DE19702639C1 - Vorrichtung und Verfahren zum kontinuierlichen chemischen Entzundern von Metallband - Google Patents
Vorrichtung und Verfahren zum kontinuierlichen chemischen Entzundern von MetallbandInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung und ein
Verfahren zum kontinuierlichen chemischen Entzundern von
Metallband in einem Beizbecken, durch das das Metallband
läuft.
Um die Beizgeschwindigkeit beim Beizen eines Metallbandes
im Durchlauf durch eine Beize zu erhöhen, bestehen
mehrere Möglichkeiten. So kann auf die
Beizgeschwindigkeit sowohl über die Zusammensetzung des
Beizmittels als auch über dessen Temperatur Einfluß
genommen werden. Auch ist bekannt, die
Oberflächenströmung der Beize am Band, die sich aus der
Bewegung des Bandes ergibt, dadurch zu verstärken, daß an
der Ein- und Auslaufseite des Beizbeckens Beizmittel ein-
und in der Beckenmitte abgeleitet wird. Um dabei eine
gleichmäßige Beizintensität über die gesamte Oberfläche
zu erhalten, ist es erforderlich, dem gesamten Beizbad
eine gleichmäßige Strömungsgeschwindigkeit zu geben, was
nur bei entsprechend großer Pumpenleistung möglich ist.
Aus der DD 266 813 A5 ist eine Beizeinrichtung bekannt,
bei der das Band einen horizontal angeordneten geschlossenen
Behandlungskanal in Längsrichtung durchläuft, der innerhalb
eines den Behandlungskanal umschließenden, durch einen Deckel
abgeschlossenen Behälters angeordnet ist, in welchen das den
Behandlungskanal ein- bzw. auslaufseitig zugeführte Behand
lungsmedium ableitbar ist. Zur Verbesserung der Beizqualität
und Minimierung der Beizzeiten ist innerhalb des geschlossenen
Behälters ein separater Behandlungskanal angeordnet, dem über
ein- bzw. auslaufseitig angeordnete Düsenbalken sowie
zugeordnete Pumpen das Behandlungsmedium zugeführt wird.
Allerdings ist auch hier die für die erzielbare Beizintensität
erforderliche Pumpenleistung relativ hoch.
Aus der DE 40 31 234 A1 ist ein Verfahren und eine
Vorrichtung zum Beizen eines Metallbandes bekannt, wobei das
Metallband durch einen mit einer Behandlungsflüssigkeit
gefüllten Behandlungsbehälter geführt und die Behandlungs
flüssigkeit über Rohrleitungen und zumindest einen Umpump
behälter im Kreislauf gefördert wird. Zur Verkürzung der
Beizzeiten sowie zur Verbesserung der Qualität des Metallbandes
wird dabei die Behandlungsflüssigkeit unterhalb des Flüssig
keitsspiegels im Behandlungsbehälter mittels Strahldüsen
oberhalb und unterhalb des Metallbandes von beiden Längsseiten
entgegengesetzt gerichtet unter einem spitzen Winkel gegen das
Metallband gefördert. Auch hier erfordert die Erhöhung der
Beizintensität eine relativ hohe Pumpenleistung.
Die DE 29 11 701 A1 offenbart ein Verfahren und eine
Vorrichtung zur Behandlung von Materialbahnen in einer
Behandlungskammer. Dabei werden im Inneren der Behandlungs
kammer auf die beiden Materialbahnflächen aufeinanderfolgende,
turbulente Ströme eines gasförmigen oder flüssigen Behandlungs
mediums unter Druck in einem spitzen Winkel und entgegengesetzt
der Bahndurchlaufrichtung gelenkt, derart, daß die Bahn
behandelt und zugleich durch das sich bildende Mediumbett in
einer etwa horizontalen Wegbahn durch die Behandlungskammer
geführt wird. Die bekannte Vorrichtung weist hierzu mindestens
eine obere und eine untere Reihe von Behandlungsdüsen auf, die
länglich in einer Richtung senkrecht zur Durchlaufrichtung der
Materialbahn ausgebildet sind. Jede der Düsen weist dabei einen
auf die durchlaufende Materialbahn weisenden Längsschlitz auf,
dessen Länge mindestens gleich der Materialbahnbreite ist,
wobei die Düsen darauf ausgerichtet sind, einen turbulenten
Mediumstrom von den Schlitzen auf die Materialbahn in einem
spitzen Winkel und in einer Richtung entgegen der
Durchlaufrichtung der Materialbahn zu lenken.
Aus der AT 399 517 B ist schließlich ein Verfahren zum
Beizen von Metallband bekannt, bei welchem das Metallband durch
einen Behandlungsraum mit zumindest einem Einlaß und Auslaß für
das durch den Behandlungsraum umgewälzte Behandlungsmedium
geführt wird, wobei das Behandlungsmedium unter Druck in Form
einer gerichteten und den Behandlungsraum ausfüllenden Strömung
geführt und dabei der Druck und die Geschwindigkeit des
Behandlungsmediums geändert werden. Um den Beizeffekt zu
verbessern und die Beizzeit zu verkürzen, wird der Druck an der
bzw. den Einlaßstellen zwischen 2 und 10 bar eingestellt und
die Strömungsgeschwindigkeit an der Auslaßstelle zwischen 10
und 30 m/s gehalten. Ferner ist in der AT 399 517 B eine
Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens beschrieben, die
dadurch gekennzeichnet ist, daß deren Auslaßöffnung in Form
eines in Höhe des Metallbandes in den Seitenwandungen des
Behandlungsraumes vorgesehenen umlaufenden Spaltes vorgesehen
ist, der gleichermaßen als Einbring- und Austragsöffnung für
das Metallband dient.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine
Vorrichtung und ein Verfahren zu entwickeln, mit dem die
Beizintensität bei vergleichsweise geringen
Pumpenleistungen erhöht werden kann.
Die Aufgabe wird dadurch gelöst, daß das Decken eine
untere und eine obere Gruppe von als Vollstrahldüsen
ausgebildeten, senkrecht auf das Band gerichteten
Flüssigkeitsdüsen für die Beize umfaßt, deren Druck und
Düsendurchmesser jeweils derart auf deren Abstand von der
Oberfläche des beaufschlagten Metallbandes abgestimmt
sind, daß rings um den Auftreffpunkt des jeweiligen
Prallstrahls der einzelnen Flüssigkeitsdüsen ein Bereich
mit schießender Strömung entsteht.
Bei dieser Lösung erzeugen die Prallstrahlen an der zu
beizenden Metallbandoberfläche eine ungewöhnlich hohe
Strömungsgeschwindigkeit und einen damit erhöhten
Stoffaustausch, der eine hohe Beizintensität zur Folge
hat. Die dafür erforderliche Pumpenleistung ist
vergleichsweise gering, da nur ein verhältnismäßig
kleines Volumen an Beize für die schießende Strömung
benötigt wird. Die Besonderheit der "schießenden
Strömung" besteht darin, daß ihre Geschwindigkeit größer
ist als die Schwallgeschwindkeit (Einführung in die
technische Strömungslehre von Prof. Dipl.-Ing. Wolfgang
Kalide, Carl Hanser Verlag München Wien, 6. Auflage 1984,
Seite 97/98).
Bei der Erfindung kann das Beizbecken mit Beizflüssigkeit
so gefüllt sein, daß das zu beizende Band durch die
Beizflüssigkeit gezogen wird. In diesem Fall durchstoßen
die Prallstrahlen die das Band umgebende Flüssigkeit. Die
schießende Strömung bildet sich dann auf dem Band jeweils
unter der sie bedeckenden Flüssigkeitsschicht der Beize
aus.
Vorzugsweise sind die Flüssigkeitsdüsen im Boden und
Deckel des Beizbeckens ausgebildet.
Bei einem Beizbecken mit quer zur Bandlaufrichtung
verlaufenden, rohrförmigen Elektroden für eine
elektrolytische Bandbehandlung können in den Elektroden
die Flüssigkeitsdüsen ausgebildet sein, wobei die
rohrförmigen Elektroden als Zuleitung für die Beize zu
den Flüssigkeitsdüsen dienen. Alternativ können bei einem
Beizbecken mit in Bandlaufrichtung mit Abstand
voneinander angeordneten und quer zur Bandlaufrichtung
verlaufenden Elektroden für eine elektrolytische
Bandbehandlung die Flüssigkeitsdüsen in in den
Zwischenräumen zwischen den Elektroden angeordneten
rohrförmigen Leisten ausgebildet sein, über die die Beize
den Flüssigkeitsdüsen zuführbar ist.
Vorzugsweise sind die Flüssigkeitsdüsen regelmäßig
angeordnet, insbesondere in mehreren
hintereinanderliegenden und quer von Reihe zu Reihe zur
Bandlaufrichtung verlaufenden Reihen, wobei die
Flüssigkeitsdüsen aufeinanderfolgender Reihen quer zur
Bandlaufrichtung versetzt sind. Die Querversetzung der
Flüssigkeitsdüsen in hintereinanderliegender Reihen
beträgt insbesondere einen halben Teilungsabstand
benachbarter Prallstrahlen. Auf diese Art und Weise läßt
sich mit zur Ausbildung der schießenden Strömung der
Prallstrahlen ausreichendem, gegenseitigem Abstand der
Düsen das Band auf seiner gesamten Breite gleichmäßig mit
Beize beaufschlagen.
Zur Abführung der über die Prallstrahlen zugeführten
Beize sollten die in Bandlaufrichtung
hintereinanderliegenden Reihen zwischen sich zu den
Bandrändern führende Abströmkanäle bilden. Die Abströmung
der Beize in diesen Kanälen kann nach einer weiteren
Ausgestaltung dadurch begünstigt werden, daß eine
unterstützende Strömung von den Bandrändern aus mittels
den Abströmkanälen zugeordneten Düsen erzeugt wird.
Um unterschiedliche Beizintensitäten an der Ober- und
Unterseite aber auch über die Breite erreichen zu können,
können die Flüssigkeitsdüsen einzeln oder gruppenweise zu-
und abgeschaltet werden.
Im folgenden wird die Erfindung anhand einer
Ausführungsbeispiele darstellenden Zeichnung näher
erläutert. Im einzelnen zeigen
Fig. 1 ein Beizbecken im Querschnitt senkrecht zur
Bandlaufrichtung,
Fig. 2 eine Flüssigkeitsdüse mit Prallstrahl und
schießender Strömung auf einem Band als
Prinzipdarstellung,
Fig. 3 bis 6 verschiedene Düsenanordnungen,
Fig. 7 einen Teilabschnitt eines Beizbeckens in
einer zu Fig. 1 anderen Ausführung
im Vertikalschnitt in Bandlaufrichtung mit
ober- und unterseitig angeordneten
rohrförmigen Elektroden,
Fig. 8 ein Elektrodenpaar im Ausschnitt X der Fig.
7 im Querschnitt quer zur Bandlaufrichtung,
Fig. 9 eine Elektrode gemäß Fig. 7 und 8 in
vergrößerter Darstellung, und
Fig. 10 einen Teilabschnitt eines Beizbeckens in
einer zu Fig. 1 und 7 anderen Ausführung im
Vertikalschnitt in Bandlaufrichtung mit
plattenförmigen Elektroden.
Beim Ausführungsbeispiel der Fig. 1 verläuft ein Band 1
durch ein Beizbecken 2 mit einem Boden 2a und einem
Deckel 2b. Sowohl im Boden 2a als auch im Deckel 2b sind
Flüssigkeitsdüsen 3a, 3b mit gegen das Band 1 gerichteter
Strahlrichtung ausgebildet. Die Düsen 3a, 3b werden über
Zuleitungen 3c, 3d mit Beize gespeist. Nicht
notwendigerweise aber vorzugsweise ist das Beizbecken 2
soweit mit Beizflüssigkeit gefüllt, daß das Band 1 darin
eingetaucht ist. Durch das Eintauchen des Bandes 1 in die
Beizflüssigkeit wird der Beizeffekt auf der Ober- und
Unterseite des Bandes 1 vergleichmäßigt.
Jede der Düsen 3a, 3b ist als Vollstrahldüse entsprechend
Fig. 2 ausgebildet. Ein aus der Düse 3a, 3b unter hohem
Druck, z. B. von 2 bis 10 bar austretender Vollstrahl 4
trifft als Prallstrahl senkrecht auf dem Band 1 auf. Am
Auftreffpunkt bildet sich eine Stauzone SZ, von der
radial eine schießende Strömung SS ausgeht, für die
charakteristisch ist, daß sich an deren Ende eine Welle W
bildet. Wesentlich für die Ausbildung der schießenden
Strömung SS ist der Druck, mit dem die Düse 3a, 3b
beaufschlagt wird, deren Austrittsdurchmesser, deren
Abstand von der Oberfläche des Bandes 1 und die Dicke der
sich auf der Oberfläche einstellenden
Flüssigkeitsschicht. Je dicker die Flüssigkeitsschicht
ist, desto größer muß der Druck und/oder der
Düsenquerschnitt und/oder desto kleiner der Abstand
sein.
Die Ausführungsbeispiele der Fig. 3 bis 5 zeigen
verschiedene geometrische Anordnungen der einzelnen
Flüssigkeitsdüsen. Allen Ausführungen ist gemeinsam, daß
die Düsen in hintereinanderliegenden Reihen angeordnet
sind, wobei die Bereiche schießender Strömung SS der
Düsen einer jeden Reihe einander überlappen.
Während beim Ausführungsbeispiel der Fig. 3 die
Mittelpunkte der Düsen einer jeden Reihe auf einer Linie
senkrecht zur Bandlaufrichtung R liegen und von Reihe zu
Reihe um einen halben Teilungsabstand benachbarter Düsen
versetzt sind, liegen beim Ausführungsbeispiel der Fig.
4 die Mittelpunkte hintereinanderliegender Düsen auf
einer zur Bandlaufrichtung R leicht geneigten Linie.
Außerdem liegen die Mittelpunkte der
nebeneinanderliegenden Düsen ebenfalls auf einer
gemeinsam geneigt zur Bandlaufrichtung verlaufenden
Linie. Insbesondere durch die Neigung der
Mittelpunktslinie hintereinanderliegender Düsen zur
Bandlaufrichtung ergibt sich eine geometrische Versetzung
der Düsen von Reihe zu Reihe in Bandlaufrichtung und
damit eine gleichmäßigere Verteilung der Prallstrahlen
der Bandoberfläche. Beim Ausführungsbeispiel der Fig. 5
ist darüberhinaus vorgesehen, daß die Mittelpunkte der
Düsen hintereinanderliegender Reihen um einen halben
Teilungsabstand benachbarter Reihen gegeneinander
versetzt sind. Auch in diesem Fall können die Linien, auf
denen die Mittelpunkte der Düsen jeder zweiten der
hintereinanderliegenden Reihen liegen, leicht geneigt zur
Bandlaufrichtung R sein.
Bei allen Ausführungsbeispielen ist zwischen den
einzelnen Düsenreihen ein Abströmkanal A für den
Beizmittelabfluß zu den Bandrändern hin freigelassen, wie
durch die Pfeile zwischen den Düsenreihen angedeutet
wird.
Beim Ausführungsbeispiel der Fig. 6 sind den
Abströmkanälen A seitlich neben dem Band 1 den
Beizmittelabfluß fördernde, in die Abströmkanäle A hinein
Beizmittel treibende Düsen vorgesehen.
Beim Ausführungsbeispiel der Fig. 7 bis 9 sind oberhalb
und unterhalb des Bandes 1 quer zur Bandlaufrichtung und
mit Abstand von einem der in Bandlaufrichtung rohrförmige
Elektroden EL angeordnet, in denen durch Pfeile (Fig. 8)
bzw. konkret (Fig. 9) angedeutete Düsenöffnungen 3a, 3b
ausgebildet sind. Die Beize wird über die rohrförmigen
Elektroden EL den Düsenöffnungen 3a, 3b zugeführt.
Beim Ausführungsbeispiel der Fig. 10 sind im Beizbecken
2 oberhalb und unterhalb des Bandes 1 mit Abstand
voneinander in Bandlaufrichtung Elektroden E angeordnet.
In den Zwischenräumen zwischen Elektroden E sind
rohrförmige Leisten L angeordnet, in denen durch Pfeile
angedeutete Düsenöffnungen 3a, 3b ausgebildet sind, denen
über die rohrförmigen Leisten L die Beize zugeführt wird.
Bei beiden Ausführungsbeispielen der Fig. 7 bis 10
lassen sich also die Düsenöffnungen 3a, 3b, über die die
Prallstrahlen das Band 1 beaufschlagen, platzsparend
unterbringen.
Claims (10)
1. Vorrichtung zum kontinuierlichen chemischen
Entzundern von Metallband (1) in einem
Beizbecken (2), durch das das Metallband (1)
läuft, dadurch kennzeichnet,
daß das Becken (2) eine untere und eine obere
Gruppe von als Vollstrahldüsen ausgebildeten,
senkrecht auf das Band (1) gerichteten
Flüssigkeitsdüsen (3a, 3b) für die Beize
umfaßt, deren Druck und Düsendurchmesser
jeweils derart auf deren Abstand von der
Oberfläche des beaufschlagten Bandes (1)
abgestimmt sind, daß rings um den Auftreffpunkt
des Prallstrahls der einzelnen Flüssigkeitsdüsen
(3a, 3b) ein Bereich mit schießender Strömung
(SS) entsteht.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Flüssigkeitsdüsen
(3a, 3b) im Boden (2a) und im Deckel (2b) des
Beizbeckens (2) ausgebildet sind.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die
Flüssigkeitsdüsen (3a, 3b) in mehreren
hintereinander angeordneten, quer zur
Bandlaufrichtung (R) verlaufenden Reihen
angeordnet sind, wobei die Flüssigkeitsdüsen
(3a, 3b) aufeinanderfolgender Reihen von Reihe
zu Reihe quer zur Bandlaufrichtung (R)
gegeneinander versetzt sind.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Querversetzung
der Flüssigkeitsdüsen (3a, 3b)
hintereinanderliegender Reihen bis zu einem
halben Teilungsabstand benachbarter
Flüssigkeitsdüsen (3a, 3b) beträgt.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß
bei einem Beizbecken (2) mit quer zur
Bandlaufrichtung (R) verlaufenden, rohrförmigen
Elektroden (EL) für eine elektrolytische
Bandbehandlung in den Elektroden (EL) die
Flüssigkeitsdüsen (3a, 3b) ausgebildet sind und
die rohrförmigen Elektroden (EL) als Zuleitung
für die Beize zu den Flüssigkeitsdüsen dienen.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß
bei einem Beizbecken (2) mit in Bandlaufrichtung
(R) mit Abstand voneinander angeordneten und quer
zur Bandlaufrichtung (R) verlaufenden Elektroden
(E) für eine elektrolytische Bandbehandlung die
Flüssigkeitsdüsen in in den Zwischenräumen
zwischen den Elektroden (E) angeordneten
rohrförmigen Leisten (L) ausgebildet sind, über
die die Beize zugeführt wird.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6,
durch gekennzeichnet, daß die
in Bandlaufrichtung (R) hintereinanderliegenden
Reihen von Flüssigkeitsdüsen (3a, 3b) zwischen
sich zu den Bandrändern hin führende
Abströmkanäle (A) für die Beize bilden.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch ge
kennzeichnet, daß den Abströmkanälen (A)
die Abströmung der Beize unterstützende Düsen (D)
zugeordnet sind.
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, da
durch gekennzeichnet, daß die
Flüssigkeitsdüsen (3a, 3b) einzeln oder gruppenweise
zu- und abschaltbar sind.
10. Verfahren zum kontinuierlichen chemischen Entzundern
von Metallband in einer Beize, die das Metallband
durchläuft, dadurch gekennzeich
net, daß die Bandoberfläche mit einer Vielzahl von
solchen senkrecht gegen die Bandoberfläche
gerichteten und über sie verteilten Prallstrahlen
beaufschlagt wird, daß sich rings um den
Auftreffpunkt des jeweiligen Prallstrahls ein
Bereich mit schießender Strömung bildet.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19702639A DE19702639C1 (de) | 1997-01-25 | 1997-01-25 | Vorrichtung und Verfahren zum kontinuierlichen chemischen Entzundern von Metallband |
ES98904112T ES2186125T3 (es) | 1997-01-25 | 1998-01-22 | Dispositivo y procedimiento para el descascarillado quimico continuo de cinta metalica. |
EP98904112A EP0961842B1 (de) | 1997-01-25 | 1998-01-22 | Vorrichtung und verfahren zum kontinuierlichen chemischen entzundern von metallband |
DE59806113T DE59806113D1 (de) | 1997-01-25 | 1998-01-22 | Vorrichtung und verfahren zum kontinuierlichen chemischen entzundern von metallband |
PCT/EP1998/000323 WO1998032899A1 (de) | 1997-01-25 | 1998-01-22 | Vorrichtung und verfahren zum kontinuierlichen chemischen entzundern von metallband |
AT98904112T ATE226984T1 (de) | 1997-01-25 | 1998-01-22 | Vorrichtung und verfahren zum kontinuierlichen chemischen entzundern von metallband |
JP53157198A JP2001508833A (ja) | 1997-01-25 | 1998-01-22 | 金属製ストリップの連続的化学的スケール除法装置および方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19702639A DE19702639C1 (de) | 1997-01-25 | 1997-01-25 | Vorrichtung und Verfahren zum kontinuierlichen chemischen Entzundern von Metallband |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19702639C1 true DE19702639C1 (de) | 1998-06-18 |
Family
ID=7818327
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19702639A Expired - Fee Related DE19702639C1 (de) | 1997-01-25 | 1997-01-25 | Vorrichtung und Verfahren zum kontinuierlichen chemischen Entzundern von Metallband |
DE59806113T Expired - Fee Related DE59806113D1 (de) | 1997-01-25 | 1998-01-22 | Vorrichtung und verfahren zum kontinuierlichen chemischen entzundern von metallband |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE59806113T Expired - Fee Related DE59806113D1 (de) | 1997-01-25 | 1998-01-22 | Vorrichtung und verfahren zum kontinuierlichen chemischen entzundern von metallband |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0961842B1 (de) |
JP (1) | JP2001508833A (de) |
AT (1) | ATE226984T1 (de) |
DE (2) | DE19702639C1 (de) |
ES (1) | ES2186125T3 (de) |
WO (1) | WO1998032899A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19947857A1 (de) * | 1999-10-05 | 2001-05-03 | Thyssenkrupp Stahl Ag | Beizanlage für Metallbänder |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2911701A1 (de) * | 1978-10-10 | 1980-04-24 | Midland Ross Corp | Verfahren und vorrichtung zur behandlung von materialbahnen in einer behandlungskammer |
DD266813A5 (de) * | 1986-08-29 | 1989-04-12 | Mannesmann Ag,De | Einrichtung zur oberflaechenbehandlung kontinuierlich durchlaufender baender, insbesondere beizeinrichtung |
DE4031234A1 (de) * | 1990-10-04 | 1992-04-09 | Gewerk Keramchemie | Verfahren und vorrichtung zur oberflaechenbehandlung von bandfoermigem behandlungsgut |
AT399517B (de) * | 1991-08-20 | 1995-05-26 | Andritz Patentverwaltung | Verfahren zur oberflächenbehandlung von im wesentlichen ebenem flächigem gut, insbes. zum beizen von metallband |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56127799A (en) * | 1980-03-07 | 1981-10-06 | Nippon Steel Corp | Insoluble electrode pad |
JPS6230892A (ja) * | 1985-07-31 | 1987-02-09 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 長尺金属板の連続洗浄方法 |
DE4116019C2 (de) * | 1991-05-16 | 1997-01-23 | Sundwiger Eisen Maschinen | Verfahren und Vorrichtung zum Kühlen eines flächenhaften Gutes, insbesondere eines Metallbandes |
DE4421082A1 (de) * | 1994-06-16 | 1995-12-21 | Schloemann Siemag Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Intensivierung des Kontaktes zwischen einem Walzband mit einer Flüssigkeit |
DE4425854C1 (de) * | 1994-07-07 | 1995-11-09 | Mannesmann Ag | Elektrolytisches Oberflächenbehandlungsverfahren und Anlage zur Durchführung des Verfahrens |
-
1997
- 1997-01-25 DE DE19702639A patent/DE19702639C1/de not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-01-22 ES ES98904112T patent/ES2186125T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1998-01-22 AT AT98904112T patent/ATE226984T1/de not_active IP Right Cessation
- 1998-01-22 JP JP53157198A patent/JP2001508833A/ja active Pending
- 1998-01-22 WO PCT/EP1998/000323 patent/WO1998032899A1/de active IP Right Grant
- 1998-01-22 DE DE59806113T patent/DE59806113D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-01-22 EP EP98904112A patent/EP0961842B1/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2911701A1 (de) * | 1978-10-10 | 1980-04-24 | Midland Ross Corp | Verfahren und vorrichtung zur behandlung von materialbahnen in einer behandlungskammer |
DD266813A5 (de) * | 1986-08-29 | 1989-04-12 | Mannesmann Ag,De | Einrichtung zur oberflaechenbehandlung kontinuierlich durchlaufender baender, insbesondere beizeinrichtung |
DE4031234A1 (de) * | 1990-10-04 | 1992-04-09 | Gewerk Keramchemie | Verfahren und vorrichtung zur oberflaechenbehandlung von bandfoermigem behandlungsgut |
AT399517B (de) * | 1991-08-20 | 1995-05-26 | Andritz Patentverwaltung | Verfahren zur oberflächenbehandlung von im wesentlichen ebenem flächigem gut, insbes. zum beizen von metallband |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19947857A1 (de) * | 1999-10-05 | 2001-05-03 | Thyssenkrupp Stahl Ag | Beizanlage für Metallbänder |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO1998032899A1 (de) | 1998-07-30 |
ATE226984T1 (de) | 2002-11-15 |
JP2001508833A (ja) | 2001-07-03 |
ES2186125T3 (es) | 2003-05-01 |
EP0961842B1 (de) | 2002-10-30 |
EP0961842A1 (de) | 1999-12-08 |
DE59806113D1 (de) | 2002-12-05 |
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