DE19654613C2 - Schattenmaske mit Dämmschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents

Schattenmaske mit Dämmschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung

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Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine Schattenmaske mit Dämmschicht für Farbildröhren und ein Verfahren zu ihrer Herstellung gemäß den Oberbegriffen der Patentansprüche 1, 2 und 21.
Bei einer Farbbildröhre mit Schattenmaske ist die Maske in unmittelbarer Nähe der inneren Fläche des Bildschirmes angeordnet. Bedingt durch die Herstellung der Lumineszenzsegmente auf der Innenfläche des Bildschirmes ist es erforderlich, daß die Schattenmaskengeometrie beim Betrieb der Farbbildröhre mit der Anordnung dieser Lumineszenzsegmente übereinstimmt. Die maximale Treffgenauigkeit der Elektronenstrahlen auf die Lumineszenzsegmente wird erreicht, wenn bei Arbeitstemperatur die Lochgeometrie der Schattenmaske mit der Verteilung der Lumineszenzsegmente auf der Innenfläche des Bildschirmes in Überstimmung ist. Da jedoch nur ein kleiner Teil der ausgestrahlten Elektronen die Maske passiert und auf die Lumineszenzsegmente trifft und der überwiegende Teil der Elektronen direkt auf die Maske trifft, führt das zu einer Aufheizung der Maske bis zu 80°C. Als Folge ändert sich die Maskengeometrie und es kommt zu Aufwölbungen der Maske (Doming-Effekt). Die Übereinstimmung der Lochgeometrie der Schattenmaske mit der Verteilung der Lumineszenzsegmente ist nicht mehr gegeben. Es kommt zu einer Fehllandung der Elektronen. Die Farbwiedergabequalität des Bildschirmes ist gestört.
Bei sehr kontrastreichen Bildern werden verschiedene Bereiche der Maske unterschiedlich stark aufgeheizt. Es kommt so zu einer partiellen Wölbung der Maske (lokales Doming), was bei Toleranzüberschreitung ebenfalls zu Bildfehlern führt.
Es sind eine Reihe von Versuchen unternommen worden, dieses nachteilige thermische Verhalten der Schattenmaske zu begrenzen oder zu verhindern. So sind verschiedentlich Maßnahmen vorgeschlagen worden, ein starkes Aufheizen der Maske einzuschränken.
Im US-Patent 48 01 842 wird ein Verfahren zur Verminderung des Domingverhaltens in Farbbildröhren und eine Farbbildröhre, die nach diesem Verfahren hergestellt wird, angegeben. Hier wird unter anderem vorgeschlagen, auf die eiserne Schattenmaske eine poröse Schicht aus Schwermetallen oder schwer­ metallhaltigen Verbindungen aufzutragen. Die Porösität der Schicht entsteht durch dort aneinanderlagernde kleine Teilchen, die selbst keine poröse Struktur aufweisen. Im Ergebnis führt das zu einer Schicht, deren Wärmedämmung nicht ausreichend ist, das Doming­ problem grundsätzlich zu lösen.
In der JP-(A) 02-46630 wird eine poröse Schicht beschrieben, die direkt auf der Schattenmaske erzeugt wird. Zu diesem Zweck werden unter bestimmten Bedingungen verdampfbare Substanzen einer niedrig­ schmelzenden Glasmasse hinzugefügt. Durch Erhitzen wird ein Treibprozess in Gang gesetzt, der eine poröse Struktur erzeugen soll. Die auf diese Weise erzeugten geschlossenzelligen Bläschen enthalten immer noch das Treibmittel, so daß keine optimale Wärmedämmung zu erwarten ist. Hinzu kommt, daß dieser Treibprozess technologisch aufwendig ist.
Auch die in der JP-(A) 62-206747 und JP-(A) 02-119032 angegebenen porösen Schichten bestehen im wesentlichen aus anorganischen Pigmenten, die im wesentlichen Schwermetalle bzw. Schwermetalloxide sind und die aufgrund des Aneinanderlagerns eine gewisse Porösität aufweisen, die jedoch für eine deutliche Verminderung des Domingverhaltens nicht ausreichend ist.
In der DE 36 17 908 C2 wird ein Verfahren zum Herstellen einer Lochmaske für Farbbildkathodenstrahlröhren beschrieben. Hier wird mittels einer Spritzpistole ein schwermetallhaltiges Puder, hier als Beispiel angegeben ein Puder aus Blei-Borat-Glas, aufgesprüht und gesintert. Im Ergebnis weist diese Schicht eine gewisse Porösität auf und enthält als elektronenreflektierenden Bestandteil das Schwermetall Blei. Aufgrund des Sinterungsprozesses, der zu einer teilweisen Ver­ schmelzung der Einzelteilchen führt, wird trotz einer gewissen Porösität auch hier keine optimale Wärmedämmeigenschaft der Schicht erreicht.
In der DE 195 26 166 A1 und der US 5256932 A werden Beschichtungen von Schattenmasken- Oberflächen angegeben, die im wesentlichen dadurch gekennzeichnet sind, daß auf anorganische oxidische Pigmente Schwermetalle bzw. Schwermetallverbindungen aufgebracht werden und diese Pigmente anschließend schichtbildend fixiert werden. Die aufwendige techno­ logische Erzeugung dieser Schichten ist nachteilig. Desweiteren weisen sie eine geringe Wärmedämmung auf, da auch hier keine optimale Porosität der Schicht vorliegt. Die in diesem Bereich aufgrund der Wechselwirkung zwischen den Schwermetallatomen und den Elektronen entstehende Wärme kann nur unzureichend von der metallischen Schattenmaske ferngehalten werden, so daß auch hier ein Doming nicht auszuschließen ist.
Im US-Patent 3887828 ist vorgeschlagen worden, auf die metallische Lochmaske eine poröse Mangandioxidschicht und darüber eine dünne metallische Aluminiumschicht anzuordnen. Die Aluminiumschicht hat mit der Lochmaske nur an den Lochkanten Kontakt. Sie soll elektrisch leitende und elektronenabsorbierende Eigenschaften aufweisen. Auf dieser Aluminiumschicht ist eine weitere Schicht aus Graphit, Nickeloxid oder Nickeleisen aufgebracht.
Die Porösität der hier vorgeschlagenen Manganoxid- Schicht soll im wesentlichen durch die einzeln angeordneten Teilchen entstehen, die mit der dünnen Aluminiumschicht eine sandwichartige Struktur bildet. Die beim Auftreffen der Elektronen entstehende Wärme soll nun aufgrund dieses Schichtaufbaus von der metallischen Lochmaske ferngehalten werden und in die entgegengesetzte Richtung abgestrahlt werden.
Diese Lösung weist verschiedene Nachteile auf. So hat sich gezeigt, daß das Fernhalten entstehender Wärme von der Lochmaske nicht funktioniert, da der Hauptteil der Wärme nicht in der Aluminiumschicht und der darüberliegenden Graphitschicht, sondern in der Lochmaske entsteht. Die elektronenreflektierenden, elektronenabsorbierenden und wärmeemittierenden Eigenschaften der Aluminiumschicht sind zu gering. Die auf der Lochmaske angeordnete, wärmedämmende Sandwichstruktur bewirkt nun das Gegenteil. Die Wärme kann nur erschwert abgestrahlt werden.
Weiterhin ist bekannt (DE 196 32 414 A1), die Oberfläche einer Lochmaske mit einer Wärmedämmschicht zu versehen und darauf eine schwermetallenthaltene Deckschicht aufzubringen. Die Wärmedämmschicht besteht hierbei aus porösen Feststoffen, die mit einem Bindemittel auf der metallischen Lochmaske aufgetragen sind. Es hat sich gezeigt, daß der technologische Aufwand des Auftragens zweier Schichten nämlich einer Wärmedämmschicht und einer darüber angeordneten schwermetallenthaltenen Deckschicht relativ groß ist.
Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zu Grunde eine Dämmschicht anzubieten, die aufgrund ihrer wärmedämmenden Wirkung den Wärmedurchgang auf die Lochmaske weitestgehend unterbindet und gleichzeitig ohne das Aufbringen einer zusätzlichen Deckschicht zur Verminderung von Doming-Effekten führt.
Die Lösung der Aufgabe erfolgt mit den Merkmalen der Ansprüche 1, 2 und 21. Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen genannt.
Erfindungsgemäß ist vorgesehen, daß die kathodenseitige Oberfläche des Lochmaskenteiles der Schattenmaske mit einer Wärmedämmschicht versehen wird, die aus Partikeln mit porösen Strukturen besteht, in deren Hohlräumen Schwermetalle bzw. Schwermetallverbindungen enthalten sind, so daß eine elektronenreflektierende und - absorbierende Wirkung direkt in dieser Schicht entsteht und die dabei frei werdene Wärme aufgrund der dämmenden Wirkung dieser Schicht eher ins Röhreninnere als auf die Lochmaske übertragen wird. Durch das Fehlen einer Deckschicht ist die Abgabe der Wärme ins Röhreninnere nicht behindert. Dadurch wird das Entstehen örtlicher Temperaturunterschiede, die partielle Wölbungen der Lochmaske hervorrufen könnten, weitestgehend eingeschränkt.
Überraschenderweise hat sich gezeigt, daß bereits eine Dämmschicht ohne Zusatz von Schwermetallverbindungen gemäß Anspruch 2 zu einer bemerkenswerten Verringerung des Auftretens von Doming-Effekten führt.
Die erfindungsgemäße Wärmedämmschicht besteht aus Partikeln mit porösen Strukturen, die in einem Bindemittel eingebettet sind.
Vorteilhafterweise erfolgt die Herstellung der erfindungsgemäßen Schattenmaske durch das unmittelbare Kombinieren der Partikel mit porösen Strukturen mit Schwermetallverbindungen vor der Beschichtung der Lochmaske. Das Einbringen von Schwermetallen bzw. Schwermetallverbindungen in diese poröse Struktur kann dadurch sehr effektiv erfolgen.
In einer Weiterbildung der Erfindung gemäß Anspruch 3 ist vorgesehen, daß die Partikel mit poröser Struktur ionenaustauschende Eigenschaften besitzen. Durch Einsatz wasserlöslicher Schwermetallverbindungen lassen sich Schwermetallionen unkompliziert in die porösen Strukturen einführen und mit den dort vorhandenen Ionen, beispielweise Alkaliionen austauschen. Ionenaustauscher auf der Basis von Zeolithen, intercalierten Schichtverbindungen aus der Gruppe der Tonmineralien oder der Metallphosphate, so wie z. B. Cerphosphat, lassen sich vorteilhaft einsetzen.
Bei besonderen Qualitätsanforderungen hinsichtlich des Doming-Verhaltens können die durch Ionenaustausch mit Schwermetallen beladenen porösen Ionenaustauscher zusätzlich mit weiteren Schwermetallverbindungen versehen werden, die gegebenenfalls durch eine Nachbehandlung gemäß der Weiterbildungen der Erfindung nach den Ansprüchen 23 bis 29 fixiert werden können.
Als Partikel mit poröser Struktur sind in einer weiteren Ausbildung der Erfindung gemäß Anspruch 7, anorganische Partikel ohne ionenaustauschende Eigenschaften vorgesehen. Poröse Partikel aus oxidischen, silikatischen oder phosphatischen Materialien sind hierbei besonders geeignet, wie z. B. Metalloxid-Zeolithe und Metallphosphate. Als oxidische Partikel mit porösen Strukturen eignen sich unter anderem Kieselsäure, Zirconiumdioxid und Titandioxid.
Zu den porösen silikatischen Stoffen zählt insbesondere die große Gruppe der Zeolithe. Hier eignen sich insbesondere die Molekularsiebe wie zum Beispiel die natürlichen Molekularsiebe Chabasit, Mordenit, Erionit, Faujasit und Clinoptilolit und die synthetischen Zeolithe A, X, Y, L, ß beziehungsweise vom ZSM-Typ. Die Strukturen der Zeolithe sind sehr vielfältig, so daß an dieser Stelle nicht alle Typen genannt werden können. Es hat sich überraschend gezeigt, daß, auch bereits in dünner Schicht auf eine Schattenmaske aufgetragen, eine effektive Wärmedämmung gegenüber der Maske erzielt werden kann. Die vorteilhaften Wirkungen entstehen auch bei der Verwendung von porösen phosphatischen Feststoffen, wie den sogenannten Alumophosphaten, Silicoalumophosphaten und Metallalumophosphaten, die synthetisch herstellbar sind und die in eng-, mittel- und weitporige Typen eingeteilt werden. Weitere geeignete poröse Feststoffe sind intercalierte Tonmineralien, Schichtphosphate und Silikagel und eine Reihe weiterer an sich bekannter Alumosilicate.
Schwermetallverbindungen, die erfindungsgemäß in die porösen Strukturen eingebracht werden, sind durch Trocknung oder zersetzende Hochtemperaturbehandlung fixierbar. Eine anschließende Einwirkung von Sulfidionen führt in vorteilhafter Weise zu sulfidischen Schwermetallverbindungen die aufgrund ihrer schwarzen Farbe zusätzliche positive Wirkung hinsichtlich der Wärmeverteilung ausüben. Die Größe der Poren der Partikel mit porösen Strukturen lassen sich in weiten Grenzen bei der Herstellung variieren, so daß je nach Erfordernis dadurch die Beladung mit Schwermetallen außerordentlich effektiv erfolgen kann.
Als Bindemittel für die Dämmschicht sind insbesondere kristalline und glasartige Silikate, Phosphate und Borate vorgesehen, wobei sich Wasserglas und Metallphosphate bewährt haben. Die genannten Bin­ demittel zeichnen sich durch sehr gute Haftungseigen­ schaften auf der Oberfläche der Maske aus. Das führt zu einer mechanisch stabilen Beschichtung, was eine zusätzliche Formstabilisierung der Lochmaske bewirkt.
Das Auftragen der Schicht erfolgt nach an sich bekannten Auftragverfahren, wie zum Beispiel durch Besprühen der Oberfläche der Maske und ist dadurch außerordentlich kostengünstig durchführbar.
Die Dämmschicht weist in der Regel eine Schichtdicke zwischen 10 und 50 µm, bei einer mittleren Teil­ chengröße zwischen 1 und 10 µm auf.
Die Vorteile der Erfindung liegen in einer beachtlichen Verbesserung des Doming-Verhaltens von Eisenmasken, wodurch in vielen Fällen auf den Einsatz von teurem Invar für die Masken verzichtet werden kann.
Die Erfindung wird nun anhand einer Zeichnung und mehrerer Ausführungsbeispiele näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 Farbbildröhre in Schnittdarstellung
Fig. 2 Schattenmaske in Draufsicht
Fig. 1 zeigt eine Farbbildröhre, die in ihren Haupt­ teilen aus einem Kolben 1 mit einem Schirm 2 und einem im Röhrenhals 5 angeordneten Strahlsystem 7 besteht. Der Schirm 2 weist auf seiner Innenseite 3 eine strukturierte Lumineszenzschicht auf, die bekannterweise beim Auftreffen der Elektronenstrahlen ein Bild erzeugt. Ein Konus 4 des Kolbens 1 bildet das trichterförmige Übergangsstück zwischen dem Schirm 2 und dem Röhrenhals 5. Der Röhrenhals 5 wird durch einen Sockel 6 begrenzt. Das Strahlsystem 7 enthält mehrere Kathoden und weitere Elektroden für die Erzeugung und Steuerung der Elektronenstrahlen.
Eine Schattenmaske 8 ist an der Innenseite 3 des Schirms 2 mit Hilfe eines hier nicht dargestellten Maskenrahmens angeordnet.
Über einen Anodenkontakt 9 wird die Hochspannung (Betriebsspannung 25-30 kV) zugeführt.
Fig. 2 zeigt einen hier als Lochmaske 22 bezeichneten Teil der Schattenmaske 8 in Draufsicht. Die Dicke der Lochmaske 22 liegt üblicherweise im Bereich von 0,130- 0,280 mm mit enger Toleranz. Die gewünschten Lochmuster werden chemisch geätzt.
Die für die Funktion der Röhre erforderliche Formgebung der Schattenmaske 8 erfolgt durch Tiefziehen.
Zur Bewertung der Farbbildröhren unter Elektronenstrahlbeschuß während des Betriebes wird das Landungsverhalten der Elektronenstrahlen untersucht. Dazu werden die am stärksten beeinflußten Bereiche der Lochmaske 22, repräsentiert durch die vier Meßpunkte 25 sowie die Meßpunkte 24, 26 und 27, herangezogen. Die Strahllandungsdrift, verursacht durch die Aufheizung der Maske unter Elektronenstrahlbeschuß, ist ein Maß für die Röhrenqualität und letztlich ein Maß für den Erfolg jedweder Maßnahmen zur Vermeidung des Domings in Bildröhren.
Beispiel 1
Auf eine überwiegend aus Eisenmetall bestehende Schattenmaske, die beidseitig mit einer Schwarzrostschicht, Fe3O4, versehen ist, wird kathodenseitig eine Schicht aus mikroporösem Bleizeolith 4A, Pb6[(AlO2)12(SiO2)12] und Wasserglas aufgebracht. Die 20 bis 50 µm dicke Schicht wird durch Aufsprühen einer wäßrigen Dispersion aus 100 Teilen Bleizeolith 4A, intercaliert mit n-Octanol, mittlere Teilchengröße 2 µm, 50 Teilen Natriumsilicatlösung, 5,8 molar, Na : Si = 0,61 : 1,0, 200 Teilen Wasser und 0,1 Teil eines kationischen Tensides hergestellt.
Der Bleizeolith 4A wurde durch Ionenaustausch aus dem strukturell entsprechenden Natriumzeolith 4A gewonnen. Die Intercalation des n-Octanols in den Bleizeolith 4A erfolgte nach Dehydratisierung des Bleizeolithes über die Gasphase.
Beispiel 2
Wie Ausführungsbeispiel 1, jedoch wird als mikroporöses Material Lanthanzeolith 4A, La4[(AlO2)12(SiO2)12], eingesetzt, das durch Ionenaustausch aus Natriumzeolith 4A gewonnen wurde.
Beispiel 3
Wie Ausführungsbeispiel 1, jedoch wird als mikroporöses Material Natrium-Bariumzeolith 4A, Na6Ba6[(AlO2)12(SiO2)12] verwendet, das durch Ionenaustausch aus Natriumzeolith 4A hergestellt würde.
Beispiel 4
Wie Ausführungsbeispiel 1, jedoch wird als mikroporöses Material ein Natrium-Bleizeolith 4A mit Ablagerungen von Bleisulfid in den Poren der Zeolithkristalle eingesetzt. Die Ablagerung des Bleisulfides in den Poren wird durch Reaktion des Bleizeoliths 4A mit Schwefelwasserstoff und anschließender Neutralisation mit Natriumwasserglas erreicht.
Beispiel 5
Wie Ausführungsbeispiel 1, jedoch werden der wäßrigen Dispersion 5 Teile Natriumsulfid-9-Hydrat, Na2S 9H2O hinzugefügt.
Bezugszeichenliste
1
Kolben
2
Schirm
3
Innenseite
4
Konus
5
Röhrenhals
6
Sockel
7
Strahlsystem
8
Schattenmaske
9
Anodenkontakt
22
Lochmaske
24
Meßpunkt
25
Meßpunkt
26
Meßpunkt
27
Meßpunkt

Claims (29)

1. Schattenmaske mit Dämmschicht für Farbildröhren, bestehend aus einer überwiegend Eisenmetall enthaltenen Lochmaske, die in einem Rahmen gehaltert und vor dem geformten Bildschirm angeordnet ist, wobei die kathodenseitig fixierte Dämmschicht aus temperaturbeständigen Feststoffen und Schwermetallzusätzen gebildet ist, dadurch gekennzeichnet, daß die kathodenseitige Oberfläche der Lochmaske eine Beschichtung aus in einem Bindemittel eingebetteten anorganischen Partikeln mit ausgeprägt poröser Struktur aufweist, die Schwermetalle und/oder Schwer­ metallverbindungen enthalten.
2. Schattenmaske mit Dämmschicht für Farbbildröhren, bestehend aus einer überwiegend Eisenmetall enthaltenen Lochmaske, die in einem Rahmen gehaltert und vor dem geformten Bildschirm angeordnet ist, wobei die kathodenseitig fixierte Dämmschicht aus temperaturbeständigen Feststoffen ohne zusätzliche Schwermetalle gebildet ist, dadurch gekennzeichnet, daß die kathodenseitige Oberfläche der Lochmaske eine Beschichtung aus in einem Bindemittel eingebetteten anorganischen Partikeln mit ausgeprägt poröser Struktur aufweist.
3. Schattenmaske nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die anorganischen Partikel mit poröser Struktur Ionenaustauscher sind.
4. Schattenmaske nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die anorganischen Ionenaustauscher Zeolithe, intercalierte Schichtverbindungen aus der Gruppe der Tonmineralien oder der Metallphosphate sind.
5. Schattenmaske nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die anorganischen Ionenaustauscher saure Cer- Phosphate sind.
6. Schattenmaske nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die anorganischen Ionenaustauscher mit Schwermetallionen, wie Barium-, Lanthan-, Cer-, Wolf-ram-, Blei- und Bismut-Ionen, beladen sind.
7. Schattenmaske nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Partikel mit porösen Strukturen Partikel ohne ionenaustauschende Eigenschaften sind.
8. Schattenmaske nach Anspruch 1, 2 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Partikel mit porösen Strukturen oxidische und/ oder silikatische und/oder phosphatische Partikel und/oder Partikelgemische sind.
9. Schattenmaske nach Anspruch 2, 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß die oxidischen Partikel mit porösen Strukturen Metalloxide wie Siliciumdioxid, Magnesiumoxid, Aluminiumoxid sowie Nebengruppenelementoxide wie Titandioxid und Zirkoniumdioxid sind.
10. Schattenmaske nach einem der Ansprüche 1, 2, 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die silicatischen Partikel mit porösen Strukturen Zeolithe, Pillaret-Clays und/oder Silikagel sind.
11. Schattenmaske nach einem der Ansprüche 1, 2, 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß die phosphatischen Partikel mit porösen Strukturen Alumophosphate, Silicoalumophosphate und Metallalumophosphate sowie Metallphosphate wie Zirconiumphosphat sind.
12. Schattenmaske nach einem der Ansprüche 1, 3 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Partikel mit porösen Strukturen Ablagerungen von Schwermetallverbindungen und/oder Schwermetallen enthalten.
13. Schattenmaske nach einem der Ansprüche 1, 3 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Partikel mit poröser Struktur Schwermetallchalkogenide und Nitride enthalten.
14. Schattenmaske nach einem der Ansprüche 1, 3 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Partikel mit poröser Struktur Schwermetalloxide und/oder Schwermetallsulfide enthalten.
15. Schattenmaske nach einem der Ansprüche 1, 3 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß als Schwermetalle Metalle mit einer Dichte nicht unter ca. 3,5 gcm-3 enthalten sind.
16. Schattenmaske nach einem der Ansprüche 1, 3 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß als Schwermetallverbindungen Barium-, Blei-, Tantal-, Wismut-, Cer- oder Wolframverbindungen enthalten sind.
17. Schattenmaske nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß die Partikel mit porösen Strukturen mit Bindemitteln aus silikatischen und/oder phosphatischen Materialien gebunden sind.
18. Schattenmaske nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Partikel mit poröser Struktur mit kristallinen und/oder glasartigen Metallsilikaten, Metallphosphaten, Metallboraten und/oder Gläsern gebunden sind.
19. Schattenmaske nach einem der Ansprüche 1 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Partikel mit poröser Struktur mit Wasserglas gebunden sind.
20. Schattenmaske nach einem der Ansprüche 1 bis 19, dadurch gekennzeichnet daß, die Bindemittel organische Polymere enthalten.
21. Verfahren zur Herstellung einer Schattenmaske mit Dämmschicht für Farbbildröhren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Partikel mit poröser Struktur vor dem Vermischen mit einem Bindemittel mit einer molekulardispers verteilten Zubereitung einer Schwermetallverbindung kontaktiert werden und eine Fixierung der Schwermetallverbindungen bzw. Schwermetalle erfolgt.
22. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet daß, eine Fixierung der Schwermetalle durch Ionenaustausch erfolgt.
23. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß eine Fixierung der Schwermetallverbindungen durch Trocknung erfolgt.
24. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß eine Fixierung durch eine die Schwermetallverbindung zersetzende Temperaturbe­ handlung erfolgt.
25. Verfahren nach Anspruch 21 oder 24, dadurch gekennzeichnet, daß eine Fixierung durch Umwandlung von salzartigen Schwermetallverbindungen in Oxide erfolgt.
26. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 25, dadurch gekennzeichnet, daß eine Fixierung durch eine Behandlung mit Sulfidionen erfolgt.
27. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 26, dadurch gekennzeichet, daß eine Fixierung durch Behandeln mit Schwefelwasserstoff und/oder wasserlöslichen Schwefelverbindungen wie Thioharnstoff erfolgt.
28. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 27, dadurch gekennzeichnet, daß eine Fixierung der Schwermetalle durch Abscheidung über die Gasphase erfolgt.
29. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 28, dadurch gekennzeichnet, daß eine Fixierung der Schwermetalle durch Reduktions- oder Oxidationsbehandlung erfolgt.
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