DE19703594A1 - Abtastvorrichtung - Google Patents
AbtastvorrichtungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Abtastvorrichtung für einen La
serstrahldrucker o. ä., insbesondere eine Abtastvorrichtung,
bei der die Laserleistung überwacht wird.
In einem Laserstrahldrucker bestimmt die Energie eines
Strahlpunktes auf einer Fotoleitertrommel die Dichte des dar
auf erzeugten elektrostatischen latenten Bildes. Die Strah
lungsleistung muß daher auf einem vorbestimmten Wert gehalten
werden, um eine beständige Dichte der erzeugten Bilder zu ge
währleisten.
In Laserstrahldruckern wird die von einem Laser abgegebene
Strahlung mit einem halbdurchlässigen Spiegel in einen Steu
erstrahl und einen Hauptstrahl aufgeteilt. Die Intensität des
Hauptstrahls wird dann durch Erfassen der Intensität des
Steuerstrahls gesteuert.
Die Durchlässigkeit oder Reflexionsfähigkeit eines halbdurch
lässigen Spiegels ist jedoch polarisationsabhängig. Daher än
dert sich das Verhältnis der Intensität des Hauptstrahls zur
Intensität des Steuerstrahls bei Verwendung eines halbdurch
lässigen Spiegels entsprechend dem Polarisationszustand der
einfallenden Strahlung.
Durch diese Änderung gegenüber einem vorbestimmten Zustand
wird die Steuerung der Intensität des Hauptstrahls mit dem
Steuerstrahl beeinträchtigt.
Dieses Problem tritt besonders bei einer Abtastvorrichtung
mit Lichtwellenleitern auf, da bei ihnen die Strahlungsüber
tragung zu einer Polarisationsänderung führt.
Es ist Aufgabe der Erfindung, eine Abtastvorrichtung anzuge
ben, in der der Hauptstrahl mit dem Steuerstrahl genau ge
steuert werden kann.
Die Erfindung löst diese Aufgabe durch die Merkmale des Pa
tentanspruchs 1. Vorteilhafte Weiterbildungen sind Gegenstand
der Unteransprüche.
Die Erfindung wird im folgenden an Hand der Zeichnungen näher
erläutert. Darin zeigen:
Fig. 1 eine perspektivische Darstellung einer optischen
Abtastvorrichtung,
Fig. 2 die Draufsicht der Abtastvorrichtung nach Fig. 1 in
Hauptabtastrichtung,
Fig. 3 den Querschnitt der Abtastvorrichtung nach Fig. 1
in Nebenabtastrichtung,
Fig. 4 den optischen Aufbau der Abtastvorrichtung nach
Fig. 1 in Hauptabtastrichtung,
Fig. 5 eine beispielsweise Anordnung von Lichtwellenlei
tern,
Fig. 6 eine beispielsweise Anordnung der Strahlpunkte auf
einer Fotoleitertrommel,
Fig. 7 die Vorderansicht eines Strahlteilers als erstes
Ausführungsbeispiel,
Fig. 8 eine grafische Darstellung der mit dem Strahlteiler
nach Fig. 7 erzeugten Strahlungsverteilung,
Fig. 9 einen mit dem Strahlteiler nach Fig. 7 erzeugten
Strahlpunkt,
Fig. 10 die Vorderansicht eines Strahlteilers als zweites
Ausführungsbeispiel,
Fig. 11 einen mit dem Strahlteiler nach Fig. 10 erzeugten
Strahlpunkt,
Fig. 12 die Vorderansicht eines Strahlteilers als drittes
Ausführungsbeispiel, und
Fig. 13 einen mit dem Strahlteiler nach Fig. 12 erzeugten
Strahlpunkt.
Nachstehend wird als Abtastvorrichtung eine optische Mehr
strahl-Abtastvorrichtung beschrieben, die eine Abtastbewegung
mehrerer Laserstrahlen über einen vorbestimmten Winkel durch
führt, wobei acht Abtastzeilen pro Abtastbewegung auf einer
Fläche erzeugt werden, zum Beispiel auf der Oberfläche eines
fotoleitenden Elements. Unter dem Begriff "Licht" ist im fol
genden ein Strahlungsspektrum zu verstehen, das im sichtbaren
und im unsichtbaren Bereich liegt.
Wie in den Fig. 3 und 4 gezeigt, enthält die Abtastvorrich
tung eine Lichtübertragungseinheit 100, einen Polygonspiegel
180 und ein fθ-Linsensystem 190 (Abtastoptik). Im Betrieb
werden acht Laserstrahlen von der Lichtübertragungseinheit
100 abgestrahlt, vom Polygonspiegel abgelenkt (abtastend) und
durch das fθ-Linsensystem 190 geleitet, um acht Abtastzeilen
auf einer fotoleitenden Oberfläche zu erzeugen, zum Beispiel
auf einer Fotoleitertrommel 210.
In dieser Beschreibung ist eine "Hauptabtastrichtung" als ei
ne Richtung definiert, in welcher ein Laserstrahl eine Ab
tastbewegung über die Oberfläche eines fotoleitenden Elements
ausführt, und eine "Nebenabtastrichtung" ist eine Richtung,
in welcher das fotoleitende Element bewegt oder gedreht wird,
um es für eine folgende Hauptabtastbewegung zu positionieren.
Die Hauptabtastrichtung und die Nebenabtastrichtung sind
senkrecht zueinander, und beide sind senkrecht zur optischen
Achse der die Laserstrahlen übertragenden Linsen. Da ein La
serstrahl gewöhnlich mehrere Male bei der Übertragung von der
Lichtquelle zu einem fotoleitenden Element reflektiert oder
"gefaltet" wird, sind die Hauptabtastrichtung und die Neben
abtastrichtung nicht absolut, sondern bezogen auf die opti
sche Achse an einem speziellen Punkt des optischen Weges.
In dieser Beschreibung ist in der Fig. 1 bis 4 ein XYZ-Koor
dinatensystem definiert. Die X-Achse ist eine Achse parallel
zur optischen Achse des fθ-Linsensystem 190, und die Y- und
die Z-Achsen liegen rechtwinklig zueinander in der Ebene
senkrecht zur X-Achse. Die Y-Achse liegt parallel zur
Hauptabtastrichtung, und die Z-Achse liegt parallel zur Ne
benabtastrichtung.
Wie in Fig. 1 gezeigt, enthält die Abtastvorrichtung weiter
hin ein offenes Gehäuse 1. Im Betriebszustand ist die obere
Öffnung des Gehäuses 1 durch einen Gehäusedeckel 2 verschlos
sen.
Wie in Fig. 4 gezeigt, enthält die Lichtübertragungseinheit
100 acht Halbleiterlaser 101 bis 108, acht Laserblöcke 310a
bis 310h (jeder auf einem Träger 300 befestigt), die jeweils
einem der Laser 101 bis 108 zugeordnet sind, acht optische
Lichtwellenleiter (z. B. Lichtleitfaserbündel) 121 bis 128 aus
Hartglas (Silikaglas), die jeweils einem der Laser 101 bis
108 zugeordnet sind, und einen Lichtwellenleiter-Ausricht
block 130. Jeder Laser 101 bis 108 ist in dem zugehörigen La
serblock 310a bis 310h so befestigt, daß sein Laserstrahl in
den jeweils zugehörigen Lichtwellenleiter 121 bis 138 ein
tritt. Außerdem werden die Eintrittsendabschnitte der opti
schen Lichtwellenleiter 121 bis 128 von Lichtwellenleiter-
Halteelementen 319a bis 319h an den jeweiligen Laserblöcken
310a bis 310h festgehalten. Der Lichtwellenleiter-Ausricht
block 130 hält die Austrittsendabschnitte der optischen
Lichtwellenleiter 121 bis 128 zum Ausrichten derart, daß acht
Punktlichtquellen auf einer Geraden erzeugt werden.
Ein vom Lichtwellenleiter-Ausrichtblock 130 abgestrahltes di
vergierendes Lichtbündel wird mit Hilfe einer Sammellinse 140
gebündelt, die durch einen zylindrischen Sammellinsentubus
340 gehalten wird, und durch eine Blende 142 hindurchgerich
tet. Die Blende 142 hat eine rechteckige Durchtrittsöffnung,
die in der Hauptabtastrichtung länger ist und in der Hauptab
tastrichtung und der Nebenabtastrichtung das aus der Sammel
linse 140 austretende Lichtbündel begrenzt.
Das durch die Blende 142 hindurchtretende Lichtbündel wird
auf einen Strahlteiler 144 gerichtet. Der Strahlteiler 144
teilt die Strahlung in einen Steuerstrahl und in einen Haupt
strahl, der reflektiert wird. Die Durchlässigkeit des Strahl
teilers 144 (d. h. die Menge des als Steuerstrahl hindurchge
lassenen Lichtes) beträgt zum Beispiel zwischen 5 und 10 Pro
zent.
Der Steuerstrahl wird in ein automatisches Leistungssteue
rungs-Sensorsystem (ALS-Sensorsystem) 150 gerichtet. Dieses
enthält eine Sammellinse 151 zum Bündeln des Steuerstrahls
einen ALS-Lichtsensor 155.
Der ALS-Lichtsensor 155 erfaßt die Lichtenergie des Steuer
strahls, und sein Ausgangssignal wird für eine Regelung der
Ausgangsleistung der Halbleiterlaser 101 bis 108 genutzt.
Der am Strahlteiler 144 reflektierte Hauptstrahl tritt durch
ein dynamisches Prisma 160 hindurch. Das dynamische Prisma
160 ist in Richtung einer zur optischen Achse rechtwinkligen
Achse drehbar gelagert, um die Lage des Auftreffpunktes in
der Nebenabtastrichtung auf der Bildebene zu steuern. Das dy
namische Prisma 160 ist vorzugsweise ein Keilprisma, das um
die Hauptabtastrichtung drehbar gelagert ist, um den Haupt
strahl in Richtung der Nebenabtastrichtung abzulenken. Das
dynamische Prisma 160 berichtigt Änderungen der Lage der
Bildpunkte (in der Nebenabtastrichtung) auf der Abtastebene,
welche durch Neigungsfehler der reflektierenden Flächen des
Polygonspiegels 180 und/oder durch eine ungleichmäßige Dre
hung der Fotoleitertrommel 210 entstehen (vgl. Fig. 3 und die
später folgenden Erläuterungen).
Der durch das dynamische Prisma 160 hindurchtretende Haupt
strahl bildet mit Hilfe einer Zylinderlinse 170 ein lineares
Bild in der Umgebung der Spiegeloberfläche des Polygonspie
gels 180. Die Zylinderlinse 170 hat nur in der Nebenabta
strichtung eine positive Brechkraft. Wie in den Fig. 1 und 2
gezeigt, wird die Zylinderlinse 170 durch einen zylindrischen
Linsentubus 361 gehalten und besteht aus zwei Linsen 171, 173
mit positiver bzw. negativer Brechkraft in der Nebenabta
strichtung.
Der Polygonspiegel 180 wird, wie in Fig. 3 gezeigt, durch ei
nen Spiegelmotor 371 angetrieben (befestigt im Gehäuse 1) und
rotiert im Uhrzeigersinn in der Darstellung der Fig. 2
(dargestellt durch einen Pfeil). Außerdem ist der Poly
gonspiegel 180, wie in Fig. 1 gezeigt, von der Umgebung durch
eine haubenartige Polygonabdeckung 373 getrennt, um Drehge
räusche zu dämpfen und um Beschädigungen der Spiegeloberflä
che durch Staub oder Schmutz in der Luft zu vermeiden.
Eine Lichtweg-Durchtrittsöffnung 373e befindet sich an der
Seite der Polygonabdeckung 373, und ein Abdeckglas 375 ist in
die Lichtweg-Durchtrittsöffnung 373e eingepaßt. Der durch die
Zylinderlinse 170 hindurchtretende Hauptstrahl tritt in die
Polygonabdeckung 373 durch das Abdeckglas 375 ein, wird durch
den Polygonspiegel 180 abgelenkt und nach außen gerichtet,
wobei er wieder durch das Abdeckglas 375 hindurchtritt. Auf
der Oberseite des Polygonspiegels 180 ist weiterhin ein Kenn
zeichen M befestigt oder einmarkiert, und ein Sensorblock 376
an der Oberseite der Polygonabdeckung 373 enthält einen Sen
sor zum Erfassen des Kennzeichens M.
Ein Polygonspiegel kann Flächenfehler (Formfehler) auf den
reflektierenden Flächen haben, die während der Herstellung
entstanden sind. Diese Herstellungsfehler sind meist für die
verschiedenen reflektierenden Flächen unterschiedlich (d. h.
für die Seiten des Polygonspiegels). Um diese Flächenfehler
auszugleichen, kann der Fehlerbetrag jeder Fläche des Poly
gonspiegels 180 gemessen und in einem Speicher (nicht darge
stellt) während der Herstellung der Abtastvorrichtung gespei
chert werden. Durch Unterscheiden, welche Reflexionsfläche
des Polygonspiegels 180 gerade für die Abtastbewegung verwen
det wird, zum Beispiel mit dem Ausgangssignal des Sensors im
Sensorblock 376, kann zumindest die Strahlposition und die
Strahlintensität abhängig von dem Fehlerbetrag korrigiert
werden, welcher jeder reflektierenden Fläche des Polygonspie
gels 180 eigen ist.
Wie in Fig. 3 gezeigt, tritt der am den Polygonspiegel 180
reflektierte Hauptstrahl durch das fθ-Linsensystem 190 hin
durch (ein optisches System zur Bilderzeugung) und wird an
einem Faltungsspiegel 200 zur Fotoleitertrommel 210 reflek
tiert, wobei acht Strahlpunkte entstehen. Die Strahlpunkte
führen eine Abtastbewegung gemäß der Drehung des Polygonspie
gel 180 aus, wobei acht Abtastzeilen pro Abtastbewegung auf
der Fotoleitertrommel 210 entstehen. Die Fotoleitertrommel
210 wird angetrieben und rotiert in der Richtung eines Pfei
les R synchron mit der Abtastbewegung der Strahlpunkte, um
ein elektrostatisches latentes Bild auf der Fotoleitertrommel
210 zu erzeugen. Das latente Bild wird dann mit Hilfe eines
bekannten elektrofotographischen Verfahrens entwickelt und
auf ein Papierblatt (nicht dargestellt) übertragen.
Das fθ-Linsensystem 190 enthält eine erste, eine zweite, eine
dritte und eine vierte Linse 191, 193, 194, 197, die in die
ser Reihenfolge von der dem Polygonspiegel 180 zugewandten
Seite zu der dem Faltungsspiegel 200 zugewandten Seite nega
tive, positive, positive und negative Brechkraft sowohl in
der Hauptabtastrichtung als auch in der Nebenabtastrichtung
haben. Sie sind auf einem Linsenträger 380 angeordnet. Ihre
Kombination in dem fθ-Linsensystem 190 bewirkt, daß der
Lichtstrahl, der als Bild eine lineare Form in der Nebenabta
strichtung auf dem Polygonspiegel 180 hatte, auf der Fotolei
tertrommel 210 als Bild eine elliptische Form hat.
Die erste Linse 191 des fθ-Linsensystem 190 ist eine negative
Linse mit einer konkaven sphärischen Oberfläche auf der dem
Polygonspiegel 180 zugewandten Seite und einer zylindrischen
Oberfläche mit negativer Brechkraft nur in der Nebenabta
strichtung auf der dem Faltungsspiegel 200 zugewandten Seite.
Die Oberflächen der Linse sind so entworfen, daß die erste
Linse 191 eine vergleichsweise große negative (d. h. größere
negative) Brechkraft in der Nebenabtastrichtung und eine ver
gleichsweise geringe negative Brechkraft in der Hauptabta
strichtung hat.
Die zweite Linse 193 des fθ-Linsensystem 190 ist eine menis
kusförmige torische Linse mit einer konvexen sphärischen
Oberfläche auf der dem Polygonspiegel 180 zugewandten Seite
und einer konvexen torischen Oberfläche auf der dem
Faltungsspiegel 200 zugewandten Seite. Die Oberflächen der Linse sind
so gestaltet, daß die zweite Linse 193 eine vergleichsweise
große positive (d. h. größere positive) Brechkraft in der Ne
benabtastrichtung und eine vergleichsweise kleine positive
Brechkraft in der Hauptabtastrichtung hat.
Die dritte Linse 195 ist eine positive Meniskuslinse mit zwei
sphärischen Oberflächen.
Die vierte Linse 197 ist eine negative Meniskuslinse mit zwei
sphärischen Oberflächen.
Der durch das fθ-Linsensystem 190 übertragene Hauptlichtfluß
wird durch ein Synchronisations-Sensorsystem 220 bei jeder
Abtastbewegung erfaßt (d. h. für jede Fläche des Polygonspie
gels 180). Das Synchronisations-Sensorsystem 220 ist im opti
schen Weg zwischen der vierten Linse 197 des fθ-Linsensystems
190 und dem Faltungsspiegel 200 angeordnet. Das Synchronisa
tions-Sensorsystem 220 enthält einen ersten, einen zweiten
und einen dritten Spiegel 221, 223, 225 und einen Synchroni
sations-Lichtsensor 230, der die an den Spiegeln 221, 223,
225 reflektierte Strahlen empfängt. Der erste Spiegel 221 ist
im optischen Weg vom Polygonspiegel 180 zum Faltungsspiegel
200 an einem Rand des Hauptabtastbereichs angeordnet, jedoch
außerhalb des vorgegebenen Bilderzeugungsbereichs (nicht dar
gestellt). Der zweite und der dritte Spiegel 223 und 225 sind
außerhalb des optischen Weges auf der dem ersten Spiegel 221
abgewandten Seite angeordnet. Der Synchronisations-Lichtsen
sor 230 ist in einer Position angeordnet, die der Position
auf der Oberfläche der Fotoleitertrommel 210 optisch äquiva
lent ist, auf der die Abtastung erfolgt. Somit werden die
acht Lichtstrahlen bei jeder Hauptabtastbewegung nacheinander
am ersten, zweiten und dritten Spiegel 221, 223, 225 reflek
tiert und treffen auf den Synchronisations-Lichtsensor 230.
Ein Ausgangssignal oder Ausgangssignale des Synchronisations-
Lichtsensors 230 werden dann zur Synchronisation der Übertra
gung der Bilddaten für eine Abtastbewegung von einer Steuer
schaltung (nicht dargestellt) zum Ansteuern der Halbleiterla
ser 101 bis 108 mit den Bilddaten verwendet.
Eine Abbildungsöffnung 11 im Gehäuse 1 ermöglicht, den am
Faltungsspiegel 200 reflektierten Hauptstrahl (einschließlich
der acht einzelnen Lichtstrahlen) zur Fotoleitertrommel 210
zu übertragen. Ein Abdeckglas 201 ist an der Abbildungsöff
nung 11 befestigt.
Eine Inspektionsöffnung 12 ist hinter dem Faltungsspiegel 200
angeordnet. Diese wird beim Einstellen der optischen Elemente
verwendet, nachdem (ausschließlich des Faltungsspiegels 200)
sie montiert sind. Wie in Fig. 3 gezeigt ist die Inspektions
öffnung 12 durch eine Abdeckplatte 13 beim normalen Gebrauch
abgedeckt.
Wie Fig. 5 zeigt, sind die Lichtwellenleiter 121 bis 128 in
dem Ausrichtblock 130 so angeordnet, daß ihre Achsen auf ei
ner geraden Linie liegen. Der Ausrichtblock 130 ist an einem
(nicht dargestellten) Halter befestigt und so schräg ge
stellt, daß die gerade Linie, auf der die Achsen der Licht
wellenleiter 121 bis 128 liegen, einen vorbestimmten Winkel γ
1 gegenüber der Hauptabtastrichtung hat. Mit diesem Winkel γ1
bilden die Strahlpunkte auf der Fotoleitertrommel 210 eine
Anordnung, in der sie in Hauptabtastrichtung und in Nebenab
tastrichtung einen vorbestimmten Abstand zueinander haben.
Fig. 6 zeigt die Anordnung der Strahlpunkte auf der Fotolei
tertrommel 210. Wenn die Lichtwellenleiter 121 bis 128
(entsprechend Objektpunkten) wie in Fig. 5 gezeigt angeordnet
sind, liegen die Strahlpunkte mit ihren Mitten auf einer ge
raden Linie, die einen vorbestimmten Winkel γ2 gegenüber der
Hauptabtastrichtung hat. Auf diese Weise sind die Mitten der
Strahlpunkte mit einem vorbestimmten Abstand in Nebenabta
strichtung angeordnet, so daß die Abtastzeilen in Hauptabta
strichtung einander leicht überlappen können.
Der Strahlteiler 144 wird nun an Hand der Fig. 7 bis 13 be
schrieben.
Wie Fig. 7 zeigt, hat der Strahlteiler 144 einen reflektie
renden Bereich 144a, in dem die Strahlung aus dem optischen
System 100 (Laserquelle) reflektiert wird, und einen durch
lässigen Bereich 144b, durch den die Strahlung hindurchtritt.
Wie noch beschrieben wird, sollte die Reflexionsfähigkeit des
reflexionsfähigen Bereichs 144a und die Durchlässigkeit des
durchlässigen Bereichs 144b größer als etwa 90% sein. In
diesem Beispiel ist der reflektierende Bereich 144a als
rechteckiger Spiegel ausgebildet, und der durchlässige Be
reich 144b als Öffnung, durch die die Strahlung hindurch
tritt. Somit ist die Reflexionsfähigkeit des reflexionsfähi
gen Bereichs 144a fast 100% und die Durchlässigkeit des
durchlässigen Bereichs 144b gleich 100%. Der durchlässige
Bereich 144b hat in der Mitte des Strahlteilers 144 eine
kreisrunde Öffnung, die von dem reflexionsfähigen Bereich
144a umgeben ist.
In Fig. 7 ist die vertikale Richtung die Nebenabtastrichtung
(Z-Richtung), die horizontale Richtung die Hauptabtastrich
tung (Y′-Richtung unterschiedlich zur Y-Achse, da der Strahl
teiler 144 mit dieser einen Winkel einschließt).
Die von den acht Punktquellen (Fig. 5) an den Austrittsend
flächen 121b bis 128b der Lichtwellenleiter 121 bis 128 abge
gebene Strahlung erhält etwa Rechteckform, wenn sie durch die
Öffnung 142 (Fig. 4) hindurchtritt. Diese Strahlung überdeckt
im wesentlichen einen einzelnen Rechteckbereich auf dem
Strahlteiler 144. In Fig. 7 ist dieser Bereich mit L bezeich
net.
Der auf den reflektierenden Bereich 144a fallende Strahlungs
anteil wird zu dem Polygonspiegel 180 als Hauptstrahl reflek
tiert. Der andere, auf den durchlässigen Bereich 144b fallen
de Strahlungsanteil gelangt auf das Sensorsystem 150 der au
tomatischen Leistungssteuerung (ALS) als Steuerstrahl. Das
Sensorsystem 150 erfaßt die Strahlungsmenge und erzeugt Si
gnale zum Steuern der Halbleiterlaser 101 bis 108. In diesem
Ausführungsbeispiel ist die Fläche des durchlässigen Bereichs
144b so bestimmt, daß 5% der Intensität der insgesamt auf
treffenden Strahlung zu dem Sensorsystem 150 als Steuerstrahl
übertragen werden.
Wie Fig. 4 zeigt, wird die auf das Sensorsystem 150 fallende
Strahlung mit der Sammellinse 151 konvergiert und dann von
dem ALS-Sensor 155 aufgenommen.
Während des Betriebs gibt jeder Halbleiterlaser 101 bis 108
separat eine Strahlung am Beginn einer jeden Hauptabtastung
ab, bevor der jeweils erzeugte Strahlpunkt den Abbildungsbe
reich erreicht. Somit wird ein Teil der Strahlung sequentiell
dem ALS-Sensorsystem 150 zugeführt.
Das Ausgangssignal des ALS-Sensorsystems 150 wird einer
(nicht dargestellten) ALS-Signalerzeugungsschaltung zuge
führt. Diese erzeugt ein ALS-Signal, das einer jeden Laser
steuerschaltung (nicht dargestellt) der Halbleiterlaser 101
bis 108 zugeführt wird. Beispielsweise wird das ALS-Signal
bei Aufnahme der Strahlung des ersten Halbleiterlasers 101
mit dem ALS-Sensorsystem 150 einer ersten Steuerschaltung
(nicht dargestellt) zugeführt, die den ersten Halbleiterlaser
101 steuert. Das ALS-Signal wird in jeder Steuerschaltung zum
Einstellen der Verstärkung auf einen Standardwert des Aus
gangssignals des jeweiligen Halbleiterlasers benutzt.
Wenn die Strahlpunkte in den Abbildungsbereich gelangen,
steuert jede Steuerschaltung ihren Halbleiterlaser 101 bis
108 entsprechend einem Abbildungssignal mit einer Treiber
spannung, die durch das ALS-Signal eingestellt wird. Diese
Einrichtung erlaubt somit eine Leistungssteuerung der Halb
leiterlaser 101 bis 108 derart, daß ein Standard-Intensitäts
wert der Strahlpunkte auf der Oberfläche der Fotoleitertrom
mel 210 beibehalten wird.
Da der durchlässige Bereich 144b in dem reflektierenden Be
reich 144a des Strahlteilers 144 als eine Öffnung ausgebildet
ist, bleibt das Verteilungsverhältnis des Hauptstrahls und
des Steuerstrahls durch Polarisation unbeeinflußt. Das Aus
gangssignal des ALS-Sensors 155 kann daher genau der Ge
samtstrahlungsmenge entsprechen, und die Intensität des
Hauptstrahls kann durch das Ausgangssignal des ALS-Sensors
155 genau gesteuert werden.
Die Form des durchlässigen Bereichs 144b erzeugt eine Beugung
der an dem reflektierenden Bereich 144a reflektierten Strah
lung, wodurch die Intensitätsverteilung des den Strahlpunkt
auf der Abbildungsfläche erzeugenden Strahls geändert wird.
Fig. 8 zeigt die Verteilung in Hauptabtastrichtung (Y-Rich
tung) auf der Abbildungsfläche ohne den durchlässigen Bereich
144b (strichpunktierte Linie) und mit durchlässigem Bereich
144b (durchgezogene Linie). Die gestrichelte Linie E in Fig.
8 gibt die Intensitätsschwelle zur Erzeugung eines latenten
Bildes auf der Fotoleitertrommel 210 an. Wie Fig. 8 zeigt,
tritt bei vorhandenem durchlässigen Bereich 144b eine Beugung
mit einem Hauptabschnitt auf, der schmaler als bei Fehlen des
durchlässigen Bereichs 144b ist, ferner treten Nebenbereiche
auf, deren Intensität geringer als die Intensitätsschwelle E
ist. Somit ist die Größe W1 des Strahlpunktes bei vorhandenem
durchlässigen Bereich 144b kleiner als die Größe W0 bei Feh
len des durchlässigen Bereichs 144b.
Wird der Strahlteiler 144 in einer Abtastvorrichtung ohne Än
derung der f-Zahl des optischen Systems verwendet, so wird
die Strahlpunktgröße durch die Beugung verringert. Bei diesem
ersten Ausführungsbeispiel ist jedoch die f-Zahl des Systems
erhöht, um die Verkleinerung des Strahlpunktes durch Beugung
zu kompensieren.
Fig. 9 zeigt die Form des gemäß Fig. 8 erzeugten Strahlpunk
tes. Allgemein ist der auf der Bildfläche erzeugte Strahl
punkt elliptisch mit der größeren Abmessung in Nebenabta
strichtung, wie Fig. 9 zeigt. Eine solche Form ergibt sich
durch Einstellen einer kleineren f-Zahl in Hauptabtastrich
tung als in Nebenabtastrichtung. Nimmt die f-Zahl ab, so wird
der Strahlpunkt kleiner und die Schärfentiefe größer. Insbe
sondere ergibt sich die f-Zahl durch Teilen der Brennweite f
durch den Blendendurchmesser D (f-Zahl = f/D). Somit ist bei
diesem Ausführungsbeispiel die Größe der Öffnung 142 in
Hauptabtastrichtung größer als diejenige in Nebenabtastrich
tung, damit der vorstehend beschriebene elliptische Strahl
punkt erzeugt wird.
Um dieselbe Strahlpunktgröße W0 bei Verwenden des Strahltei
lers 144 (d. h. bei Beugung) zu erhalten, wird die f-Zahl des
optischen Systems größer als bei fehlendem Strahlteiler 144
bemessen (d. h. in einem System, in dem keine derartige Beu
gung erzeugt wird). Die Öffnung 142 wird also kleiner als bei
fehlendem Strahlteiler 144 bemessen (d. h. in einem System,
bei dem keine derartige Beugung auftritt).
Durch die vorstehend beschriebene Einstellung wird die Schär
fentiefe des Abtastsystems erhöht, während eine geeignete
Strahlpunktgröße beibehalten wird. Mit Zunahme der Schärfen
tiefe verringert sich die Änderung der Strahlpunktgröße ab
hängig von der Position der Bildfläche in Strahlungsrichtung.
Somit ändert sich die Strahlpunktgröße unwesentlich, wenn ei
ne gewisse Krümmung des Feldes des fθ-Linsensystems 190 in
Haupt- und in Nebenabtastrichtung auftritt oder wenn eine ge
wisse Verlagerung der Fotoleitertrommel 210 längs der opti
schen Achse auftritt.
Nachstehend wird an Hand der Fig. 10 und 11 ein weiteres Aus
führungsbeispiel einer Abtastvorrichtung beschrieben. Hierbei
ist der Strahlteiler 144 des ersten Ausführungsbeispiels
durch einen Strahlteiler 244 ersetzt, und alle übrigen Ele
mente entsprechen denen des ersten Ausführungsbeispiels auch
hinsichtlich ihrer Anordnung.
Wie Fig. 10 zeigt, besteht der Strahlteiler 244 aus einem re
flektierenden Bereich 244a, der z. B. ein rechteckiger Spiegel
ist, und einem durchlässigen Bereich, der in diesem Beispiel
ein Schlitz 244b in Hauptabtastrichtung (Y′-Richtung) in der
Mitte des Bereichs 244a ist. Wie bei dem ersten Ausführungs
beispiel ist der Schlitz 244b so bemessen, daß 1/20 der
Strahlungsmenge als Steuerstrahl durchgelassen wird.
Fig. 11 zeigt die Form eines Strahlpunktes auf der Bildflä
che, wenn der Strahlteiler 244 vorgesehen ist. Wie Fig. 11
zeigt, wird eine Beugung nur in Nebenabtastrichtung erzeugt.
Ist hier die f-Zahl dieselbe wie bei fehlender Beugung, so
ist der Strahlpunkt in Nebenabtastrichtung durch die Beugung
kleiner. Jedoch ist hier in Nebenabtastrichtung eine größere
f-Zahl vorgesehen, um die Verkleinerung des Strahlpunktes
durch Beugung auszugleichen. Wie zuvor ergibt sich auch hier
eine größere Schärfentiefe in Nebenabtastrichtung.
Bei einer Abtastvorrichtung mit einer Zylinderlinse zwischen
einer Lichtquelle und einem Polygonspiegel ist die Brechkraft
der fθ-Linsensystem in Nebenabtastrichtung größer als in
Hauptabtastrichtung, und somit kann die Feldkrümmung in Ne
benabtastrichtung größer als in Hauptabtastrichtung sein. Der
Vorteil größerer Schärfentiefe in Nebenabtastrichtung ist bei
diesem zweiten Ausführungsbeispiel also besonders ausgeprägt.
Außerdem kann der Strahlteiler 244 leichter als der Strahl
teiler 144 hergestellt werden. Beispielsweise kann der
Strahlteiler 244 durch Anordnung zweier Spiegel mit Abstand
zueinander hergestellt werden, so daß der Schlitz 244b nicht
unbedingt im reflexionsfähigen Bereich 244a besonders gefer
tigt werden muß.
Nachstehend wird an Hand der Fig. 12 und 13 eine weitere Ab
tastvorrichtung erläutert. Hierbei ist der Strahlteiler 144
des ersten Ausführungsbeispiels durch einen Strahlteiler 344
ersetzt, alle anderen Teile stimmen mit denjenigen des ersten
Ausführungsbeispiels auch hinsichtlich ihrer Anordnung über
ein.
Wie Fig. 12 zeigt, besteht der Strahlteiler 344 aus einem re
flektierenden Bereich 344a, der z. B. ein rechteckiger Spiegel
ist, und einem durchlässigen Bereich, der ein Schlitz 344b in
Nebenabtastrichtung (Z-Richtung) in der Mitte des reflektie
renden Bereichs 344a ist. Wie bei dem ersten Ausführungsbei
spiel ist der Schlitz 344b so bemessen, daß 1/20 der Strah
lungsmenge als Steuerstrahl durchgelassen wird.
Fig. 13 zeigt die Form eines mit dem Strahlteiler 344 auf ei
ner Bildfläche erzeugten Strahlpunktes. Wie Fig. 13 zeigt,
wird die Beugung nur in Hauptabtastrichtung erzeugt. Ist hier
die f-Zahl dieselbe wie bei fehlender Beugung, so würde der
Strahlpunkt in Hauptabtastrichtung durch Beugung verkleinert.
Bei diesem dritten Ausführungsbeispiel ist jedoch die f-Zahl
in Hauptabtastrichtung größer, um die Verkleinerung des
Strahlpunktes auszugleichen. Wie zuvor ergibt sich eine grö
ßere Schärfentiefe in Hauptabtastrichtung. Da die f-Zahl in
Hauptabtastrichtung kleiner gewählt wird, um einen kleinen
Strahlpunkt zu erreichen, ist die Schärfentiefe in Hauptabta
strichtung im allgemeinen größer als in Nebenabtastrichtung.
Wird die Fotoleitertrommel 210 längs der optischen Achse ver
lagert, so ändert sich die Strahlpunktgröße in Hauptabta
strichtung mehr als in Nebenabtastrichtung. Somit ist eine
Verlagerung der Fotoleitertrommel durch die Schärfentiefe in
Hauptabtastrichtung begrenzt. Bei dem dritten Ausführungsbei
spiel wird die Schärfentiefe in Hauptabtastrichtung größer,
so daß die zulässige Verlagerung der Fotoleitertrommel 210 in
Richtung der optischen Achse größer ist.
Der Strahlteiler 344 des dritten Ausführungsbeispiels kann
gleichfalls leichter als der Strahlteiler 144 des ersten Aus
führungsbeispiels hergestellt werden, da die Anordnung zweier
Spiegel mit Abstand zueinander den Schlitz 344b bildet, so
daß dieser nicht in dem reflektierenden Bereich 344a beson
ders gefertigt werden muß.
Wie oben beschrieben, ist die Abtastvorrichtung so aufgebaut,
daß die Strahlung mit einem Strahlteiler aufgeteilt werden
kann und ein nicht durch Polarisation beeinträchtigter Anteil
einem ALS-Sensorsystem zugeführt wird. Auf diese Weise kann
die Strahlungsmenge zur Leistungssteuerung genau erfaßt wer
den.
Der Strahlteiler hat eine Öffnung oder einen Schlitz, durch
den der Strahl für das ALS-Sensorsystem hindurchtritt. Ein
ähnlicher Effekt kann auch erzeugt werden, wenn die Durchläs
sigkeit des durchlässigen Bereichs und die Reflexionsfähig
keit des reflektierenden Bereichs größer als etwa 90% sind.
Somit kann als durchlässiger Bereich eine Glasplatte verwen
det werden.
Die Abtastvorrichtung ermöglicht eine größere Schärfentiefe
auf der Bildfläche durch ein Loch oder einen Schlitz in dem
Strahlteiler.
Claims (13)
1. Abtastvorrichtung mit einer Strahlenquelle, einem Abtast-
Ablenkelement zum abtastenden Ablenken der Strahlung und
zum Erzeugen eines Strahlpunktes auf einer Bildfläche,
gekennzeichnet durch einen Strahlteiler zwischen der
Lichtquelle und der Abtast-Ablenkvorrichtung mit einem
reflektierenden Bereich, in dem die Strahlung reflektiert
wird, und einem gegenüber dem reflektierenden Bereich ab
gegrenzten durchlässigen Bereich, durch den die Strahlung
hindurchtritt, wobei der reflektierte oder durchgelassene
Strahlungsanteil ein mit der Abtast-Ablenkvorrichtung ab
zulenkender Strahl und der andere Strahlungsanteil ein
Steuerstrahl ist, und durch einen Sensor zum Erfassen der
Intensität des Steuerstrahls.
2. Abtastvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß die Reflexionsfähigkeit des reflektierenden Be
reichs und die Durchlässigkeit des durchlässigen Bereichs
größer als 90% sind.
3. Abtastvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet
durch eine Steuerung zum Steuern der Leistung der Strah
lungsquelle abhängig von der Intensität des Steuer
strahls.
4. Abtastvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß der reflektierte Strah
lungsanteil der Hauptstrahl und der durchgelassene Strah
lungsanteil der Steuerstrahl ist.
5. Abtastvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß der durchlässige Bereich
eine Öffnung ist.
6. Abtastvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß der durchlässige Bereich
in der Mitte des Strahlteilers angeordnet und von dem re
flektierenden Bereich umgeben ist.
7. Abtastvorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeich
net, daß der durchlässige Bereich kreisrund ist.
8. Abtastvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, da
durch gekennzeichnet, daß der durchlässige Bereich recht
eckig mit der längeren Seite in Hauptabtastrichtung ist.
9. Abtastvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, da
durch gekennzeichnet, daß der durchlässige Bereich recht
eckig mit der längeren Seite in Nebenabtastrichtung ist.
10. Abtastvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprü
che, gekennzeichnet durch einen Wellenleiter zum Übertra
gen der Strahlung von der Strahlungsquelle zum Strahltei
ler.
11. Abtastvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlungsquelle aus
mehreren Lasern besteht, die mehrere Strahlpunkte erzeu
gen.
12. Abtastvorrichtung nach Anspruch 11, gekennzeichnet durch
mehrere Wellenleiter zum Übertragen der von den Lasern
erzeugten Strahlungen zu dem Strahlteiler.
13. Antriebsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprü
che, gekennzeichnet durch eine Abtastoptik zum Konvergie
ren der mit der Abtast-Ablenkvorrichtung abgelenkten
Strahlung.
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---|---|---|---|
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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US (1) | US5844707A (de) |
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IL (1) | IL120112A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19816040A1 (de) * | 1998-04-09 | 1999-10-14 | Heidelberger Druckmasch Ag | Verlaufsblende für Belichtungsgeräte |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IL118458A (en) * | 1995-05-30 | 2000-08-31 | Asahi Optical Co Ltd | Light intensity controlling device |
JP3441580B2 (ja) | 1995-12-14 | 2003-09-02 | 富士通株式会社 | 読取装置 |
US6252621B1 (en) * | 1998-08-03 | 2001-06-26 | Eastman Kodak Company | Printing lenticular images |
US6211488B1 (en) | 1998-12-01 | 2001-04-03 | Accudyne Display And Semiconductor Systems, Inc. | Method and apparatus for separating non-metallic substrates utilizing a laser initiated scribe |
US6252197B1 (en) | 1998-12-01 | 2001-06-26 | Accudyne Display And Semiconductor Systems, Inc. | Method and apparatus for separating non-metallic substrates utilizing a supplemental mechanical force applicator |
US6420678B1 (en) * | 1998-12-01 | 2002-07-16 | Brian L. Hoekstra | Method for separating non-metallic substrates |
US6259058B1 (en) | 1998-12-01 | 2001-07-10 | Accudyne Display And Semiconductor Systems, Inc. | Apparatus for separating non-metallic substrates |
US20020092340A1 (en) * | 2000-10-30 | 2002-07-18 | Veeco Instruments Inc. | Cantilever array sensor system |
JP2002228956A (ja) * | 2001-01-31 | 2002-08-14 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
KR100452852B1 (ko) * | 2002-01-09 | 2004-10-14 | 삼성전자주식회사 | 확대 광학계 및 그것을 갖는 화상형성 장치 |
JP2004069818A (ja) * | 2002-08-02 | 2004-03-04 | Canon Inc | レーザスキャナ装置および画像形成装置 |
JP4023426B2 (ja) * | 2003-09-30 | 2007-12-19 | ブラザー工業株式会社 | 網膜走査型ディスプレイ装置 |
JP2006065012A (ja) * | 2004-08-27 | 2006-03-09 | Pentax Corp | レーザ走査装置 |
DE102005054184B4 (de) * | 2005-11-14 | 2020-10-29 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Multispektrale Beleuchtungsvorrichtung und Messverfahren |
JP4847201B2 (ja) * | 2006-04-27 | 2011-12-28 | 株式会社リコー | 光源システム、光走査装置、画像形成装置、光量制御方法、光走査方法、及び画像形成方法 |
US9350454B2 (en) * | 2011-01-21 | 2016-05-24 | Finisar Corporation | Multi-laser transmitter optical subassembly |
US20120189323A1 (en) * | 2011-01-21 | 2012-07-26 | Finisar Corporation | Multi-laser transmitter optical subassembly |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4180822A (en) * | 1978-04-13 | 1979-12-25 | Rca Corporation | Optical scanner and recorder |
JPH02140510A (ja) * | 1988-11-21 | 1990-05-30 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 加熱調理器用窓材 |
JPH02198413A (ja) * | 1989-01-27 | 1990-08-06 | Ricoh Co Ltd | レーザープリンタ等の光書き込み装置 |
JPH02240617A (ja) * | 1989-03-15 | 1990-09-25 | Hitachi Ltd | 光ビーム走査装置 |
EP0418819B1 (de) * | 1989-09-19 | 2003-09-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Verfahren und Vorrichtung zur Modulation eines Halbleiterlasers oder dergleichen und System unter Verwendung derselben |
JPH0593878A (ja) * | 1991-10-01 | 1993-04-16 | Hitachi Koki Co Ltd | 多ビームによる光記録装置 |
IL120114A (en) * | 1996-01-31 | 1999-05-09 | Asahi Optical Co Ltd | Scanning optical device |
-
1997
- 1997-01-31 DE DE19703594A patent/DE19703594A1/de not_active Withdrawn
- 1997-01-31 US US08/791,978 patent/US5844707A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-01-31 IL IL12011297A patent/IL120112A/xx not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19816040A1 (de) * | 1998-04-09 | 1999-10-14 | Heidelberger Druckmasch Ag | Verlaufsblende für Belichtungsgeräte |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5844707A (en) | 1998-12-01 |
IL120112A (en) | 2000-06-01 |
IL120112A0 (en) | 1997-04-15 |
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