ist. Weiterhin ist die
obere Platte des Kondensators 520 an das Source-Gebiet 114
angeschlossen, während die obere Platte des Kondensators 530
an das Drain-Gebiet 116 angeschlossen ist.
Das erste Gate 122 ist beim Betrieb so verschaltet, daß es
ein Taktgebersignal CLK empfängt, wobei das zweite Gate 126
und das dritte Gate 540 kontinuierlich mit einer Vorspannung
von einer positiven Gleichspannungsquelle VCC versorgt wer
den. Die positiven Vorspannungen, die an das zweite und das
dritte Gate 126 und 540 angelegt werden, bewirken, daß die
Oberflächen des zweiten, dritten, vierten und fünften Ab
schnittes 118B, 118C, 118D und 118E des Kanalgebietes 118
invertiert werden.
Wie in Fig. 8A gezeigt, sind die Oberflächen des zweiten und
des vierten Abschnittes 118B und 118D stark invertiert, wäh
rend die Oberflächen des dritten und fünften Abschnittes
118C und 118E aufgrund der größeren Trennabstände zwischen
den oberen Niveaus 126B und 540B und der Oberfläche des Ka
nalgebietes 118 schwach invertiert sind.
Wenn die Spannung am Kondensator 530 größer ist als die
Spannung am Source-Gebiet 114 und die Spannung des Taktge
bersignals CLK um die Schwellenspannung VT größer ist als
die Spannung am Source-Gebiet 114, so schaltet der Transi
stor 510 ein.
Wenn der Transistor 510 einschaltet, fließt ein Kanalstrom
IC vom Drain-Gebiet 116 durch das Source-Gebiet 114 und lädt
den Kondensator 520 auf die Hälfte der Spannung des Konden
sators 530 auf (vorausgesetzt, daß die Zeit, während der das
Taktgebersignal CLK im Zustand "high" ist, wesentlich größer
ist, als die Zeitkonstante, die vom Einschaltwiderstand des
Transistors 510 und der Kapazität des Kondensators 520 fest
gelegt ist).
Wenn die Spannung des Taktgebersignals CLK um die Schwellen
spannung VT geringer ist als die Spannung am Source-Gebiet
114, so schaltet der Transistor 510 aus. Bei der Erfindung
muß die Zeit, die erforderlich ist, daß das Taktgebersignal
CLK von einem logischen "high" auf ein "low" abfällt, im
Vergleich zur Mindestzeit, die zum Ausschalten des Transi
stors 510 benötigt wird und im Falle eines skalierten CMOS
etwa 1 ns beträgt, lang sein.
Wenn im weiteren Verlauf die Spannung am ersten Gate 122 ab
fällt, nachdem der Transistor 510 ausgeschaltet hat, sammelt
sich eine sehr geringe positive Ladung an der Oberfläche des
dritten Abschnittes 118C des Kanalgebietes 118 an sowie an
der Oberfläche des fünften Abschnittes 118E, aufgrund der
Kapazität der parasitären Kondensatoren CP1 und CP2, die vom
Gate 122, der zweiten dielektrischen Schicht 124 und den
schwach invertierten dritten und fünften Abschnitten 118C
und 118E des Kanalgebietes 118 gebildet sind. Gleichzeitig
sammelt sich eine entsprechende sehr geringe negative Ladung
an den oberen Platten der Kondensatoren 520 und 530 an.
Somit eliminiert der Transistor 510 die Kapazitäten, die mit
den Gate-Überlappungen von Source und Drain verbunden sind,
und vermindert die Kapazitäten, die mit den seitlichen Rand
feldern von Source und Drain in Verbindung stehen, da die
unteren Platten der parasitären Kondensatoren CP1 und CP2 in
den schwach invertierten dritten und fünften Abschnitten
118C und 118E des Kanalgebietes 118 lokalisiert sind.
Das verminderte Übersprechen des Taktgebers, welches auf
grund Transistoren 110 und 510 zustande kommt, kann im Zu
sammenhang mit einer Vielzahl von Schaltkreisen Verwendung
finden. Fig. 9 zeigt ein Schema, welches einen Schalter-Kon
densator-Verstärker-Schaltkreis 600 veranschaulicht, der die
Transistoren 110 und 510 gemäß der Erfindung verwendet.
Wie in Fig. 9 gezeigt, enthält der Schaltkreis 600 einen er
sten Transistor 110A mit geteiltem Gate, der zwischen Erde
und den Eingangsnetzknoten NIN geschaltet ist, sowie einen
zweiten Transistor 110B mit geteiltem Gate, der zwischen
Erde und einen Zwischennetzknoten NM geschaltet ist.
Zusätzlich enthält der Schaltkreis 600 einen ersten Konden
sator C1, der zwischen den Eingangsnetzknoten NIN und den
Zwischennetzknoten NM geschaltet ist, sowie einen zweiten
Kondensator C2, der kleiner ist als der Kondensator C1 und
zwischen den Zwischennetzknoten NM und einen Ausgangsnetz
knoten NOUT geschaltet ist.
Weiterhin enthält der Schaltkreis 600 zusätzlich einen Tran
sistor 510A mit doppelt geteiltem Gate, der zwischen den
Zwischennetzknoten NM und den Ausgangsnetzknoten NOUT geschal
tet ist, sowie einen Operationsverstärker 610, dessen nega
tiver Eingang an den Zwischennetzknoten NM angeschlossen
ist, wobei ein Ausgang an den Ausgangsnetzknoten NOUT und ein
positiver Eingang an Erde angeschlossen ist.
Wenn der Transistor 110A beim Betrieb ausschaltet, schalten
die Transistoren 110B und 510A ein. Unter diesen Umständen
werden der Zwischen- und der Ausgangsnetzknoten NM und NOUT
auf Erdpotential gebracht, was wiederum das Anlegen einer
Eingangsspannung VIN über den Kondensator C1 bewirkt.
Als nächstes werden die Transistoren 110B und 510A ausge
schaltet, woraufhin der Transistor 110A einschaltet. Unter
diesen Umständen versucht die Spannung am Zwischennetzknoten NM
den Wert -VIN anzunehmen. Dies bewirkt, daß der Ausgang
des Operationsverstärkers 610 den Zustand "high" annimmt,
was wiederum das Anlegen der Spannung VIN über den Kondensa
tor C2 bewirkt. Im Ergebnis ist die Ausgangsspannung VOUT am
Ausgangsnetzknoten NOUT durch die Gleichung VOUT = VIN (C1/C2)
definiert.
Die in der vorstehenden Beschreibung, in der Zeichnung sowie
in den Ansprüchen offenbarten Merkmale der Erfindung können
sowohl einzeln als auch in beliebiger Kombination für die
Verwirklichung der Erfindung wesentlich sein.
Claims (19)
1. Schalter-Kondensator-Schaltkreis, welcher in einem Halb
leitersubstrat gebildet ist, wobei der Kondensator folgendes
aufweist:
einen Transistor mit:
Source- und Drain-Gebieten, die mit Abstand in dem Substrat gebildet sind,
einem Kanalgebiet, welches zwischen den Source- und Drain-Gebieten definiert ist, wobei das Kanalgebiet einen ersten, einen zweiten und einen dritten Abschnitt aufweist,
einer Schicht eines ersten dielektrischen Materials, welche über dem Kanalgebiet gebildet ist,
einem ersten Gate, welches auf der Schicht aus dem dielektrischen Material über dem ersten Abschnitt des Kanal gebietes gebildet ist,
einer Schicht eines zweiten dielektrischen Materi als, welche über dem ersten Gate gebildet ist,
einem zweiten Gate, welches auf den Schichten aus dem ersten und dem zweiten dielektrischen Material über dem zweiten und dem dritten Abschnitt des Kanalgebietes und ei nem Abschnitt des ersten Gate gebildet ist; und
einen Kondensator, welcher an das Source-Gebiet an geschlossen ist.
einen Transistor mit:
Source- und Drain-Gebieten, die mit Abstand in dem Substrat gebildet sind,
einem Kanalgebiet, welches zwischen den Source- und Drain-Gebieten definiert ist, wobei das Kanalgebiet einen ersten, einen zweiten und einen dritten Abschnitt aufweist,
einer Schicht eines ersten dielektrischen Materials, welche über dem Kanalgebiet gebildet ist,
einem ersten Gate, welches auf der Schicht aus dem dielektrischen Material über dem ersten Abschnitt des Kanal gebietes gebildet ist,
einer Schicht eines zweiten dielektrischen Materi als, welche über dem ersten Gate gebildet ist,
einem zweiten Gate, welches auf den Schichten aus dem ersten und dem zweiten dielektrischen Material über dem zweiten und dem dritten Abschnitt des Kanalgebietes und ei nem Abschnitt des ersten Gate gebildet ist; und
einen Kondensator, welcher an das Source-Gebiet an geschlossen ist.
2. Schaltkreis nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der Kondensator zwischen Source-Gebiet
und Erde geschaltet ist.
3. Schaltkreis nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß er weiterhin einen Operations
verstärker mit einem positiven an das Source-Gebiet ange
schlossenen Eingang und einem negativen an den Ausgang des
Verstärkers angeschlossenen Eingang aufweist.
4. Schaltkreis nach einem der vorangehenden Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, daß er weiterhin einen
Operationsverstärker mit einem negativen an das Source-Ge
biet angeschlossenen Eingang, einem positiven an Erde ange
schlossenen Eingang und einem an den Kondensator angeschlos
senen Ausgang aufweist.
5. Schalter-Kondensator-Schaltkreis nach einem der vorange
henden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
das Kanalgebiet des Transistors einen vierten und einen
fünften Abschnitt aufweist, wobei der Transistor ein drittes
Gate aufweist, welches auf den Schichten aus dem ersten und
zweiten dielektrischen Material über dem vierten und dem
fünften Abschnitt des Kanalgebietes und einem Abschnitt des
ersten Gate gebildet ist.
6. Schalter-Kondensator-Schaltkreis nach einem der vorange
henden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
er weiterhin einen an das Drain-Gebiet angeschlossenen Kon
densator aufweist.
7. Transistor, welcher in einem Substrat ausgebildet ist
und folgendes aufweist:
Source- und Drain-Gebiete, die mit Abstand in dem Sub strat gebildet sind;
ein Kanalgebiet, welches zwischen den Source- und Drain-Gebieten definiert ist, wobei das Kanalgebiet einen ersten, einen zweiten, einen dritten, einen vierten und ei nen fünften Abschnitt aufweist;
eine Schicht aus einem ersten dielektrischen Material, welches über dem Kanalgebiet gebildet ist;
ein erstes Gate, welches auf der Schicht aus dem ersten dielektrischen Material über dem ersten Abschnitt des Kanal gebietes gebildet ist;
eine Schicht eines zweiten dielektrischen Materials, welches über dem ersten Gate gebildet ist;
ein zweites Gate, welches auf den Schichten aus dem er sten und dem zweiten dielektrischen Material über dem zwei ten und dem dritten Abschnitt des Kanalgebietes und einem Abschnitt des ersten Gate gebildet ist; und
ein drittes Gate, welches auf den Schichten aus dem er sten und dem zweiten dielektrischen Material über dem vier ten und dem fünften Abschnitt des Kanalgebietes und einem Abschnitt des ersten Gate gebildet ist.
Source- und Drain-Gebiete, die mit Abstand in dem Sub strat gebildet sind;
ein Kanalgebiet, welches zwischen den Source- und Drain-Gebieten definiert ist, wobei das Kanalgebiet einen ersten, einen zweiten, einen dritten, einen vierten und ei nen fünften Abschnitt aufweist;
eine Schicht aus einem ersten dielektrischen Material, welches über dem Kanalgebiet gebildet ist;
ein erstes Gate, welches auf der Schicht aus dem ersten dielektrischen Material über dem ersten Abschnitt des Kanal gebietes gebildet ist;
eine Schicht eines zweiten dielektrischen Materials, welches über dem ersten Gate gebildet ist;
ein zweites Gate, welches auf den Schichten aus dem er sten und dem zweiten dielektrischen Material über dem zwei ten und dem dritten Abschnitt des Kanalgebietes und einem Abschnitt des ersten Gate gebildet ist; und
ein drittes Gate, welches auf den Schichten aus dem er sten und dem zweiten dielektrischen Material über dem vier ten und dem fünften Abschnitt des Kanalgebietes und einem Abschnitt des ersten Gate gebildet ist.
8. Schalter-Kondensator-Schaltkreis, welcher in einem Halb
leitersubstrat gebildet ist, wobei der Kondensator folgendes
aufweist:
einen ersten Transistor, der an einem Eingangsnetzknoten angeschlossen ist, wobei der erste Transistor folgendes auf weist:
Source- und Drain-Gebiete, die mit Abstand in dem Substrat gebildet sind,
ein Kanalgebiet, welches zwischen den Source- und Drain-Gebieten definiert ist, wobei das Kanalgebiet einen ersten, einen zweiten und einen dritten Abschnitt aufweist,
eine Schicht eines ersten dielektrischen Materials, welches über dem Kanalgebiet ausgebildet ist,
ein erstes Gate, welches auf der Schicht aus erstem dielektrischen Material über dem ersten Abschnitt des Kanal gebietes gebildet ist,
eine Schicht eines zweiten dielektrischen Materials, welches über dem ersten Gate ausgebildet ist, und
ein zweites Gate, welches auf den Schichten aus dem ersten und dem zweiten dielektrischen Material über dem zweiten und dem dritten Abschnitt des Kanalgebietes und ei nem Abschnitt des ersten Gate ausgebildet ist;
einen zweiten Transistor, welcher an einen Zwischennetz knoten angeschlossen ist, wobei der zweite Transistor fol gendes aufweist:
Source- und Drain-Gebiete, die mit Abstand in dem Substrat gebildet sind,
ein Kanalgebiet, welches zwischen den Source- und Drain-Gebieten des zweiten Transistors definiert ist, wobei das Kanalgebiet des zweiten Transistors einen ersten, einen zweiten und einen dritten Abschnitt aufweist,
eine Schicht eines ersten dielektrischen Materials, welche über dem Kanalgebiet des zweiten Transistors gebildet ist,
ein erstes Gate, welches auf der Schicht aus dem ersten dielektrischen Material des zweiten Transistors über dem ersten Abschnitt des Kanalgebietes gebildet ist,
eine Schicht eines zweiten dielektrischen Materials, welche über dem ersten Gate des zweiten Transistors gebildet ist, und
ein zweites Gate, welches auf den Schichten aus dem ersten und dem zweiten dielektrischen Material des zweiten Transistors über dem zweiten und dritten Abschnitt des Ka nalgebietes und einem Abschnitt des ersten Gate gebildet ist;
einen ersten Kondensator, der zwischen den Eingangs- und Zwischennetzknoten geschaltet ist;
einen dritten Transistor, der an einen Ausgangsnetzkno ten und den Zwischennetzknoten angeschlossen ist, wobei der dritte Transistor folgendes aufweist:
Source- und Drain-Gebiete, die in dem Substrat mit Abstand gebildet sind;
ein Kanalgebiet, welches zwischen den Source- und Drain-Gebieten des dritten Transistors definiert ist, wobei das Kanalgebiet einen ersten, einen zweiten, einen dritten, einen vierten und einen fünften Abschnitt aufweist;
eine Schicht eines ersten dielektrischen Materials, welche über dem Kanalgebiet des dritten Transistors ausge bildet ist;
ein erstes Gate, welches auf der Schicht aus dem ersten dielektrischen Material des dritten Transistors über dem ersten Abschnitt des Kanalgebietes ausgebildet ist;
eine Schicht eines zweiten dielektrischen Materials, welche über dem ersten Gate des dritten Transistors ausge bildet ist;
ein zweites Gate, welches auf den Schichten aus dem ersten und dem zweiten dielektrischen Material des dritten Transistors über dem zweiten und dem dritten Abschnitt des Kanalgebietes und einem Abschnitt des ersten Gate gebildet ist; und
ein drittes Gate, welches auf den Schichten aus dem ersten und dem zweiten dielektrischen Material des dritten Transistors über dem vierten und dem fünften Abschnitt des Kanalgebietes und einem Abschnitt des ersten Gate ausgebil det ist;
einen zweiten Kondensator, der zwischen dem Zwischen- und Ausgangsnetzknoten geschaltet ist; und
einen Operationsverstärker mit einem negativen an den Zwischennetzknoten angeschlossenen Eingang und einem an den Ausgangsnetzknoten angeschlossenen Ausgang.
einen ersten Transistor, der an einem Eingangsnetzknoten angeschlossen ist, wobei der erste Transistor folgendes auf weist:
Source- und Drain-Gebiete, die mit Abstand in dem Substrat gebildet sind,
ein Kanalgebiet, welches zwischen den Source- und Drain-Gebieten definiert ist, wobei das Kanalgebiet einen ersten, einen zweiten und einen dritten Abschnitt aufweist,
eine Schicht eines ersten dielektrischen Materials, welches über dem Kanalgebiet ausgebildet ist,
ein erstes Gate, welches auf der Schicht aus erstem dielektrischen Material über dem ersten Abschnitt des Kanal gebietes gebildet ist,
eine Schicht eines zweiten dielektrischen Materials, welches über dem ersten Gate ausgebildet ist, und
ein zweites Gate, welches auf den Schichten aus dem ersten und dem zweiten dielektrischen Material über dem zweiten und dem dritten Abschnitt des Kanalgebietes und ei nem Abschnitt des ersten Gate ausgebildet ist;
einen zweiten Transistor, welcher an einen Zwischennetz knoten angeschlossen ist, wobei der zweite Transistor fol gendes aufweist:
Source- und Drain-Gebiete, die mit Abstand in dem Substrat gebildet sind,
ein Kanalgebiet, welches zwischen den Source- und Drain-Gebieten des zweiten Transistors definiert ist, wobei das Kanalgebiet des zweiten Transistors einen ersten, einen zweiten und einen dritten Abschnitt aufweist,
eine Schicht eines ersten dielektrischen Materials, welche über dem Kanalgebiet des zweiten Transistors gebildet ist,
ein erstes Gate, welches auf der Schicht aus dem ersten dielektrischen Material des zweiten Transistors über dem ersten Abschnitt des Kanalgebietes gebildet ist,
eine Schicht eines zweiten dielektrischen Materials, welche über dem ersten Gate des zweiten Transistors gebildet ist, und
ein zweites Gate, welches auf den Schichten aus dem ersten und dem zweiten dielektrischen Material des zweiten Transistors über dem zweiten und dritten Abschnitt des Ka nalgebietes und einem Abschnitt des ersten Gate gebildet ist;
einen ersten Kondensator, der zwischen den Eingangs- und Zwischennetzknoten geschaltet ist;
einen dritten Transistor, der an einen Ausgangsnetzkno ten und den Zwischennetzknoten angeschlossen ist, wobei der dritte Transistor folgendes aufweist:
Source- und Drain-Gebiete, die in dem Substrat mit Abstand gebildet sind;
ein Kanalgebiet, welches zwischen den Source- und Drain-Gebieten des dritten Transistors definiert ist, wobei das Kanalgebiet einen ersten, einen zweiten, einen dritten, einen vierten und einen fünften Abschnitt aufweist;
eine Schicht eines ersten dielektrischen Materials, welche über dem Kanalgebiet des dritten Transistors ausge bildet ist;
ein erstes Gate, welches auf der Schicht aus dem ersten dielektrischen Material des dritten Transistors über dem ersten Abschnitt des Kanalgebietes ausgebildet ist;
eine Schicht eines zweiten dielektrischen Materials, welche über dem ersten Gate des dritten Transistors ausge bildet ist;
ein zweites Gate, welches auf den Schichten aus dem ersten und dem zweiten dielektrischen Material des dritten Transistors über dem zweiten und dem dritten Abschnitt des Kanalgebietes und einem Abschnitt des ersten Gate gebildet ist; und
ein drittes Gate, welches auf den Schichten aus dem ersten und dem zweiten dielektrischen Material des dritten Transistors über dem vierten und dem fünften Abschnitt des Kanalgebietes und einem Abschnitt des ersten Gate ausgebil det ist;
einen zweiten Kondensator, der zwischen dem Zwischen- und Ausgangsnetzknoten geschaltet ist; und
einen Operationsverstärker mit einem negativen an den Zwischennetzknoten angeschlossenen Eingang und einem an den Ausgangsnetzknoten angeschlossenen Ausgang.
9. Ein Schalter-Kondensator-Schaltkreis, der in einem Halb
leitersubstrat gebildet ist, wobei der Kondensator folgendes
aufweist:
einen NMOS-Transistor mit:
Source- und Drain-Gebieten, die mit Abstand in dem Substrat gebildet sind,
einem Kanalgebiet, welches zwischen den Source- und Drain-Gebieten definiert ist, wobei das Kanalgebiet einen ersten, einen zweiten und einen dritten Abschnitt aufweist;
einer Schicht aus einem ersten dielektrischen Mate rial, welche über dem Kanalgebiet ausgebildet ist;
einem ersten Gate, welches auf der Schicht aus dem ersten dielektrischen Material über dem ersten Abschnitt des Kanalgebietes ausgebildet ist,
einer Schicht aus einem zweiten dielektrischen Mate rial, welche über dem ersten Gate ausgebildet ist, und
einem zweiten Gate, welches auf den Schichten aus dem ersten und dem zweiten dielektrischen Material über dem zweiten und dem dritten Abschnitt des Kanalgebietes und ei nem Abschnitt des ersten Gate ausgebildet ist; und
einen PMOS-Transistor mit:
Source- und Drain-Gebieten, die mit Abstand in dem Substrat gebildet sind, wobei das Source-Gebiet des PMOS-Tran sistors an das Drain-Gebiet des NMOS-Transistors ange schlossen ist und das Drain-Gebiet des PMOS-Transistors an das Source-Gebiet des NMOS-Transistors angeschlossen ist,
einem Kanalgebiet, welches zwischen den Source- und Drain-Gebieten des PMOS-Transistors definiert ist, wobei das Kanalgebiet des PMOS-Transistors einen ersten, einen zweiten und einen dritten Abschnitt aufweist,
einer Schicht aus einem ersten dielektrischen Mate rial, welche über dem Kanalgebiet des PMOS-Transistors ge bildet ist,
einem ersten Gate, welches auf der Schicht aus dem ersten dielektrischen Material des PMOS-Transistors über dem ersten Abschnitt des Kanalgebietes ausgebildet ist,
einer Schicht aus einem zweiten dielektrischen Mate rial, welche über dem ersten Gate des PMOS-Transistors ge bildet ist, und
einem zweiten Gate, welches auf den Schichten aus dem ersten und dem zweiten dielektrischen Material des PMOS-Transistors über dem zweiten und dem dritten Abschnitt des Kanalgebietes und einem Abschnitt des ersten Gate ausgebil det ist.
einen NMOS-Transistor mit:
Source- und Drain-Gebieten, die mit Abstand in dem Substrat gebildet sind,
einem Kanalgebiet, welches zwischen den Source- und Drain-Gebieten definiert ist, wobei das Kanalgebiet einen ersten, einen zweiten und einen dritten Abschnitt aufweist;
einer Schicht aus einem ersten dielektrischen Mate rial, welche über dem Kanalgebiet ausgebildet ist;
einem ersten Gate, welches auf der Schicht aus dem ersten dielektrischen Material über dem ersten Abschnitt des Kanalgebietes ausgebildet ist,
einer Schicht aus einem zweiten dielektrischen Mate rial, welche über dem ersten Gate ausgebildet ist, und
einem zweiten Gate, welches auf den Schichten aus dem ersten und dem zweiten dielektrischen Material über dem zweiten und dem dritten Abschnitt des Kanalgebietes und ei nem Abschnitt des ersten Gate ausgebildet ist; und
einen PMOS-Transistor mit:
Source- und Drain-Gebieten, die mit Abstand in dem Substrat gebildet sind, wobei das Source-Gebiet des PMOS-Tran sistors an das Drain-Gebiet des NMOS-Transistors ange schlossen ist und das Drain-Gebiet des PMOS-Transistors an das Source-Gebiet des NMOS-Transistors angeschlossen ist,
einem Kanalgebiet, welches zwischen den Source- und Drain-Gebieten des PMOS-Transistors definiert ist, wobei das Kanalgebiet des PMOS-Transistors einen ersten, einen zweiten und einen dritten Abschnitt aufweist,
einer Schicht aus einem ersten dielektrischen Mate rial, welche über dem Kanalgebiet des PMOS-Transistors ge bildet ist,
einem ersten Gate, welches auf der Schicht aus dem ersten dielektrischen Material des PMOS-Transistors über dem ersten Abschnitt des Kanalgebietes ausgebildet ist,
einer Schicht aus einem zweiten dielektrischen Mate rial, welche über dem ersten Gate des PMOS-Transistors ge bildet ist, und
einem zweiten Gate, welches auf den Schichten aus dem ersten und dem zweiten dielektrischen Material des PMOS-Transistors über dem zweiten und dem dritten Abschnitt des Kanalgebietes und einem Abschnitt des ersten Gate ausgebil det ist.
10. Schaltkreis nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß er weiterhin einen Kondensator auf
weist, der an das Source-Gebiet des NMOS-Transistors und an
Erde angeschlossen ist.
11. Schaltkreis nach Anspruch 9 oder 10, dadurch ge
kennzeichnet, daß er weiterhin folgendes auf
weist:
einen Operationsverstärker mit einem negativen an das Source-Gebiet des NMOS-Transistors angeschlossenen Eingang und einem positiven geerdeten Eingang; und
einen Kondensator, der an den negativen Eingang und ei nen Ausgang des Verstärkers angeschlossen ist.
einen Operationsverstärker mit einem negativen an das Source-Gebiet des NMOS-Transistors angeschlossenen Eingang und einem positiven geerdeten Eingang; und
einen Kondensator, der an den negativen Eingang und ei nen Ausgang des Verstärkers angeschlossen ist.
12. Verfahren zum Betreiben eines Schaltkreises mit einem
Transistor, der eine erste und eine zweite Anschlußstelle
sowie ein erstes und ein zweites Gate aufweist, wobei das
Verfahren die folgenden Schritte enthält:
kontinuierliches Vorspannen des zweiten Gate und
Anlegen eines Steuer-Signals an das erste Gate, wobei das Steuer-Signal den Transistor ein- und ausschaltet.
kontinuierliches Vorspannen des zweiten Gate und
Anlegen eines Steuer-Signals an das erste Gate, wobei das Steuer-Signal den Transistor ein- und ausschaltet.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet,
daß die erste Anschlußstelle zum Empfang
eines Eingangssignals verschaltet ist und der Schaltkreis
weiterhin einen zwischen die zweite Anschlußstelle und Erde
geschalteten Kondensator aufweist.
14. Verfahren nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet,
daß der Transistor weiterhin ein Kanalge
biet mit einem ersten Abschnitt, einem zweiten Abschnitt und
einem dritten Abschnitt aufweist und das erste Gate über dem
ersten Abschnitt, das zweite Gate über dem zweiten und dem
dritten Abschnitt sowie einem Abschnitt des ersten Gate ge
bildet ist.
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 14, dadurch
gekennzeichnet, daß das zweite Gate ein unteres
Niveau, ein oberes Niveau und ein an das untere und das obe
re Niveau angeschlossenes Zwischenniveau aufweist.
16. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 15, dadurch
gekennzeichnet, daß der Transistor weiterhin
ein Kanalgebiet mit einem ersten Abschnitt, einem zweiten
Abschnitt und einem dritten Abschnitt enthält, wobei das
erste Gate über dem ersten Abschnitt, das untere Niveau des
zweiten Gate über dem zweiten Abschnitt und das obere Niveau
des zweiten Gate über dem dritten Abschnitt und einem Ab
schnitt des ersten Gate gebildet ist.
17. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 16, dadurch
gekennzeichnet, daß an das zweite Gate eine
positive Vorspannung angelegt ist.
18. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 16, dadurch
gekennzeichnet, daß an das zweite Gate eine
negative Vorspannung angelegt ist.
19. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 18, dadurch
gekennzeichnet, daß an das zweite Gate eine
Versorgungsspannung als Vorspannung angelegt ist.
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