DE19702639C1 - Vorrichtung und Verfahren zum kontinuierlichen chemischen Entzundern von Metallband - Google Patents

Vorrichtung und Verfahren zum kontinuierlichen chemischen Entzundern von Metallband

Info

Publication number
DE19702639C1
DE19702639C1 DE19702639A DE19702639A DE19702639C1 DE 19702639 C1 DE19702639 C1 DE 19702639C1 DE 19702639 A DE19702639 A DE 19702639A DE 19702639 A DE19702639 A DE 19702639A DE 19702639 C1 DE19702639 C1 DE 19702639C1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
nozzles
liquid nozzles
strip
pickling
running direction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE19702639A
Other languages
English (en)
Inventor
Bernd Dr Berger
Joerg Witte
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sundwig GmbH
Original Assignee
SUNDWIGER EISEN MASCHINEN
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SUNDWIGER EISEN MASCHINEN filed Critical SUNDWIGER EISEN MASCHINEN
Priority to DE19702639A priority Critical patent/DE19702639C1/de
Priority to ES98904112T priority patent/ES2186125T3/es
Priority to EP98904112A priority patent/EP0961842B1/de
Priority to DE59806113T priority patent/DE59806113D1/de
Priority to PCT/EP1998/000323 priority patent/WO1998032899A1/de
Priority to AT98904112T priority patent/ATE226984T1/de
Priority to JP53157198A priority patent/JP2001508833A/ja
Application granted granted Critical
Publication of DE19702639C1 publication Critical patent/DE19702639C1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F1/00Electrolytic cleaning, degreasing, pickling or descaling
    • C25F1/02Pickling; Descaling
    • C25F1/04Pickling; Descaling in solution
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G3/00Apparatus for cleaning or pickling metallic material
    • C23G3/02Apparatus for cleaning or pickling metallic material for cleaning wires, strips, filaments continuously
    • C23G3/023Apparatus for cleaning or pickling metallic material for cleaning wires, strips, filaments continuously by spraying
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F7/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic removal of material from objects; Servicing or operating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Folding Of Thin Sheet-Like Materials, Special Discharging Devices, And Others (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung und ein Verfahren zum kontinuierlichen chemischen Entzundern von Metallband in einem Beizbecken, durch das das Metallband läuft.
Um die Beizgeschwindigkeit beim Beizen eines Metallbandes im Durchlauf durch eine Beize zu erhöhen, bestehen mehrere Möglichkeiten. So kann auf die Beizgeschwindigkeit sowohl über die Zusammensetzung des Beizmittels als auch über dessen Temperatur Einfluß genommen werden. Auch ist bekannt, die Oberflächenströmung der Beize am Band, die sich aus der Bewegung des Bandes ergibt, dadurch zu verstärken, daß an der Ein- und Auslaufseite des Beizbeckens Beizmittel ein- und in der Beckenmitte abgeleitet wird. Um dabei eine gleichmäßige Beizintensität über die gesamte Oberfläche zu erhalten, ist es erforderlich, dem gesamten Beizbad eine gleichmäßige Strömungsgeschwindigkeit zu geben, was nur bei entsprechend großer Pumpenleistung möglich ist.
Aus der DD 266 813 A5 ist eine Beizeinrichtung bekannt, bei der das Band einen horizontal angeordneten geschlossenen Behandlungskanal in Längsrichtung durchläuft, der innerhalb eines den Behandlungskanal umschließenden, durch einen Deckel abgeschlossenen Behälters angeordnet ist, in welchen das den Behandlungskanal ein- bzw. auslaufseitig zugeführte Behand­ lungsmedium ableitbar ist. Zur Verbesserung der Beizqualität und Minimierung der Beizzeiten ist innerhalb des geschlossenen Behälters ein separater Behandlungskanal angeordnet, dem über ein- bzw. auslaufseitig angeordnete Düsenbalken sowie zugeordnete Pumpen das Behandlungsmedium zugeführt wird. Allerdings ist auch hier die für die erzielbare Beizintensität erforderliche Pumpenleistung relativ hoch.
Aus der DE 40 31 234 A1 ist ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Beizen eines Metallbandes bekannt, wobei das Metallband durch einen mit einer Behandlungsflüssigkeit gefüllten Behandlungsbehälter geführt und die Behandlungs­ flüssigkeit über Rohrleitungen und zumindest einen Umpump­ behälter im Kreislauf gefördert wird. Zur Verkürzung der Beizzeiten sowie zur Verbesserung der Qualität des Metallbandes wird dabei die Behandlungsflüssigkeit unterhalb des Flüssig­ keitsspiegels im Behandlungsbehälter mittels Strahldüsen oberhalb und unterhalb des Metallbandes von beiden Längsseiten entgegengesetzt gerichtet unter einem spitzen Winkel gegen das Metallband gefördert. Auch hier erfordert die Erhöhung der Beizintensität eine relativ hohe Pumpenleistung.
Die DE 29 11 701 A1 offenbart ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Behandlung von Materialbahnen in einer Behandlungskammer. Dabei werden im Inneren der Behandlungs­ kammer auf die beiden Materialbahnflächen aufeinanderfolgende, turbulente Ströme eines gasförmigen oder flüssigen Behandlungs­ mediums unter Druck in einem spitzen Winkel und entgegengesetzt der Bahndurchlaufrichtung gelenkt, derart, daß die Bahn behandelt und zugleich durch das sich bildende Mediumbett in einer etwa horizontalen Wegbahn durch die Behandlungskammer geführt wird. Die bekannte Vorrichtung weist hierzu mindestens eine obere und eine untere Reihe von Behandlungsdüsen auf, die länglich in einer Richtung senkrecht zur Durchlaufrichtung der Materialbahn ausgebildet sind. Jede der Düsen weist dabei einen auf die durchlaufende Materialbahn weisenden Längsschlitz auf, dessen Länge mindestens gleich der Materialbahnbreite ist, wobei die Düsen darauf ausgerichtet sind, einen turbulenten Mediumstrom von den Schlitzen auf die Materialbahn in einem spitzen Winkel und in einer Richtung entgegen der Durchlaufrichtung der Materialbahn zu lenken.
Aus der AT 399 517 B ist schließlich ein Verfahren zum Beizen von Metallband bekannt, bei welchem das Metallband durch einen Behandlungsraum mit zumindest einem Einlaß und Auslaß für das durch den Behandlungsraum umgewälzte Behandlungsmedium geführt wird, wobei das Behandlungsmedium unter Druck in Form einer gerichteten und den Behandlungsraum ausfüllenden Strömung geführt und dabei der Druck und die Geschwindigkeit des Behandlungsmediums geändert werden. Um den Beizeffekt zu verbessern und die Beizzeit zu verkürzen, wird der Druck an der bzw. den Einlaßstellen zwischen 2 und 10 bar eingestellt und die Strömungsgeschwindigkeit an der Auslaßstelle zwischen 10 und 30 m/s gehalten. Ferner ist in der AT 399 517 B eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens beschrieben, die dadurch gekennzeichnet ist, daß deren Auslaßöffnung in Form eines in Höhe des Metallbandes in den Seitenwandungen des Behandlungsraumes vorgesehenen umlaufenden Spaltes vorgesehen ist, der gleichermaßen als Einbring- und Austragsöffnung für das Metallband dient.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung und ein Verfahren zu entwickeln, mit dem die Beizintensität bei vergleichsweise geringen Pumpenleistungen erhöht werden kann.
Die Aufgabe wird dadurch gelöst, daß das Decken eine untere und eine obere Gruppe von als Vollstrahldüsen ausgebildeten, senkrecht auf das Band gerichteten Flüssigkeitsdüsen für die Beize umfaßt, deren Druck und Düsendurchmesser jeweils derart auf deren Abstand von der Oberfläche des beaufschlagten Metallbandes abgestimmt sind, daß rings um den Auftreffpunkt des jeweiligen Prallstrahls der einzelnen Flüssigkeitsdüsen ein Bereich mit schießender Strömung entsteht.
Bei dieser Lösung erzeugen die Prallstrahlen an der zu beizenden Metallbandoberfläche eine ungewöhnlich hohe Strömungsgeschwindigkeit und einen damit erhöhten Stoffaustausch, der eine hohe Beizintensität zur Folge hat. Die dafür erforderliche Pumpenleistung ist vergleichsweise gering, da nur ein verhältnismäßig kleines Volumen an Beize für die schießende Strömung benötigt wird. Die Besonderheit der "schießenden Strömung" besteht darin, daß ihre Geschwindigkeit größer ist als die Schwallgeschwindkeit (Einführung in die technische Strömungslehre von Prof. Dipl.-Ing. Wolfgang Kalide, Carl Hanser Verlag München Wien, 6. Auflage 1984, Seite 97/98).
Bei der Erfindung kann das Beizbecken mit Beizflüssigkeit so gefüllt sein, daß das zu beizende Band durch die Beizflüssigkeit gezogen wird. In diesem Fall durchstoßen die Prallstrahlen die das Band umgebende Flüssigkeit. Die schießende Strömung bildet sich dann auf dem Band jeweils unter der sie bedeckenden Flüssigkeitsschicht der Beize aus.
Vorzugsweise sind die Flüssigkeitsdüsen im Boden und Deckel des Beizbeckens ausgebildet.
Bei einem Beizbecken mit quer zur Bandlaufrichtung verlaufenden, rohrförmigen Elektroden für eine elektrolytische Bandbehandlung können in den Elektroden die Flüssigkeitsdüsen ausgebildet sein, wobei die rohrförmigen Elektroden als Zuleitung für die Beize zu den Flüssigkeitsdüsen dienen. Alternativ können bei einem Beizbecken mit in Bandlaufrichtung mit Abstand voneinander angeordneten und quer zur Bandlaufrichtung verlaufenden Elektroden für eine elektrolytische Bandbehandlung die Flüssigkeitsdüsen in in den Zwischenräumen zwischen den Elektroden angeordneten rohrförmigen Leisten ausgebildet sein, über die die Beize den Flüssigkeitsdüsen zuführbar ist.
Vorzugsweise sind die Flüssigkeitsdüsen regelmäßig angeordnet, insbesondere in mehreren hintereinanderliegenden und quer von Reihe zu Reihe zur Bandlaufrichtung verlaufenden Reihen, wobei die Flüssigkeitsdüsen aufeinanderfolgender Reihen quer zur Bandlaufrichtung versetzt sind. Die Querversetzung der Flüssigkeitsdüsen in hintereinanderliegender Reihen beträgt insbesondere einen halben Teilungsabstand benachbarter Prallstrahlen. Auf diese Art und Weise läßt sich mit zur Ausbildung der schießenden Strömung der Prallstrahlen ausreichendem, gegenseitigem Abstand der Düsen das Band auf seiner gesamten Breite gleichmäßig mit Beize beaufschlagen.
Zur Abführung der über die Prallstrahlen zugeführten Beize sollten die in Bandlaufrichtung hintereinanderliegenden Reihen zwischen sich zu den Bandrändern führende Abströmkanäle bilden. Die Abströmung der Beize in diesen Kanälen kann nach einer weiteren Ausgestaltung dadurch begünstigt werden, daß eine unterstützende Strömung von den Bandrändern aus mittels den Abströmkanälen zugeordneten Düsen erzeugt wird.
Um unterschiedliche Beizintensitäten an der Ober- und Unterseite aber auch über die Breite erreichen zu können, können die Flüssigkeitsdüsen einzeln oder gruppenweise zu- und abgeschaltet werden.
Im folgenden wird die Erfindung anhand einer Ausführungsbeispiele darstellenden Zeichnung näher erläutert. Im einzelnen zeigen
Fig. 1 ein Beizbecken im Querschnitt senkrecht zur Bandlaufrichtung,
Fig. 2 eine Flüssigkeitsdüse mit Prallstrahl und schießender Strömung auf einem Band als Prinzipdarstellung,
Fig. 3 bis 6 verschiedene Düsenanordnungen,
Fig. 7 einen Teilabschnitt eines Beizbeckens in einer zu Fig. 1 anderen Ausführung im Vertikalschnitt in Bandlaufrichtung mit ober- und unterseitig angeordneten rohrförmigen Elektroden,
Fig. 8 ein Elektrodenpaar im Ausschnitt X der Fig. 7 im Querschnitt quer zur Bandlaufrichtung,
Fig. 9 eine Elektrode gemäß Fig. 7 und 8 in vergrößerter Darstellung, und
Fig. 10 einen Teilabschnitt eines Beizbeckens in einer zu Fig. 1 und 7 anderen Ausführung im Vertikalschnitt in Bandlaufrichtung mit plattenförmigen Elektroden.
Beim Ausführungsbeispiel der Fig. 1 verläuft ein Band 1 durch ein Beizbecken 2 mit einem Boden 2a und einem Deckel 2b. Sowohl im Boden 2a als auch im Deckel 2b sind Flüssigkeitsdüsen 3a, 3b mit gegen das Band 1 gerichteter Strahlrichtung ausgebildet. Die Düsen 3a, 3b werden über Zuleitungen 3c, 3d mit Beize gespeist. Nicht notwendigerweise aber vorzugsweise ist das Beizbecken 2 soweit mit Beizflüssigkeit gefüllt, daß das Band 1 darin eingetaucht ist. Durch das Eintauchen des Bandes 1 in die Beizflüssigkeit wird der Beizeffekt auf der Ober- und Unterseite des Bandes 1 vergleichmäßigt.
Jede der Düsen 3a, 3b ist als Vollstrahldüse entsprechend Fig. 2 ausgebildet. Ein aus der Düse 3a, 3b unter hohem Druck, z. B. von 2 bis 10 bar austretender Vollstrahl 4 trifft als Prallstrahl senkrecht auf dem Band 1 auf. Am Auftreffpunkt bildet sich eine Stauzone SZ, von der radial eine schießende Strömung SS ausgeht, für die charakteristisch ist, daß sich an deren Ende eine Welle W bildet. Wesentlich für die Ausbildung der schießenden Strömung SS ist der Druck, mit dem die Düse 3a, 3b beaufschlagt wird, deren Austrittsdurchmesser, deren Abstand von der Oberfläche des Bandes 1 und die Dicke der sich auf der Oberfläche einstellenden Flüssigkeitsschicht. Je dicker die Flüssigkeitsschicht ist, desto größer muß der Druck und/oder der Düsenquerschnitt und/oder desto kleiner der Abstand sein.
Die Ausführungsbeispiele der Fig. 3 bis 5 zeigen verschiedene geometrische Anordnungen der einzelnen Flüssigkeitsdüsen. Allen Ausführungen ist gemeinsam, daß die Düsen in hintereinanderliegenden Reihen angeordnet sind, wobei die Bereiche schießender Strömung SS der Düsen einer jeden Reihe einander überlappen.
Während beim Ausführungsbeispiel der Fig. 3 die Mittelpunkte der Düsen einer jeden Reihe auf einer Linie senkrecht zur Bandlaufrichtung R liegen und von Reihe zu Reihe um einen halben Teilungsabstand benachbarter Düsen versetzt sind, liegen beim Ausführungsbeispiel der Fig. 4 die Mittelpunkte hintereinanderliegender Düsen auf einer zur Bandlaufrichtung R leicht geneigten Linie. Außerdem liegen die Mittelpunkte der nebeneinanderliegenden Düsen ebenfalls auf einer gemeinsam geneigt zur Bandlaufrichtung verlaufenden Linie. Insbesondere durch die Neigung der Mittelpunktslinie hintereinanderliegender Düsen zur Bandlaufrichtung ergibt sich eine geometrische Versetzung der Düsen von Reihe zu Reihe in Bandlaufrichtung und damit eine gleichmäßigere Verteilung der Prallstrahlen der Bandoberfläche. Beim Ausführungsbeispiel der Fig. 5 ist darüberhinaus vorgesehen, daß die Mittelpunkte der Düsen hintereinanderliegender Reihen um einen halben Teilungsabstand benachbarter Reihen gegeneinander versetzt sind. Auch in diesem Fall können die Linien, auf denen die Mittelpunkte der Düsen jeder zweiten der hintereinanderliegenden Reihen liegen, leicht geneigt zur Bandlaufrichtung R sein.
Bei allen Ausführungsbeispielen ist zwischen den einzelnen Düsenreihen ein Abströmkanal A für den Beizmittelabfluß zu den Bandrändern hin freigelassen, wie durch die Pfeile zwischen den Düsenreihen angedeutet wird.
Beim Ausführungsbeispiel der Fig. 6 sind den Abströmkanälen A seitlich neben dem Band 1 den Beizmittelabfluß fördernde, in die Abströmkanäle A hinein Beizmittel treibende Düsen vorgesehen.
Beim Ausführungsbeispiel der Fig. 7 bis 9 sind oberhalb und unterhalb des Bandes 1 quer zur Bandlaufrichtung und mit Abstand von einem der in Bandlaufrichtung rohrförmige Elektroden EL angeordnet, in denen durch Pfeile (Fig. 8) bzw. konkret (Fig. 9) angedeutete Düsenöffnungen 3a, 3b ausgebildet sind. Die Beize wird über die rohrförmigen Elektroden EL den Düsenöffnungen 3a, 3b zugeführt.
Beim Ausführungsbeispiel der Fig. 10 sind im Beizbecken 2 oberhalb und unterhalb des Bandes 1 mit Abstand voneinander in Bandlaufrichtung Elektroden E angeordnet. In den Zwischenräumen zwischen Elektroden E sind rohrförmige Leisten L angeordnet, in denen durch Pfeile angedeutete Düsenöffnungen 3a, 3b ausgebildet sind, denen über die rohrförmigen Leisten L die Beize zugeführt wird.
Bei beiden Ausführungsbeispielen der Fig. 7 bis 10 lassen sich also die Düsenöffnungen 3a, 3b, über die die Prallstrahlen das Band 1 beaufschlagen, platzsparend unterbringen.

Claims (10)

1. Vorrichtung zum kontinuierlichen chemischen Entzundern von Metallband (1) in einem Beizbecken (2), durch das das Metallband (1) läuft, dadurch kennzeichnet, daß das Becken (2) eine untere und eine obere Gruppe von als Vollstrahldüsen ausgebildeten, senkrecht auf das Band (1) gerichteten Flüssigkeitsdüsen (3a, 3b) für die Beize umfaßt, deren Druck und Düsendurchmesser jeweils derart auf deren Abstand von der Oberfläche des beaufschlagten Bandes (1) abgestimmt sind, daß rings um den Auftreffpunkt des Prallstrahls der einzelnen Flüssigkeitsdüsen (3a, 3b) ein Bereich mit schießender Strömung (SS) entsteht.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Flüssigkeitsdüsen (3a, 3b) im Boden (2a) und im Deckel (2b) des Beizbeckens (2) ausgebildet sind.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Flüssigkeitsdüsen (3a, 3b) in mehreren hintereinander angeordneten, quer zur Bandlaufrichtung (R) verlaufenden Reihen angeordnet sind, wobei die Flüssigkeitsdüsen (3a, 3b) aufeinanderfolgender Reihen von Reihe zu Reihe quer zur Bandlaufrichtung (R) gegeneinander versetzt sind.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Querversetzung der Flüssigkeitsdüsen (3a, 3b) hintereinanderliegender Reihen bis zu einem halben Teilungsabstand benachbarter Flüssigkeitsdüsen (3a, 3b) beträgt.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß bei einem Beizbecken (2) mit quer zur Bandlaufrichtung (R) verlaufenden, rohrförmigen Elektroden (EL) für eine elektrolytische Bandbehandlung in den Elektroden (EL) die Flüssigkeitsdüsen (3a, 3b) ausgebildet sind und die rohrförmigen Elektroden (EL) als Zuleitung für die Beize zu den Flüssigkeitsdüsen dienen.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß bei einem Beizbecken (2) mit in Bandlaufrichtung (R) mit Abstand voneinander angeordneten und quer zur Bandlaufrichtung (R) verlaufenden Elektroden (E) für eine elektrolytische Bandbehandlung die Flüssigkeitsdüsen in in den Zwischenräumen zwischen den Elektroden (E) angeordneten rohrförmigen Leisten (L) ausgebildet sind, über die die Beize zugeführt wird.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, durch gekennzeichnet, daß die in Bandlaufrichtung (R) hintereinanderliegenden Reihen von Flüssigkeitsdüsen (3a, 3b) zwischen sich zu den Bandrändern hin führende Abströmkanäle (A) für die Beize bilden.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch ge­ kennzeichnet, daß den Abströmkanälen (A) die Abströmung der Beize unterstützende Düsen (D) zugeordnet sind.
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, da­ durch gekennzeichnet, daß die Flüssigkeitsdüsen (3a, 3b) einzeln oder gruppenweise zu- und abschaltbar sind.
10. Verfahren zum kontinuierlichen chemischen Entzundern von Metallband in einer Beize, die das Metallband durchläuft, dadurch gekennzeich­ net, daß die Bandoberfläche mit einer Vielzahl von solchen senkrecht gegen die Bandoberfläche gerichteten und über sie verteilten Prallstrahlen beaufschlagt wird, daß sich rings um den Auftreffpunkt des jeweiligen Prallstrahls ein Bereich mit schießender Strömung bildet.
DE19702639A 1997-01-25 1997-01-25 Vorrichtung und Verfahren zum kontinuierlichen chemischen Entzundern von Metallband Expired - Fee Related DE19702639C1 (de)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19702639A DE19702639C1 (de) 1997-01-25 1997-01-25 Vorrichtung und Verfahren zum kontinuierlichen chemischen Entzundern von Metallband
ES98904112T ES2186125T3 (es) 1997-01-25 1998-01-22 Dispositivo y procedimiento para el descascarillado quimico continuo de cinta metalica.
EP98904112A EP0961842B1 (de) 1997-01-25 1998-01-22 Vorrichtung und verfahren zum kontinuierlichen chemischen entzundern von metallband
DE59806113T DE59806113D1 (de) 1997-01-25 1998-01-22 Vorrichtung und verfahren zum kontinuierlichen chemischen entzundern von metallband
PCT/EP1998/000323 WO1998032899A1 (de) 1997-01-25 1998-01-22 Vorrichtung und verfahren zum kontinuierlichen chemischen entzundern von metallband
AT98904112T ATE226984T1 (de) 1997-01-25 1998-01-22 Vorrichtung und verfahren zum kontinuierlichen chemischen entzundern von metallband
JP53157198A JP2001508833A (ja) 1997-01-25 1998-01-22 金属製ストリップの連続的化学的スケール除法装置および方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19702639A DE19702639C1 (de) 1997-01-25 1997-01-25 Vorrichtung und Verfahren zum kontinuierlichen chemischen Entzundern von Metallband

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE19702639C1 true DE19702639C1 (de) 1998-06-18

Family

ID=7818327

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19702639A Expired - Fee Related DE19702639C1 (de) 1997-01-25 1997-01-25 Vorrichtung und Verfahren zum kontinuierlichen chemischen Entzundern von Metallband
DE59806113T Expired - Fee Related DE59806113D1 (de) 1997-01-25 1998-01-22 Vorrichtung und verfahren zum kontinuierlichen chemischen entzundern von metallband

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE59806113T Expired - Fee Related DE59806113D1 (de) 1997-01-25 1998-01-22 Vorrichtung und verfahren zum kontinuierlichen chemischen entzundern von metallband

Country Status (6)

Country Link
EP (1) EP0961842B1 (de)
JP (1) JP2001508833A (de)
AT (1) ATE226984T1 (de)
DE (2) DE19702639C1 (de)
ES (1) ES2186125T3 (de)
WO (1) WO1998032899A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19947857A1 (de) * 1999-10-05 2001-05-03 Thyssenkrupp Stahl Ag Beizanlage für Metallbänder

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2911701A1 (de) * 1978-10-10 1980-04-24 Midland Ross Corp Verfahren und vorrichtung zur behandlung von materialbahnen in einer behandlungskammer
DD266813A5 (de) * 1986-08-29 1989-04-12 Mannesmann Ag,De Einrichtung zur oberflaechenbehandlung kontinuierlich durchlaufender baender, insbesondere beizeinrichtung
DE4031234A1 (de) * 1990-10-04 1992-04-09 Gewerk Keramchemie Verfahren und vorrichtung zur oberflaechenbehandlung von bandfoermigem behandlungsgut
AT399517B (de) * 1991-08-20 1995-05-26 Andritz Patentverwaltung Verfahren zur oberflächenbehandlung von im wesentlichen ebenem flächigem gut, insbes. zum beizen von metallband

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56127799A (en) * 1980-03-07 1981-10-06 Nippon Steel Corp Insoluble electrode pad
JPS6230892A (ja) * 1985-07-31 1987-02-09 Sumitomo Special Metals Co Ltd 長尺金属板の連続洗浄方法
DE4116019C2 (de) * 1991-05-16 1997-01-23 Sundwiger Eisen Maschinen Verfahren und Vorrichtung zum Kühlen eines flächenhaften Gutes, insbesondere eines Metallbandes
DE4421082A1 (de) * 1994-06-16 1995-12-21 Schloemann Siemag Ag Verfahren und Vorrichtung zur Intensivierung des Kontaktes zwischen einem Walzband mit einer Flüssigkeit
DE4425854C1 (de) * 1994-07-07 1995-11-09 Mannesmann Ag Elektrolytisches Oberflächenbehandlungsverfahren und Anlage zur Durchführung des Verfahrens

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2911701A1 (de) * 1978-10-10 1980-04-24 Midland Ross Corp Verfahren und vorrichtung zur behandlung von materialbahnen in einer behandlungskammer
DD266813A5 (de) * 1986-08-29 1989-04-12 Mannesmann Ag,De Einrichtung zur oberflaechenbehandlung kontinuierlich durchlaufender baender, insbesondere beizeinrichtung
DE4031234A1 (de) * 1990-10-04 1992-04-09 Gewerk Keramchemie Verfahren und vorrichtung zur oberflaechenbehandlung von bandfoermigem behandlungsgut
AT399517B (de) * 1991-08-20 1995-05-26 Andritz Patentverwaltung Verfahren zur oberflächenbehandlung von im wesentlichen ebenem flächigem gut, insbes. zum beizen von metallband

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19947857A1 (de) * 1999-10-05 2001-05-03 Thyssenkrupp Stahl Ag Beizanlage für Metallbänder

Also Published As

Publication number Publication date
WO1998032899A1 (de) 1998-07-30
ATE226984T1 (de) 2002-11-15
JP2001508833A (ja) 2001-07-03
ES2186125T3 (es) 2003-05-01
EP0961842B1 (de) 2002-10-30
EP0961842A1 (de) 1999-12-08
DE59806113D1 (de) 2002-12-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0895655B1 (de) Vorrichtung zum behandeln von substraten in einem fluid-behälter
DE3629894A1 (de) Anlage zur oberflaechenbehandlung von kontinuierlich durchlaufenden baendern, insbesondere beizanlage
EP1210179B1 (de) Düsenkörper zur erzeugung von feinsten flüssigkeitsstrahlen an wasservernadelungseinrichtungen und verfahren zur strahlverflechtung
DE4031234C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Oberflächenbehandlung von bandförmigem Behandlungsgut
EP0953205B1 (de) Vorrichtung zum behandeln von substraten
EP0399325B1 (de) Anordnung zur Behandlung und/oder Reinigung von Gut, insbesondere von mit Bohrungen versehenen Leiterplatten (Fall A)
EP1565268B1 (de) Düsenanordnung
DE19519211B4 (de) Verfahren zur Behandlung von Gegenständen, insbesondere von Leiterplatten, sowie Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens
EP2063206B1 (de) Vorrichtung zum Behandeln einer Substratbahn
DE3435501A1 (de) Vorrichtung zum kontinuierlichen kuehlen einer erwaermten, waagerecht liegenden metallplatte
DE19702639C1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum kontinuierlichen chemischen Entzundern von Metallband
DE19616402A1 (de) Vorrichtung zum Behandeln von Substraten in einem Fluid-Behälter
WO1997002724A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum chemischen und elektrolytischen behandeln von leiterplatten und leiterfolien
EP0534269A2 (de) Galvanisiereinrichtung für im horizontalen Durchlauf zu behandelnde gelochte Leiterplatten
DE102004002421A1 (de) Düsenanordnung
CH646075A5 (de) Apparat zum auftragen von farbe auf eine mehrzahl von draehten.
DE3329930A1 (de) Waermebehandlungsvorrichtung, insbes. fuer textilbahnen oder dergl.
DE10020633A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln der Oberfläche von metallischem Bandgut, insbesondere zum Beizen von Walzgut
DE2623671A1 (de) Vorrichtung zum daempfen eines vlieses
EP1091022A2 (de) Beizanlage für Metallbänder
AT286092B (de) Vorrichtung zur Flüssigkeitsbehandlung von bahnförmigem Material
DE3429637C2 (de) Beizanlage
DD222359A1 (de) Zirkulierendes spuelsystem zur kontinuierlichen oberflaechenbehandlung galvanotechnischer erzeugnisse
DE1508406C (de) Vorrichtung zum Abschrecken eines Stahlbandes
DE2133411C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum kontinuierlichen Abschrecken eines Metallbandes

Legal Events

Date Code Title Description
8100 Publication of patent without earlier publication of application
D1 Grant (no unexamined application published) patent law 81
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: SUNDWIG GMBH, 58675 HEMER, DE

R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee