DE19606877A1 - Verfahren zur Reinigung von Acrylsäure und Methacrylsäure - Google Patents
Verfahren zur Reinigung von Acrylsäure und MethacrylsäureInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Reinigung von
Acrylsäure und Methacrylsäure. Außerdem betrifft die Erfindung ein
Verfahren zur Herstellung von Acrylsäure oder Methacrylsäure unter Ver
wendung des Reinigungsverfahrens.
Es ist bekannt, zur Trennung von Stoffgemischen Verfahren einzusetzen,
bei denen Phasen vorliegen oder sich bilden. Als Beispiele seien die
Extraktion oder Absorption genannt, bei denen Flüssig-/Flüssig- bzw.
Gas-/Flüssig-Phasen vorliegen. So beschreibt DE-OS-21 64 767 ein
Verfahren zur Reinigung von Acrylsäure, bei dem eine wäßrige Acrylsäu
relösung mit einem Extraktionsmittel extrahiert wird, das Extraktionsmittel
in einer Destillationszone von dem Extrakt abgetrennt wird und danach
in einer Rektifikationszone eine Mischung von Acrylsäure und Essigsäure
aus dem verbleibenden Teil des Extraktes abdestilliert wird. DE-PS 34
29 391 offenbart ein Verfahren zur Herstellung von Acrylsäure, bei dem
das bei der katalytischen Oxidation von Propen und/oder Acrolein
erhaltene Gas in einer Acrylsäure-Sammelvorrichtung kondensiert wird
und die nicht gewonnenen Substanzen durch Absorption an Wasser
gesammelt werden. Die entstehende wäßrige Lösung von Acrylsäure wird
dann in einer Destillationskolonne in Anwesenheit eines azeotropen
Mittels destilliert, wobei die Acrylsäure im Destillationsbodenprodukt
erhalten wird. Ein ähnliches Verfahren ist auch in EP-A- 0 551 111
beschrieben.
G.A. Nosov et al. beschreiben in dem Artikel "Separation of binary
mixtures by combining rectification and fractionating cristallisation",
Russian Chemical Industry, Bd. 25, Nr. 2, 1993, Seiten 6-13, die
Trennung von Gemischen durch kombinierte Rektifikation und fraktio
nierte Kristallisation, wobei das zu trennende Gemisch einer Rektifika
tionsstufe zugeführt wird, und der die Rektifikationskolonne verlassende
Dampf einer Kristallisationsstufe zugeführt wird. Dort wird dieser gekühlt,
wobei sich eine Kristallphase und Mutterlauge bilden. Nach Abtrennung
der kristallinen Fraktion von der Mutterlauge, wird letztere der Rektifika
tionskolonne rückgeführt. In der Firmenbroschüre "Fraktionierte Kristalli
sation" der Fa. SULZER CHEM TECH, 1991 ist ebenfalls die kom
binierte Anwendung einer Rektifikation und Kristallisation mit Rück
führung zur Trennung von Isomerengemischen beschrieben. M. Hassene
und G. Drouglazet beschreiben in dem Artikel "The attractions of melt
static cristallisation", Chemical Engineering, Sept. 1995, Seiten 108-110,
die statische Schmelzkristallisation als ein Reinigungsverfahren, das mit
einer Destillation kombiniert werden kann. Bei Verfahren zur Herstellung
von Naphthalin, Toluolderivaten oder Nitrobenzol wird dieses kombinierte
Verfahren zur Endreinigung verwendet. In dem weiteren Artikel "Acrylic
acid and acrylates", 91-2, Febr. 1993, CHEM SYSTEMS, Seiten 22-26,
ist beschrieben, daß durch zweistufige Oxidation hergestellte Roh-Acryl
säure nach Kühlen und Absorption in Wasser durch Lösungsmittelextrak
tion abgetrennt wird. Die erhaltene weiter aufgereinigte Roh-Acrylsäure
wird anschließend einem Reinigungsverfahren unterzogen, wobei es sich
um eine Kristallisation handeln kann. Nähere Angaben hierzu enthält
dieser Artikel nicht.
Das Japanische Patent 45-32417 offenbart ein Verfahren, bei dem eine
wäßrige Acrylsäurelösung bzw. Methacrylsäurelösung, die zusätzlich Essig
säure und Propionsäure enthält, mit Heptan oder Toluol extrahiert wird
und anschließend Wasser durch Destillation aus dem Extrakt entfernt
wird. In der nächsten Stufe wird der verbleibende Extrakt auf -20 bis
-80°C abgekühlt, um eine Kristallisation von Acrylsäure oder Methacryl
säure herbeizuführen. Die Kristalle werden abgetrennt, und die Mutter
lauge wird dem Extraktionsprozeß rückgeführt. Gemäß dieser Patentschrift
ist der Zusatz eines organischen Lösungs- bzw. Extraktionsmittels notwen
dig, da ansonsten die Lösung, wenn sie abgekühlt wird, sich verfestigt,
ohne daß Kristalle ausfallen. In JP-7032417 wird die Reinigung von
Methacrylsäure beschrieben, indem diese mit Butadien, Hepten oder
Toluol extrahiert wird, der Extrakt durch Destillation dehydratisiert wird
und anschließend die Methacrylsäure durch Kühlen auf -20 bis -80°C
auskristallisiert wird. Die Kristalle werden durch Filtration abgetrennt und
das Filtrat rückgeführt. In JP-7110535 wird ein ähnliches Reinigungsver
fahren für Acrylsäure beschrieben. Den in den drei zuletzt genannten
Druckschriften beschriebenen Verfahren ist gemeinsam, daß die Kristalli
sation in Anwesenheit eines organischen Lösungsmittels durchgeführt wird.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung war es, ein Verfahren zur Reinigung
von Acrylsäure und Methacrylsäure zu schaffen, bei dem bei hoher
Reinheit der Säuren eine höhere Ausbeute erzielt werden kann.
Es wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, diese Aufgabe durch den kom
binierten Einsatz eines scharfen und eines unscharfen Trennverfahrens zu
lösen, wobei die bei dem scharfen Trennverfahren verbleibende, nicht mit
Säure angereicherte Phase wenigstens teilweise dem unscharfen Trennver
fahren zurückgeführt wird.
Die Erfindung betrifft somit ein Verfahren zur Reinigung von Acrylsäure
oder Methacrylsäure durch Trennverfahren, bei denen sich Phasen aus
bilden, das dadurch gekennzeichnet ist, daß
- (a) ein die Acrylsäure oder Methacrylsäure enthaltendes Gemisch einem scharfen Trennverfahren im wesentlichen in Abwesenheit eines organischen Lösungsmittels, unterworfen wird, wobei die Phase, in der sich die Acrylsäure oder Methacrylsäure anrei chert, in ihrer Zusammensetzung im wesentlichen konstant bleibt, wenn sich die Zusammensetzung der restlichen am Stoff austausch beteiligten Phasen ändert, diese Phase abgezogen wird, und
- (b) die verbleibende Phase von Stufe (a) wenigstens teilweise einem unscharfen Trennverfahren unterworfen wird, und
- (c) eine der sich in Stufe (b) bildenden Phasen dem scharfen Trennverfahren in Stufe (a) zugeführt wird.
In einer Ausgestaltung betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Her
stellung von Acrylsäure oder Methacrylsäure, das folgende Stufen umfaßt:
- (I) katalytische Gasphasenoxidation von Propen oder Isobuten und/oder Acrolein oder Methacrolein zu Acrylsäure oder Methacrylsäure unter Erhalt eines gasförmigen, die Säure enthaltenden Reaktionsprodukts,
- (II) Absorption des Reaktionsprodukts mit einem hochsiedenden Lösungsmittel,
- (III) Trennung des beladenen Lösungsmittels aus Stufe (II) durch Destillation in das Lösungsmittel und eine Roh-Säure,
- (IV) Reinigung der Acrylsäure oder Methacrylsäure aus der Roh- Säure aus Stufe (III) gemäß dem erfindungsgemäßen Reini gungsverfahren, wobei das unscharfe Trennverfahren die Ab sorption gemäß Stufe (II) und/oder die Destillation gemäß Stufe (III) ist und das scharfe Trennverfahren eine Kristalli sation ist.
Bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung sind in den Unteransprü
chen definiert. Weitere und bevorzugte Merkmale sind in den Fig. 1
bis 6 und der Beschreibung gezeigt.
In den Zeichnungen zeigen:
Fig. 1 ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen
Verfahrens zur Reinigung von Acrylsäure oder Methacrylsäure;
Fig. 2 ein Verfahrensschema zur Herstellung von Acrylsäure bei Ver
wendung einer statischen und dynamischen Kristallisation;
Fig. 3 ein Verfahrensschema zur Herstellung von Acrylsäure bei Ver
wendung einer dynamischen Kristallisation;
Fig. 4 eine Versuchsanordnung zur Herstellung von Roh-Acrylsäure;
Fig. 5 eine Versuchsanordnung gemäß Beispiel 1;
Fig. 6 eine Versuchsanordnung gemäß Beispiel 2.
Bei den gemaß der Erfindung eingesetzten Trennverfahren handelt es
sich um Trennverfahren, bei denen sich Phasen ausbilden. Das scharfe
Trennverfahren ist gemäß der Erfindung ein Verfahren, bei dem die
Phase, in der sich die Acrylsäure oder Methacrylsäure anreichert und/
oder in der überwiegend diese Stoffe vorliegen, in ihrer Zusammen
setzung im wesentlichen konstant bleibt, wenn sich die Zusammensetzung
der restlichen am Stoffaustausch und/oder koexistierenden Phasen ändert.
Insbesondere handelt es sich hierbei um ein Trennverfahren, bei dem die
Zusammensetzung einer der sich bildenden Phasen im wesentlichen
unabhängig von der Zusammensetzung des zugeführten Materials ist. Das
scharfe Trennverfahren wird im wesentlichen in Abwesenheit eines orga
nischen Lösungsmittels durchgeführt, vorzugsweise in vollständiger Ab
wesenheit eines organischen Lösungsmittels. Vorzugsweise enthält das in
Stufe (a) zu reinigende Gemisch nicht mehr als 1 Gew.-%, insbesondere
nicht mehr als 0,1 Gew.-% organisches Lösungsmittel, jeweils bezogen auf
100 Gew.-% zu reinigendes Gemisch. Das gewählte scharfe Trennver
fahren unterliegt dabei keiner Beschränkung. Vorteilhafterweise handelt
es sich hierbei um eine Kristallisation, ein Ausfrieren, eine Eindampfung,
eine Sublimation ober eine Kombination dieser Verfahren einschließlich
dem mehrfachen Einsatz von diesen Verfahren. Am meisten bevorzugt ist
die Kristallisation, wobei diese dynamisch und/oder statisch durchgeführt
wird.
Besonders bevorzugt ist die dynamische Kristallisation oder eine Kom
bination von dynamischer und statischer Kristallisation. Bei letzterer
Ausführungsform wird, wie in EP-A-0 616 998 beschrieben, vorzugsweise
der Rückstand der dynamischen Kristallisation der statischen Kristallisa
tion zugeführt und das Kristallisat der statischen Kristallisation der
dynamischen Kristallisation zugeführt. Die Art und Weise der Durchfüh
rung der dynamischen und/oder statischen Kristallisation ist hierbei nicht
kritisch. Bei der statischen Kristallisation (z. B. US 3 597 164 und FR 2
668 946) wird die flüssige Phase nur durch freie Konvektion bewegt,
während bei der dynamischen Kristallisation die flüssige Phase durch
erzwungene Konvektion bewegt wird. Letzteres kann durch eine erzwun
gene Strömung in voll durchströmten Apparaten (vgl. DE-OS-26 06 364)
oder durch die Aufgabe eines Riesel- oder Fallfilms auf eine gekühlte
Wand (DE 17 69 123 und EP-A-0 218 545) erfolgen. Die dynamische
und statische Kristallisation können jeweils ein- oder mehrstufig durch
geführt werden. Mehrstufige Verfahren werden hierbei zweckmäßigerweise
nach dem Gegenstromprinzip betrieben, bei dem nach der Kristallisation
in jeder Stufe das Kristallisat vom Rückstand abgetrennt wird und dieses
Kristallisat der jeweiligen Stufe mit dem nächsthöheren Reinheitsgrad
zugeführt wird, während der Kristallisationsrückstand der jeweiligen Stufe
mit dem nächst niedrigen Reinheitsgrad zugeführt wird. Üblicherweise
werden alle Stufen, die ein Kristallisat erzeugen, das reiner ist als die
zugeführte Roh-Säurelösung Reinigungsstufen genannt und alle anderen
Stufen Abtriebsstufen genannt. Vorteilhafterweise wird die statische
Kristallisation in den Abtriebsstufen eingesetzt, und zwar dann, wenn die
Ausbeute an der Säure noch weiter erhöht werden soll.
Erfindungsgemäß handelt es sich bei dem unscharfen Trennverfahren um
ein Trennverfahren, das nicht unter obige Definition des scharfen Trenn
verfahrens fällt. Insbesondere handelt es sich hierbei um ein Trennver
fahren, bei dem die Zusammensetzung der sich bildenden Phasen ab
hängig von der Zusammensetzung des zugeführten Materials ist. Die in
Frage kommenden unscharfen Trennverfahren unterliegen hierbei keiner
besonderen Beschränkung. Zweckmäßigerweise handelt es sich um eine
Destillation, Rektifikation, Absorption, Adsorption, Extraktion, Destraktion,
ein Membrantrennverfahren, wie eine Pervaporation/Dämpferpermeation,
oder eine Kombination dieser Verfahren. Vorteilhafterweise wird eine
Destillation, Rektifikation, Absorption oder Extraktion oder eine Kom
bination dieser Verfahren einschließlich dem mehrfachen Einsatz von
diesen Verfahren verwendet. Betrachtet man ein scharfes und ein un
scharfes Trennverfahren im Hinblick auf den Trennaufwand und eine
Trennstufe, dann zielt bei konstantem Trennaufwand ein scharfes Trenn
verfahren auf eine höhere Reinheit ab, während ein unscharfes Trennver
fahren auf eine höhere Ausbeute abzielt.
Eine besonders vorteilhafte Kombination von scharfen und unscharfen
Trennverfahren ist die Kombination von Absorption, Extraktion und/oder
Destillation mit Kristallisation.
Das zu reinigende Gemisch oder das Ausgangsmaterial kann erfindungs
gemäß jedes beliebige Stoffgemisch sein, das Acrylsäure oder
Methacrylsäure enthält. Besonders gut geeignet ist ein Gemisch, wie es
bei der Acrylsäure- oder Methacrylsäureherstellung anfällt durch Oxida
tion von Propen bzw. Isobuten, anschließende Absorption mit einem
hochsiedenden Lösungsmittel und Destillation oder nach der Oxidation
anschließende Kondensation oder Absorption mit Wasser und Extraktion.
Solche Gemische enthalten neben der Säure als Verunreinigungen im
wesentlichen wenigstens eine der Verbindungen ausgewählt aus Aldehy
den, Propionsäure und Essigsäure. Vorzugsweise enthält ein solches Ge
misch Acrylsäure oder Methacrylsäure in einer Menge von 90-99 Gew.-%
und Verunreinigungen vorzugsweise in folgenden Mengen, wobei alle
Mengen jeweils auf 100 Gew.-% des Gemisches bezogen sind: Aldehyde
0,05 bis 2 Gew.-%, Propionsäure 0,01 bis 2 Gew.-% und Essigsäure 0,05
bis 2 Gew.-%. Gemische, die in Stufe (a) dem scharfen Trennverfahren
unterworfen werden, enthalten im wesentlichen kein organisches Lösungs
mittel, vorzugsweise weniger als 1 Gew.-%, insbesondere weniger als 0,1
Gew.-%, besonders bevorzugt weniger als 0,01 Gew.-% organisches
Lösungsmittel, jeweils bezogen auf 100 Gew.-% Gemisch.
Gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren wird wenigstens ein Teil der
in Stufe (a) verbleibenden, an Acrylsäure oder Methacrylsäure abgerei
cherten Phase in Stufe (b) dem unscharfen Trennverfahren zugeführt.
Das für den jeweiligen Anwendungsfall am besten geeignete Zuführ
verhältnis kann vom Fachmann leicht im Rahmen fachüblicher Versuche
ermittelt werden. Vorzugsweise werden 1 bis 100 Gew.-%, insbesondere
5 bis 50 Gew.-%, am meisten bevorzugt 10 bis 20 Gew.-%, der verblei
benden Phase zugeführt.
In einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung wird in Stufe (c) die
an Acrylsäure oder Methacrylsäure angereicherte Phase abgetrennt und
dem scharfen Trennverfahren in Stufe (a) unterworfen. Es besteht die
Möglichkeit, in Stufe (a) und/oder Stufe (b) ein zu reinigendes Aus
gangsmaterial, das Acrylsäure oder Methacrylsäure enthält, als Gemisch
zuzuführen.
Die vorliegende Erfindung ermöglicht es, durch geeignete Wahl der
Menge an von Stufe (a) zu Stufe (b) zugeführter Phase die Ausbeute an
der Säure bei im wesentlichen gleichbleibender Reinheit dieses Stoffes
entsprechend zu erhöhen.
Fig. 1 zeigt ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen
Verfahrens, bei dem zu reinigendes Ausgangsmaterial vor dem unscharfen
Trennverfahren zugeführt wird. Die Dicke der Pfeile zeigt die Mengen
an gewünschtem Produkt (Acrylsäure oder Methacrylsäure) und den
unerwünschten Nebenkomponenten (NK) an.
In einer bevorzugten Ausführungsform betrifft die Erfindung ein Ver
fahren zur Herstellung von Acrylsäure oder Methacrylsäure, das die
Stufen (I) bis (V) wie oben definiert umfaßt. Die einzelnen Stufen
werden im folgenden für Acrylsäure beschrieben. Sie gelten analog für
Methacrylsäure, soweit nichts anderes angegeben ist.
Stufe (I) umfaßt die katalytische Gasphasenreaktion von Propen und/oder
Acrolein mit molekularem Sauerstoff zu Acrylsäure. Bei Methacrylsäure
erfolgt analog eine Gasphasenreaktion von Isobuten und/oder Methacro
lein mit molekularem Sauerstoff. Die Gasphasenreaktion kann nach be
kannten Verfahren, insbesondere wie sie in den oben genannten Druck
schriften beschrieben sind, erfolgen. Vorteilhafterweise wird hierbei bei
Temperaturen zwischen 200 und 400°C gearbeitet. Vorzugsweise werden
als heterogene Katalysatoren oxidische Mehrkomponenten-Katalysatoren
auf der Basis der Oxide von Molybdän, Chrom, Vanadium und/oder
Tellur eingesetzt.
Die Umsetzung von Propen zu Acrylsäure ist stark exotherm. Das Reak
tionsgas, das neben den Edukten und Produkten vorteilhafterweise ein
Verdünnungsgas, z. B. Kreisgas (siehe unten), Luftstickstoff und/oder
Wasserdampf enthält, kann daher nur einen kleinen Teil der Reaktions
wärme aufnehmen. Deshalb werden als Reaktoren meist Rohrbündelwär
metauscher verwendet, die mit dem Oxidationskatalysator gefüllt sind, und
den überwiegenden Teil der bei der Reaktion freiwerdenden Wärme
durch Konvektion und Strahlung an die gekühlten Rohrwände abführen.
In Stufe (I) wird jedoch nicht reine Acrylsäure, sondern ein gasförmiges
Gemisch erhalten, das Acrylsäure und als Nebenkomponenten im wesent
lichen nicht umgesetztes Acrolein und/oder Propen, Wasserdampf, Koh
lenmonoxid, Kohlendioxid, Stickstoff, Sauerstoff, Essigsäure, Propionsäure
Formaldehyd, weitere Aldehyde und Maleinsäureanhydrid enthalten kann.
Insbesondere enthält das Reaktionsproduktgemisch typischerweise, jeweils
angegeben in Gew.-% bezogen auf das gesamte Reaktionsgemisch, von
0,05 bis 1% Propen und 0,05 bis 1% Acrolein, 0,01 bis 2% Propan,
1 bis 20% Wasserdampf, 0,05 bis 15% Kohlenoxide, 10 bis 90%
Stickstoff, 0,05 bis 5% Sauerstoff, 0,05 bis 2% Essigsäure, 0,01 bis 2%
Propionsäure, 0,05 bis 1% Formaldehyd, 0,05 bis 2% Aldehyde
sowie 0,01 bis 0,5% Maleinsäureanhydrid.
In Stufe (II) werden die Acrylsäure und ein Teil der Nebenkomponenten
aus dem Reaktionsgas durch Absorption mit einem hochsiedenden Lö
sungsmittel abgetrennt. Hierfür geeignet sind alle hochsiedenden Lösungs
mittel, insbesondere Lösungsmittel mit einem Siedepunkt über 160°C.
Besonders geeignet ist ein Gemisch aus Diphenylether und Biphenyl, wie
z. B. das im Handel erhältliche Gemisch aus 75 Gew.-% Diphenylether
und 25 Gew.-% Biphenyl.
Vorliegend bezeichnen die Begriffe Hoch- oder Schwersieder, Mittelsieder
und Leichtsieder sowie entsprechend adjektivisch gebrauchte Begriffe
Verbindungen, die einen höheren Siedepunkt als die Acrylsäure besitzen
(Hochsieder) bzw. solche, die in etwa den gleichen Siedepunkt wie
Acrylsäure besitzen (Mittelsieder) bzw. solche, die einen niedrigeren
Siedepunkt als Acrylsäure besitzen (Leichtsieder).
Vorteilhafterweise wird das aus Stufe (I) erhaltene heiße Reaktionsgas
durch Teilverdampfen des Lösungsmittels in einem geeigneten Apparat,
z. B. einem Direktkondensator oder Quenchapparat, vor der Absorption
abgekühlt. Hierfür eignen sich insbesondere Venturiwäscher, Blasensäulen
oder Sprühkondensatoren. Dabei kondensieren die schwersiedenden
Nebenkomponenten des Reaktionsgases aus Stufe (I) in das nicht ver
dampfte Lösungsmittel. Außerdem ist die Teilverdampfung des Lösungs
mittels ein Reinigungsschritt für das Lösungsmittel. In einer bevorzugten
Ausführungsform der Erfindung wird ein Teilstrom des nicht verdampften
Lösungsmittels, vorzugsweise 1 bis 10% des der Absorptionskolonne
zugeführten Massenstroms, abgezogen und einer Lösungsmittelreinigung
unterworfen. Hierbei wird das Lösungsmittel überdestilliert und zurück
bleiben die schwersiedenden Nebenkomponenten, die - bei Bedarf weiter
eingedickt - entsorgt, z. B. verbrannt, werden können. Diese Lösungsmittel
destillation dient der Vermeidung einer zu hohen Konzentration an
Schwersieder im Lösungsmittelstrom.
Die Absorption erfolgt in einer Gegenstromabsorptionskolonne, die
vorzugsweise mit Ventil- oder Dualflowböden bestückt ist, die von oben
mit (nicht verdampftem) Lösungsmittel beaufschlagt wird. Das gasförmige
Reaktionsprodukt und gegebenenfalls verdampftes Lösungsmittel werden
von unten in die Kolonne eingeleitet und anschließend auf Absorption
stemperatur abgekühlt. Die Abkühlung erfolgt vorteilhafterweise durch
Kühlkreise, d. h. erwärmtes Lösungsmittel wird aus der Kolonne abgezo
gen, in Wärmetauschern abgekühlt und wieder an einer Stelle oberhalb
der Abzugsstelle der Kolonne zugeführt. In diese Lösungsmittelkühlkreise
kondensieren neben der Acrylsäure schwer- und mittelsiedende Neben
komponenten sowie verdampftes Lösungsmittel. Sobald der Reaktionsgas
strom auf die Absorptionstemperatur abgekühlt ist, erfolgt die eigentliche
Absorption. Dabei wird der im Reaktionsgas verbliebene Rest der Acryl
säure absorbiert sowie ein Teil der leichtsiedenden Nebenkomponenten.
Das verbleibende, nicht absorbierte Reaktionsgas von Stufe (I) wird
weiter abgekühlt, um den kondensierbaren Teil der leichtsiedenden
Nebenkomponenten davon, insbesondere Wasser, Formaldehyd und Essig
säure, durch Kondensation abzutrennen. Dieses Kondensat wird im
folgenden Sauerwasser genannt. Der verbleibende Gasstrom, im folgenden
Kreisgas genannt, besteht überwiegend aus Stickstoff, Kohlenoxiden und
nicht umgesetzten Edukten. Vorzugsweise wird dieser teilweise wieder als
Verdünnungsgas den Reaktionsstufen zugeführt.
Aus dem Sumpf der in Stufe (II) eingesetzten Kolonne wird ein mit
Acrylsäure, schwer- und mittelsiedenden Nebenkomponenten sowie einem
geringen Anteil an leichtsiedenden Nebenkomponenten beladener Lö
sungsmittelstrom abgezogen und in einer bevorzugten Ausgestaltung der
Erfindung einer Desorption unterzogen. Vorteilhafterweise wird diese in
einer Kolonne, die vorzugsweise mit Ventil- oder Dualflowböden aber
auch mit Füllkörpern oder geordneten Packungen bestückt sein kann, in
Anwesenheit eines sog. Stripp- oder Abstreifgases durchgeführt. Bei dem
Strippgas kann jedes inerte Gas oder Gasgemisch verwendet werden,
vorzugsweise wird ein Gasgemisch von Luft und Stickstoff verwendet, da
dieses in Stufe (I) bei Durchführung einer Verdampfung eines Teils des
Lösungsmittels anfällt. Bei der Desorption wird der größte Teil der
Leichtsieder mit einem Teil des Kreisgases, das vor Stufe (I) entnommen
wird, aus dem beladenen Lösungsmittel gestrippt. Da hierbei auch größe
re Mengen an Acrylsäure mitgestrippt werden, wird zweckmäßigerweise
dieser Strom, der im folgenden Strippkreisgas genannt wird, aus wirt
schaftlichen Gründen nicht verworfen, sondern rezirkuliert, z. B. in die
Stufe, in der die Teilverdampfung des Lösungsmittels erfolgt, oder in die
Absorptionskolonne. Da das Strippgas ein Teil des Kreisgases ist, enthält
es selbst noch nennenswerte Mengen an Leichtsieder. Die Leistung der
zur Desorption verwendeten Kolonne läßt sich erhöhen, wenn man die
Leichtsieder vor dem Einieiten in die Kolonne aus dem Strippgas ent
fernt. Zweckmäßigerweise wird dieses verfahrenstechnisch in der Art
durchgeführt, indem man das Strippgas mit in der unten beschriebenen
Stufe (III) aufgearbeitetem Lösungsmittel in einer Gegenstromwaschkolon
ne reinigt.
Aus dem Sumpf der zur Desorption verwendeten Kolonne kann dann ein
nahezu leichtsiederfreier, mit Acrylsäure beladener Lösungsmittelstrom
abgezogen werden.
In Verfahrensstufe (III) wird die Acrylsäure zusammen mit den mittel
siedenden Komponenten sowie dem letzten Rest an leichtsiedenden
Nebenkomponenten vom Lösungsmittel abgetrennt. Diese Trennung
erfolgt mittels Destillation, wobei grundsätzlich jede Destillationskolonne
verwendet werden kann. Vorteilhafterweise wird hierzu eine Kolonne mit
Siebböden, z. B. Dual-Flow-Böden oder Querstromsiebböden aus Metall
verwendet. Im Auftriebsteil der Kolonne wird die Acrylsäure vom Lö
sungsmittel und den mittelsiedenden Nebenkomponenten, wie Maleinsäu
reanhydrid, frei destilliert. Um den Leichtsiederanteil in der Acrylsäure
zu reduzieren, wird vorteilhafterweise der Auftriebsteil der Kolonne ver
längert und die Acrylsäure als Seitenabzug aus der Kolonne abgezogen.
Diese Acrylsäure wird Roh-Acrylsäure genannt.
Am Kopf der Kolonne wird dann nach einer Partialkondensation ein an
Leichtsiedern reicher Strom abgezogen. Da dieser Strom aber noch
Acrylsäure enthält, wird er vorteilhafterweise nicht verworfen, sondern der
Absorptionsstufe (II) rückgeführt.
Aus dem Sumpf der Kolonne wird das von Leichtsiedern freie und nahe
zu von Acrylsäure freie Lösungsmittel abgezogen und vorzugsweise zum
überwiegenden Teil der Gegenstromwaschkolonne zugeführt, in der das
Strippgas von Stufe (II) gereinigt wird, um die Leichtsieder aus dem
Strippgas zu waschen. Anschließend wird das nahezu Acrylsäure-freie
Lösungsmittel der Absorptionskolonne zugeführt.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung wird das Sauer
wasser, das noch Acrylsäure gelöst enthalten kann, mit einem kleinen
Teilstrom des nahezu Acrylsäure-freien Lösungsmittels extraktiv behandelt.
Bei dieser Sauerwasser-Extraktion wird ein Teil der Acrylsäure in das
Lösungsmittel extrahiert und somit aus dem Sauerwasser zurückgewonnen.
Das Sauerwasser extrahiert im Gegenzug die polaren mittelsiedenden
Komponenten aus dem Lösungsmittelstrom und vermeidet damit eine
Zunahme dieser Komponenten im Lösungsmittelkreislauf. Der erhaltene
Strom aus Leicht- und Mittelsieder kann, was insbesondere bei Vorhan
densein von Umweltschutzauflagen erforderlich sein kann, eingeengt
werden.
Die in Stufe (III) erhaltene Roh-Acrylsäure enthält, jeweils bezogen auf
die Roh-Acrylsäure, vorzugsweise 98 bis 99,8 Gew.-%, insbesondere 98,5
bis 99,5 Gew.-%, Acrylsäure und 0,2 bis 2 Gew.-%, insbesondere 0,5 bis
1,5 Gew.-% Verunreinigungen, wie z. B. Essigsäure, Aldehyde und Mal
einsäureanhydrid. Diese Acrylsäure kann, sofern die Anforderungen an
ihre Reinheit nicht sehr hoch sind, gegebenenfalls bereits zur Veresterung
verwendet werden.
Die Abtrennung der Acrylsäure von der aus Stufe (III) erhaltenen Roh-
Acrylsäure erfolgt mittels dynamischer oder einer Kombination von
dynamischer und statischer Kristallisation, wobei die entstehende Mutter
lauge (Restphase) nicht verworfen wird, sondern wenigstens teilweise in
die Absorptionsstufe (II) oder Destillationsstufe (III) zurückgeführt wird.
Am meisten bevorzugt ist eine Rückführung in die Absorption, da auf
diese Weise eine bessere Abtrennung der Nebenkomponenten durch eine
Leichtsieder-Wäsche und ein Leichtsieder-Abstreifen möglich ist.
In Stufe (IV) wird die zu reinigende Roh-Acrylsäure in flüssiger Phase
in den Kristallisationsapparat eingefüllt und anschließend an den gekühl
ten Flächen eine feste Phase ausgefroren, die sich in ihrer Zusammen
setzung von der eingefüllten flüssigen Phase unterscheidet. Nachdem ein
bestimmter Anteil der eingesetzten Acrylsäure ausgefroren ist (zweck
mäßigerweise zwischen 50-80%, insbesondere 60-70%), wird die
verbleibende flüssige Restphase abgetrennt. Vorteilhafterweise erfolgt dies
durch einfaches Abfließenlassen oder Abpumpen der Restphase. Dem
Kristallisationsschritt können sich weitere Reinigungsschritte wie das sog.
Waschen der Kristallschicht (vgl. DE 37 08 709) oder das sog. Schwitzen,
d. h. ein partielles Abschmelzen verunreinigter Kristallbereiche, anschlie
ßen. Zweckmäßigerweise wird dem Kristallisationsschritt ein Schwitzschritt
angeschlossen, wenn die gesamte Reinigungswirkung einer Stufe verbessert
werden soll.
Falls gewünscht, kann die in Stufe (IV) erhaltene Rein-Acrylsäure nach
bekannten Methoden verestert werden.
Fig. 2 und 3 zeigen Verfahrensschemata zur Herstellung der Acrylsäure.
Gemäß Fig. 2 wird nach der Verdichtung des Kreisgases, das im wesent
lichen aus Stickstoff, Kohlenoxiden und nicht umgesetzten Edukten
besteht, dieses zusammen mit Propen und Luft einem Reaktor zugeführt,
in dem die heterogen katalysierte Oxidation von Propen zu Acrolein
stattfindet. Dem dabei entstehenden Zwischenreaktionsgas wird weiterhin
Luft zugeführt, um im zweiten Reaktor die heterogen katalysierte Oxida
tion von Acrolein durchzuführen.
Das entstehende heiße, die Acrylsäure enthaltende, gasförmige Reaktions
produkt wird durch Teilverdampfen des Lösungsmittels in einem Direkt
kondensator K9 vor der Absorption abgekühlt. Hierbei kondensieren die
schwersiedenden Nebenkomponenten des Reaktionsproduktes in das
nichtverdampfte Lösungsmittel. Ein Teilstrom aus dem Direktkondensator
K9 wird einer Lösungsmitteldestillation unterzogen, wobei das Lösungs
mittel überdestilliert wird und die schwersiedenden Nebenkomponenten
zurückbleiben. Letztere können weiter eingedickt und entsorgt, z. B.
verbrannt, werden.
Die Kolonne K10, bei der es sich vorzugsweise um eine gefüllte Kolonne
handelt, wird von oben mit (nichtverdampftem) Lösungsmittel beauf
schlagt, während das verdampfte Lösungsmittel und das gasförmige
Reaktionsprodukt von unten in die Kolonne K10 eingeleitet und an
schließend auf Absorptionstemperatur abgekühlt werden. Die Abkühlung
erfolgt durch Kühlkreise (nicht gezeigt). In diese Kühlkreise kondensieren
sowohl das verdampfte Lösungsmittel als auch die Acrylsäure sowie alle
schwer- und mittelsiedenden Nebenkomponenten. Nachdem der gesamte
Reaktionsgasstrom auf die Absorptionstemperatur abgekühlt ist, erfolgt
die eigentliche Absorption. Dabei wird der im Reaktionsgas verbleibende
Rest der Acrylsäure absorbiert sowie ein Teil der leichtsiedenden Neben
komponenten. Anschließend wird das nicht absorbierte, verbleibende
Reaktionsgas weiter abgekühlt, um den kondensierbaren Teil der leicht
siedenden Nebenkomponenten aus dem Gasstrom abzutrennen, in Fig. 1
gezeigt als Sauerwasser-Quench. Dieses Kondensat wird Sauerwasser
genannt. Der verbliebene Gasstrom, das Kreisgas, kann nun teilweise
wieder als Verdünnungsgas den Reaktionsstufen wie in Fig. 1 gezeigt,
zugeführt werden.
Aus dem Sumpf der Kolonne K10 wird das mit Acrylsäure und Neben
komponenten beladene Lösungsmittel abgezogen und der Desorptions
kolonne K20 zugeführt. In dieser werden der größte Teil der Leichtsieder
mit einem Teil des Kreisgases, das vor den Oxidationsstufen entnommen
wird, aus dem beladenen Lösungsmittel gestrippt. Da hierbei auch größe
re Mengen an Acrylsäure mitgestrippt werden, wird dieser Strom z. B.
wieder in den Direktkondensator K9 rezirkuliert.
Zur Erhöhung der Desorptionsleistung der Kolonne K20 werden die
Leichtsieder, die im Strippgas enthalten sind, vor dem Einleiten in die
Kolonne K20 entfernt. Verfahrenstechnisch zweckmäßigerweise erfolgt dies
dadurch, daß das Strippgas mit aufgearbeitetem Lösungsmittel aus der
unten näher beschriebenen Kolonne K30 in einer Gegenstromwaschkolon
ne K19 gereinigt wird.
Im nächsten Verfahrensschritt wird aus dem Sumpf der Desorptions
kolonne K20 ein nahezu leichtsiederfreier, mit Acrylsäure beladener
Lösungsmittelstrom abgezogen und der Destillationskolonne K30, bei der
es sich vorzugsweise um eine Siebbodenkolonne handelt, zugeführt. In
den Sumpf der Kolonne K30 kondensiert das schwersiedende Lösungs
mittel und die mittelsiedenden Nebenkomponenten, z. B. Maleinsäureanhy
drid. Da die am Kopf der Kolonne K30 abgezogene Acrylsäure noch
nennenswerte Mengen an leichtsiedenden Nebenkomponenten enthält,
reduziert man diesen Leichtsiederanteil zweckmäßigerweise dadurch, daß
man den Auftriebsteil der Kolonne K30 weiter verlängert und die Acryl
säure als Seitenabzug aus der Kolonne abzieht. Diese Acrylsäure wird
Roh-Acrylsäure genannt.
Der am Kopf der Destillationskolonne K30 abgezogene Leichtsieder
reiche Strom wird, da er noch Acrylsäure enthält, zweckmäßigerweise
wieder in die Absorptionskolonne K10 zurückgeführt.
Das aus dem Sumpf der Destillationskolonne K30 abgezogene, Leicht
sieder-freie und fast Acrylsäure-freie Lösungsmittel wird zum überwiegen
den Teil der Gegenstromwaschkolonne K19 zugeführt, um, wie bereits
oben erwähnt, die Leichtsieder aus dem Strippgasstrom, der in die
Desorptionskolonne K20 führt, zu waschen. Anschließend wird das nahezu
Acrylsäure-freie Lösungsmittel der Absorptionskolonne K10 zugeführt. Mit
einem kleinen Teilstrom des nahezu Acrylsäure-freien Lösungsmittels aus
dem Sumpf der Destillationskolonne K30 wird das Sauerwasser, das noch
Acrylsäure gelöst enthält, extraktiv behandelt. Bei dieser Sauerwasser-
Extraktion wird ein Teil der Acrylsäure aus dem Sauerwasser zurückge
wonnen, während im Gegenzug das Sauerwasser alle polaren Komponen
ten aus dem Lösungsmittelteilstrom extrahiert. Das hierbei entstehende
Sauerwasser kann vorverdampft und anschließend verbrannt werden.
Die aus dem Seitenabzug der Destillationskolonne K30 gewonnene Roh-
Acrylsäure wird anschließend einer dynamischen und statischen Kristallisa
tion unterzogen. Die Mutterlauge aus der statischen Kristallisation wird
dann vollständig der Absorptionsstufe zurückgeführt.
Falls gewünscht, wird die erhaltene Rein-Acrylsäure dann mit Alkoholen
zu den gewünschten Acrylaten verestert.
Fig. 3 unterscheidet sich von Fig. 2 darin, daß statt der dynamischen und
statischen Kristallisation nur eine dynamische Kristallisation vorgesehen
ist.
Das erfindungsgemäße Verfahren bietet somit den Vorteil, daß durch
Rückführung die Gesamtausbeute an dem gewünschten Stoff und damit
die Gesamtwirtschaftlichkeit des Verfahrens erhöht wird. Weiterhin bietet
es die Möglichkeit durch Verzicht auf eine statische Kristallisation die
Wirtschaftlichkeit nochmals zu erhöhen.
Die Erfindung wird anhand der folgenden Beispiele, die bevorzugte
Ausführungsformen der Erfindung darstellen, näher erläutert.
In einer Miniplant wurden stündlich 426 g Roh-Acrylsäure erzeugt. Die
Verschaltung der Apparate, die geförderten Mengen und die eingestellten
Betriebsparameter sind in Fig. 4 gezeigt. In dieser Figur sind die glei
chen Kolonnen und Apparate wie in Fig. 2 und 3 gezeigt, wobei sich
gleiche Bezeichnungen entsprechen. Die Oxidation von Propen mit Luft
via Acrolein erfolgte in zwei hintereinandergeschalteten Reaktionsrohren
mit 26 mm Durchmesser und 2,5 m Katalysatorschüttungslänge. Das erste
Rohr war mit einem Schalen-Katalysator, wie er in EP 575 897 beschrie
ben ist, gefüllt und das zweite Reaktionsrohr enthielt einen Schalen-
Katalysator, wie er in EP 609 750 beschrieben ist. Die Kolonnen K10,
K20 und K30 waren verspiegelte bzw. thermostatisierte Laborkolonnen
mit 50 mm Durchmesser. Der Direktkondensator K9 war ein Venturiwä
scher. Die Kolonnen K10 und K20 waren mit 5 mm-Metallwendeln
gefüllt. Die Destillationskolonne K30 war mit Siebböden (Dual-Flow-
Böden) aus Metall gefüllt. Die Bohrungen in den Siebböden waren so
ausgeführt, daß sich Sprudelschichten ausbilden konnten.
Die dynamische Kristallisation wurde in einem Kristallisator, wie er in
DE-A- 26 06 364 (BASF) beschrieben ist durchgeführt, wobei mit einem
volldurchströmten Rohr gearbeitet wurde. Die Daten des Kristallisators
waren wie folgt:
- - zweizügig mit je einem Rohr (Innendurchmesser 26 mm) pro Zug
- - Rohrlänge 5 m
- - Primärkreispumpe als Kreiselpumpe mit Drehzahlregelung
- - Anlagenvolumen primärseitig ca. 11 l
- - Ausfrierrate ca. 45% (Ausfrierrate = Kristallisatmasse/Masse Roh schmelze)
- - 4 Stufenbehälter mit je 100 l Volumen
- - Temperierung der Anlage mit Kälteanlage und 4 bar Dampf über Wärmetauscher.
Die Anlage wurde über ein Prozeßleitsystem gesteuert, wobei der Pro
grammablauf für eine Stufe wie folgt war:
- 1. Füllen des Primärkreises
- 2. Entleeren des Primärkreises und Anfrieren einer Impfschicht
- 3. Temperatur auf ca. 2°C unter Schmelzpunkt anheben
- 4. Primärkreis füllen zum Kristallisieren
- 5. Kristallisieren (Temperaturprogramm)
- 6. Nach dem Ende der Kristallisation Restschmelze abpumpen
- 7. Temperatur anheben zum Aufschmelzen der Kristallschicht
- 8. Aufgeschmolzenes Kristallisat abpumpen
- 9. Start einer neuen Stufe
Die Temperaturen, Drücke und Volumenströme sind abhängig von der
jeweils zu fahrenden Stufe.
Die hierfür verwendete Anlage bestand aus einen Rohrkristallisator aus
Glas, der einen Innendurchmesser von 80 mm hatte und dessen Länge
1 m betrug. Der Kristallisator wurde über einen Mantel aus Glas tempe
riert. Das Füllvolumen des Kristallisators betrug 2,0 bis 5,0 l (variabel).
Die Temperierung der Anlage erfolgte über einen Thermostaten, wobei
die Temperatursteuerung über einen Programmgeber erfolgte. Die Aus
frierrate (nach dem Schwitzen) betrug ca. 50%. Der Programmablauf für
eine Stufe war wie folgt:
- 1. Füllen des Kristallisators
- 2. Temperieren des Apparats mit Inhalt (auf ca. 1 K über Schmelztem peratur)
- 3. Kristallisieren (Temperaturprogramm)
- 4. Nach Ende des Kristallisierens Restschmelze ablassen
- 5. Schwitzen (Temperaturprogramm)
- 6. Kristallisat abschmelzen
- 7. Start einer neuen Stufe.
Die Temperaturen sind abhängig von der jeweils zu fahrenden Stufe.
Die in den Beispielen 1 bis 3 gezeigten Zahlenwerte ergaben sich aus
den tatsächlichen Meßergebnissen einer Mehrzahl von Versuchen.
Das Verfahrenschema dieses Beispiels ist in Fig. 5 gezeigt, wobei die
Bezeichnungen denen von Fig. 2 bis 4 entsprechen.
Aus dem Seitenabzug der Destillationskolonne K30 wurden 426 g/h Roh-
Acrylsäure in einer Reinheit von 99,7 Gew.-% abgezogen.
Aus der Rohsäureaufarbeitung wurden noch zwei weitere Ströme abgezo
gen: 109 g/h Sauerwasser mit 3,2 Gew.-% Acrylsäure und 1 g/h Destilla
tionsrückstand mit 2,5 Gew.-% Acrylsäure. Diese beiden Ströme dienen
zur Ausschleusung der Nebenkomponenten und wurden deshalb verwor
fen. Da diese beiden Ströme Acrylsäure enthalten, ist die Ausbeute der
Rohsäureaufarbeitung nicht 100%, sondern lediglich 99,2%.
Die Roh-Acrylsäure aus der Kolonne K30 wurde anschließend in einer
der oben beschriebenen Kristallisationsstufen gereinigt. Dabei wurde eine
Rein-Acrylsäure in einer Reinheit von 99,95 Gew.-% erhalten. Der
Kristallisationsrückstand dieser Reinigungsstufen wurde in 3 dynamischen
und 2 statischen Kristallisationsstufen aufgearbeitet. Der Kristallisations
rückstand wurde in diesen 5 Abtriebsstufen auf 4 g/h eingeengt und als
sogenannte Mutterlauge mit einem Acrylsäuregehalt von 76,9 Gew.-% aus
der Anlage abgezogen und verworfen.
Aufgrund des Acrylsäureverlustes über die verworfene Mutterlauge ist die
Ausbeute der Kristallisation nur 99,2%.
Somit beträgt die Gesamtausbeute 98,4%.
Dieses Beispiel wurde analog zu Beispiel 1 durchgeführt, ausgenommen
daß der Kristallisationsrückstand nur in 3 dynamischen Kristallisations
stufen aufgearbeitet wurde und die Mutterlauge aus der Kristallisation
nicht verworfen, sondern in die Kolonne K10 (Absorption) vollständig
rezirkuliert wurde. Der Verfahrensablauf ist in Fig. 6 gezeigt, wobei die
Bezeichnungen denen von Fig. 2 bis 5 entsprechen.
Aus dem Seitenabzug der Kolonne K30 wurden in diesem Beispiel 579
g/h (nicht 426 g/h) Roh-Acrylsäure in einer Reinheit von 99,7 Gew.-%
erhalten.
Aus der Rohsäureaufarbeitung wurden wie in Beispiel 1 109 g/h Sauer
wasser mit jedoch 2,9 Gew.-% Acrylsäure und 1 g/h Destillationsrück
stand abgezogen. Die Ausbeute der Rohsäureaufarbeitung betrug 99,3%.
Die Roh-Acrylsäure aus der Kolonne K30 wurde wie in Beispiel 1
gereinigt. Dabei wurde eine Rein-Acrylsäure mit 99,90 Gew.-% Acrylsäu
re erhalten. Der Kristallisationsrückstand dieser Reinigungsstufe wurde in
den 3 dynamischen Abtriebsstufen auf 156 g/h eingeengt. Diese Mutter
lauge mit einem Acrylsäuregehalt von 98,9 Gew.-% wurde vollständig in
die Kolonne K10 rezirkuliert.
Aufgrund der Rezirkulation der Mutterlauge entsteht in der Kristallisation
kein Verlust. Die Gesamtausbeute beträgt somit 99,5%.
Beispiel 3 wurde analog zu Beispiel 1 durchgeführt, ausgenommen daß
50% der Mutterlauge aus der Kristallisation in die Kolonne K10 rezir
kuliert wurden.
Aus dem Seitenabzug der Destillationskolonne K30 wurden statt 426 g/h
jedoch 428 g/h Roh-Acrylsäure in einer Reinheit von 99,7 Gew.-%
erhalten.
Aus der Rohsäureaufarbeitung wurden 109 g/h Sauerwasser mit 2,9
Gew.-% Acrylsäure und 1 g/h Destillationsrückstand mit 2,8 Gew.-%
Acrylsäure abgezogen. Die Ausbeute der Rohsäureaufarbeitung betrug
somit 99,3%.
Die Roh-Acrylsäure aus der Destillationskolonne K30 hatte nach Reini
gung (wie in Beispiel 1) eine Reinheit von 99,95 Gew.-%. Der Kristalli
sationsrückstand wurde in den drei dynamischen und zwei statischen
Abtriebsstufen auf 4 g/h Mutterlauge mit einem Acrylsäuregehalt von
76,1 Gew.-% eingeengt. Hiervon wurde die Hälfte in die Kolonne K10
rezirkuliert und die andere Hälfte wurde verworfen.
Die Gesamtausbeute betrug somit 90,0%.
Die Ergebnisse der Beispiele 1 bis 3 sind in der folgenden Tabelle
zusammengefaßt. In allen Beispielen lag der Gehalt an Propionsäure und
Essigsäure in der Reinacrylsäure unter 500 ppm.
Claims (16)
1. Verfahren zur Reinigung von Acrylsäure oder Methacrylsäure durch
Trennverfahren, bei denen sich Phasen ausbilden, dadurch gekenn
zeichnet, daß
- (a) ein die Acrylsäure oder Methacrylsäure enthaltendes Gemisch einem scharfen Trennverfahren im wesentlichen in Abwesenheit eines organischen Lösungsmittels unterworfen wird, wobei die Phase, in der sich die Acrylsäure oder Methacrylsäure anrei chert, in ihrer Zusammensetzung im wesentlichen konstant bleibt, wenn sich die Zusammensetzung der restlichen am Stoff austausch beteiligten Phasen ändert, diese Phase abgezogen wird, und
- (b) die verbleibende Phase von Stufe (a) wenigstens teilweise einem unscharfen Trennverfahren unterworfen wird, und
- (c) eine der sich in Stufe (b) bildenden Phasen dem scharfen Trennverfahren in Stufe (a) zugeführt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in Stufe
(c) die an Acrylsäure oder Methacrylsäure angereicherte Phase aus
Stufe (b) dem scharfen Trennverfahren zugeführt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß in
Stufe (b) 1-100 Gew.-% der verbleibenden Phase von Stufe (a)
dem unscharfen Trennverfahren unterworfen werden.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeich
net, daß in Stufe (b) die verbleibende Phase von Stufe (a) voll
ständig dem unscharfen Trennverfahren zugeführt wird.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß in Stufe (a) in das scharfe Trennverfahren ein
zu reinigendes Ausgangsmaterial als das Gemisch zugeführt wird.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß in Stufe (b) in das unscharfe Trennverfahren
ein zu reinigendes Ausgangsmaterial zugeführt wird.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß das scharfe Trennverfahren eine Kristallisation,
ein Ausfrieren oder eine Sublimation ist.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß das unscharfe Trennverfahren eine Destillation,
Rektifikation, Absorption oder Extraktion ist.
9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß das Gemisch Acrylsäure und als Verunreinigun
gen im wesentlichen zumindest eine der Verbindungen ausgewählt
aus Aldehyden, Propionsäure und Essigsäure enthält.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeich
net, daß als scharfes Trennverfahren eine dynamische und/oder
statische Kristallisation durchgeführt wird.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß als schar
fes Trennverfahren eine kombinierte dynamische und statische Kri
stallisation durchgeführt wird, wobei der Rückstand der dynamischen
Kristallisation der statischen Kristallisation zugeführt wird und das
Kristallisat der statischen Kristallisation der dynamischen Kristallisa
tion zugeführt wird.
12. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, daß
die dynamische Kristallisation mittels eines voll durchströmten Appa
rats oder eines Fallfilmkristallisators durchgeführt wird.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 12, dadurch gekenn
zeichnet, daß die dynamische und/oder statische Kristallisation als
Gegenstromkristallisation durchgeführt wird.
14. Verfahren zur Herstellung von Acrylsäure oder Methacrylsäure,
wobei das Verfahren folgende Stufen umfaßt:
- (I) katalytische Gasphasenoxidation von Propen oder Isobuten und/oder Acrolein oder Methacrolein zu Acrylsäure oder Methacrylsäure unter Erhalt eines gasförmigen, die Säure enthaltenden Reaktionsprodukts,
- (II) Absorption des Reaktionsprodukts mit einem hochsiedenden Lösungsmittel,
- (III) Trennung des beladenen Lösungsmittels aus Stufe (II) in das Lösungsmittel und eine Roh-Säure durch Destillation,
- (IV) Reinigung der Acrylsäure oder Methacrylsäure aus der Roh- Säure aus Stufe (III) nach einem der in den Ansprüchen 1 bis 13 definierten Verfahren, wobei das unscharfe Trennver fahren die Absorption gemäß Stufe (II) und/oder die De stillation gemäß Stufe (III) ist und das scharfe Trennver fahren eine Kristallisation ist.
15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß in Stufe
(II) als hochsiedendes Lösungsmittel ein Gemisch aus Diphenylether
und Biphenyl verwendet wird.
16. Verfahren nach Anspruch 14 oder 15, dadurch gekennzeichnet, daß
in Stufe (III) Roh-Säure durch Seitenabzug aus der zur Destillation
verwendeten Kolonne entnommen wird.
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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8130 | Withdrawal |