DE1939667A1

DE1939667A1 - Kontinuierliche Messung der Dicke heisser Duennschichten

Info

Publication number: DE1939667A1
Application number: DE19691939667
Authority: DE
Inventors: Clark Conrad Albert; Dumbri Austin Charles; Roberts James Franklin
Original assignee: Western Electric Co Inc
Current assignee: AT&T Corp
Priority date: 1968-08-09
Filing date: 1969-08-05
Publication date: 1970-02-26
Also published as: GB1283111A; FR2015389A1; DE1939667B2; BE737138A; SE352955B; NL6911919A; US3620814A

Description

Western Electric Company Incorporated . Clark 1-1-1

New York, N, Y. 1G007 U.S.A.

Kontinuierliche Messung der Dicke heisser Dünnschichten.

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Bestimmen der Dicke einer aufwachsenden transparenten Dünnschicht, während diese auf eine erhitzte Unterlage, insbesondere eine Halbleiter unter lage, niedergeschlagen wird.

Beim Aufwachsenlassen von Dünnschichten, insbesondere durch einen Niederschlag aus der Dampfphase, ist die Niederschlagsgeschwindigkeit schwierig zu reproduzieren. Es ist daher wünschenswert, eine Methode zum Überwachen der Dicke der Schicht zu haben, wenn diese in situ durch Niederschlagen aus der Dampfphase aufwächst. Es sei bemerkt, dass der Ausdruck "Niederschlagen aus der Dampfphase" hier in seinem weitesten Sinne izu verstehen ist und Verfahren, wie Aufdampfen im Vakuum, pyrolitische Zersetzung, Plasma-Niederschlag und Zerstäuben, umfasst (jedoch nicht hierauf beschränkt ist).

Selbstverständlich existieren verschiedene bekannte Methoden zum Messen der Filmdicke, nachdem der Film niedergeschlagen und der Niedersehlagsprozess beendigt worden ist. Siehe beispielsweise Thin

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χ Film Microelectronics, L. Holland (Herausgeber), 1965.

Es sind auch Methoden bekannt (siehe beispielsweise die US-Patentschrift 3 099 579), nach denen die Dicke einer transparenten, auf einer heissen Unterlage aufwachsenden Schicht in situ bestimmt wird durch Überwachen einer von aussen zugeführten, hieran reflektierten und durchgelassenen elektromagnetischen Strahlung. Diese Methoden fc haben jedoch den Nachteil, dass die von der heissen Unterlage selbst

emittierte Strahlung diese Bestimmung verfälscht. In ähnlicher Weise verfälschen, wenn die Schicht beispielsweise im Vakuum aufgedampft wird, die sich am Fenster der Bedampfungskammer ansammelnden Niederschläge die in situ erfolgende Schichtdickenbestimmung noch weiter. Es ist daher wünschenswert, ein Verfahren zum Bestimmen der Dicke solcher Dünnschichten während des Aufwachsens derselben in situ haben, das diese Komplikationen vermeidet.

Erfindungsgemäss wird eine kontinuierliche Messung der Dicke einer auf einer heidsen Unterlage aufwachsenden transparenten, oder zumindest halbtransparenten, Dünnschicht bewerkstelligt durch Überwachen der Intensität der elektromagnetischen Strahlung in einem . · gegebenen, vorzugsweise engen Spektralbereich. Diese Strahlung ist

diejenige, welche von der heissen Unterlage emittiert und von der

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ScMeiit durchgelassen wird.

Wie aus der optischen Interferenztheorie bekannt ist, führt die Durchlässigkeit einer nichtleitenden Dünnschicht» deren Brechungsindex niedriger ist als der der nichtleitenden emittierenden Unterlage» zti Minima und Maxima annähernd entsprechend folgenden Gleichungen:

η λ * 2t (Minima) (I)

(η+1/2)λ » 2t (Maxima) (2)

Hierin ist η eine ganze Zahl oder Null, ferner λ die Wellenlänge der überwachten Strahlung, gemessen in der Schicht, und t die Schichtdicke. Wie vorstehend angegeben, gelten Gleichungen (1) und (2), wenn der Brechungsindex der Schicht kleiner als der der emittierenden Unterlage ist; andernfalls, d. h., wenn der Brechungsindex der Schicht grosser als der der emittierenden Unterlage ist, treffen Gleichung (1) auf Maxima und Gleichung (2) auf Minima zu.

In jedem Fall gelten, wenn entweder die Dünnschicht oder die Unterlage elektrisch leitend ist, die Gleichungen (1) und (2) nicht mehr, und zwar wegen von Null und ψ verschiedenen Phasenverschiebungen, die bei der Reflexion und dem Durchlassen der Strahlung an den Grenzflächen auftreten. Aber auch hier treten in jedem Pall Maxima und

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Minima auf, obgleich deren Beziehung zur Schichtdicke im Vergleich zu Gleichungen (1) und (2) einen zusätzlichen Term enthalten kann, der diese Phasenverschiebungen repräsentiert. Wenn also die Schicht in der Dicke zunimmt, unterliegt; - gleichgültig ob die Unterlage oder die Schicht leitend ist - die Intensität der von der heissen Unterlage emittierten Strahlung einer gegebenen Wellenlänge bei deren Durchfe gang durch den Film Schwankungen zwischen Maxima und Minima.

Durch Abbrechen des Niederschlagprozesses unmittelbar, nachdem eine vorbestimmte Anzahl (ganze oder bruchteilige Anzahl) solcher Schwankungen aufgetreten sind, wird dadurch eine vorbestimmte gewünschte Schichtdicke niedergeschlagen.

Um desweiteren Komplikationen zu vermeiden, die durch Temperaturschwankungen der Unterlage, ebenso durch sich an den Beobachtungsfenstern der Niederschlagskammer ansammelnden Niederschläge hervorgerufen werden, ist es vorteilhaft -mit zwei Unterlagen zu arbeiten, von denen die eine bereits eine Beschichtung aus einem anderen transparenten oder zumindest halbdurchlässigen Material vorausgewählter Dicke trägt. Abgesehen von dieser Beschichtung sind die beiden Unterlagen ansonsten identisch, jedoch ist dieses nicht . . wesentlich. Das für diese vorgängige Beschichtung verwendete Material wird wünschenswert von denjenigen Materialien ausgewählt,

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welche dafür bekannt sind, relativ leicht und auf eine vorausgewählte Dicke reproduzierbar auf der Unterlage aufzuwachsen. Die beiden Unterlagen, von denen die eine die erwähnte vorgängige Beschichtung trägt, werden dann (zum Erhalt eines thermischen Gleichgewichtes hierzwischen) dicht nebeneinander angeordnet, während der Niederschlagsprozess der gewünschten Schicht mit der gleichen Geschwindigkeit auf beiden Unterlagen bei der gleichen erhöhten Temperatur ausgeführt wird. Während dieser Niederschlagsprozess abläuft, wird die von den Unterlagen emittierte und durch die Filme duröhgelassene elektromagnetische Strahlung entweder periodisch oder kontinuierlich innerhalb eines gegebenen Spektralbereiches, d. h. eines gegebenen Wellenlängenintervalles, gemessen. Die Differenz zwischen den solcherart überwachten beiden Strahlungsintensitäten der beiden Unterlagen wird selbst zeitlichen Schwankungen unterliegen. Daher wird eine Schicht der gewünschten Dicke (auf beiden Unterlagen) niedergeschlagen sein, unmittelbar nachdem eine vorbestimmte (bruchteilige oder ganzzahlige) Anzahl solcher Schwankungen aufgetreten sein werden. Die Eichung der Anzahl solcher Schwankungen bezüglich der Schichtdicke kann durch einen Vorversuch oder durch Ausnutzung der Tatsache erfolgen, dass eine jede solche Schwankung einer Dickenzunahme von einer halben mittleren Wellenlänge der überwachten Strahlung entspricht, wobei jedoch die in der Schicht gemessene

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mittlere Wellenlänge zugrunde zu legen ist. Vorteilhaft wird die Intensität der von jeder Unterlage emittierten elektromagnetischen Strahlung durch einen gesonderten Motordetektor überwacht; und deren Ausgangsverhältnis für eine gegebene einfallende Strahlung wird so eingestellt, dass die Differenz in deren Ausgängen gerade dann gleich Null wird, wenn die gewünschte Filmdicke erreicht ist. Hierdurch erhält man eine noch genauere Kontrolle über die resultierende Dicke.

Das erfindungsgemässe Verfahren ist in den Ansprüchen gekennzeichnet und nachstehend anhand einiger Ausführungsbeispiele im einzelnen erläutert.

In der Zeichnung sind

Fig. 1 eine (nicht masstabsgerechte) Darstellung einer

Apparatur zur Durchführung einer ersten Ausführungsform des Verfahrens,

Fig. 2 ein Diagramm des Strahlungsintensitäts verlauf sin Abhängigkeit von der Schichtdicke, wie dieser bei einer speziellen Ausführungsform des Verfahrens erhalten wird, und

Fig. 3 eine (nicht maßstabsgerechte) Darstellung einer weiteren Apparatur zur Durchführung einer zweiten Ausführungsform des Verfahrens. 009809/1108

Beispiel I

In Fig. 1 sind Siliziumunterlagen 1 und IA innerhalb einer Nieder-Schlagskammer. 2 angeordnet, die ihrerseits ein gegenüber der zu überwachenden Strahlung von den Unterlagen 1 und IA durchlässiges oder zumindest teildurchlässiges Fenster 3 besitzt. Linsen 4 und 4A sammeln diese Strahlung von den Unterlagen 1 und IA und fokus sieren diese auf die Oberflächen von Photodetektoren 5 bzw. 5A, die gegenüber dieser Strahlung gleichfalls empfindlich sind. Nicht dar gestellte Blenden hindern die Strahlung der Unterlage 1 daran, den Photodetektor 5A zu erreichen, und umgekehrt die Strahlung der Unterlage IA daran, den Photodetektor 5 zu erreichen. Die Ausgänge 6 und 6A dieser Photo detektoren liegen an einem Differenzverstärker 7; dessen Ausgang durch allgemein bekannte Mittel überwacht wird.

Die Unterlage IA zeigt eine vorgängige Beschichtung 8 aus Siliziumdioxyd (SiO₀) vorbestimmter Dicke, beispielsweise 810 A. Diese Beschichtung 8 kann'nach bekannten Methoden, beispielsweise durch thermisches Aufwachsenlassen in Wasserdampf, erhalten werden. Die vorgeschriebene Dicke kann erreicht werden durch Vorausbestimmung der Niederschlagsgeschwindigkeit nach bekannten Methoden, z.B. durch Spektrophotometrie im sichtbaren oder ultravioletten Be-. reich oder durch Strahl-Vielfachinterferometrie. Beide Unterlagen 1

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und IA werden dem gleichen Niederschlagsprozess für ein gewünschtes transparentes Schichtmaterial, beispielsweise Aluminiumoxyd (A1_OO„) in an sich bekannter Weise unterworfen. Das Vorsehen einer Alumiiüumoxyd-Dünnschicht auf Silizium ist beispielsweise bei der Herstellung eines bestimmten Feldeffekttransistor-Typus mit isolierter Poor elektrode (IGPET) brauchbar. Die Unterlagen 1 und IA sind dicht nebeneinander angeordnet, so dass die Schichten B und DA mit _t der gleichen Geschwindigkeit aufwachsen und die Unterlagen in gegenseitigem thermischem Gleichgewicht sind. Im Regelfall werden die Unterlagen 1 und IA bei 900 C oder darüber während des Nieder-Schlagsprozesses gehalten, so dass sie nennenswerte Strahlungeintensität im Spektralbereich von .etwa 6000 K Wellenlänge im Vakuum abstrahlen. Während der Niederschlag fortschreitet, wachsen die Al O -Schichten 9 und 9A auf den Unterlagen 1 bzw. IA auf, und die Differenz zwischen den Ausgängen 6 und 6A der Photodetektoren 5 bzw. 5A wird am Differenzverstärker 7 gemessen. Wenn diese Differenz einen vorgeschriebenen Wert nach einer vorgeschriebenen Schwankungsanzahl erreicht, wird der Niederschlagsprozess abgebrochen. Zu diesem Zeitpunkt werden die Unterlagen 1 und IA eine Schicht 9 bzw. 9A der gewünschten Dicke haben, wie dieses nachstehend noch anhand der Fig. 2 im einzelnen erläxitert wird. Vorteilhaft werden im Hinblick auf optimale Genauigkeit die Verf ahrens-

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parameter so eingestellt, dass die gewünschte Pilrndicke dann erreicht wird, wenn die Differenz zwischen den Ausgängen 6 und 6A gleich Null ist, wie sich dieses gleichfalls aus der nachstehenden Erläuterung im einzelnen ergibt.

Für schärfere Ergebnisse werden bekannte Filter 10 und 1OA den Photodetektoren 5 und 5A vorgeschaltet, Biese Filter sind so aus« gewählt, da/as sie nur einen schmalen Spektralbereich {halbe Bandbreite gleich 30 K) der Strahlung durchlassen. Daher nassen die Photodetektoren die Strahlungsintensität in diesem schmalen Spektralbereich/ welche von den heissen Unterlagen IA und t emittiert und von den Schichten 8, 9A und 9 durchgelassen wird. ;

In Fig. 2 ist die Kurve 21 eine Eichkurve der bei 6000 R {Wellenlänge im Vakuum) zentrierten Strahlungsintensität über der Dicke der Al₀O₀-Schicht 9, die auf die Unterlage 1 bei 925°C niedergeschlagen wird. Die Kurve 21 erhält man mit Hilfe von Filmdickenmessungen, auf verschiedene Niederschläge folgend, nach bekannten Methoden, Es sei bemerkt, dass der Abstand längs der Absziöse zwischen dem ersten Maximum und dem ersten Minimum {d. h. eine halbe ,Schwan* kungsbreite) 860 K ist. Daher würde eine vollständige Schwankung der Kurve 21 in Fig. 2 einem Al₀O₀-Niederschlag entsprechen, dessen Dicke gleich 1720 K ist, d.h. gleich einer halben Wellenlänge im

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Film 9 (aus Al O„ bei 925°C) der Strahlung, deren Wellenlänge im Vakuum 6000 K beträgt. Folglich sind die Schwankungen oder Bruchteile derselben in der Kurve 21 ein Mass für die Dicke der Al O„-Schicht 9 auf der Unterlage 1.

Die Kurve 22 in Fig. 2 gibt den Verlauf der Strahlungsintensität, bei 6000 R Wellenlänge im Vakuum zentriert, über der Dicke des ALO-Fdlma 9A wieder, der auf der 810 R dicken StO^-Beechichtung 8 auf der Siliziumunterlage IA aufwächst, Wege» der vorgängigen SiO₂-Besohlchtunf Ö sind die Kuryen 22 und 21 "aupser Bias®", d. h., deren Maxima und Minima entsprechen nicht derselben Al₃O₃-Schichtdicke, Bs sei daran erinnert, dass wegen des dichten Nebeneinanderliegens der Unterlagen 1 und IA die Dicken der Schichten 9 und 9A im wesentlichen einander zu jedem Zeitpunkt während ihres Aufwachsens gleichen. Die Kurven 21 und 22 schneiden sich, von der Dicke Null ausgehend, das erste Mal im Punkt 23, der einer Al₀O₀-Schichtdicke 470 R für beide Schichten 9 und 9A entspricht. Sonach wird für eine gewünschte Dicke der AljQo-Schichte» 9 und 9A gleich 470 R der Niederschlagsprozess abgebrochen, wenn die Differenz in den Ausgängen 6 und 6A, die vom Differenzverstärker 7 gemessen / wird, das erste Mal gleich Null wird. Da Nullwerte leichter als andere Werte festaustellen sind, ist es vorzuziehen, die Dicken der

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Filme 9 und 9A durch solche Nullwertbestimmungen zu messen.

Das Ausmass, um welches die Kurven 21 und 22 "ausser Phase" sind, hängt, unter anderem, von der ursprünglichen Dicke der vorgängigen SiO^-Beschichtung 8 auf der Unterlage IA ab. Wenn daher die Dicke dieser ursprünglichen SiO_-Beschichtung 8 von den im Vorstehenden angenommenen 810 A verschieden gewählt wird, so kann das Auftreten der ersten Nullstelle, d. h. des Überkreuzungspunktes 23 der Kurven 21 und 22 in eine Stellung verlegt werden, die einer von den obigen 470 A abweichenden Dicke der A1_O„-Schichten 9 und 9A entspricht. In ähnlicher Weise kann durch Abwarten, bis die zweite und spätere Über kr euzungs stelle (die in Fig. 2 nicht dargestellt ist und bei 1410 A Al₀O₀-Schichtdicke auftritt) einen zweiten Nullwert im Ausgang des Differenzverstärkers 7 erzeugt, eine Dicke für die A1_O„-Schichten 9 und 9A von 1410 A erhalten werden.

Der Schnittpunkt 23 kann auch als einem von den obigen 470 A verschiedenen Dickenwert der Filme 9 und 9A entsprechend gemacht werden durch Ändern des Verhältnisses der Blendenaperturen der Photodetektoren 5 und SA oder durch Andern des Verhältnisses deren Ausgänge 6 und 6A für eine gegebene einfallende Strahlungsintensität, wie dieses bekannt ist. Diese Einstellungen der Photo -

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detektoren haben die Wirkung einer vertikalen Verschiebung der Kurven 21 und 22 gegeneinander, wodurch sich die Abszisse des . - Schnittpunktes 23 wie gewünscht ändert.

Beispiel II

In Fig. 3 sind eine Mehrzahl weitgehend identischer sauberer SiIi- , fc ziumunterlagescheiben 3Ia₁ b, c ... innerhalb einer Quarzglocke 30

auf einem Träger 32 angeordnet. Zu Definitionszwecken sei die Unterlage 31a als "Kontroll"-Unterlage bezeichnet. Die Silizium-Unterlagescheibe 3IA hat eine vorgängige Siliziumdioxyd-Beschichtung vorgeschriebener Dicke, beispielsweise wie im Beispiel I 810 A dick. Der Träger 32 wird zusammen mit den hierauf befindlichen Unterlagen mit Hilfe einer Hochfrequenzheizspule 33 aufgeheizt. Der Träger 32, der auf einer Welle 34 montiert ist, wird über einen Antriebsgurt 35A von einem Motor 36 in Drehung versetzt. Eine Drehdichtung 36 befindet sich längs des Umfange eines Basisgliedes 37, um die Glocke 30 abzudichten.

Über den Gaseinlass 36 wird ein das niederzuschlagende Aluminiumoxyd enthaltender Dampf in die Glocke 30 eingeführt. Wenn die Welle . 34 den Träger 32 antreibt, stellt ein Sekundärelektronenvervielfacher 38 die von derjenigen Unterlage auf dem Träger 32 emittierte elektro«

•. . . . 009809/1108

magnetische Strahlung fest, welche gerade auf den Sekundärelektronenvervielfacher 38 gerichtet ist. Ein an der Welle 34 vorgesehener Hocken 39 betätigt je einen der Mikroschalter 41 oder 42 einmal pro Umdrehung der Welle. Im einzelnen wird der Mikroschalter 4I₁ wenn die vorgängig beschichtete Unterlage 3IA gerade auf den Sekundärelektronenvervielfacher 38 gerichtet ist, kurzzeitig geschlossen^ ansonsten ist dieser Schalter offen. In ähnlidher Weise sehliesst der Nocken 3 9, wenn die "Kontroll"-Unterlage 31a gerade auf den Sekundärelektronenvervielfacher 38 gerichtet ist, den Mikroschalter 42 kurzzeitig. Die Unterlagen 3IA und 31a sind also auf den Träger 32 gegenüber dem Nocken 39 in vorbestimmten Stellungen angeordnet, um diese Schliessungen der Mikroschalter 41 und 42 zu bewerkstelligen, an welche ihrerseits der Ausgang des Sekundärelektronenvervielfachers 38 elektrisch angeschlossen ist.

Die Mikroschalter 41 und 42 sind mit 'Verstärkern 51 bzw. 52 elektrisch verbunden. Jeder dieser Verstärker ist eine Kathodenfolger-Anordnung mit negativer Spannungsrückkopplung, um während, des Betriebs eine Eingangsimpedanz zu haben, welche viel gr.össer als die Impedanz des Sekundärelektronenvervielfachers 38 ist. Kondensatoren Cl und C2 sind an die Verstärker 51 bzw. 52 angeschlossen, um eine Zeitkonstante zu haben, die im Vergleich zur Umdrehungs-

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periode des Trägers 32 gross ist. Die Eingangsspannungssignale e und e zu den Verstärkern 51 bzw. 52 werden vom Sekundärelektronenvervielfacher 38, ansprechend auf die von den Unterlagen 3IA und 31a, geliefert. Die Ausgangssignale der Verstärker 51 und 52 sind daher konstante Signale für eine Umdrehung des Trägers 32 und können sich nur schrittweise ändern, und zwar ansprechend auf . das neue, vom Sekundärelektronenvervielfacher bei jeder neuen Um-P drehung (während des Schliessens der Mikroschalter 41 und 42) gelieferte Signal entsprechend der Strahlung von der Unterlage 31A oder 31a. Die Ausgangssignale der Verstärker 51 und 52 werden an einen Differenzverstärker 53 über Widerstände R. und R_ geliefert. Ein Gegenkopplungswiderstand R„ ist zweckmässig zur Begrenzung der Verstärkung des Verstärkers 53 auf einen erwünschten Bereich für die Übertragung zum Detektor 54 vorgesehen. Der Widerstand

R stabilisiert, falls erforderlich, den Verstärker 53. S _

Der Widerstand R₁ ist einstellbar, um die relative Empfindlichkeit des Differenzverstärkers 53 gegenüber den beiden Signalen der Verstärker 51 und 52 zu steuern, so dass Ungleichmässigkeiten, wie ungleiche Verstärkung in den Verstärkern 51 und 52, korrigiert werden können. Daher liefert der Detektor 54 im Effekt die Differenz zwischen der Strahlung, die von den Unterlagen 3.1A und 31a

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in der Glocke 30 emittiert und von den hierauf aufwächsenden Filmen entsprechend dem fortschreitenden Nieder schlagsprozess modifiziert wird. Diese Differenz unterliegt schwingungsähnlichen Schwankungen, wenn die Filme während des Niederschlagsprozesses auf den Unterlagen aufwachsen. Wenn diese Differenz einen vorbestimmten Wert« vorzugsweise NuIl₄ nach einer vorbestimmten Anzahl von Schwankungen erreicht, wird der Nieder schlagsprozess unmittelbar abgebrochen. Zu diesem Zeitpunkt werden die Unterlagen 3Ia₁ b, c ... sämtlich eine Aluminiumoxydschicht der vorbestimmten, gewünschten Dicke haben, wie sich dieses aus den Ausführungen oben zu Beispiel I ergibt.

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Claims

Pa tenta nsprüche

Verfahren zum Kontrollieren der Dicke einer auf einer durch Niederschlagen aus der Dampfphase auf einer Unterlage aufwachsenden Schicht, durch

Niederschlagen einer Schicht aus der Dampfphase auf zumindest ψ eine erhitzte Unterlage in einer Vakuumkammer,

Überwachen der von der Unterlage emittierten und durch die aufgewachsene Schicht durchgehende elektromagnetische Strahlung und Unterbrechen des Niederschlages, wenn die elektromagnetische Strahlung einen Wert erreicht, der einer gewünschten Schichtdicke

entspricht,

dadurch gekennzeichnet,

dass vor dem Niederschlagen der Schicht eine zusätzliche Unterlage, die eine Beschichtung bekannter Dicke aus einem vom niederzuschlagenden Material verschiedenen Material trägt, in die Vakuumkammer verbracht wird,

dass die elektromagnetische Strahlung der auf der einen Unterlage niedergeschlagenen Schicht mit der elektromagnetischen Strahlung einer auf der beschichteten Unterlage niedergeschlagenen Schicht verglichen wird, wobei die Schichten auf den beiden Unterlagen unter weitgehend gleichen Bedingungen niedergeschlagen werden,

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und dass der Niederschlag aus der Dampfphase unterbrochen wird, wenn die Differenz der beiden elektromagnetischen Strahlungen einen vorbestimmten, der gewünschten Dicke der Schicht entsprechenden Wert erreicht.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Niederschlag aus der Dampfphase unterbrochen wird, wenn die Differenz zwischen den beiden elektromagnetischen Strahlungswerten gleich Null ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass mit einer Beschichtung gearbeitet wird, die in einem vorbestimmten Spektralbereich der elektromagnetischen Strahlung der beschichteten Unterlage zumindest halbdurchlässig ist.
4. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass im wesentlichen aus Silizium bestehende Unterlagen verwendet werden.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass für die Beschichtung im wesentlichen Siliziumdioxyd verwendet wird.

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6. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine im wesentlichen aus Aluminiumoxyd bestehende Schicht niedergeschlagen wird.
7. Verfahren nach den Ansprüchen 4, 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Spektralbereich auf etwa 6000 A zentriert wird und dass die Unterlagen auf eine Temperatur in der Grössenordnung von 900 C erhitzt werden.
8. Beschichtete Unterlage mit einer hierauf aus der Dampfphase niedergeschlagenen Schicht in gewünschter Dicke, gekennzeichnet durch ihre Herstellung entsprechend dem Verfahren nach einem oder mehreren der vorstehenden Ansprüche.

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