DE19503675A1 - Optisches Übertragungssystem und Verfahren zur Lichtausstrahlung - Google Patents
Optisches Übertragungssystem und Verfahren zur LichtausstrahlungInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches
Übertragungssystem zur Verwendung in einer Laserbear
beitungsvorrichtung zum Bearbeiten solcher Materia
lien wie Metalle, Keramiken und Harze, insbesondere
ein optisches Übertragungssystem für die Übertragung
von Laserstrahlen, um eine Bearbeitung oder Oberflä
chenbehandlung zu bewirken.
Fig. 1 zeigt ein herkömmliches optisches Übertra
gungssystem, das beispielsweise in der japanischen
Patentveröffentlichung Nr. 55157/90 offenbart ist.
Fig. 1 zeigt einen Laseroszillator 1, eine Kondensor
linse 2 zum Sammeln des vom Laseroszillator 1 emit
tierten Lichts und Leiten des gesammelten Strahls zu
einer Faser 3, eine Bestrahlungslinse 4 zum Bestrah
len eines Gegenstands 5 mit dem aus der Faser 3 her
austretenden Lichtstrahl, sowie die Laserstrahl 11, 12, 13 und 16.
Die Brennweite der Kondensorlinse 2
und die der Bestrahlungslinse 4 sowie die Positions
beziehung der verwendeten optischen Systeme sind op
timiert für eine wirksame Ausnutzung der Laserener
gie.
Es wird nun Bezug genommen auf die Arbeitsweise des
vorbeschriebenen herkömmlichen optischen Übertra
gungssystems. Der von dem Laseroszillator 1 emittier
te Laserstrahl 11 wird von der Kondensorlinse 2 ge
sammelt (Laserstrahl 12) und in die optische Faser 3
eingeführt. Der auftreffende Lichtstrahl tritt am
entgegengesetzten Ende der optischen Faser 3 aus (La
serstrahl 13) und der ausgetretene Laserstrahl 13
wird durch die Bestrahlungslinse 4 auf den Gegenstand
5 fokussiert.
Das herkömmliche optische Übertragungssystem ist wie
vorstehend ausgebildet. Die in den herkömmlichen op
tischen Systemen verwendeten Linsen sind sphärische
Linsen, wie in Fig. 1 gezeigt ist, und der übertrage
ne Laserstrahl ist in axialer Symmetrie mit Bezug auf
seine Fortpflanzungsrichtung. Daher ist die Gestalt
des auf den zu bestrahlenden Gegenstand gestrahlten
Laserstrahls auf die Form eines kreisförmigen Flecks
begrenzt. Um den Strahldurchmesser auf den kleinsten
Wert herabzusetzen, wird außerdem gewöhnlich eine
Konstruktion verwendet, in der die Strahlverteilung
am Ausgangsende der Faser durch die Bestrahlungslinse
4 einer Reduktionstranskription unterzogen wird, so
daß die auf den Gegenstand gestrahlte Strahlvertei
lung auf eine Zylinderhutform begrenzt ist, reflek
tierend die üblicherweise zylinderhutförmige Intensi
tätsverteilung am Ausgangsende der Fasern. Gemäß ei
nem weiteren beim herkömmlichen optischen Übertra
gungssystem auftretenden Problem hat der von einem
Brennpunkt fortschreitende Lichtstrahl noch eine zu
große Ausdehnung bei Verwendung eines optischen Fo
kussiersystems mit einer einzigen Linsengruppe, so
daß, wenn er auf ein Werkstück gestrahlt wird, es
unmöglich ist, eine Bearbeitung mit einer großen
Brenntiefe zu bewirken.
Die vorliegende Erfindung wurde in Anbetracht der
vorerwähnten Probleme gemacht und es ist die Aufgabe
der Erfindung, ein optisches Übertragungssystem vor
zusehen, bei dem ein Lichtstrahl eine optimale Licht
intensitätsverteilung in Richtung der optischen Achse
oder in einer Ebene senkrecht zur optischen Achse
hat, wodurch es möglich ist, jede gewünschte Bearbei
tung zu bewirken, das in der Lage ist, ein Bild auf
einen zu bestrahlenden Gegenstand zu bilden, das eine
gewünschte Lichtintensitätsverteilung in einer Rich
tung senkrecht zur optischen Achse hat, wodurch es
möglich ist, eine gewünschte Bearbeitung zu bewirken,
das verschiedene Formen von Strahlen ermöglicht, die
leicht durch bloßes Ändern des Abstands zwischen er
sten und zweiten Linsen zu erhalten sind, das in der
Lage ist, verschiedene Formen von Bearbeitungsstrah
len entsprechend Maskenformen zu liefern, das in der
Lage ist, eine Kreisform eines Bearbeitungsstrahls zu
liefern und eine Bestrahlung mit einem gleichförmigen
Licht zu ermöglichen, das in der Lage ist, eine zy
lindrische Form eines Bearbeitungsstrahls zu liefern
und eine gleichförmige Bestrahlung auch für den Fall,
daß eine Bearbeitung durch Abtastung eines Licht
strahls durchgeführt wird, zu ermöglichen, das in der
Lage ist, verschiedene Formen und Bearbeitungsstrah
len zu liefern, das in der Lage ist, nur den Auf
treffwinkel zu ändern, während ein Laserstrahl auf
die Mitte des Einlasses einer optischen Faser auf
rechterhalten wird, das in der Lage ist, die Änderung
des Auftreffwinkels einfach zu steuern, das in der
Lage ist, einen Laserstrahl mit einer höheren Ge
schwindigkeit als der Bewegung des Einlasses der op
tischen Faser zu treiben, das einen einfachen Aufbau
hat, das in der Lage ist, die Lichtintensitätsvertei
lung mit hoher Geschwindigkeit zu ändern, das in der
Lage ist, eine glattere und schnellere Änderung der
Lichtintensitätsverteilung zu realisieren, das in der
Lage ist, die durch die Grenze der Substratkeile zur
Zeit der Änderung der Lichtintensitätsverteilung be
wirkte Störung der Lichtintensitätsverteilung zu ver
hindern, das einen einfachen Aufbau hat, wobei die
Anzahl von Antriebselementen klein ist und der Auf
treffwinkel mit hoher Geschwindigkeit geändert werden
kann, das in der Lage ist, einen hinsichtlich der
axialen Symmetrie überlegenen Bearbeitungsstrahl zu
liefern, das in der Lage ist, den Energieverlust beim
Gebrauch einer Lichtabschirmplatte zu verhindern, das
in der Lage ist, einen Lichtstrahl von länglicher
oder jeder anderen gewünschten Form für die Bestrah
lung eines Gegenstands zu liefern, das in der Lage
ist, die Lichtintensitätsverteilung in Richtung der
optischen Achse so einzustellen, daß eine große
Brenntiefe gegeben ist, das in der Lage ist, die
Brenntiefe größer zu machen, das in der Lage ist, den
Abstand zwischen Linse und einem zu bestrahlenden
Gegenstand zu vergrößern und dadurch die Gefahr der
Ablagerung von zerstäubtem Material des Gegenstands
auf der Linsenoberfläche während der Bearbeitung, die
eine Verschlechterung der Lichtdurchlässigkeit bewir
ken würde, herabzusetzen, und das ermöglicht, daß die
Brenntiefe groß genommen wird selbst bei der herkömm
lichen Ausbildung eines gleichartigen Systems.
Es ist auch die Aufgabe der vorliegenden Erfindung,
ein Verfahren zur Lichtbestrahlung anzugeben, das die
gleichzeitige Durchführung eines Schweiß-, Schneid-,
Markiervorganges und dergleichen in einer einzigen
Operation ermöglicht und verschiedene Dicken und Ma
terialien zwischen Flächen bewältigt und daß weiter
hin die Einstellung der Energiedichte für das zu be
arbeitende Material ermöglicht und hierdurch einen
Schweiß-, Schneid- und Stanzvorgang hoher Qualität
erzielen kann.
Zur Lösung der genannten Aufgabe ist gemäß einem er
sten Aspekt der vorliegenden Erfindung ein optisches
Übertragungssystem vorgesehen, das eine Einstellvor
richtung zum Einstellen der Lichtintensitätsvertei
lung in Richtung der optischen Achse oder in einer
Ebene senkrecht zur optischen Achse auf eine vorbe
stimmte Lichtintensitätsverteilung in der Nähe eines
zu bestrahlenden Gegenstands zur Zeit der Fortpflan
zung eines Laserstrahls von einem Laseroszillator
über einen vorbestimmten Abstand und Strahlung des
fortgepflanzten Lichts auf den zu bestrahlenden Ge
genstand enthält.
Da bei dem optischen Übertragungssystem gemäß dem
ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung wie vorbe
schrieben das System eine Vorrichtung zum Einstellen
der Lichtintensitätsverteilung in Richtung einer op
tischen Achse oder in einer Ebene senkrecht zur opti
schen Achse auf eine bestimmte Lichtintensitätsver
teilung in der Nähe eines zu bestrahlenden Gegen
stands enthält, ist es möglich, eine gewünschte Form
eines Bearbeitungsstrahls zu erhalten, die Brenntiefe
auf eine gewünschte Tiefe einzustellen und damit eine
gewünschte Bearbeitung zu ermöglichen.
Gemäß dem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung
ist ein optisches Übertragungssystem vorgesehen, das
ein optisches Bestrahlungssystem und eine Einstell
vorrichtung enthält, wobei das optische Bestrahlungs
system und die Einstellvorrichtung eine erste Linse,
die Bilder mit einer Aberration erzeugt, und eine
zweite Linse, die auf einem zu bestrahlenden Gegen
stand ein Bild in einer Position mit einer vorbe
stimmten Lichtintensitätsverteilung aus den von der
ersten Linse erzeugten Bildern erzeugt, aufweisen.
Da bei dem optischen Übertragungssystem gemäß dem
zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung das System
wie vorerwähnt mit einer ersten Linse versehen ist,
die Bilder mit Aberration erzeugt, haben die von der
ersten Linse erzeugten Bilder verschiedene Lichtin
tensitätsverteilungen in der Richtung senkrecht zur
optischen Achse. Und da die zweite Achse auf einem zu
bestrahlenden Gegenstand ein Bild in einer Position
mit einer vorbestimmten Intensitätsverteilung aus
diesen Bildern erzeugt, ist es möglich, ein Bild mit
einer gewünschten Lichtintensitätsverteilung auf dem
zu bestrahlenden Gegenstand zu erzeugen und damit
eine gewünschte Bearbeitung zu bewirken.
Gemäß dem dritten Aspekt der vorliegenden Erfindung
ist eine optisches Übertragungssystem vorgesehen, das
einen Einstellmechanismus enthält, der in der Lage
ist, den Abstand zwischen der ersten Linse und der
zweiten Linse einzustellen.
Bei dem optischen Übertragungssystem gemäß dem drit
ten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird, wie vor
erwähnt, der Abstand zwischen der ersten und der
zweiten Linse durch den Einstellmechanismus geändert,
wodurch ein Bild mit einer gewünschten Lichtintensi
tätsverteilung aus den Bildern mit verschiedener
Lichtintensitätsverteilung ausgewählt und auf dem zu
bestrahlenden Gegenstand erzeugt werden kann, und
somit können verschiedene Formen von Bearbeitungs
strahlen auf einfache Weise erhalten werden, indem
bloß der genannte Abstand verändert wird.
Gemäß dem vierten Aspekt der vorliegenden Erfindung
ist ein optisches Übertragungssystem vorgesehen, das
eine in der Abbildungsposition durch die erste Linse
angeordnete Maske enthält. Da bei dem optischen Über
tragungssystem gemäß dem vierten Aspekt der vorlie
genden Erfindung wie vorerwähnt eine Maske in der
Abbildungsposition durch die erste Linse angeordnet
ist und das durch die Maske hindurchgehende Licht auf
den zu bestrahlenden Gegenstand fokussiert ist, kön
nen verschiedene Formen von Bearbeitungsstrahlen ent
sprechend den Maskenformen auf leichte Weise erhalten
werden.
Gemäß dem fünften Aspekt der vorliegenden Erfindung
ist ein optisches Übertragungssystem vorgesehen, das
die vorgenannte Maske verwendet, wobei die Maske eine
Kreisform aufweist und das Licht nur durch den kreis
förmigen Bereich hindurchgeht.
Da bei dem optischen Übertragungssystem gemäß dem
fünften Aspekt der vorliegenden Erfindung die Masken
form wie vorerwähnt kreisförmig gemacht ist, wird ein
kreisförmiger Bearbeitungsstrahl erhalten, wodurch es
möglich ist, eine gleichförmige Bestrahlung zu errei
chen.
Gemäß dem sechsten Aspekt der vorliegenden Erfindung
ist ein optisches Übertragungssystem vorgesehen, das
die vorgenannte Maske verwendet, wobei die Maske eine
ringförmige Gestalt hat und daß Licht nur den ring
förmigen Bereich hindurchgeht. Da bei dem optischen
Übertragungssystem gemäß dem sechsten Aspekt der vor
liegenden Erfindung die Maske wie vorerwähnt ringför
mig gemacht ist, wird ein ringförmiger Bearbeitungs
strahl erhalten, wodurch es möglich ist, eine gleich
förmige Bestrahlung für den Fall, daß eine Bearbei
tung durchgeführt wird, während ein Lichtstrahl abge
tastet wird, zu bewirken.
Gemäß dem siebenten Aspekt der vorliegenden Erfindung
ist ein optisches Übertragungssystem vorgesehen, das
in Kombination mit dem optischen Übertragungssystem
nach dem ersten Aspekt ein optisches Fortpflanzungs
system enthält, wobei das optische Fortpflanzungssy
stem eine optische Faser und eine Kondensorlinse zum
Sammeln eines Laserstrahls von einem Laseroszillator
und Einführen des gesammelten Strahls in die optische
Faser, ein optisches Bestrahlungssystem gebildet
durch ein optisches Übermittlungssystem, das ein Bild
auf einen zu bestrahlenden Gegenstand in einer Ebene
senkrecht zur optischen Achse übermittelt, und in
einem vorbestimmten Abstand von der Auslaß-Endfläche
der optischen Faser angeordnet, und eine Einstellvor
richtung zum Einstellen des Auftreffwinkels des von
der Kondensorlinse gesammelten Laserstrahls auf die
optische Faser aufweist.
Bei dem optischen Übertragungssystem gemäß dem sie
benten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist wie vor
erwähnt das optische Fortpflanzungssystem aus einer
optischen Faser und einer Kondensorlinse, die den
Laserstrahl vom Laseroszillator sammelt und den ge
sammelten Strahl in die optische Faser einführt, zu
sammengesetzt, der Auftreffwinkel des von der Konden
sorlinse gesammelten Laserstrahls auf die optische
Faser und die Lichtintensitätsverteilung in einer
Ebene senkrecht zur optischen Achse und in einem vor
bestimmten Abstand von der Auslaß-Endfläche der opti
schen Faser werden eingestellt, und ein Bild in der
genannten Ebene wird zum zu bestrahlenden Gegenstand
übermittelt, wodurch verschiedene Formen von Bearbei
tungsstrahlen erhalten werden können.
Gemäß dem achten Aspekt der vorliegenden Erfindung
ist ein optisches Übertragungssystem vorgesehen, das
die vorgenannte Einstellvorrichtung enthält, wobei
die Einstellung durch die Einstellvorrichtung durch
Änderung des Winkels der Einlaß-Endfläche der opti
schen Faser realisiert wird, während die Einlaß-End
fläche in Ausrichtung mit der optischen Achse gehal
ten wird.
Da bei dem optischen Übertragungssystem nach dem ach
ten Aspekt der vorliegenden Erfindung der Winkel der
Einlaß-Endfläche der optischen Faser geändert wird,
während die Einlaß-Endfläche in Ausrichtung mit der
optischen Achse gehalten wird, kann nur der Auftreff
winkel geändert werden, während der Laserstrahl auf
der Mitte des Eingangs der optischen Faser gehalten
wird.
Gemäß dem neunten Aspekt der vorliegenden Erfindung
ist ein optisches Übertragungssystem enthaltend die
genannte Einstellvorrichtung vorgesehen, bei der die
von der Einstellvorrichtung bewirkte Einstellung
durch Bewegen eines festen optischen Systems in einer
Ebene senkrecht zur optischen Achse in einen ausge
richteten Zustand der optischen Achse der Kondensor
linse mit der optischen Faser in einem festen Zustand
der Einlaß-Endfläche der optischen Faser zur Brenn
punktposition der Kondensorlinse realisiert wird,
wobei die optische Achse des Laserstrahls vom Lase
roszillator parallel mit der optischen Achse des ge
nannten festen optischen Systems gehalten wird.
Da bei dem optischen Übertragungssystem gemäß dem
neunten Aspekt der vorliegenden Erfindung wie vorer
wähnt das feste optische System in einer Ebene senk
recht zur optischen Achse in einen ausgerichteten
Zustand der optischen Achse der Kondensorlinse mit
der optischen Faser bewegt wird, wobei ein fester
Zustand der Einlaß-Endfläche der optischen Faser zur
Brennpunktposition der Kondensorlinse besteht und die
optische Achse des Laserstrahls vom Laseroszillator
parallel mit der optischen Achse des festen optischen
Systems gehalten wird, kann die Änderung des Auf
treffwinkels leicht gesteuert werden.
Gemäß dem zehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung
ist ein optisches Übertragungssystem enthaltend die
genannte Einstellvorrichtung vorgesehen, bei der die
Einstellung durch die Einstellvorrichtung realisiert
wird durch Verschieben des Laserstrahls vom Laseros
zillator in einer Ebene senkrecht zur optischen Achse
bei einem festen Zustand der Einlaß-Endfläche der
optischen Faser zur Brennpunktposition der Kondensor
linse, wobei die optische Achse des Laserstrahls par
allel mit der optischen Achse der Kondensorlinse ge
halten wird.
Da bei dem optischen Übertragungssystem nach dem
zehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung wie vorer
wähnt der Laserstrahl vom Laseroszillator in einer
Ebene senkrecht zur optischen Achse verschoben wird
bei einem festen Zustand der Einlaß-Endfläche der
optischen Faser zur Brennpunktposition der Kondensor
linse, wobei die optische Achse des Laserstrahls par
allel zu der optischen Achse der Kondensorlinse ge
halten wird, ist es möglich, einen höheren Geschwin
digkeitsantrieb als die Bewegung des Einlasses der
optischen Faser zu bewirken.
Gemäß dem elften Aspekt der vorliegenden Erfindung
ist ein optisches Übertragungssystem vorgesehen, bei
dem ein Planspiegel, dessen Winkel zur optischen Ach
se geändert werden kann, und ein Keilsubstrat zwi
schen dem Laseroszillator und der Kondensorlinse an
geordnet sind, wobei die Verschiebung des Laser
strahls in einer Ebene senkrecht zur optischen Achse
durch Änderung des Winkels des Planspiegels und zur
selben Zeit durch Ersetzen des Keilsubstrats durch
ein anderes Keilsubstrat mit einem unterschiedlichen
Keilwinkel durchgeführt wird.
Das bei dem optischen Übertragungssystem gemäß dem
elften Aspekt der vorliegenden Erfindung wie vorer
wähnt ein Planspiegel, dessen Winkel zur optischen
Achse verändert werden kann, und ein Keilsubstrat
zwischen dem Laseroszillator und der Kondensorlinse
angeordnet sind und die Verschiebung des Laserstrahls
in einer Ebene senkrecht zu optischen Achse durch
Ersetzen des Keilsubstrats durch ein anderes Keilsub
strat mit unterschiedlichem Keilwinkel gleichzeitig
mit der Änderung des Winkels des Planspiegels durch
geführt wird, ist es möglich, eine einfachere Kon
struktion zu erhalten.
Gemäß dem zwölften Aspekt der vorliegenden Erfindung
ist eine optisches Übertragungssystem vorgesehen, bei
dem ein Planspiegel, dessen Winkel zur optischen Ach
se geändert werden kann, und ein besonderes Keilsub
strat mit mehreren Arten von Keilwinkeln zwischen dem
Laseroszillator und der Kondensorlinse angeordnet
sind, wobei das Verschieben des Laserstrahls in einer
Ebene senkrecht zur optischen Achse durch Änderung
des Winkels des Planspiegels durchgeführt wird.
Da bei dem optischen Übertragungssystem gemäß dem
zwölften Aspekt der vorliegenden Erfindung wie vor
erwähnt ein Planspiegel, dessen Winkel zur optischen
Achse geändert werden kann, und ein besonderes Keil
substrat mit mehreren Arten von Keilwinkeln vorgese
hen sind und die Verschiebung des Laserstrahls in
einer Ebene senkrecht zur optischen Achse durch Ände
rung des Winkels des Planspiegels durchgeführt wird,
ist es möglich, eine Änderung der Lichtintensitäts
verteilung mit hoher Geschwindigkeit zu bewirken.
Gemäß dem dreizehnten Aspekt der vorliegenden Erfin
dung ist ein optisches Übertragungssystem vorgesehen,
bei dem zwischen dem Laseroszillator und der Konden
sorlinse ein Planspiegel, dessen Winkel zur optischen
Achse geändert werden kann, und besondere scheiben
artige Keilsubstrate mit unterschiedlichen Keilwin
keln, die aufeinanderfolgend in Umfangsrichtung an
geordnet sind, vorgesehen, und die Verschiebung des
Laserstrahls in einer Ebene senkrecht zur optischen
Achse wird durch Drehen der besonderen Substrate
gleichzeitig mit der Änderung des Winkels des Plan
spiegels durchgeführt.
Da bei dem optischen Übertragungssystem gemäß dem
dreizehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung wie
vorerwähnt ein Planspiegel, dessen Winkel zur op
tischen Achse geändert werden kann, und besondere
scheibenartige Teilsubstrate mit unterschiedlichen
Keilwinkeln, die aufeinanderfolgend in Umfangsrich
tung angeordnet sind, zwischen dem Laseroszillator
und der Kondensorlinse angeordnet sind und die Ver
schiebung des Laserstrahls in einer Ebene senkrecht
zur optischen Achse durch Drehen der genannten beson
deren Keile gleichzeitig mit der Änderung des Winkels
des Planspiegels durchgeführt wird, kann ein glattere
und schnellere Änderung der Lichtintensitätsvertei
lung realisiert werden.
Gemäß dem vierzehnten Aspekt der vorliegenden Erfin
dung ist ein optisches Übertragungssystem vorgesehen,
bei welchem zwischen dem Laseroszillator und der Kon
densorlinse ein Planspiegel, dessen Winkel zur opti
schen Achse veränderbar ist, und ein besonderes Sub
strat mit einem konstanten Keilwinkel in radialer
Richtung und sich fortlaufend veränderndem Keilwinkel
in Umfangsrichtung angeordnet sind, und die Verschie
bung des Laserstrahls in einer Ebene senkrecht zur
optischen Achse wird durch Drehen des besonderen Sub
strats gleichzeitig mit der Änderung des Winkels des
Planspiegels durchgeführt.
Da bei dem optischen Übertragungssystem gemäß dem
vierzehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung wie
vorerwähnt ein Planspiegel, dessen Winkel zur op
tischen Achse veränderbar ist, und ein besonderes
Substrat mit einem konstanten Keilwinkel in radialer
Richtung und sich fortlaufend veränderndem Keilwinkel
in Umfangsrichtung zwischen dem Laseroszillator und
der Kondensorlinse angeordnet sind und die Verschie
bung des Laserstrahls in einer Ebene senkrecht zur
optischen Achse durch Drehen des besonderen Substrats
gleichzeitig mit der Änderung des Winkels des Plan
spiegels durchgeführt wird, ist es möglich, die durch
die Grenze von Substratkeilen bewirkte Störung der
Lichtintensitätsverteilung zu verhindern.
Gemäß dem fünfzehnten Aspekt der vorliegenden Erfin
dung ist ein optisches Übertragungssystem vorgesehen,
bei welchem ein Parabolspiegel zwischen dem Laseros
zillator und der Kondensorlinse und ein Planspiegel
mit veränderbarem Winkel in der Brennpunktposition
des Parabolspiegels angeordnet sind und die Verschie
bung des Laserstrahls in einer Ebene senkrecht zur
optischen Achse durch Änderung des Winkels des Plan
spiegels durchgeführt wird. Da bei dem optischen
Übertragungssystem gemäß dem fünfzehnten Aspekt der
vorliegenden Erfindung wie vorerwähnt ein Parabol
spiegel zwischen dem Laseroszillator und der Konden
sorlinse und ein Planspiegel mit veränderbarem Winkel
in der Brennpunktposition des Parabolspiegels ange
ordnet sind und die Verschiebung des Laserstrahls in
einer Ebene senkrecht zur optischen Achse durch Ände
rung des Winkels des Planspiegels durchgeführt wird,
ist es möglich, eine einfache Konstruktion, eine her
abgesetzte Anzahl von Treibelementen und eine Ände
rung des Auftreffwinkels mit hoher Geschwindigkeit zu
erreichen.
Gemäß dem sechzehnten Aspekt der vorliegenden Erfin
dung ist ein optisches Übertragungssystem vorgesehen,
das die vorgenannte Einstellvorrichtung enthält und
bei dem die Einstellung durch die Einstellvorrichtung
realisiert wird durch Ausbildung der Lichtintensi
tätsverteilung des auf die Kondensorlinse fallenden
Laserstrahls in einer Ebene senkrecht zur optischen
Achse in einer Ringform mit gewünschtem Innen- und
Außendurchmesser.
Da bei dem optischen Übertragungssystem gemäß dem
sechzehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung wie
erwähnt die Lichtintensitätsverteilung des auf die
Kondensorlinse fallenden Laserstrahls in einer Ebene
senkrecht zur optischen Achse in einer Ringform mit
gewünschtem Innen- und Außendurchmesser ausgebildet
ist und der Auftreffwinkel auf die optische Faser
durch Änderung dieser Durchmesser eingestellt wird,
wird die axiale Symmetrie des sich ergebenden Bear
beitungsstrahls verbessert.
Gemäß dem siebzehnten Aspekt der vorliegenden Erfin
dung ist ein optisches Übertragungssystem vorgesehen,
bei dem zwei Axicon-Linsen einander gegenüberliegend
zwischen dem Laseroszillator und der Kondensorlinse
angeordnet sind und die Ausbildung des Laserstrahls
in eine Ringform mit gewünschtem Innen- und Außen
durchmesser wird durch Veränderung des Abstands zwi
schen den beiden Axicon-Linsen durchgeführt.
Da bei dem optischen Übertragungssystem gemäß dem
siebzehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung wie
vorerwähnt die Ausbildung des Laserstrahls in eine
Ringform mit gewünschtem Innen- und Außendurchmesser
durch Änderung des Abstands zwischen zwei einander
gegenüberliegend zwischen dem Laseroszillator und der
Kondensorlinse angeordneten Axicon-Linsen durchge
führt wird, ist es möglich, den Energieverbrauch bei
Verwendung einer Lichtabschirmplatte zu vermeiden.
Gemäß dem achtzehnten Aspekt der vorliegenden Erfin
dung ist ein optisches Übertragungssystem enthaltend
die vorgenannte Einstellvorrichtung vorgesehen, bei
der ein elliptischer Spiegel zwischen der Kondensor
linse und der Einlaß-Endfläche der optischen Faser,
ein Planspiegel, dessen Winkel zur optischen Achse
geändert werden kann, in einer ersten Brennpunktposi
tion des elliptischen Spiegels und die Einlaß-Endflä
che der optischen Faser in einer zweiten Brennpunkt
position des elliptischen Spiegels angeordnet sind,
wobei die Einstellung durch die Einstellvorrichtung
durch Änderung des Winkels des Planspiegels reali
siert wird.
Da bei dem optischen Übertragungssystem gemäß acht
zehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung wie vorer
wähnt ein elliptischer Spiegel zwischen der Konden
sorlinse und der Einlaß-Endfläche der optischen Fa
ser, ein Planspiegel, dessen Winkel zur optischen
Achse geändert werden kann, in einer ersten Brenn
punktposition des elliptischen Spiegels und die Ein
laß-Endfläche der optischen Faser in einer zweiten
Brennpunktposition des elliptischen Spiegels angeord
net sind und der Auftreffwinkel auf die optische Fa
ser durch Änderung des Winkels des Planspiegels ein
gestellt wird, ist es möglich, eine einfache Kon
struktion, eine verringerte Anzahl von Treiberelemen
ten und eine Änderung des Auftreffwinkels mit hoher
Geschwindigkeit zu erreichen.
Gemäß dem neunzehnten Aspekt der vorliegenden Erfin
dung ist ein optisches Übertragungssystem enthaltend
ein optisches Bestrahlungssystem vorgesehen, wobei
das optische Bestrahlungssystem ein optisches Fokus
siersystem aufweist, welches zwei Gruppen von zylin
drischen Linsen mit Krümmungsradien umfaßt, deren
Richtungen senkrecht zueinander stehen.
Da bei dem optischen Übertragungssystem gemäß dem
neunzehnten Aspekt der vorliegenden Erfindung das
optische Bestrahlungssystem ein optisches Fokussier
system enthält, welches zwei Gruppen von zylindri
schen Linsen mit Krümmungsradien, deren Richtungen
senkrecht zueinander stehen, aufweist, kann der auf
einen zu bestrahlenden Gegenstand gestrahlte Licht
strahl in eine längliche oder jede andere gewünschte
Gestalt gebracht werden, indem die Brennweite jeder
Linse geeignet ausgewählt wird.
Gemäß dem zwanzigsten Aspekt der vorliegenden Erfin
dung ist ein optisches Übertragungssystem enthaltend
ein optisches Bestrahlungssystem vorgesehen, wobei
das optische Bestrahlungssystem ein optisches Fokus
siersystem mit zwei Linsengruppen aufweist und wobei,
wenn der Abstand von einer zweiten Hauptebene der
ersten Linsengruppe zu einer ersten Hauptebene der
zweiten Linsengruppe gleich d ist, die Brennweite der
ersten Linsengruppe gleich f₁ ist, die Brennweite der
zweiten Linsengruppe gleich f₂ ist, der Abstand von
einer vorbestimmten Position von fortgepflanztem
Licht zu einer gegenstandsseitigen Brennpunktposition
der ersten Linsengruppe gleich z₁ ist und der Abstand
von einer bildseitigen Brennpunktposition der zweiten
Linsengruppe zum zu bestrahlenden Gegenstand z₂ ist,
den folgenden Bedingungen genügt wird:
d = f₁ + f₂ + Δd
z₁ = f₁f₂z₂/(z₁Δd + f₁²).
z₁ = f₁f₂z₂/(z₁Δd + f₁²).
Da bei dem optischen Übertragungssystem gemäß dem
zwanzigsten Aspekt der vorliegenden Erfindung wie
vorerwähnt das optische Fokussiersystem in dem opti
schen Bestrahlungssystem zwei Linsengruppen aufweist
und in der Weise ausgebildet ist, daß, wenn der Ab
stand von einer zweiten Hauptebene der ersten Linsen
gruppe zu einer ersten Hauptebene der zweiten Linsen
gruppe gleich d ist, die Brennweiten der ersten und
der zweiten Linsengruppe f₁ bzw. f₂ sind, der Abstand
von einer vorbestimmten Position von fortgepflanzten
Licht zu einer gegenstandsseitigen Brennpunktposi
tion der ersten Linsengruppe gleich z₁ ist und der
Abstand von einer bildseitigen Brennpunktposition der
zweiten Linsengruppe zum zu bestrahlenden Gegenstand
z₂ ist, so daß den folgenden Bedingungen genügt ist:
d = f₁ + f₂ + Δd
z₁ = f₁f₂z₂/(z₁Δd + f₁²),
z₁ = f₁f₂z₂/(z₁Δd + f₁²),
ist es möglich, die Lichtintensitätsverteilung in
Richtung der optischen Achse einzustellen, wodurch
der Lichtstrahl nahezu senkrecht auf den zu bestrah
lenden Gegenstand gestrahlt wird, so daß die Konver
genzfähigkeit der Strahlenergie verbessert und eine
große Brenntiefe erhalten wird.
Gemäß dem einundzwanzigsten Aspekt der vorliegenden
Erfindung ist ein optisches Übertragungssystem ent
haltend das genannte optische Fokussiersystem vorge
sehen, wobei das optische Fokussiersystem weiterhin
den folgenden Bedingungen genügt:
-f₁²/(f₂ + Δds) < z₁ < f₁
f₁ < 0, f₂ < 0
Δd < 0.
f₁ < 0, f₂ < 0
Δd < 0.
Da bei dem optischen Übertragungssystem gemäß dem
einundzwanzigsten Aspekt der vorliegenden Erfindung
wie vorerwähnt das optische Fokussiersystem weiterhin
den folgenden Bedingungen genügt:
-f₁²/(f₂ + Δd) < z₁ < f₁
f₁ < 0, f₂ < 0
Δd < 0,
f₁ < 0, f₂ < 0
Δd < 0,
ist es möglich, die Brenntiefe größer zu machen.
Gemäß dem zweiundzwanzigsten Aspekt der vorliegenden
Erfindung ist ein optisches Übertragungssystem ent
haltend das genannte optische Fokussiersystem vorge
sehen, bei dem die zweite Linsengruppe ein Satz aus
einer Konkavlinse und einer Konvexlinse ist, wobei,
wenn die Brennweite der Verbundlinse gleich f₂ ist,
die Brennweite der Konkavlinse gleich fA ist, die
Brennweite der Konvexlinse gleich fB ist, der Abstand
zwischen einer zweiten Hauptebene der Konkavlinse und
einer ersten Hauptebene der Konvexlinse gleich d₃
ist, die Länge zwischen einer ersten Hauptebene der
Konkavlinse und einer ersten Hauptebene der Verbund
linse gleiche zA ist und der Abstand zwischen einer
Hauptebene der Konvexlinse und einer zweiten Haupt
ebene der Verbundlinse gleich zB ist, den folgenden
Bedingungen genügt wird:
f₂ = fAfB/(fA + fB - d₃)
zB = -d₃f₂/fA (ZB, wenn positiver Wert, nach rechts)
zA = -d₃f₂/fB (ZA, wenn negativer Wert, nach rechts).
zB = -d₃f₂/fA (ZB, wenn positiver Wert, nach rechts)
zA = -d₃f₂/fB (ZA, wenn negativer Wert, nach rechts).
Da bei dem optischen Übertragungssystem gemäß dem
zweiundzwanzigsten Aspekt der vorliegenden Erfindung
wie vorerwähnt die zweite Linsengruppe aus einem Satz
aus einer Konkavlinse und einer Konvexlinse zusammen
gesetzt ist und, wenn die Brennweite der Verbundlinse
gleich f₂ ist, die Brennweiten der Konkav- und Kon
vexlinse gleich fA bzw. fB sind, der Abstand zwischen
einer zweiten Hauptebene der Konkavlinse und einer
ersten Hauptebene der Konvexlinse gleich d₃ ist, der
Abstand zwischen einer ersten Hauptebene der Konkav
linse und einer ersten Hauptebene der Verbundlinse zA
ist und der Abstand zwischen einer zweiten Hauptebene
der Konvexlinse und einer zweiten Hauptebene der Ver
bundlinse gleich zB ist, den folgenden Bedingungen
genügt wird:
f₂ = fAfB/(fA + fB - d₃)
zB = -d₃f₂/fA (ZB, wenn positiver Wert, nach rechts)
zA = -d₃f₂/fB (ZA, wenn negativer Wert, nach rechts),
zB = -d₃f₂/fA (ZB, wenn positiver Wert, nach rechts)
zA = -d₃f₂/fB (ZA, wenn negativer Wert, nach rechts),
kann die zweite Hauptebene der Verbundlinse auf der
Gegenstandsseite positioniert werden und daher kann
der Abstand zwischen den Linsen und dem zu bestrah
lenden Gegenstand größer gemacht werden im Vergleich
mit der Verwendung einer einzelnen Linse der Brenn
weite f₂.
Gemäß dem dreiundzwanzigsten Aspekt der vorliegenden
Erfindung ist ein optisches Übertragungssystem in
Kombination mit dem obigen optischen Bestrahlungssy
stem vorgesehen, bei dem die vorbestimmte Position
des fortgepflanzten Lichts der Auslaß-Endfläche der
optischen Faser entspricht.
Da bei dem optischen Übertragungssystem gemäß dem
dreiundzwanzigsten Aspekt der vorliegenden Erfindung
wie vorerwähnt die Auslaß-Endfläche der optischen
Faser als die vorbestimmte Position des fortgepflanz
ten Lichts verwendet wird, ist es möglich, eine große
Brenntiefe anzunehmen nicht nur bei dem optischen
Übertragungssystem, bei dem die Lichtintensitätsver
teilung in der Richtung senkrecht zur optischen Achse
eingestellt ist, sondern auch bei der herkömmlichen
Ausbildung eines optischen Übertragungssystems.
Gemäß dem vierundzwanzigsten Aspekt der vorliegenden
Erfindung ist ein Verfahren zur Lichtbestrahlung vor
gesehen, welches die Lichtintensitätsverteilung von
Bestrahlungslicht für jeden bestimmten Bereich eines
zu bestrahlenden Gegenstands zur Zeit der Strahlung
eines Laserstrahls auf den Gegenstand ändert, wobei
jedes der obigen optischen Übertragungssysteme ver
wendet wird.
Da gemäß dem Verfahren zur Lichtbestrahlung nach dem
vierundzwanzigsten Aspekt der vorliegenden Erfindung
wie vorerwähnt die Lichtintensitätsverteilung von
Bestrahlungslicht für jeden bestimmten Bereich eines
zu bestrahlenden Gegenstands zur Zeit der Strahlung
eines Laserstrahls auf den Gegenstand unter Verwen
dung irgendeines der obigen optischen Übertragungs
systeme geändert wird, ist es möglich, gleichzeitig
einen Schweiß-, Schneid-, Markiervorgang und so wei
ter in einer einzigen Operation zu bewirken, und es
ist auch möglich, den Fall, in welchem Dicken und die
Materialqualität zwischen Flächen unterschiedlich
sind, zu bewältigen.
Gemäß dem fünfundzwanzigsten Aspekt der vorliegenden
Erfindung ist ein Verfahren zur Lichtbestrahlung vor
gesehen, bei welchem ein Laseroszillator eines Im
pulsoszillationstyps bei jedem der vorgenannten opti
schen Übertragungssysteme verwendet wird, und die
Lichtintensitätsverteilung wird in einem Impuls des
Laserstrahls geändert zur Zeit der Strahlung des La
serstrahls auf einen zu bestrahlenden Gegenstand,
wobei diese Änderung in einem Impuls für jeden Impuls
wiederholt wird.
Da bei dem Verfahren zur Lichtbestrahlung gemäß dem
fünfundzwanzigsten Aspekt der vorliegenden Erfindung
wie vorerwähnt die Lichtintensitätsverteilung in ei
nem Impuls des Laserstrahls von einem Laseroszillator
vom Impulsoszillationstyp in jedem der vorgenannten
optischen Übertragungssysteme zur Zeit der Strahlung
des Laserstrahls auf einen zu bestrahlenden Gegen
stand geändert wird und diese Änderung in einem Im
puls für jeden Impuls wiederholt wird, kann die Ener
giedichte für das Material veränderbar gemacht wer
den, wodurch es möglich ist, Schweißen, Schneiden
oder Stanzen in einem zufriedenstellenden Ausmaß in
bezug auf die Qualität zu bewirken.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von in den
Figuren dargestellten Ausführungsbeispielen näher
erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 den Aufbau eines herkömmlichen opti
schen Übertragungssystems,
Fig. 2 den Aufbau eines optischen Übertra
gungssystems gemäß dem ersten Ausfüh
rungsbeispiel der vorliegenden Erfin
dung,
Fig. 3 eine die Funktion einer im ersten Aus
führungsbeispiel verwendeten ersten
Linse erläuternde Darstellung,
Fig. 4(a) und 4(b) die Funktion eines optischen
Übertragungssystems gemäß dem
ersten Ausführungsbeispiel erläu
ternde Darstellungen,
Fig. 5(a) bis 5(c) die Funktion eines anderen opti
schen Übertragungssystems gemäß
dem ersten Ausführungsbeispiel
erläuternde Darstellungen,
Fig. 6 den Aufbau eines optischen Übertra
gungssystems gemäß dem zweiten Ausfüh
rungsbeispiel der vorliegenden Erfin
dung,
Fig. 7 eine die Steuerung des Auftreffwinkels
im Ausführungsbeispiel 2 erläuternde
Darstellung,
Fig. 8(a) bis 8(d) die Beziehung zwischen dem Auf
treffwinkel des Laserstrahls und
der Intensitätsverteilung des
austretenden oder übertragenen
Laserstrahls erläuternde Darstel
lungen,
Fig. 9 den Aufbau eines optischen Übertra
gungssystems gemäß dem dritten Ausfüh
rungsbeispiel der vorliegenden Erfin
dung mit den wesentlichen Komponenten,
Fig. 10 den Aufbau eines optischen Übertra
gungssystems gemäß dem vierten Ausfüh
rungsbeispiel der vorliegenden Erfin
dung mit den wesentlichen Komponenten,
Fig. 11 eine die Beziehung zwischen dem Keil
winkel und dem Drehwinkel eines Plan
spiegels erläuternde Darstellung,
Fig. 12(a) und 12(b) den Aufbau eines optischen Über
tragungssystems gemäß dem fünften
Ausführungsbeispiel der vorlie
genden Erfindung mit den wesent
lichen Komponenten,
Fig. 13(a) bis 13(c) den Aufbau eines optischen Über
tragungssystems gemäß dem sech
sten Ausführungsbeispiel der Er
findung mit den wesentlichen Kom
ponenten,
Fig. 14(a) bis 14(c) den Aufbau eines optischen Über
tragungssystems gemäß dem sieben
ten Ausführungsbeispiel der vor
liegenden Erfindung mit den we
sentlichen Komponenten,
Fig. 15 den Aufbau eines optischen Übertra
gungssystems gemäß dem achten Ausfüh
rungsbeispiel nach der vorliegenden
Erfindung mit den wesentlichen Kompo
nenten,
Fig. 16 den Aufbau eines optischen Übertra
gungssystems gemäß dem neunten Ausfüh
rungsbeispiel der vorliegenden Erfin
dung mit den wesentlichen Komponenten,
Fig. 17 den Aufbau eines optischen Übertra
gungssystems gemäß dem zehnten Ausfüh
rungsbeispiel der vorliegenden Erfin
dung mit den wesentlichen Komponenten,
Fig. 18 den Aufbau eines optischen Übertra
gungssystems gemäß dem elften Ausfüh
rungsbeispiel der vorliegenden Erfin
dung mit den wesentlichen Komponenten,
Fig. 19(a) und 19(b) den Aufbau eines optischen Über
tragungssystems gemäß dem zwölf
ten Ausführungsbeispiel der vor
liegenden Erfindung mit den we
sentlichen Elementen,
Fig. 20 eine erläuternde Darstellung eines
geformten, von einem Laseroszillator
emittierten Laserstrahls,
Fig. 21 eine erläuternde Darstellung eines
geformten, aus einer optischen Faser
austretenden Laserstrahls,
Fig. 22 eine Darstellung zur Erläuterung eines
Wechsels der Intensitätsverteilung
eines aus der optischen Faser austre
tenden Laserstrahls,
Fig. 23 eine erläuternde Darstellung eines
herkömmlichen optischen Übertragungs
systems,
Fig. 24 eine Darstellung zur Erläuterung eines
optischen Fokussiersystems mit zwei
Gruppen von Linsen gemäß dem dreizehn
ten Ausführungsbeispiel der vorliegen
den Erfindung,
Fig. 25 eine Darstellung zur Erläuterung eines
anderen optischen Fokussiersystems mit
zwei Gruppen von Linsen nach dem drei
zehnten Ausführungsbeispiel,
Fig. 26 eine Darstellung zur Erläuterung noch
eines anderen optischen Fokussiersy
stems mit zwei Gruppen von Linsen nach
dem dreizehnten Ausführungsbeispiel,
Fig. 27 eine Darstellung zur Erläuterung eines
weiteren optischen Fokussiersystems
mit zwei Gruppen von Linsen nach dem
dreizehnten Ausführungsbeispiel,
Fig. 28 ein Diagramm zur Erläuterung eines
optischen Fokussiersystems mit einer
Gruppe von Linsen nach dem dreizehnten
Ausführungsbeispiel,
Fig. 29 eine Darstellung zur Erläuterung eines
Verfahrens zur Lichtbestrahlung gemäß
dem vierzehnten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung, und
Fig. 30 ein Diagramm zur Erläuterung eines
Verfahrens zur Lichtbestrahlung gemäß
dem fünfzehnten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung.
Das erste Ausführungsbeispiel nach der vorliegenden
Erfindung wird nun mit Bezug auf Fig. 2 beschrieben.
Hierin ist ein Laseroszillator 1 gezeigt. Ein von dem
Laseroszillator 1 emittierter Laserstrahl 11 wird in
eine optische Faser 3 eingeführt (Laserstrahl 12)
mittels einer Kondensorlinse 2 und tritt (Laserstrahl
13) aus dem entgegengesetzten Ende der optischen Fa
ser 3 aus. Der austretende Laserstrahl 13 wird nahe
einer Maske 7 mittels einer ersten Linse 6 mit einer
sphärischen Aberration fokussiert (Laserstrahl 14).
Ein Teil der sich ergebenden Lichtintensitätsvertei
lung wird durch die Maske 7 entfernt und die Licht
intensitätsverteilung wird hiernach mittels einer
zweiten Linse 4 mit hoher Auflösung zu einem zu be
strahlenden Gegenstand übertragen. Das Bezugszeichen 15
bezeichnet einen Laserstrahl nach der teilweisen
Entfernung in der Maske 7 und das Bezugszeichen 16
bezeichnet einen Abbildungsstrahl für den Gegenstand
5.
Dieses Ausführungsbeispiel wird nachfolgend im ein
zelnen beschrieben gemäß einem optischen Pfad des
optischen Systems.
Gemäß Fig. 2 wird bezüglich der optischen Faser 3 der
Radius der Kreisdrehung einer Zwischenbiegung einge
stellt. Da dieser Radius der Kreisdrehung verändert
wird, wird der Zustand der Reflexion im Inneren der
optischen Faser kompliziert, wodurch eine zufällige
Überlagerung auftreten kann, so daß die Kohärenz des
aus der optischen Faser austretenden Laserstrahls
geändert werden kann. In dem Fall, in dem der Laser
strahl durch mehrere reflektierende Spiegel oder der
gleichen ohne Verwendung der optischen Faser 3 fort
gepflanzt wird, tritt der von dem Laseroszillator 1
emittierte und eine hohe Kohärenz aufweisende Laser
strahl in die Linse 6 ein, so wie er ist. Da die er
ste Linse 6 eine Aberration hat, ändert sich das auf
die erste Linse 6 auftreffende Fokussiermuster des
Laserstrahls 13 mit Bezug auf die Richtung der op
tischen Achse in der Nähe der Fokussierposition, wie
in Fig. 3 gezeigt ist. Genauer gesagt, es erfolgt
eine Änderung von der Form A mit einer scharfen Spit
ze in eine ringartige Form B und eine zylinderhutar
tige Form C.
Es folgt nun mit Bezug auf die Fig. 4(a) und 4(b) die
Beschreibung des Falles, in welchem die Lichtintensi
tätsverteilung, die in Abhängigkeit von der Defokus
sierung der ersten Linse 6 unterschiedlich ist, zum
zu bestrahlenden Gegenstand 5 übertragen wird. In
Fig. 4(a) nimmt der auf die Linse 6 auftreffende La
serstrahl 13 gemäß einer Defokussierungsposition ent
weder die Spitzenform A, die Ringform B oder die Zy
linderhutform C an. Wenn zum Beispiel eine gewünschte
Verteilung auf den Gegenstand gestrahlt werden soll,
die Form eines Zylinderhutes hat, wird eine
Kreismaske 7 wie in Fig. 4(b) gezeigt an der Defokus
sierungsposition entsprechend der Zylinderhutform C
angeordnet, damit der Fuß der Strahlverteilung ge
schnitten und die Verteilung in eine gewünschte Form
gebracht wird. Als nächstes wird die so durch die
Maske 7 geformte Strahlverteilung durch die zweite
Linse 4 mit einem reduzierten Maßstab zum Gegenstand
übertragen, um eine sehr kleine zylinderhutförmige
Verteilung zu erhalten. In gleicher Weise kann durch
Änderung der Position der ersten Linse 6 oder der
Position der zweiten Linse 4 und der Maske 7 und
durch Änderung der Defokussierung der ersten Linse 6
die von der zweiten Linse 4 erhaltene Endverteilung
in eine Ringform oder eine Spitzenform gebracht wer
den.
In den Fig. 4(a) und 4(b) ist es nicht immer erfor
derlich, die Maske 7 zu verwenden. Ein Laserstrahl
mit einer gewünschten Form eines Fokussiermusters
kann durch Einstellen des Abstandes zwischen der er
sten und der zweiten Linse 6, 4 erhalten werden.
In jeder der Fig. 5(a), 5(b) und 5(c) wird die Maske
7 zum Formen des Fußbereichs der Strahlverteilung wie
im vorhergehenden Fall an der Position angeordnet, an
der die von der ersten Linse 6 erhaltene Lichtinten
sitätsverteilung die Gestalt eines Zylinderhuts an
nimmt, und der aus der Maske 7 austretende Licht
strahl wird mittels der zweiten Linse zum Gegenstand
übertragen. Als Maskenform kann eine feine Kreisform
oder Ringform angenommen werden, wie in den Fig.
5(b) und 5(c) gezeigt ist. Obgleich der Energiever
lust größer ist als in Fig. 4, kann in diesem Fall
ein feiner Punktstrahl oder eine ringförmige Intensi
tätsverteilung leicht erhalten werden, indem einfach
die Maske 7 ausgetauscht wird, ohne daß der Abstand
zwischen den Linsen eingestellt wird.
Obgleich in dem obigen Ausführungsbeispiel eine Linse
mit sphärischer Aberration als erste Linse 6 verwen
det wird, kann auch eine Linse mit einer Koma-Aberra
tion oder einem Astigmatismus zur Realisierung ver
schiedener Formen von Fokussiermustern verwendet wer
den.
Es wird nun ein anderes Ausführungsbeispiel der vor
liegenden Erfindung mit Bezug auf die begleitenden
Zeichnungen beschrieben.
In einem herkömmlichen optischen, eine optische Faser
als ein optisches Fortpflanzungssystem verwendenden
Übertragungssystem trifft ein Lichtstrahl parallel
mit der optischen Achse der optischen Faser auf, wäh
rend in diesem Ausführungsbeispiel der vorliegenden
Erfindung ein Lichtstrahl unter einem bestimmten Win
kel zur optischen Achse einer optischen Faser einge
führt wird, um die Gestalt der Lichtintensitätsver
teilung des aus der optischen Faser austretenden
Lichtstrahls in eine von verschiedenen Formen zu
steuern und zu verändern, einschließlich der Zylin
derhutform und der Ringform.
Fig. 6 zeigt den Aufbau eines optischen Übertragungs
systems nach diesem zweiten Ausführungsbeispiel.
Hierin sind ein Laseroszillator 1, eine Kondensorlin
se 2, eine optische Faser 3, ein Auftreffwinkel-Steu
ermechanismus 9 mit einem Einlaß 32 der optischen
Faser 3 und einer XYθ-Stufe 8 und ein Auslaß 33 der
optischen Faser gezeigt.
Dieses Ausführungsbeispiel wird nachfolgend im ein
zelnen beschrieben gemäß einem optischen Pfad des
darin verwendeten optischen Systems.
Gemäß Fig. 6 geht ein von dem Laseroszillator 1 emit
tierter Laserstrahl 11 durch die Kondensorlinse 2
hindurch und wird hierdurch (Laserstrahl 12) zum Ein
laß 32 der optischen Faser 3 hin gebündelt. Der Ein
laß 32 der optischen Faser befindet sich in einer
Brennpunktposition der Kondensorlinse 2. Weiterhin
ist der Einlaß 32 mit der XYθ-Stufe 8 verbunden, die
zusammen den Auftreffwinkel-Steuermechanismus 9 bil
den. Durch den Mechanismus 9 erfolgt eine Steuerung
derart, daß nur der Winkel zwischen der Endfläche der
optischen Faser und der optischen Achse geändert wird
ohne Abweichung der mittleren Position des Einlasses
32 von einem Sammelpunkt 18 des Laserstrahls 12. Fig.
7 zeigt einen Bewegungsort der XYθ-Stufe 8. Hierin
bewegt sich ein Verbindungspunkt 81 der XYθ-Stufe 8
mit dem Einlaß 32 der optischen Faser, während er
einen Ort beschreibt, der durch die folgenden Glei
chungen mit Bezug auf den Sammelpunkt 18 als dem Ur
sprung des durch die Kondensorlinse 2 gebündelten
Laserstrahls dargestellt wird:
X (θ) = R × cos θ
Y (θ) = R × sin θ,
Y (θ) = R × sin θ,
worin R den Abstand zwischen der Mitte 18 des Einlaß
endes und der Mitte 81 der Verbindung zwischen der
XYθ-Stufe 8 und der optischen Faser 3 sowie θ einen
Winkel zwischen der optischen Achse und der mittleren
Achse der optischen Faser darstellen.
Wenn die optische Faser 3 einen Auftreffwinkel hat,
ändert sich somit die Intensitätsverteilung des La
serstrahls in eine Position 20 (nachfolgend als die
"Modusumwandlungsebene" bezeichnet), die in einem
bestimmten Abstand oder weiter von der Auslaß-Endflä
che der optischen Faser angeordnet ist. Die Ergebnis
se eines mit einem Helium-Neon-Laser durchgeführten
Experiments werden nachfolgend gezeigt.
Fig. 8(a) zeigt den Aufbau einer Laborvorrichtung.
Hierin sind ein Helium-Neon-Laser 50, eine plankon
vexe Linse 60 mit 40 mm Brennweite, eine XYθ-Stufe 8,
eine optische Faser 70 vom Kern-Mantel-Typ mit einem
40 µm-Kern, 5 m Länge, N.A. (neutrale Achse) = 0,2,
und eine CCD-Kamera 90 gezeigt.
Der Laserstrahl 51 vom Helium-Neon-Laser 50 wurde in
einem gebündelten Zustand (Auftreffstrahl 52) in eine
Einlaß-Endfläche 72 der optischen Faser 70 mittels
der plankonvexen Linse 60 mit einer Brennweite von
40 mm eingeführt, und die Intensitätsverteilung eines
austretenden oder übertragenen Strahls 53 wurde ge
messen unter Verwendung der CCD-Kamera 90 in einer
Position mit einem Abstand von etwa 20 mm von einer
Auslaß-Endfläche 73. Die erhaltenen Ergebnisse sind
wie in den Fig. 8(b), 8(c) und 8(d) gezeigt. Es ist
ersichtlich, daß, wenn der Auftreffwinkel in kleinen
Schritten von 0°, wie in Fig. 8(b) gezeigt ist, in
kleinen Schritten größer gemacht wird bis zum in Fig. 8(d)
gezeigten Winkel, die Intensitätsverteilung des
Laserstrahls sich von einer im wesentlichen Gaußschen
Form in eine im wesentlichen rechteckige Form und
weiter in eine im wesentlichen Ringform ändert. Somit
kann die Intensitätsverteilung des austretenden La
serstrahls durch Änderung des Auftreffwinkels auf die
optische Faser geändert werden.
Gemäß Fig. 6 geht der aus der optischen Faser 3 aus
tretende Laserstrahl 13 durch die erste Linse 6 hin
durch, wodurch das Bild mit der Lichtintensitätsver
teilung in der Modusumwandlungsebene 20 nahe der Mas
ke 7 gebildet wird. Ein Teil der gebildeten Lichtin
tensitätsverteilung wird durch die Maske 7 entfernt
und danach wird die Lichtintensitätsverteilung zu
einem durch eine zweite Linse 4 mit hoher Auflösung
zu bestrahlenden Gegenstand 5 übertragen, um eine
Bearbeitung oder Behandlung wie Schweißen, Schneiden
oder Oberflächenveränderung zu bewirken.
Obgleich in diesem Ausführungsbeispiel das Bild mit
der Lichtintensitätsverteilung in der Modusumwand
lungsebene 20 durch die erste Linse 6 einmal nahe der
Maske 7 gebildet ist, ein Teil der gebildeten Licht
intensitätsverteilung durch die Maske 7 entfernt wird
und die Lichtintensitätsverteilung danach durch die
zweite Linse 4 mit hoher Auflösung zum Gegenstand 5
übertragen wird, kann als optisches Bestrahlungssy
stem zum Strahlen des fortgepflanzten Lichtstrahls
auf den Gegenstand 5 ein optisches System verwendet
werden, das eine einzige Linse zum Übertragen des
Bildes der Lichtintensitätsverteilung in der Modus
umwandlungsebene 20 zum Gegenstand 5 benutzt.
Es wird nachfolgend noch ein anderes Ausführungsbei
spiel der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf die
begleitenden Zeichnungen beschrieben.
In diesem Ausführungsbeispiel wird ein Auftreffwin
kel-Steuermechanismus mit der in Fig. 9 gezeigten
Ausbildung verwendet. Hierin ist die Kondensorlinse 2
durch einen Rahmen 100 befestigt, um auf die Einlaß-
Endfläche der optischen Faser 3 zu fokussieren, wäh
rend ihre optische Achse in Ausrichtung mit der des
Einlasses 32 der optischen Faser ist. Der Rahmen 100
ist an einem Tisch 101 befestigt, der ihn in einer
Ebene senkrecht zur optischen Achse bewegen kann.
Wenn der Rahmen 100 in einer Ebene senkrecht zur op
tischen Achse mit Hilfe des Tisches 101 bewegt wird,
während die optische Achse des Laserstrahls in Aus
richtung mit der des optischen Systems gehalten wird,
ist es bei dem optischen System dieser Ausbildung
möglich, nur den Auftreffwinkel zu ändern, während
der Sammelpunkt des Laserstrahls in der Mitte des
Einlasses 32 der optischen Faser aufrechterhalten
wird. Die anderen Teile sind dieselben wie beim vor
hergehenden Ausführungsbeispiel 2, so daß auf deren
Erläuterung hier verzichtet wird. Durch Verwendung
der obigen Ausbildung ist es möglich, die Änderung
des Auftreffwinkels leichter zu steuern als beim
zweiten Ausführungsbeispiel.
Noch ein anderes Ausführungsbeispiel der vorliegenden
Erfindung wird nachfolgend mit Bezug auf die beglei
tenden Zeichnungen beschrieben. Bei diesem Ausfüh
rungsbeispiel wird ein Auftreffwinkel-Steuermechanis
mus der in Fig. 10 gezeigten Ausbildung verwendet.
Hierin sind ein Planspiegel 110 und Keilsubstrate 111
und 112 gezeigt. Der Winkel des Planspiegels 110 wird
gemäß der folgenden Gleichung in einer solchen Weise
eingestellt, daß der Laserstrahl nach dem Passieren
des Keilsubstrats 111 parallel zur optischen Achse
wird. Unter Bezug auf Fig. 11 genauer ausgedrückt,
wird, wenn der Keilwinkel des Keilsubstrats 112
gleich θW, der Brechungsindex des den Keil bildenden
Materials gleich nW und der Auftreffwinkel des Laser
strahls gleich θL sind, der Winkel des Planspiegels
110 wie folgt dargestellt:
rL = (π/2 + sin-1 (nW × sin θW) - θW)/2,
wobei die Einheit des Winkels der Radiant ist. In
Fig. 11 bezeichnen die Bezugszahl 113 einen Pfad des
Laserstrahls und die Bezugszahl 110a die mittlere
Drehachse des Planspiegels 110.
Beispielsweise wird der Auftreffwinkel geändert durch
Ersetzen des Keilsubstrats durch ein Keilsubstrat 112
mit einem unterschiedlichen Keilwinkel, und zur sel
ben Zeit durch Einstellung des Winkels des Planspie
gels auf einen durch die obige Gleichung erhaltenen
Winkel.
Die anderen Teile sind dieselben wie im zweiten Aus
führungsbeispiel, so daß auf deren Erläuterung hier
verzichtet wird. Durch Verwendung der obigen Kon
struktion ist es möglich, eine einfachere Ausbildung
als bei den Ausführungsbeispielen 2 und 3 zu erhalten
und einen höheren Geschwindigkeitsantrieb als die
Bewegung des Einlasses der optischen Faser zu erzie
len.
Noch ein anderes Ausführungsbeispiel der vorliegenden
Erfindung wird nachfolgend mit Bezug auf die beglei
tenden Zeichnungen beschrieben.
Bei diesem Ausführungsbeispiel wird ein Auftreffwin
kel-Steuermechanismus der in den Fig. 12(a) und
12(b) gezeigten Ausbildung verwendet. In Fig. 12(a)
ist ein besonderer Keil 120 mit beispielsweise zwei
Keilwinkeln (siehe Fig. 12(b)) dargestellt. Der Win
kel eines Planspiegels 110 wird gemäß den folgenden
Gleichungen in einer solchen Weise eingestellt, daß
der den besonderen Keil 120 passierende Laserstrahl
parallel zur optischen Achse wird. Genauer gesagt,
wenn wie im vorhergehenden Beispiel 4 das besondere
Keilsubstrat 120 Keilwinkel gleich θW1 und θW2 hat,
der Brechungsindex des den Keil bildenden Materials
gleich nW und die Laserauftreffwinkel gleich θL1 und
θL2 sind, dann wird der Planspiegel 110 auf einen Win
kel mit der Einheit Radiant eingestellt, der durch
die folgenden Gleichungen dargestellt ist:
θL1 = (π/2 + sin-1 (nW × sin θW1) - θW1)/2
θL2 = (π/2 + sin-1 (nW × sin θW2) - θW2/2.
θL2 = (π/2 + sin-1 (nW × sin θW2) - θW2/2.
Die Keilwinkel des besonderen Keilsubstrats sind
nicht auf zwei wie im obigen Beispiel beschränkt. Es
kann eine Struktur verwendet werden, die drei oder
mehr Keilwinkel hat. Mit der Bezugszahl 110a in Fig.
11 wird eine mittlere Drehachse des Planspiegels 110
bezeichnet.
Der Auftreffwinkel wird geändert, indem der Winkel
des Planspiegels entsprechend jedem Keilwinkel des
besonderen Keilsubstrats entsprechend einem durch die
obigen Gleichungen erhaltenen Winkel eingestellt
wird.
Die anderen Teile sind dieselben wie im zweiten Aus
führungsbeispiel, so daß auf deren Erläuterung hier
verzichtet wird. Durch Verwendung der obigen Kon
struktion ist es möglich, die Lichtintensitätsvertei
lung mit einer größeren Geschwindigkeit als beim
vierten Ausführungsbeispiel zu ändern.
Nachfolgend wird noch ein anderes Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf die beglei
tenden Zeichnungen beschrieben.
In diesem Ausführungsbeispiel wird ein Auftreffwin
kel-Steuermechanismus der in den Fig. 13(a) bis
13(c) gezeigten Ausbildung verwendet. In Fig. 13(a)
sind ein besonderes Substrat 130 aus Keilsubstraten
mit unterschiedlichen Keilwinkeln, die fortlaufend in
Umfangsrichtung angeordnet sind, und ein Motor 131
dargestellt. Fig. 13(b) ist eine Draufsicht auf das
besondere Substrat 130 und Fig. 13(c) ist eine
Schnittansicht entlang der Linie A-A in Fig. 13(b).
Der Winkel des einzustellenden Planspiegels 110 wird
gemäß derselben Gleichung wie im Ausführungsbeispiel
4 gesteuert, so daß der Laserstrahl nach dem Hin
durchgehen durch das besondere Keilsubstrat 130 par
allel zur optischen Achse wird. Die Bezugszahl 110a
bezeichnet eine mittlere Drehachse. Der Auftreffwin
kel wird durch miteinander synchrone Drehung des
Planspiegels und des besonderen Substrats verändert.
Auf die Erläuterung der anderen Teile wird hier ver
zichtet, da sie dieselben wie beim zweiten Ausfüh
rungsbeispiel sind. Durch Verwendung der obigen Aus
bildung ist es möglich, eine größere Anzahl von Win
keln zu verwenden und damit eine glattere und schnel
lere Änderung der Lichtintensitätsverteilung zu be
wirken.
Nachfolgend wird noch ein anderes Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung beschrieben. Bei diesem
Ausführungsbeispiel wird ein Auftreffwinkel-Steuerme
chanismus der in den Fig. 14(a) bis 14(c) gezeigten
Ausbildung verwendet.
In Fig. 14(a) ist ein besonderes Keilsubstrat 140
dargestellt, bei dem der Keilwinkel in radialer Rich
tung konstant ist und sich in Umfangsrichtung fort
laufend ändert. Fig. 14(b) ist eine Draufsicht auf
das besondere Keilsubstrat 140 und Fig. 14(c) ist
eine Schnittansicht entlang der Linie A-A in Fig.
14(b). Der Winkel eines einzustellenden Planspiegels
110 wird gemäß derselben Gleichung wie beim Ausfüh
rungsbeispiel 4 in der Weise gesteuert, daß der La
serstrahl nach dem Hindurchgehen durch das besondere
Keilsubstrat 140 parallel zur optischen Achse wird.
Die Bezugszahl 110a in Fig. 14(a) bezeichnet eine
mittlere Drehachse des Planspiegels 110. Der Auf
treffwinkel wird durch zueinander synchrone Drehung
des Planspiegels und des besonderen Keilsubstrats
verändert.
Auf eine Erläuterung der anderen Teile wird hier ver
zichtet, da sie dieselben wie beim Ausführungsbei
spiel 2 sind. Durch Verwendung der obigen Ausbildung
ist es möglich, die durch die Keilgrenzen im Ausfüh
rungsbeispiel 6 bewirkte Störung der Lichtintensi
tätsverteilung zu vermeiden.
Es wird noch ein anderes Ausführungsbeispiel der vor
liegenden Erfindung mit Bezug auf die begleitenden
Zeichnungen beschrieben. Bei diesem Ausführungsbei
spiel wird ein Auftreffwinkel-Steuermechanismus der
in Fig. 15 gezeigten Ausbildung verwendet.
Fig. 15 zeigt einen Parabolspiegel 150 mit einer obe
ren Öffnung und einen Planspiegel 110. Die mittlere
Drehachse 110a des Planspiegels 110 befindet sich an
einem Brennpunkt des Parabolspiegels 150. Der Auf
treffwinkel wird durch Änderung des Winkels des Plan
spiegels 110 verändert.
Auf eine Erläuterung der anderen Teile wird hier ver
zichtet, da sie dieselben wie beim Ausführungsbei
spiel 2 sind. Durch Verwendung der obigen Ausbildung
ist es möglich, eine einfachere Konstruktion, eine
verringerte Anzahl von Antriebselementen und eine
Änderung des Auftreffwinkels mit höherer Geschwindig
keit im Vergleich zu den vorhergehenden Ausführungs
beispielen zu erzielen.
Es folgt die Beschreibung noch eines anderen Ausfüh
rungsbeispiels der vorliegenden Erfindung mit Bezug
auf die begleitenden Zeichnungen. Bei diesem Ausfüh
rungsbeispiel wird ein Auftreffwinkel-Steuermechanis
mus der in Fig. 16 gezeigten Ausbildung verwendet.
Fig. 16 zeigt ein optisches Zoomsystem zur Ausdehnung
des Laserstrahls, welches beispielsweise aus zwei
Linsen gebildet ist, und eine Lichtabschirmplatte
170. Der Durchmesser des Laserstrahls wird durch das
optische Zoomsystem 160 erweitert. Der aus dem opti
schen Zoomsystem 160 austretende Laserstrahl wird
durch die Lichtabschirmplatte 170 in seinem mittleren
Bereich kreisförmig abgeschirmt, wodurch er eine
Ringform erhält. Der so geformte Laserstrahl wird
dann durch die Kondensorlinse 2 zur Mitte der Einlaß-
Endfläche der optischen Faser gebündelt.
Der Auftreffwinkel wird geändert, indem die Lichtab
schirmplatte 170 durch eine andere mit unterschiedli
chem Innen- und Außendurchmesser ersetzt wird. Die
Ausbildung des optischen Zoomsystems ist nicht auf
das dargestellte beschränkt. Es kann jedes andere
optische Zoomsystem verwendet werden, wenn es nur die
Funktion der Erweiterung des Strahldurchmessers hat.
Es kann auch auf das optische Zoomsystem verzichtet
werden, wenn der Strahldurchmesser ausreichend groß
ist.
Auf die Erläuterung der anderen Teile wird hier ver
zichtet, da sie dieselben wie beim Ausführungsbei
spiel 2 sind. Durch Verwendung der obigen Ausbildung
wird die axiale Symmetrie des erhaltenen Bearbei
tungsstrahls verbessert.
Es wird nun noch ein anderes Ausführungsbeispiel der
vorliegenden Erfindung mit Bezug auf die begleitenden
Zeichnungen beschrieben. Bei diesem Ausführungsbei
spiel wird ein Auftreffwinkel-Steuermechanismus der
in Fig. 17 dargestellten Ausbildung verwendet.
Gemäß Fig. 17 bewirkt ein optisches Zoomsystem 160
die Erweiterung des Laserstrahls, welches beispiels
weise aus zwei Linsen zusammengesetzt ist. Weiterhin
sind zwei Axicon-Linsen 180 und 181 sowie ein in
Richtung der optischen Achse bewegbarer Tisch 182
gezeigt.
Der Durchmesser des Laserstrahls wird durch das opti
sche Zoomsystem 160 erweitert. Der aus dem optischen
Zoomsystem austretende Laserstrahl geht durch die
beiden Axicon-Linsen 180 und 181 hindurch, die ein
ander gegenüber angeordnet sind und von denen die
eine auf dem in Richtung der optischen Achse beweg
baren Tisch 182 angeordnet ist. Die Gestalt des durch
die Axicon-Linsen hindurchgehenden Laserstrahls wird
in eine Ringform umgewandelt. Der Durchmesser des so
ringförmig gewordenen Laserstrahls wird dann verän
dert, indem eine Axicon-Linse in Richtung der opti
schen Achse bewegt wird, um hierdurch dessen Auf
treffwinkel auf die optische Faser zu steuern. Die
Ausbildung des optischen Zoomsystems ist nicht auf
die dargestellte begrenzt. Jedes andere optische
Zoomsystem kann verwendet werden, wenn es nur die
Funktion der Erweiterung des Strahldurchmessers hat.
Auf eine Erläuterung der anderen Teile wird hier ver
zichtet, da sie dieselben wie beim Ausführungsbei
spiel 2 sind. Durch Verwendung der obigen Ausbildung
ist es möglich, den Energieverlust im Vergleich zum
Ausführungsbeispiel 9, bei dem eine Lichtabschirm
platte verwendet wird, zu vermeiden.
Es wird nachfolgend noch ein anderes Ausführungsbei
spiel der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf die
begleitenden Zeichnungen beschrieben. Bei diesem Aus
führungsbeispiel wird ein Auftreffwinkel-Steuermecha
nismus der in Fig. 18 dargestellten Ausbildung ver
wendet.
In Fig. 18 sind ein elliptischer Spiegel 190 mit ei
ner oberen Öffnung und ein Planspiegel 110 gezeigt.
Die mittlere Drehachse 110a des Planspiegels 110 be
findet sich an einem ersten Brennpunkt des ellipti
schen Spiegels 190, während die Einlaß-Endfläche 32
der optischen Faser sich an einem zweiten Brennpunkt
des elliptischen Spiegels befindet. Da der Laser
strahl vom ersten Brennpunkt des elliptischen Spie
gels die Eigenschaft hat, sich zum zweiten Brennpunkt
hin zu bündeln, kann der Auftreffwinkel durch Ände
rung des Winkels des Planspiegels gesteuert werden.
Die anderen Teile sind dieselben wie beim Ausfüh
rungsbeispiel 2, so daß auf ihre Erläuterung hier
verzichtet wird. Durch Verwendung der obigen Ausbil
dung ist es wie beim Ausführungsbeispiel 8 möglich,
eine einfache Konstruktion, eine verringerte Anzahl
von Antriebselementen und eine Änderung des Auftreff
winkels mit hoher Geschwindigkeit zu erreichen.
Es wird noch ein anderes Ausführungsbeispiel der vor
liegenden Erfindung nachfolgend mit Bezug auf die
begleitenden Zeichnungen beschrieben.
In diesem Ausführungsbeispiel wird die sphärische
Linse im optischen Bestrahlungssystem durch zwei der
artige zylindrische Linsen ersetzt, wie in den Fig.
19(a) und 19(b) gezeigt ist, wodurch eine elliptische
Form des Strahls realisiert werden kann.
Gemäß Fig. 19(a) tritt ein Laserstrahl 15 aus einer
Maske 7 aus, hat eine zylindrische Linse 41 eine
Brechkraft in X-Richtung in der Figur und hat eine
zylindrische Linse 42 eine Brechkraft in Y-Richtung
in dieser Figur. Die Brennweiten f₁ und f₂ der beiden
Linsen haben einander unterschiedliche Werte. Beide
Linsen 41 und 42 fokussieren in der Position A′. Die
Vergrößerungen sind unterschiedlich zwischen der X-
und der Y-Richtung, die durch M₁ bzw. M₂ wiedergegeben
sind. Für gewünschte Vergrößerungen M₁ und M₂ können
solche Linsen verwendet werden, deren Brennweiten
durch die folgenden Gleichungen gegeben sind:
f₁ = L·M₁/(1 + 1/M₁)²
f₂ = L·M₂/(1 + 1/M₂)²,
f₂ = L·M₂/(1 + 1/M₂)²,
worin L der Abstand zwischen der Maske 7 und einem zu
bestrahlenden Gegenstand 5 sowie M₁ und M₂ die Ver
stärkungen in X- bzw. Y-Richtung sind. Daher kann die
Gestalt des auf den Gegenstand 5 zu strahlenden
Strahls in eine elliptische Form durch Auswahl geeig
neter Werte von f₁ und f₂ gebracht werden.
Fig. 19(b) zeigt ein Beispiel, bei dem M₁ ≈ M₂ ist.
Wie hierin dargestellt ist, ist im Fall von M₁ ≈ M₂
die Verteilung auf der Maskenfläche im wesentlichen
in der Fokussierposition A′ wiedergegeben, und es ist
auch möglich, eine quadratische Intensitätsverteilung
an der Position des Defokussierungspunktes C zu er
halten.
Obgleich gemäß der in den Fig. 19(a) und 19(b) illu
strierten Ausbildung die Gestalt des Strahls in der
Maskenposition im Ausführungsbeispiel 1 beispielswei
se übertragen wird wie sie ist oder nach der Ände
rung, kann die Maske weggelassen werden. Weiterhin
kann auch in einem derartigen herkömmlichen System
wie gemäß Fig. 1 der aus der optischen Faser austre
tende Laserstrahl durch zwei zylindrische Linsen wie
in der obigen Ausbildung fokussiert werden, um die
Lichtintensitätsverteilung in der Richtung senkrecht
zur optischen Achse einzustellen.
Es wird nachfolgend noch ein anderes Ausführungsbei
spiel der vorliegenden Erfindung beschrieben. Dieses
Ausführungsbeispiel bezieht sich auf das in den vor
hergehenden Ausführungsbeispielen verwendete optische
Fokussiersystem 4. Bei diesem Ausführungsbeispiel
wird die Lichtintensitätsverteilung in Richtung der
optischen Achse eingestellt, und insbesondere wird
die Brenntiefe unter Berücksichtigung der Bearbeitung
verbessert.
Fig. 20 zeigt einen geformten Zustand des Laser
strahls 11. In dieser Figur hat der Laserstrahl 11,
welcher ein Strahl vom gewöhnlichen Typ ist, eine
sehr große Kohärenz, und selbst wenn der vom Laseros
zillator 1 emittierte Strahl 11 endlich ist, kann es
so angesehen werden, daß der Strahl von einer Punkt
quelle 1a emittiert ist, die sich in der Krümmungs
mitte der Wellenoberfläche auf der Laser-Austritts
seite befindet. Auf der anderen Seite muß der Laser
strahl von der Auslaß-Endfläche der optischen Faser
oder vom Fokussierungspunkt hiervon als eine Gruppe
von Punktquellen angesehen werden, nämlich als Licht
strahl von einer Lichtquellen-Oberfläche 200. Diese
Bedingung kann in Form von Lichtstrahlen wie in Fig.
21 ausgedrückt werden.
In diesem Fall ist die Lichtintensitätsverteilung wie
in Fig. 22 dargestellt. Das heißt, die Lichtintensi
tätsverteilung ändert sich von einer Rechteckform an
einer Endfläche der optischen Faser in eine Chevron-
Form mit einem leicht steigenden Fußbereich, wenn der
Lichtstrahl sich fortpflanzt.
Ein derartiges herkömmliches optisches System, wel
ches den Lichtstrahl auf den zu bestrahlenden Gegen
stand 5 fokussiert, ist in Fig. 23 gezeigt. Dieses
optische System verwendet eine einzelne Linse 4 oder
einen Satz von Linsen mit derselben Funktion. Wenn
die Brennweite der Linse 4 oder der kombinierten Lin
sen gleich f, der Abstand von einem Ende 200 der op
tischen Faser zu einer ersten Hauptebene der Linse 4
oder der kombinierten Linsen gleich a und der Abstand
zu einer zweiten Hauptebene hiervon gleich b sind,
wird der folgenden Beziehung genügt:
1/f = 1/a + 1/b.
In diesem Fall ist der Zustand der Lichtstrahlen wie
in Fig. 23 gezeigt. Das heißt, der Strahl expandiert,
wenn er sich von einer Fokussierposition A′ von A am
Faserende 200 entfernt, wodurch das Problem auftritt,
daß die Brenntiefe klein ist.
Auf der anderen Seite wird in diesem Ausführungsbei
spiel 13, wie in Fig. 24 gezeigt ist, ein zwei Grup
pen von Linsen aufweisendes optisches System 4 ver
wendet zum Strahlen des Laserstrahls 13 von der opti
schen Faser auf den zu bestrahlenden Gegenstand 5. In
Fig. 24 sind eine erste Linsengruppe 401, eine zweite
Linsengruppe 402 und der Laserstrahl 415 dargestellt.
Die erste und die zweite Linsengruppe 401, 402 sind
so angeordnet, daß eine bildseitige Brennpunktposi
tion f₁′ der ersten Linsengruppe und eine gegen
standsseitige Brennpunktposition f₂ der zweiten Lin
sengruppe miteinander zusammenfallen. Genauer gesagt,
bei Verwendung der Brennweiten f₁ und f₂ der ersten
bzw. zweiten Linsengruppe wird der Abstand d₁ zwi
schen einer zweiten Hauptebene der ersten Linsengrup
pe 401 und einer ersten Hauptebene der zweiten Lin
sengruppe 402 auf d₁ = f₁ + f₂ eingestellt. Weiterhin
sind beide Linsengruppen so angeordnet, daß der fol
genden Beziehung genügt wird:
z₂ = M²z₁, M = f₂/f₁,
worin z₁ den Abstand zwischen einer gegenstandsseiti
gen Brennpunktposition f₁ der ersten Linsengruppe 401
und dem Faserende A und z₂ den Abstand zwischen einer
bildseitigen Brennpunktposition f₂′ der zweiten Lin
sengruppe und der Position A′ des zu bestrahlenden
Gegenstands darstellen.
In diesem Fall ist der Zustand der Lichtstrahlen wie
in Fig. 24 dargestellt. Wenn in die Richtung, die
sich von der Fokussierposition A′ des Faserendes A
weg erstreckt, gesehen wird, ist ersichtlich, daß der
Lichtstrahl 16 nahezu senkrecht zum Gegenstand 5 ge
strahlt wird und daß daher die Konvergenzfähigkeit
der Strahlenergie hoch ist und eine große Brenntiefe
erhalten wird im Vergleich mit dem vorhergehenden,
eine Linsengruppe aufweisenden Fokussiersystem.
Es ist die in Fig. 25 gezeigte Ausbildung, die eine
weitere Verbesserung gegenüber der obigen Ausbildung
mit sich bringt. Gemäß Fig. 25 wird der Abstand von
der zweiten Hauptebene der ersten Linsengruppe 401
zur ersten Hauptebene der zweiten Linsengruppe 402
wie folgt eingestellt:
d₂ = f₁ + f₂ + Δd, (Δd < 0).
In diesem Fall wird eine Fokussierbeziehung wie folgt
ausgedrückt:
z₂ = M (f₂/f₁)z₁,
M = f₁f₂/(z₁Δd + f₁²).
M = f₁f₂/(z₁Δd + f₁²).
Diese Gleichungen können wie folgt geschrieben wer
den:
z₁ = f₁f₂z₂/(z₁Δd + f₁²).
Durch Änderung von Δd ist es möglich, die Fortpflan
zungsbedingung des Strahls in seiner Position A′ auf
dem Gegenstand und den folgenden Positionen zu än
dern. Im Vergleich mit dem einfachen Fall von Δd = 0
kann die Brenntiefe noch größer gemacht werden. Ins
besondere wird die obige Wirkung vergrößert, wenn den
folgenden Bedingungen genügt wird:
f₁ < 0, f₂ < 0, Δd < 0 und
-f₁²/(f₂ + Δd) < z₁ < f₁.
-f₁²/(f₂ + Δd) < z₁ < f₁.
Das optische System, das die Brenntiefe vergrößert,
wurde vorstehend beschrieben, doch wird bei der tat
sächlichen Bearbeitung Staub von dem Gegenstand 5
erzeugt, so daß, wenn sich die Linse 4 in der Nähe
des Gegenstands 5 befindet, der Staub sich auf der
Linsenoberfläche absetzt und beispielsweise solche
Probleme wie die Verschlechterung der Durchlässigkeit
von Licht auftreten. Es ist daher wünschenswert, daß
der Abstand (Arbeitsabstand) zwischen dem Gegenstand
5 und der Linse 4 groß ist. So ist es in diesem Aus
führungsbeispiel notwendig, als eine einzelne Linsen
gruppe einen Satz von Linsen mit einem großen Ar
beitsabstand zu verwenden, wie nachfolgend beschrie
ben wird.
In der Ausbildung von Konkavlinse 403/Konvexlinse 404
gemäß Fig. 2 zeigt die Kombination von zwei Linsen
dieselbe Funktion wie eine einzelne Linse 402. In
diesem Fall ist es durch geeignete Einstellung der
Brennweite der Konkavlinse und der Konvexlinse sowie
des Abstands zwischen beiden Linsen möglich, die er
ste und die zweite Hauptebene dieser Verbundlinse auf
der rechten Seite der Konvexlinse 404 auszubilden.
Genauer gesagt, wenn die Brennweite der Konkavlinse
403 gleich fA, die der Konvexlinse 404 gleich fB und
der Abstand zwischen einer zweiten Hauptebene der
Konkavlinse 403 und einer ersten Hauptebene der Kon
vexlinse 404 gleich d₃ sind, dann wird die Brennweite
f₂ der Verbundlinse durch die folgende Gleichung ge
geben:
f₂ = fAfB/ (fA + fB - d₃).
Wenn weiterhin der Abstand zwischen einer ersten
Hauptebene der Konkavlinse 403 und der Verbundlinse
gleich zA und der Abstand zwischen einer zweiten
Hauptebene der Konvexlinse 404 und der Verbundlinse
gleich zB sind, sind beide durch die folgenden Glei
chungen gegeben:
zB = -d₃f₂/fA (zB, wenn positiver Wert, nach
rechts),
zA = -d₃f₂/fA (zA, wenn positiver Wert, nach rechts).
zA = -d₃f₂/fA (zA, wenn positiver Wert, nach rechts).
Da fA die Brennweite der Konkavlinse 403 ist, besteht
die Bedingung fA < 0, und da die Brennweite f₂ der
Verbundlinse und d₃ beide größer als 0 sind, besteht
die Bedingung zB < 0. Durch geeignete Auswahl der
Werte von d₃, fA und f₂ wird es möglich, die zweite
Hauptebene der Verbundlinse auf der Gegenstandsseite
zu positionieren, so daß es möglich ist, den Linsen-
Gegenstand-Abstand im Vergleich zu der Verwendung
einer einzelnen Linse mit der Brennweite f₂ zu ver
größern.
In dem Fall eines derartigen optischen Fokussiersy
stems mit zwei Gruppen von Linsen, wie in den Fig.
24 oder 25 gezeigt ist, ist die Brennweite groß, aber
es besteht das Problem, daß der Arbeitsabstand kurz
ist im Vergleich mit dem optischen Fokussiersystem,
das eine einzelne Gruppe von Linsen verwendet.
Um dieses Problem zu bewältigen, kann der Arbeitsab
stand ausgedehnt werden durch Verwendung eines der
artigen Satzes von Linsen, der eine Verschiebung der
zweiten Hauptebene von der Linsenposition bewirkt,
wie vorstehend erläutert ist. Fig. 27 zeigt ein Bei
spiel, bei dem die zweite Linsengruppe 402 in dem
optischen Fokussiersystem mit zwei Gruppen von Linsen
gemäß Fig. 24 oder 25 aus einem Satz aus der Konkav
linse 403 und der Konvexlinse 404 gebildet ist, um
den Arbeitsabstand zu vergrößern. Wie die Abstände
berechnet werden, ist bereits vorstehend beschrieben
worden.
Auch im Fall des optischen Fokussiersystems mit einer
einzelnen Linsengruppe 4, das vorstehend in Verbin
dung mit Fig. 23 erläutert wurde, kann, wie in Fig.
28 gezeigt ist, ein optisches System mit einem großen
Arbeitsabstand durch Verwendung eines Satzes aus Kon
kav- und Konvexlinse gebildet werden.
Obgleich in dem obigen Ausführungsbeispiel das Licht
von der Auslaß-Endfläche der optischen Faser als
Licht von der Lichtquellen-Oberfläche 200 angesehen
wurde, kann das Licht vom Fokussierpunkt oder das
Licht von der Maskenposition beispielsweise im Aus
führungsbeispiel 1 als das Licht von der Lichtquel
len-Oberfläche angesehen werden, wobei die gleiche
Ausbildung wie vorstehend verwendet wird.
Auch in bezug auf das zwei Gruppen von zylindrischen
Linsen verwendete optische System, das in den Fig.
19(a) und 19(b) gezeigt ist, kann die Brennweite grö
ßer gemacht werden durch Verwendung eines optischen
Systems, das zwei Gruppen von Linsen für jede der
zylindrischen Linsen aufweist.
Wenn eine Bearbeitung durchgeführt wird unter Verwen
dung irgendeines der in den obigen Ausführungsbei
spielen beschriebenen optischen Übertragungssysteme
nach der Erfindung, dann kann die Intensitätsvertei
lung des bestrahlenden Lichts für jeden bestimmten
Bereich des zu bestrahlenden Gegenstands verändert
werden.
Fig. 29 illustriert ein Konzept des Bestrahlungsver
fahrens. Wie darin gezeigt ist, wird eine Bestrahlung
durchgeführt unter Verwendung einer flachen Intensi
tätsverteilung, einer konkaven Intensitätsverteilung
und einer Intensitätsverteilung mit großer Spitze für
die Bereiche A, B bzw. C. Dieses Verfahren erlaubt
die Durchführung eines Schweiß-, Schneid-, Markiervor
ganges und so weiter gleichzeitig in einer einzigen
Operation und erlaubt auch die Behandlung von Dicken
und Materialien, die zwischen den einzelnen Bereichen
unterschiedlich sind.
Bei dem optischen Übertragungssystem nach der vorlie
genden Erfindung kann eine Ausbildung verwendet wer
den, in der als Laseroszillator ein solcher vom Im
pulsoszillationstyp eingesetzt wird und in der die
Lichtintensitätsverteilung in einem Impuls des Laser
strahls verändert wird und diese Veränderung in einem
Impuls für jeden Impuls wiederholt wird.
Das Konzept dieses Bestrahlungsverfahrens ist in Fig.
30 gezeigt. Wenn der Ausgangsimpuls "EIN" ist (Laser
strahl wird emittiert), dann wird im Bereich A eine
große Spitzenintensitätsverteilung verwendet, während
im Bereich B eine flache Intensitätsverteilung mit
kleiner Spitze verwendet wird, wie in Fig. 30 gezeigt
ist. Auf diese Weise kann die Energiedichte für das
verwendete Material verändert werden, so daß es mög
lich ist, einen Schweiß-, Schneid- und Stanzvorgang
mit hoher Qualität durchzuführen.
In diesem Ausführungsbeispiel ist die Auswahl der
Intensitätsverteilung in einem Impuls nicht auf das
vorbeschriebene Beispiel beschränkt. Es kann jede
geeignete Kombination verwendet werden.
Da, wie dargestellt ist, nach dem ersten Aspekt der
vorliegenden Erfindung eine Einstellvorrichtung zum
Einstellen der Lichtintensitätsverteilung in Richtung
der optischen Achse oder in einer Ebene senkrecht zur
optischen Achse auf eine vorbestimmte Lichtintensi
tätsverteilung in der Nähe eines zu bestrahlenden
Gegenstands zur Zeit der Fortpflanzung des Laser
strahls vom Laseroszillator um einen vorbestimmten
Weg und Strahlen des fortgepflanzten Lichtstrahls auf
den zu bestrahlenden Gegenstand, verwendet wird, ist
es möglich, jede gewünschte Bearbeitung durchzufüh
ren.
Da gemäß dem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfin
dung das optische Bestrahlungssystem und die Ein
stellvorrichtung aus einer ersten Linse, die Bilder
mit Aberration erzeugt, und einer zweiten Linse, die
auf dem zu bestrahlenden Gegenstand ein Bild an einer
Position mit einer vorbestimmten Lichtintensitätsver
teilung aus den von der ersten Linse erzeugten Bil
dern erzeugt, zusammengesetzt sind, ist es möglich,
auf dem Gegenstand ein Bild mit einer gewünschten
Lichtintensitätsverteilung in der Richtung senkrecht
zur optischen Achse zu erzeugen, wodurch es möglich
ist, jede gewünschte Bearbeitung durchzuführen.
Da gemäß dem dritten Aspekt der vorliegenden Erfin
dung ein Einstellmechanismus verwendet wird, der in
der Lage ist, den Abstand zwischen der ersten und der
zweiten Linse einzustellen, können verschiedenen For
men von Bearbeitungsstrahlen leicht erhalten werden
durch bloße Änderung dieses Abstandes.
Da gemäß dem vierten Aspekt der vorliegenden Erfin
dung eine Maske in der Fokussierposition der ersten
Linse angeordnet ist, können leicht verschiedene For
men von Bearbeitungsstrahlen entsprechend den Masken
formen erhalten werden.
Da gemäß dem fünften Aspekt der vorliegenden Erfin
dung die Gestalt der obigen Maske kreisförmig ist, um
Licht nur durch den kreisförmigen Bereich durchzulas
sen, wird ein kreisförmiger Bearbeitungsstrahl erhal
ten und daher ist es möglich, eine gleichförmige Be
strahlung zu bewirken.
Da gemäß dem sechsten Aspekt der vorliegenden Erfin
dung die Form der obigen Maske ringförmig ist, um
Licht nur durch den ringförmigen Bereich hindurchzu
lassen, wird ein ringförmiger Bearbeitungsstrahl er
halten, wodurch eine gleichförmige Bestrahlung selbst
für den Fall möglich ist, daß eine Bearbeitung wäh
rend der Abtastung des Strahls durchgeführt wird.
Da gemäß dem sieben 11704 00070 552 001000280000000200012000285911159300040 0002019503675 00004 11585ten Aspekt der vorliegenden Erfin
dung in dem optischen Übertragungssystem nach dem
ersten Aspekt das optische Fortpflanzungssystem aus
einer optischen Faser und einer Kondensorlinse zum
Bündeln des Laserstrahls vom Laseroszillator in die
optische Faser zusammengesetzt ist, das optische Be
strahlungssystem durch ein optisches Übermittlungs
system, das ein in einer Ebene senkrecht zur op
tischen Achse und in einem vorbestimmten Abstand von
der Auslaß-Endfläche der optischen Faser vorhandenes
Bild auf den zu bestrahlenden Gegenstand übermittelt,
gebildet ist, und die Einstellvorrichtung den Auf
treffwinkel des durch die Kondensorlinse gebündelten
Laserstrahls auf die optische Faser einstellt, ist es
möglich, verschiedene Formen von Bearbeitungsstrahlen
zu erhalten.
Da gemäß dem achten Aspekt der vorliegenden Erfindung
die Einstellung durch die obige Einstellvorrichtung
durch Veränderung des Winkels der Einlaß-Endfläche
der optischen Faser realisiert wird, während die Mit
te dieser Einlaß-Endfläche in Ausrichtung mit der
optischen Achse gehalten wird, kann nur der Auftreff
winkel verändert werden, während der Laserstrahl auf
der Mitte des Einlasses der optischen Faser aufrech
terhalten wird.
Da gemäß dem neunten Aspekt der vorliegenden Erfin
dung die Einstellung durch die obige Einstellvorrich
tung durch Bewegen eines festen optischen Systems in
einer Ebene senkrecht zur optischen Achse in einen
ausgerichteten Zustand der optischen Achse der Kon
densorlinse mit der optischen Faser realisiert wird,
wobei die Einlaß-Endfläche der optischen Faser auf
die Brennpunktposition der Kondensorlinse fixiert
ist, und während die optische Achse des Laserstrahls
vom Laseroszillator parallel zu der des festen opti
schen Systems gehalten wird, kann der Auftreffwinkel
leicht gesteuert werden.
Da gemäß dem zehnten Aspekt der vorliegenden Erfin
dung die Einstellung durch die obige Einstellvorrich
tung durch Bewegen des Laserstrahls vom Laseroszilla
tor in einer Ebene senkrecht zur optischen Achse in
einen festen Zustand der Einlaß-Endfläche der opti
schen Faser zur Brennpunktposition der Kondensorlinse
realisiert wird, während die optische Achse des La
serstrahls parallel zu der Kondensorlinse gehalten
wird, ist es möglich, einen Antrieb mit höherer Ge
schwindigkeit als die Bewegung des Einlasses der op
tischen Faser zu bewirken.
Da gemäß dem elften Aspekt der vorliegenden Erfindung
ein Planspiegel, dessen Winkel zur optischen Achse
geändert werden kann, und ein Keilsubstrat zwischen
dem Laseroszillator und der Kondensorlinse angeordnet
sind und die Verschiebung des Laserstrahls in einer
Ebene senkrecht zur optischen Achse durch Ersetzen
des Keilsubstrats durch ein anderes Keilsubstrat mit
einem unterschiedlichen Keilwinkel gleichzeitig mit
der Änderung des Winkels des Planspiegels durchge
führt wird, wird eine Vereinfachung der Konstruktion
erzielt.
Da gemäß dem zwölften Aspekt der vorliegenden Erfin
dung ein Planspiegel, dessen Winkel zur optischen
Achse geändert werden kann, und ein besonderes Keil
substrat mit mehreren Keilwinkeln zwischen dem Lase
roszillator und der Kondensorlinse angeordnet sind
und das Verschieben des Laserstrahls in einer Ebene
senkrecht zur optischen Achse durch Änderung des Win
kels des Planspiegels durchgeführt wird, ist es mög
lich, die Lichtintensitätsverteilung mit großer Ge
schwindigkeit zu ändern.
Da gemäß dem dreizehnten Aspekt der vorliegenden Er
findung ein Planspiegel, dessen Winkel zur optischen
Achse geändert werden kann, und ein besonderes schei
benartiges Substrat, das fortlaufend in Umfangsrich
tung angeordnete Keilsubstrate mit unterschiedlichen
Keilwinkeln aufweist, zwischen dem Laseroszillator
und der Kondensorlinse angeordnet sind, und das Ver
schieben des Laserstrahls in einer Ebene senkrecht
zur optischen Achse durch Drehen des besonderen Sub
strats synchron mit der Änderung des Winkels des
Planspiegels durchgeführt wird, ist es möglich, eine
glattere und schnellere Änderung der Lichtintensi
tätsverteilung zu erhalten.
Da gemäß dem vierzehnten Aspekt der vorliegenden Er
findung ein Planspiegel, dessen Winkel zur optischen
Achse geändert werden kann, und ein besonderes Sub
strat mit einem konstanten Keilwinkel in radialer
Richtung und einem sich in Umfangsrichtung fortlau
fend ändernden Keilwinkel zwischen dem Laseroszilla
tor und der Kondensorlinse angeordnet sind und das
Verschieben des Laserstrahls in einer Ebene senkrecht
zur optischen Achse durch Drehen des besonderen Sub
strats synchron mit der Änderung des Winkels des
Planspiegels durchgeführt wird, ist es möglich, die
durch die Grenze der Keile zur Zeit der Veränderung
der Lichtintensitätsverteilung bewirkte Störung der
Lichtintensitätsverteilung zu vermeiden.
Da gemäß dem fünfzehnten Aspekt der vorliegenden Er
findung ein Parabolspiegel zwischen dem Laseroszilla
tor und der Kondensorlinse und ein Planspiegel, des
sen Winkel geändert werden kann, in der Brennpunkt
position des Parabolspiegels angeordnet sind und das
Verschieben des Laserstrahls in einer Ebene senkrecht
zur optischen Achse durch Änderung des Winkels des
parabolischen Spiegels durchgeführt wird, ist es mög
lich, eine einfache Konstruktion, eine verringerte
Anzahl von Antriebselementen und eine Änderung des
Auftreffwinkels mit hoher Geschwindigkeit zu erzie
len.
Da gemäß dem sechzehnten Aspekt der vorliegenden Er
findung die Einstellung durch die obige Einstellvor
richtung durch Formen der Intensitätsverteilung des
auf die Kondensorlinse auftreffenden Laserstrahls in
einer Ebene senkrecht zur optischen Achse in eine
Ringform mit gewünschtem Innen- und Außendurchmesser,
wird die axiale Symmetrie des erhaltenen Bearbei
tungsstrahls verbessert.
Da gemäß dem siebzehnten Aspekt der vorliegenden Er
findung zwei Axicon-Linsen einander gegenüber zwi
schen dem Laseroszillator und der Kondensorlinse an
geordnet sind und die Formung des Laserstrahls in
eine Ringform mit gewünschtem Innen- und Außendurch
messer durch Änderung des Abstands zwischen den bei
den Axicon-Linsen durchgeführt wird, ist es möglich,
den Energieverlust bei der Verwendung einer Lichtab
schirmplatte zu vermeiden.
Da gemäß dem achtzehnten Aspekt der vorliegenden Er
findung ein elliptischer Spiegel zwischen der Konden
sorlinse und der Einlaß-Endfläche der optischen Fa
ser, ein Planspiegel, dessen Winkel zur optischen
Achse geändert werden kann, in einer ersten Brenn
punktposition des elliptischen Spiegels und die Ein
laß-Endfläche der optischen Faser in einer zweiten
Brennpunktposition des elliptischen Spiegel angeord
net sind und die Einstellung durch die obige Ein
stellvorrichtung durch Änderung des Winkels des Plan
spiegels realisiert wird, ist es möglich, eine ein
fache Konstruktion, eine verringerte Anzahl von An
triebselementen und eine Änderung des Auftreffwinkels
mit hoher Geschwindigkeit zu erzielen.
Da gemäß dem neunzehnten Aspekt der vorliegenden Er
findung das optische Bestrahlungssystem ein optisches
Fokussiersystem enthält, welches zwei Gruppen von
zylindrischen Linsen mit zueinander senkrecht stehen
den Krümmungsradien aufweist, ist es möglich, eine
längliche und jede andere gewünschte Form für den
Laserstrahl zur Bestrahlung des zu bestrahlenden Ge
genstands zu erhalten.
Gemäß dem zwölften Aspekt der vorliegenden Erfindung
weist das optische Fokussiersystem in dem optischen
Bestrahlungssystem zwei Linsengruppen auf, und wenn
der Abstand von einer zweiten Hauptebene der ersten
Linsengruppe zu einer ersten Hauptebene der zweiten
Linsengruppe gleich d, die Brennweite der ersten und
der zweiten Linsengruppe gleich f₁ bzw. f₂, der Ab
stand von einer vorbestimmten Position des übertrage
nen Lichts zu einer gegenstandsseitigen Brennpunkt
position der ersten Linsengruppe gleich z₁ und der
Abstand von einer bildseitigen Brennpunktposition der
zweiten Linsengruppe zum zu bestrahlenden Gegenstand
gleich z₂ sind, ist den folgenden Bedingungen genügt:
d = f₁ + f₂ + Δd
z₁ = f₁f₂z₂/(z₁Δd + f₁²).
z₁ = f₁f₂z₂/(z₁Δd + f₁²).
Daher ist es möglich, die Lichtintensitätsverteilung
in Richtung der optischen Achse einzustellen und es
wird eine große Brenntiefe erhalten.
Gemäß dem einundzwanzigsten Aspekt der vorliegenden
Erfindung kann die Brennweite noch größer gemacht
werden, da das optische Fokussiersystem den folgenden
Bedingungen genügt:
-f₁² (f₂ + Δd) < z₁ < f₁
f₁ < 0, f₂ < 0
Δd < 0.
f₁ < 0, f₂ < 0
Δd < 0.
Gemäß dem zweiundzwanzigsten Aspekt der vorliegenden
Erfindung ist die obige zweite Linsengruppe ein Satz
aus Konkavlinse und Konvexlinse, und wenn die Brenn
weite dieser Verbundlinse gleich f₂, die der Konkav
linse gleich fA, die der Konvexlinse gleich fB, der
Abstand zwischen einer zweiten Hauptebene der Konkav
linse und einer ersten Hauptlinse der Konvexlinse
gleich d₃, der Abstand zwischen einer ersten Haupt
ebene der Konkavlinse und einer ersten Hauptebene der
Verbundlinse gleich zA und der Abstand zwischen einer
zweiten Hauptebene der Konvexlinse und einer zweiten
Hauptebene der Verbundlinse gleich zB sind, wird den
folgenden Bedingungen genügt:
f₂ = fAfB/ (fA + fB -d₃)
zB = -d₃f₂/fA (zB, wenn positiver Wert, nach rechts)
zA = -d₃f₂/fB (zA, wenn negativer Wert, nach rechts.
zB = -d₃f₂/fA (zB, wenn positiver Wert, nach rechts)
zA = -d₃f₂/fB (zA, wenn negativer Wert, nach rechts.
Daher ist es möglich, den Linsen-Gegenstand-Abstand
zu vergrößern, wodurch die Gefahr, daß sich Staub von
dem Gegenstand während der Bearbeitung auf der Lin
senoberfläche absetzt und eine Verschlechterung der
Durchlässigkeit von Licht bewirkt, reduziert wird.
Da gemäß dem dreiundzwanzigsten Aspekt der vorliegen
den Erfindung die vorbestimmten Position des übertra
genen Lichts in dem obigen optischen Übertragungssy
stem an die Auslaß-Endfläche des optischen Faser ge
setzt ist, ist es möglich, eine große Brenntiefe auch
bei dem optischen Übertragungssystem nach der her
kömmlichen Ausbildung zu nehmen.
Da gemäß dem vierundzwanzigsten Aspekt der vorliegen
den Erfindung die Intensitätsverteilung des Bestrah
lungslichts für jeden bestimmten Bereich des zu be
strahlenden Gegenstands zur Zeit der Strahlung des
Laserstrahls auf den Gegenstand bei jedem der obigen
optischen Übertragungssysteme geändert wird, ist es
möglich, gleichzeitig einen Schweiß-, Schneid-, Mar
kiervorgang, und so weiter in einer einzigen Opera
tion zu bewirken, und es ist auch möglich, verschie
dene Dicken und Materialien zwischen den Bereichen zu
bewältigen.
Da gemäß dem fünfundzwanzigsten Aspekt der vorliegen
den Erfindung ein Laseroszillator vom Impulsoszilla
tionstyp bei jedem der obigen optischen Übertragungs
systeme verwendet wird, die Lichtintensität in einem
Impuls des Laserstrahls zur Zeit der Strahlung des
Laserstrahls auf den zu bestrahlenden Gegenstand ge
ändert wird und diese Änderung in einem Impuls für
jeden Impuls wiederholt wird, kann die Energiedichte
für das Material geändert werden und daher ist es
möglich, einen Schweiß-, Schneid- und Stanzvorgang
mit hoher Qualität durchzuführen.
Claims (25)
1. Optisches Übertragungssystem, enthaltend:
einen Laseroszillator (1),
ein optisches Fortpflanzungssystem zum Fort pflanzen eines von dem Laseroszillator (1) emit tierten Laserstrahls über einen vorbestimmten Weg,
ein optisches Bestrahlungssystem zum Strahlen des fortgepflanzten Laserstrahls auf einen zu bestrahlenden Gegenstand (5), und
eine Einstellvorrichtung zum Einstellen der Lichtintensitätsverteilung in Richtung einer optischen Achse oder in einer Ebene senkrecht zur optischen Achse und in der Nähe des zu be strahlenden Gegenstands (5).
einen Laseroszillator (1),
ein optisches Fortpflanzungssystem zum Fort pflanzen eines von dem Laseroszillator (1) emit tierten Laserstrahls über einen vorbestimmten Weg,
ein optisches Bestrahlungssystem zum Strahlen des fortgepflanzten Laserstrahls auf einen zu bestrahlenden Gegenstand (5), und
eine Einstellvorrichtung zum Einstellen der Lichtintensitätsverteilung in Richtung einer optischen Achse oder in einer Ebene senkrecht zur optischen Achse und in der Nähe des zu be strahlenden Gegenstands (5).
2. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß das optische Be
strahlungssystem und die Einstellvorrichtung
eine erste Linse (6) zur Erzeugung von Bildern
mit einer Aberration und eine zweite Linse (4)
zur Erzeugung eines auf den Gegenstand (5) zu
strahlenden Bildes befindlich in einer Position
mit einer vorbestimmten Lichtintensitätsvertei
lung aus den von der ersten Linse (6) erzeugten
Bildern aufweist.
3. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 2,
gekennzeichnet durch einen Einstellmechanismus,
der zum Einstellen des Abstandes zwischen der
ersten (6) und der zweiten (4) Linse in der Lage
ist.
4. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Maske (7) in
einer Brennpunktposition der ersten Linse (6)
angeordnet ist.
5. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet, daß die Maske (7) eine
Kreisform hat, um den Laserstrahl nur durch den
kreisförmigen Bereich hindurchzulassen.
6. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet, daß die Maske (7) ring
förmig ist, um den Laserstrahl nur durch den
ringförmigen Bereich hindurchzulassen.
7. Optisches Übertragungssystem, enthaltend:
einen Laseroszillator (1),
eine optische Faser (3) zum Fortpflanzen eines von dem Laseroszillator (1) emittierten Laser strahls über einen vorbestimmten Weg,
eine Kondensorlinse (2) zum Bündeln des Laser strahls vom Laseroszillator (1) in die optische Faser (3),
ein optisches Übermittlungssystem zum Übermit teln eines in einer Ebene mit einem vorbestimm ten Abstand von einer Auslaß-Endfläche (33) der optischen Faser (3) und senkrecht zu einer opti schen Achse angeordneten Bildes zu einem zu be strahlenden Gegenstand (5), und
eine Einstellvorrichtung zum Einstellen des Auf treffwinkels des durch die Kondensorlinse (2) gebündelten Laserstrahls (12) auf die optische Faser (3).
einen Laseroszillator (1),
eine optische Faser (3) zum Fortpflanzen eines von dem Laseroszillator (1) emittierten Laser strahls über einen vorbestimmten Weg,
eine Kondensorlinse (2) zum Bündeln des Laser strahls vom Laseroszillator (1) in die optische Faser (3),
ein optisches Übermittlungssystem zum Übermit teln eines in einer Ebene mit einem vorbestimm ten Abstand von einer Auslaß-Endfläche (33) der optischen Faser (3) und senkrecht zu einer opti schen Achse angeordneten Bildes zu einem zu be strahlenden Gegenstand (5), und
eine Einstellvorrichtung zum Einstellen des Auf treffwinkels des durch die Kondensorlinse (2) gebündelten Laserstrahls (12) auf die optische Faser (3).
8. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet, daß die Einstellvorrich
tung den Auftreffwinkel des durch die Kondensor
linse (2) gebündelten Laserstrahls (12) auf die
optische Faser (3) einstellt durch Ändern des
Winkels einer Einlaß-Endfläche (32) der opti
schen Faser (3) in einen ausgerichteten Zustand
der Mitte der Einlaß-Endfläche (32) der opti
schen Faser (3) mit der optischen Achse der Kon
densorlinse (2).
9. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet, daß die Einstellvorrich
tung den Auftreffwinkel des durch die Kondensor
linse (2) gebündelten Laserstrahls (12) auf die
optische Faser (3) einstellt durch Bewegen eines
festen optischen Systems in einer Ebene senk
recht zu der optischen Achse in einen ausgerich
teten Zustand der optischen Achse der Kondensor
linse (2) mit der optischen Faser (3), wobei
eine Einlaß-Endfläche (32) der optischen Faser
(3) zu einer Brennpunktposition der Kondensor
linse (2) befestigt ist, und während die opti
sche Achse des von dem Laseroszillator (1) emit
tierten Laserstrahls und die des befestigten
optischen Systems parallel zueinander gehalten
werden.
10. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet, daß die Einstellvorrich
tung den Auftreffwinkel des von der Kondensor
linse (2) gebündelten Laserstrahls (12) auf die
optische Faser (3) einstellt durch Bewegen des
Laserstrahls in einer Ebene senkrecht zur opti
schen Achse in einen festen Zustand einer Ein
laß-Endfläche (32) der optischen Faser (3) zu
einer Brennpunktposition der Kondensorlinse (2),
und während die optische Achse des von dem La
seroszillator (1) emittierten Laserstrahls und
die der Kondensorlinse (2) parallel zueinander
gehalten werden.
11. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet, daß ein Planspiegel
(110), dessen Winkel zur optischen Achse geän
dert werden kann, und ein Keilsubstrat (111)
zwischen dem Laseroszillator (1) und der Konden
sorlinse (2) angeordnet sind und die Bewegung
des Laserstrahls in einer Ebene senkrecht zur
optischen Achse durchgeführt wird durch Auswech
seln des Keilsubstrats (111) gegen ein anderes
Keilsubstrat (112) mit einem unterschiedlichen
Keilwinkel gleichzeitig mit einer Änderung des
Winkels des Planspiegels (110).
12. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet, daß ein Planspiegel
(110), dessen Winkel zur optischen Achse geän
dert werden kann, und ein besonderes Keilsub
strat (120) mit mehreren Keilwinkeln zwischen
dem Laseroszillator (1) und der Kondensorlinse
(2) angeordnet sind und die Bewegung des Laser
strahls in einer Ebene senkrecht zur optischen
Achse durch Ändern des Winkels des Planspiegels
(110) durchgeführt wird.
13. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet, daß ein Planspiegel
(110), dessen Winkel zur optischen Achse geän
dert werden kann, und ein besonderes scheiben
artiges Substrat (130), welches in Umfangsrich
tung fortlaufend Keilsubstrate mit unterschied
lichen Keilwinkeln aufweist, zwischen dem Laser
oszillator (1) und der Kondensorlinse (2) ange
ordnet sind und die Bewegung des Laserstrahls in
einer Ebene senkrecht zur optischen Achse durch
Drehen des besonderen Substrats (130) synchron
mit einer Änderung des Winkels des Planspiegels
(110) durchgeführt wird.
14. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet, daß ein Planspiegel
(110), dessen Winkel zur optischen Achse geän
dert werden kann, und ein besonderes scheiben
artiges Substrat (140) mit einem konstanten
Keilwinkel in radialer Richtung und sich fort
laufend änderndem Keilwinkel in Umfangsrichtung
zwischen dem Laseroszillator (1) und der Konden
sorlinse (2) angeordnet sind und die Bewegung
des Laserstrahls in einer Ebene senkrecht zur
optischen Achse durch Drehen des besonderen Sub
strats (140) synchron mit einer Änderung des
Winkels des Planspiegels (110) durchgeführt
wird.
15. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet, daß ein Parabolspiegel
(150) zwischen dem Laseroszillator (1) und der
Kondensorlinse (2) sowie ein Planspiegel (110),
dessen Winkel verändert werden kann, in einer
Brennpunktposition des Parabolspiegels (150)
angeordnet sind, und daß die Bewegung des Laser
strahls in einer Ebene senkrecht zur optischen
Achse durch Ändern des Winkels des Planspiegels
(110) durchgeführt wird.
16. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet, daß die Einstellvorrich
tung den Auftreffwinkel des durch die Kondensor
linse (2) gebündelten Laserstrahls auf die opti
sche Faser (3) einstellt durch Formen der Inten
sitätsverteilung des auf die Kondensorlinse (2)
auftreffenden Laserstrahls in einer Ebene senk
recht zur optischen Achse in eine Ringform mit
gewünschtem Innen- und Außendurchmesser.
17. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 16,
dadurch gekennzeichnet, daß zwei Axicon-Linsen
(180, 181) einander gegenüber zwischen dem Laser
oszillator (1) und der Kondensorlinse (2) ange
ordnet sind und das Formen des Laserstrahls in
eine Ringform mit gewünschtem Innen- und Außen
durchmesser durch Ändern des Abstands zwischen
den Axicon-Linsen (180, 181) durchgeführt wird.
18. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet, daß ein elliptischer
Spiegel (190) zwischen der Kondensorlinse (2)
und der Einlaß-Endfläche (32) der optischen Fa
ser (3), ein Planspiegel (110), dessen Winkel
zur optischen Achse verändert werden kann, in
einer ersten Brennpunktposition des elliptischen
Spiegels (190) und die Einlaß-Endfläche (32) der
optischen Faser (3) in einer zweiten Brennpunkt
position des elliptischen Spiegels (190) ange
ordnet sind, und daß die Einstellvorrichtung den
Auftreffwinkel des durch die Kondensorlinse (2)
gebündelten Laserstrahls auf die optische Faser
(3) durch Ändern des Winkels des Planspiegels
(110) einstellt.
19. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß das optische Be
strahlungssystem ein optisches Fokussiersystem
enthält, welches zwei Gruppen von zylindrischen
Linsen (41, 42) mit Krümmungsradien in zueinander
senkrechten Richtungen aufweist.
20. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß das optische Be
strahlungssystem ein optisches Fokussiersystem
enthält zum Fokussieren eines Lichtstrahls von
einer Lichtquelle mit einer vorbestimmten Ver
größerung auf einen zu bestrahlenden Gegenstand
(5), wobei das optische Fokussiersystem zwei
Linsengruppen (401, 402) aufweist, und wenn der
Abstand von einer zweiten Hauptebene der ersten
Linsengruppe (401) zu einer ersten Hauptebene
der zweiten Linsengruppe (402) gleich d, die
Brennweiten der ersten (401) und der zweiten
(402) Linsengruppe gleich f₁ bzw. f₂, der Abstand
von einer vorbestimmten Position des fortge
pflanzten Laserstrahls zu einer gegenstandssei
tigen Brennpunktposition der ersten Linsengruppe
(401) gleich z₁ und der Abstand von einer bild
seitigen Brennpunktposition der zweiten Linsen
gruppe (402) zum zu bestrahlenden Gegenstand (5)
gleich z₂ sind, dann ist den folgenden Bedingun
gen genügt:
d = f₁ + f₂ + Δd
z₁ = f₁f₂z₂/(z₁Δd + f₁²).
z₁ = f₁f₂z₂/(z₁Δd + f₁²).
21. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 20,
dadurch gekennzeichnet, daß das optische Fokus
siersystem zwei Linsengruppen (401, 402) auf
weist, und wenn die Brennweiten der ersten und
zweiten Gruppe gleich f₁ bzw. f₂ und der Abstand
von der vorbestimmten Position des fortgepflanz
ten Laserstrahls zu einer gegenstandsseitigen
Brennpunktposition der ersten Linsengruppe (401)
gleich z₁ sind, dann ist den folgenden Bedingun
gen genügt:
-f₂/(f₂ + Δd) < z₁ < f₁
f₁ < 0, f₂ < 0
Δd < 0.
f₁ < 0, f₂ < 0
Δd < 0.
22. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 20,
dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Linsen
gruppe (402) ein Satz aus Konkavlinse (403) und
Konvexlinse (404) ist, und wenn die Brennweite
dieser Verbundlinse gleich f₂, die der Konkav
linse (403) gleich fA, die der Konvexlinse (404)
gleich fB, der Abstand zwischen einer zweiten
Hauptebene der Konkavlinse (403) und einer er
sten Hauptebene der Konvexlinse (404) gleich d₃,
der Abstand zwischen einer ersten Hauptebene der
Konkavlinse (403) und einer ersten Hauptebene
der Verbundlinse gleich zA und der Abstand zwi
schen einer zweiten Hauptebene der Konvexlinse
(404) und einer zweiten Hauptebene der Verbund
linse gleich zB sind, ist den folgenden Bedin
gungen genügt:
f₂ = fAfB/(fA + fB - d₃)
zB = -d₃f₂/fA (zB, wenn positiver Wert, nach rechts)
zA = -d₃f₂/fA (zA, wenn negativer Wert, nach rechts).
zB = -d₃f₂/fA (zB, wenn positiver Wert, nach rechts)
zA = -d₃f₂/fA (zA, wenn negativer Wert, nach rechts).
23. Optisches Übertragungssystem nach Anspruch 20,
dadurch gekennzeichnet, daß die vorbestimmte
Position des fortgepflanzten Laserstrahls eine
Auslaß-Endfläche (33) der optischen Faser (3)
ist.
24. Laserstrahl-Bestrahlungsverfahren, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Intensitätsverteilung des
Laserstrahls für jeden bestimmten Bereich eines
zu bestrahlenden Gegenstands (5) verändert wird.
25. Laserstrahl-Bestrahlungsverfahren, bei dem der
Laserstrahl von einem Laseroszillator vom Im
pulsoszillationstyp emittiert wird, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Intensitätsverteilung des
Laserstrahls in einem Impuls des Strahls geän
dert wird und diese Änderung in einem Impuls für
jeden Impuls wiederholt wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP02427194A JP3531199B2 (ja) | 1994-02-22 | 1994-02-22 | 光伝送装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19503675A1 true DE19503675A1 (de) | 1995-08-24 |
DE19503675C2 DE19503675C2 (de) | 2001-02-08 |
Family
ID=12133555
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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GB9416650D0 (en) | 1994-10-12 |
GB2286900A (en) | 1995-08-30 |
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DE19503675C2 (de) | 2001-02-08 |
US5684642A (en) | 1997-11-04 |
JPH07227686A (ja) | 1995-08-29 |
JP3531199B2 (ja) | 2004-05-24 |
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