DE1919556C3 - Wärmeleitende Wand für einen Wärmeaustauscher - Google Patents
Wärmeleitende Wand für einen WärmeaustauscherInfo
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Description
20
25
j
Die Erfindung betrifft eine wärmeleitende Wand für einen Wärmeaustauscher zum Sieden von Flüssigkeiten
mit einem Kelvin-Parameter zwischen 0,0014 und 0,0254 cmK, deren eine Seite mit einer Wärmequelle in
Berührung steht und deren andere Seite eine porige Schicht trägt, die von der Siedeflüssigkeit bedeckt ist
und die Blasenbildung unterstützende Keimstellen bildet.
Es ist seit langem bekannt (US-PS 1931 268), bei einer solchen im Keimtauchsiedeverfahren arbeitenden wärmeleitenden
Wand die in die Siedeflüssigkeit eintauchende porige Schicht aus einem Ebullatorwerkstoff in
Form von Sand, Kieselgel, Porzellan, Antimon, Zink, Rohzink, Zinkschwamm oder Schlacke aufzubauen.
Diese Werkstoffe eignen sich zwar für Ebullatoren, die in die zu siedende Flüssigkeit eintauchen, ohne selbst
Wärme auf die Flüssigkeit zu übertragen, und deren Aufgabe es ist, die Übertemperatur zu vermindern und
die Temperatur der Hauptmasse der Flüssigkeit besser in Gleichgewicht mit dem Flüssigkeitsdampfdruck zu
bringen. Derart beschichtete Wärmeaustauscherwände erwiesen sich jedoch als wenig befriedigend. Die
erzielten Siede-Wärmeübergangszahlen sind niedrig; bo
bei vorgegebenem Δ T- Wert stellen sich nur bescheidene Wärmeströme ein. Die Betriebsdaten sind denen von
unbeschichteten glatten Wärmeaustauscherwänden aus Kupfer nicht wesentlich überlegen.
Des weiteren ist es bekannt (Abhandlungen des b5
Deutschen Kältetechnischen Vereins, Nr. 18 »Beitrag zur Thermodynamik des Wärmeübergangs beim Sieden«,
1964, Seiten 12 bis 102), bei solchen Wärmeaustauscherwänden
die in die Siedeflüssigkeit eintauchende Wandseite mit die Blasenbildung unterstützenden
Vertiefungen zu versehen. Es ist gezeigt, daß an der rauhen Oberfläche die Wärmeübergangszahlen größer
als an einer glatt polierten Oberfläche sind.
Daneben ist es bekannt (US-PS 30 95 255), bei einem Rieselverdampfer mehrere übereinander angeordnete
Reihen von Wärmeaustauscherrohren vorzusehen, die mit einer dicken porigen Umhüllung aus einem
verdichteten Metallpulver von guter Wärmeleitfähigkeit, insbesondere aus bei einem Druck von etwa 56,4
bar verpreßtem und anschließend gesintertem dentritischem Elektrolytkupferpulver, ausgestattet sind. Die zu
verdampfende Flüssigkeit wird auf die Wärmeaustauscherrohre aufgesprüht
Der unterste Tei! der Umhüllung der untersten Rohrreihe taucht ferner in den sich am Boden des
Wärmeaustauschers sammelnden Flüssigkeitssumpf ein und nimmt Flüssigkeit durch kapillare Absorption aus
dem Sumpf auf. Die Flüssigkeitstemperatur liegt unter dem Siedepunkt der Flüssigkeit. Der Dampfdruck der
Flüssigkeit ist geringer als der Druck des die Wärmeaustauscherrohre umgebenden Gases. Im Bereich
des Eintauchens der Umhüllung in den Sumpf unterdrückt die Flüssigkeit jeden Siedevorgang an der
Oberfläche der Umhüllung. Die Verdampfung erfolgt ausschließlich von den im Gasraum befindlichen Teilen
der Umhüllung. Die gegenseitige Verbindung der Poren durch Kapillarkanäle hat den Zweck, an der Oberseite
der Umhüllung verdampfende Flüssigkeit ständig zu ersetzen und einen dünnen Flüssigkeitsfilm aufrechtzuerhalten,
bis der Flüssigkeitsvorrat der innenliegenden Poren erschöpft ist.
Für dentritisches Kupfer ist in Kieffer, Hotop »Pulvermetallurgie und Sinterwerkstoffe«, 1948, Seite
23 bis 25 eine Teilchengröße von 0,1 bis 30 μΐη genannt.
Eine andere bekannte, gleichfalls für Verdampfungsprozesse, also nicht für Siedevorgänge, bestimmte
Wärmeaustauscherwand (US-PS 30 49 795) besteht aus einer Trägerplatte, insbesondere Kupferplatte, mit
darauf befindlicher verdichteter und gesinterter poröser Kupferpulverschicht.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine wärmeleitende Wand für einen Flüssigkeitssiedewärmeaustauscher
zu schaffen, die beim Sieden von Flüssigkeiten mit einem Kelvin-Parameter zwischen 0,0014 und
0,0254 cmK eine wesentlich höhere Wärmeübergangszahl als vergleichbare bekannte wärmeleitende Wände
hat und die es gestattet, der Siedeflüssigkeit große Wärmemengen bei besonders kleinen Δ T- Werten
zuzuführen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die porige Schicht aus diskreten Teilchen hoher
Wärmeleitfähigkeit aufgebaut ist, daß die überwiegende Menge der Teilchen eine Teilchengröße zwischen 125
und 500 μπι hat, daß die Teilchen in wahlloser Schichtung untereinander und mit der Wand unter
Bildung eines gleichförmigen Gefüges verbunden sind, das miteinander in Verbindung stehende Poren aufweist,
daß der äquivalente Porenradius zwischen 38 und 114 μΐη liegt und daß die Dicke der porigen Schicht
mindestens gleich dem Wert der mittleren Teilchengröße, jedoch so klein ist, daß im Betrieb Flüssigkeit mittels
Kapillarwirkung durch die porige Schicht hindurch bis zu der wärmeleitenden Wand gelangt.
Die Erfindung geht davon aus, daü niedrige Siede-Wärmeübergangszahlen oft eine erhebliche Beeinträchtigung
des Wärmeübergangsvermögens von
Siedevorrichtungen zur Folge haben. Wenn beispielsweise
die zum Sieden erforderliche Wärme durch Kondensation eines Dampfes auf einer glattwandigen
Wärmeübergangsfläche zugeführt wird, kann die Kondensations-Wärmeübergangszahl leicht in der Größenordnung
von 1,1 W/cm2K liegen, während die Siede-Wärmeübergangszahl an. der gegenüberliegenden
Seite der Wärmeübergangsfläche nur 0,05 bis 0,11 W/cm2ii betragen kann. Werden die Wärmeübergangswiderstände
wie üblich addiert, wenn die Siede-Wärmeübergangsfläche
und die Kondensations-Wärmeübergangsfläche von gleicher Flächengröße sind, wird die resultierende Wärmeübergangszahl U näherungsweise
wie folgt erhalten:
U =
h„
h„
wobei ha und hc die Siede-Wärmeübergangszahl bzw. ir,
die Kondensations-Wärmeübergangszahl sind. Wenn hs
klein gegenüber hc ist, nähert sich der Wert von U dem Wert hu und geht der Vorteil einer hohen Kondensations-Wärmeübergangszahl
weitgehend verloren. Es kommt daher darauf an, die Siede-Wärmeübergangs- w
zahl he klein zu halten, was mit den erfindungsgemäßen
Maßnahmen gelingt. Dafür dürfte weitgehend die extrem geringe Dicke des sich bei der wärmeleitenden
Wand nach der Erfindung innerhalb der Poren ausbildenden Flüssigkeitsfilms verantwortlich sein. Es r>
wurde nämlich überraschend gefunden, daß neben dem im folgenden noch näher erläuterten Übertemperatur-zl
Tder Gibbs-Clapeyron-Gleichung ein Δ T- Wert für
den Flüssigkeitsfilm berücksichtigt werden muß, der wirkungsmäßig mit dem Übertemperatur-zl T in Reihe w
liegt. Es stellte sich ferner heraus, daß das Flüssigkeitsfilm-^rim
Gegensatz zu dem Übertemperatur-,47"mit
zunehmendem äquivalentem Porenradius ansteigt und daß diese einander entgegengesetzten Einflüsse auf das
Gesamt-dT zu einem Umkehrpunkt in der die 4->
Abhängigkeit des Gesamt-^Tvom äquivalenten Porenradius
darstellenden Kurve führen, dem ein zugleich vom Kelvin-Parameter der Siedeflüssigkeit abhängiger
optimaler Wert des äquivalenten Porenradius zugeordnet ist. w
Der äquivalente Porenradius entspricht dem Hohlraumradius /v der Gibbs-Clapeyron-Gleichung; -ir stellt
zugleich den ungefähren Radius einer aus einem Hohlraum mit diesem Radius austretenden Blase dar.
Ein Verfahren zum genauen Bestimmen des äquivalen- v, ten Porenradius ist weiter unten angegeben.
Unter dem Begriff Kelvin-Parameter wird die Größe 2Co TfJXPv verstanden, wobei
ο = Oberflächenspannung (dyn/cm), «>
Ts = Sättigungstemperatur der Siedeflüssigkeit entsprechend
dem Dampfdruck der Flüssigkeit (K), Py= Dichte des Dampfes (g/cmJ),
λ = latente Wärme der Siedeflüssigkeit (J/g),
C = Umwandlungsfaktor br>
λ = latente Wärme der Siedeflüssigkeit (J/g),
C = Umwandlungsfaktor br>
ihn cm
Kelvin-Parameter für typische Flüssigkeiten im Bereich von 0,0014 bis 0,0254 cmK sind in der
untenstehenden Tabelle I angegeben.
10
20
Flüssigkeit*) | Kelvin-Parameter |
(cmK) | |
Wasser bei 103 420 dyn/cm2 | 0,0254 |
absolut | |
Wasser | 0,00325 |
Hydrazin | 0,0031 |
Wasserstoffperoxyd | 0,0028 |
Toluol | 0,00198 |
Äthylenglykol | 0,00183 |
Benzonitril | 0,00155 |
Ammoniak | 0,00341 |
*) Bei 1 bar Druck, falls nicht anders angegeben.
Entsprechend der bekannten Wärmeübergangsgleichung Q/A = MT erlaubt es die erfindungsgemäße
wärmeleitende Wand beim Sieden von Flüssigkeiten den Gesamtwert der übertragenen Wärme Q zu
erhöhen, die Fläche A zu verringern und/oder den Wert Δ T kleiner zu halten. Die wärmeleitende Wand ist von
besonderem Vorteil in Systemen, die erhöhte Drücke erfordern, um einen notwendigen Temperaturunterschied
zu erzielen. Durch Verwendung der wärmeleitenden Wand nach der Erfindung kann der nötige
Druckunterschied zwischen den fließfähigen Medien herabgesetzt werden; die Energiekosten lassen sich
kleinstmöglich halten.
Die Dicke der porigen Schicht ist vorzugsweise mindestens gleich dem doppelten Wert des mittleren
Teilchendurchmessers.
Bei Anwendung der wärmeleitenden Wand für das Sieden von Wasser beträgt vorteilhaft der äquivalente
Porenradius zwischen 51 und 102 μπι.
Die Erfindung ist im folgenden an Hand von Ausführungsbeispielen näher erläutert. In den Zeichnungen
zeigt
F i g. 1 eine graphische Darstellung des Zusammenhangs zwischen den äquivalenten Porenradien für
porige Schichten und dem Siedeseite-Temperaturunterschied für Wasser, und
F i g. 2 eine Kurvenschar für die Beziehung zwischen dem Wärmestrom und dem siedeseitigen Temperaturunterschied
für wärmeleitende Wände nach der Erfindung sowie für glatte Siedeoberflächen.
Auf der wärmeleitenden Wand eines Wärmeaustauschers ist eine porige Siedeoberflächenschicht angebracht,
um Wärme zu einer Flüssigkeit zu überführen. Die Schicht wird von wärmeleitenden Teilchen gebildet,
die mechanisch und thermisch derart miteinander verbunden sind, daß untereinander in Verbindung
stehende Poren von Kapillargröße innerhalb der Schicht entstehen. Die Poren sind in großer Anzahl in
Flächeneinheit vorhanden. Zwischen den Poren befindet sich nur wenig nicht poriges Material. Die porige
Schicht zeichnet sich durch eine ausgeprägte Kapillarwirkungaus.
Im Gegensatz zur Ebullatortechnik befindet sich die porige Schicht auf der heißen Wand der Siedevorrichtung
zwischen dieser Wand und der zum Sieden zu
bringenden Flüssigkeit; der Werkstoff dieser Schicht muß wärmeleitend sein. Die Schicht soll eine sehr große
Wärmemenge mit weitgehend vermindertem Wärmeübergangswiderstand, das heißt bei verringertem
Temperaturunterschied zwischen Wand und Flüssigkeit, übergehen lassen. Dieser ein Maß für den Wärmeübergangswiderstand
darstellende Temperaturunterschied zwischen warmer Wand und gesättigter Flüssigkeit ist
der Wert Δ T in der normalen Wärmeübergangsgleichung.
Um wirksam zu sein, muß die porige Schicht bestimmte Bedingungen hinsichtlich des äquivalenten
Porenradius erfüllen. Es wurde nämlich gefunden, daß es sich bei der überraschenden Verbesserung der Wärmeübergangszahl
h um einen in beträchtlichem Umfang nur in sehr kleinen Poren auftretenden Effekt handelt,
der bei Ebullatoren keinen wesentlichen Faktor darstellt. Das Betriebsverhalten von Ebullatoren wird
durch die Kombination der bekannten Gleichungen von Gibbs und Clapyron beschrieben, die das für das
Anwachsen einer Blase erforderliche Wärmepotential (ausgedrückt als die Übertemperatur der die Blase
umgebenden Flüssigkeit) mit der Größe der Blase in Beziehung setzen:
T -"%' P1. ■ P1 -T
wobei
rc — Hohlraumradius (entsprechend dem vorliegend
verwendeten Begriff äquivalenter Porenradius r; auch der ungefähre Radius einer aus einem
Hohlraum vom Radius rc ausgehenden Blase) (cm),
σ = Oberflächenspannung (dyn/cm),
T = Temperatur der eine Blase umgebenden Flüssigkeit (K),
Ts = Sättigungstemperatur der siedenden Flüssigkeit
entsprechend dem Dampfdruck der Flüssigkeit
Dichte der Flüssigkeit (g/cm3),
Dichte des Dampfes (g/cm3),
latente Wärme der siedenden Flüssigkeit (J/g),
Umwandlungsfaktor
dyncm
Der Wert von T muß um einen Betrag größer als Ts sein, der ausreicht, um eine Blase vom Radius rc gegen
die Oberflächenspannung zum Wachsen zu bringen. Infolgedessen ist die Größe T— Ts die minimale
Übertemperatur, die zur Aufrechterhaltung des Siedevorganges benötigt wird. Entsprechend der Gibbs-Clapeyron-Gleichung
wird die für das Blasenwachstum erforderliche Obertemperatur verringert, das heißt
T— Ts minimal gehalten, indem rc erhöht wird. Infolgedessen
ist ein Ebullator mit einer porigen Oberfläche zu versehen, die möglichst große Poren aufweist, die noch
in der Lage sind, das eingeschlossene Gas zu halten. In
Fig. 1 zeigt die Kurve A den Wert von rc in
Abhängigkeit von der zur Aufrechterhaltung des . Blasenwachstums benötigten Übertemperaturid T, das
heißt T-Ts, entsprechend der Gibbs-Clapeyron-Gleichung
für Wasser, das in Kontakt mit Oberflächen von verschiedener Porengröße bei einem Wärmestrom von
0,95 W/cm2 siedet Der Arbeitspunkt eines guten Ebullators liegt in dem Teil der Kurve A, der niedrigen
Werten von Δ Tuna hohen Werten von rc entspricht.
Um jedoch das Gesamtsiedeverhalten zu verbessern, reicht es nicht aus, nur die zur Aufrechterhaltung des
"i Blasenwachstums erforderliche Übertemperatur zu verringern. Wenn der Siedevorgang durch die Bildung
von Blasen innerhalb der Poren oder Hohlräume einer Oberfläche mit zugeordneter Wärmequelle fortschreitet,
ist, wie gefunden wurde, das in der Gibbs-Clapey-
H) ron-Gleichung auftretende Übertemperatur-Λ T, das
heißt der Wert T— Ts, nur einer der Widerstände, die bei
dem Gesamtsiedeprozeß eine Rolle spielen. Es tritt ein zweites Δ T an dem Flüssigkeitsfilm in Form des
Temperaturunterschiedes zwischen der Wandtemperatür Tw und der Temperatur Tan der Zwischenfläche
zwischen dem überhitzten Dampf und der Flüssigkeit auf; dieses Film-47"liegt in Reihe mit dem Übertemperatur-ΛΓ
der Gibbs-Clapeyron-Gleichung. Das Gesamt-^
Γ zwischen der Wand und dem Dampf ist die
Summe des Übertemperatur-4 7"und des Film-il T. In der
Kurve B der F i g. 1 ist der Wert von r in Abhängigkeit von diesem Gesamt-/! Γ aufgetragen. Es wurde überraschenderweise
gefunden, daß das Ψ\\τη-ΔΤ, das heißt
Tiv— T, ansteigt, wenn r anwächst, ein Effekt, der dem
für das Übertemperatur^ T, das heißt T— Ts, beobachteten
Effekt entgegengesetzt ist. Der waagrechte Abstand zwischen den Kurven A und Bder Fig. 1 stellt dieses
Film-/! Tdar.
F i g. 1 läßt also erkennen, daß dann, wenn der
F i g. 1 läßt also erkennen, daß dann, wenn der
jo äquivalente Porenradius r kleiner wird, das Film-ΛΓ
abnimmt und das Übertemperatur-zl T in der aus der
Gibbs-Clapeyron-Gleichung zu erwartenden Weise weitgehend das Gesamt-4T bestimmt. Nimmt umgekehrt
der äquivalente Porenradius r zu, wird das Übertemperatur-4Tkleiner und bestimmt das FWm-ΔΤ
vorherrschend das Gesamt-^Γ. Die einander entgegengesetzten Einflüsse auf das Gesamt-^ Tführen zu einem
Umkehrpunkt in der Kurve B entsprechend einem optimalen Wert von r und einem Kleinstwert des
Gesamt-4 T.
Für Wasser bei Atmosphärendruck und einem typischen Wert des Wärmestromes Q/A von
0,95 W/cm2 liegt, wie aus F i g. 1 hervorgeht, der optimale Wert von r zwischen 51 und 102 um. Fi g. 1 ist
zugleich repräsentativ für andere Flüssigkeiten mit einem Kelvin-Parameter zwischen 0,0014 und
0,0254 cmK. Der Kelvin-Parameter ist näherungsweise gleich rc (T- 7yt ermittelt durch die oben angegebene
Gibbs-Clapeyron-Gleichung; er unterscheidet sich nur
so in der Annahme, daß Pl — /Vgleich Pl ist.
Dei1 äquivalente PörciifäuiüS Γ ciHcf porigen oicuc-
oberflächenschicht wird sehr einfach und genau dadurch bestimmt, daß das eine Ende der Schicht in eine frei
benetzende Flüssigkeit lotrecht eingetaucht und der kapillare Anstieg der Flüssigkeit entlang der Schichtoberfläche
gemessen wird. Dann gilt r gleich 2 al ph, wobei ρ die Dichte der Flüssigkeit, in die das Ende der
Schicht eintaucht, in g/cm3, σ die Oberflächenspannung
dieser Flüssigkeit in dyn/cm, und h der lotrechte kapillare Anstieg der Flüssigkeit entlang der Schichtoberfläche
in cm ist
Die Verwendung einer frei benetzenden Flüssigkeit zur Bestimmung des äquivalenten Porenradius hat den
Vorteil, daß der Flüssigphasen-Kontaktwinkel Θ, den die Flüssigkeitsoberflächen mit dem Werkstoff der
porigen Schicht bilden, sehr klein ist und die Messung nicht beeinflußt Wird keine frei benetzende Flüssigkeit
verwendet muß der Ausdruck 2 al ph dem Ausdruck
r/cos Θ gleichgesetzt und der Kontaktwinkel θ berücksichtigt
werden. Unter frei benetzender Flüssigkeit sollen vorliegend Flüssigkeiten verstanden werden, die
mit dem Werkstoff, aus dem die porige Schicht aufgebaut ist, einen Kontaktwinkel von weniger als 20° r>
bilden. Solche Flüssigkeiten können verwendet werden, ohne den Einfluß des Kontaktwinkels zu berücksichtigen,
weil der auf die Vernachlässigung des Kontaktwinkels zurückzuführende Fehler unter 5% bleibt.
Beispiele geeigneter Flüssigkeiten, die Aluminium- und Kupferoberflächen (zwei der bevorzugten Werkstoffe
für die Fertigung von porigen Siedeoberflächenschichten) frei benetzen, sind Methanol, Fluortrichlormethan,
Dichlortetrafluoräthan, Aceton, Äthylchlorid, flüssiger Sauerstoff und flüssiger Stickstoff. Die zur r>
Ermittlung des äquivalenten Porenradius verwendete Flüssigkeit sollte vorzugsweise für Öl und Fett ein gutes
Lösungsmittel darstellen, so daß der Einfluß des Vorhandenseins dieser häufig anzutreffenden Oberflächenverunreinigungen
so klein wie möglich gehalten wird. Reines Wasser stellt keine frei benetzende Flüssigkeit dar, da sein Kontaktwinkel Θ mit einer
Aluminiumoberfläche etwa 66° beträgt.
Der äquivalente Porenradius hängt nicht von den Eigenschaften des Werkstoffs ab, der zum Aufbau der 2r>
porigen Schicht benutzt wird. Er bestimmt in qualitativer Hinsicht die geometrischen und größenmäßigen
Eigenschaften der Schicht, erlaubt aber keine Voraussage des quantitativen Verhaltens einer bestimmten
Schicht, da dieses unter anderem von dem Schichtwerk- jo stoff und der Siedeflüssigkeit abhängt.
Um beispielsweise den äquivalenten Porenradius für die porige granuläre Kupfer-Nickel-Schicht gemäß
Ziffer 1 der Tabelle II mit einer Teilchengröße von 125
bis 149 μιη zu bestimmen, wurde ein schmaler Streifen
aus Kupferblech mit darauf aufgebrachter poriger Schicht lotrecht aufgehängt und mit dem einen Ende in
Fluortrichlormethan eingetaucht. Die Flüssigkeit benetzte die Oberfläche durch Kapillarwirkung bis zu
einer Höhe h über dem Flüssigkeitsspiegel von 50,9 mm. Fluortrichlormethan hat eine Oberflächenspannung von
18,98 dyn/cm und eine Dichte von 1,46 g/cm3. Werden diese Werte in die Gleichung für den äquivalenten
Porenradius eingesetzt, ergibt sich ein Wert für r von 53 μπι.
In Tabelle II, Spalte 2 sind die Werte für den effektiven Porenradius zusammengestellt, die für eine
Anzahl von Oberflächen sowie für porige Siedeoberflächenschichten der vorliegend betrachteten Art in frei
benetzenden Flüssigkeiten, insbesondere Methanol, Fluortrichlormethan und Dichlortetrafluoräthan, experimentell
bestimmt wurden. Die Spalte 3 der Tabelle II zeigt die Werte für die Temperaturunterschiede, die bei
den verschiedenen Oberflächen erforderlich sind, um 0,95 W/cm2 übergehen zu lassen, wenn Wasser bei
Atmosphärendruck siedet. Da das Verhältnis Q/A konstant auf 0,95 W/cm2 gehalten wird, sind die einzigen
Variablen der Wärmeübergangsgleichung Δ T und h;
diese Variablen sind umgekehrt proportional. Folglich wird bei einer Verringerung des erforderlichen Δ Τ um
einen Faktor 10 die Wärmeübergangszahl Λ um einen Faktor 10 erhöht. Die Spalte 3 der Tabelle II gestattet es
daher, die Wärmeübergangseigenschaften der verschiedenen Oberflächen in einer gemeinsamen Flüssigkeit
miteinander zu vergleichen.
Tabelle II | Äquivalenter | Δ T(K) erforderlich für |
Oberfläche | Porenradius | QIA = 0.95 W/cm2 |
(μιη) | ||
Porige Siedeoberflächenschichten | 53 | 0,78 |
1. Kupfer-Nickel, Teilchengröße | ||
125-149 μιη, granulär | 86 | 0,56 |
2. Kupfer, Teilchengröße | ||
250-500 μιη, granulär | 76 | 0,50 |
3. Kupfer-Nickel, Teilchengröße | ||
250-297 jj.m, granulär | 46 | 1,28 |
4. Aluminium, Teilchengröße | ||
53-105 μιη, granulär | 69 | 0,44 |
5. Aluminium, Teilchengröße | ||
250-500 um, granulär | 51 | 0,94 |
6. Kupfer-Nickel, Teilchengröße | ||
44-297 μπι, granulär | 178 | 1,11 |
7. Aluminium, Teilchengröße | ||
500-710 μιη, granulär | ||
Glatte Oberflächen | 8,33 | |
8. Kupfer*) (nicht porig) | 12,78 | |
9. Aluminium*) (nicht porig) | ||
*) Besitzt keine Kapillarität.
Eine porige Siedeoberflächenschicht der oben beschriebenen Art sorgt im Betrieb für eine Vielzahl von
untereinander verbundenen, teilweise mit Flüssigkeit gefüllten Kapillaren, die als Keime für das Anwachsen
vieler Blasen der siedenden Flüssigkeit wirken. Wären die Poren nicht miteinander verbunden, hinge ihre
ständige Wirksamkeit als Keime für das Blasenwachstum in kritischer Weise davon ab, daß innerhalb der
Poren eingefangene Luft oder eingefangener Dampf festgehalten wird. Bei gegenseitig verbundenen Poren
kann jedoch in einer Pore gebildeter Dampf eine oder mehrere benachbarte Poren aktivieren, so daß der
Prozeß ohne Unterbrechung weiterläuft und nicht von dem Einschluß von Luft oder Dampf abhängt.
Mindestens einige der Poren innerhalb des Porengefüges dürften auch Flüssigkeit an benachbarte Poren
liefern. Wenn die Blasen anwachsen, treten sie schließlich auf Grund der fortgesetzten Dampferzeugung
innerhalb der Kapillaren aus den miteinander verbundenen Kapillaren aus, lösen sich von der
Oberfläche ab und steigen durch den die porige Siedeschicht bedeckenden Flüssigkeitsfilm hindurch
nach oben. Die Flüssigkeit strömt ständig in die Kapillaren ein und hält die Wände der Kapillaren
benetzt, wodurch es zu einer erhöhten Oberflächenverdampfung kommt. Die hohe Siede-Wärmeübergangszahl
ist darauf zurückzuführen, daß die die Grundmetalloberfläche verlassende Wärme nicht durch eine
merkliche Flüssigkeitsschicht hindurchzuwandern braucht, bevor sie auf eine eine Verdampfung
bewirkende Dampf-Flüssigkeits-Grenzschicht trifft.
Innerhalb der porigen Schicht wird eine Vielzahl von
Blasen zum Wachsen gebracht, so daß die Wärme zur Erreichung einer Dampf-Flüssigkeits-Grenzschicht nur
eine extrem dünne Flüssigkeitsschicht durchqueren
muß, deren Dicke erheblich kleiner als der Durchmesser der die Schicht umschließenden Pore ist. Die Verdampfung
der Flüssigkeit findet vollständig innerhalb der Poren statt; es ist praktisch keine Überhitzung der
^ Masse der Flüssigkeit erforderlich; eine solche Überhitzung
kann auch nicht auftreten.
Das oben beschriebene Betriebsverhalten einer porigen Schicht ist nicht nur auf die größere Oberfläche
zurückzuführen, wie sie zum Beispiel auch durch
ίο mechanische Aufrauhung erreicht wird. Um dies
nachzuweisen, wurde eine porige Schicht eingetaucht, die mit einem Kupferblock verbunden war, in den
Heizschlangen eingebettet waren, um Wasser bei Atmosphärendruck zum Sieden zu bringen. Bei sehr
r> niedrigen Wärmeströmen, die nicht ausreichen, um die
Poren mit Dampf zu aktivieren, waren die Siede-Wärmeübergangszahl
und die wahrzunehmenden Blasenpunkte sehr ähnlich wie bei einem Kupferblock mit glatter Oberfläche. Bei höheren Wärmeströmen, die zu
einer Dampfaktivierung der Poren führten, wurden dagegen extrem hohe Siede-Wärmeübergangszahlen
erreicht, die sich unmöglich mit dem glatten Block oder mit einem Block erzielen lassen, der sorgfältig
mechanisch aufgerauhte Oberflächen besitzt. Die
2·) folgenden Versuchsergebnisse für siedendes Wasser
veranschaulichen die Wirkung von porigen Schichten bei drei Temperaturdifferenzen und bei Wärmeströmen,
die ausreichend groß sind, um für eine Dampfaktivierung der Poren zu sorgen.
Flache Plattenoberfläche mit poriger
Siedeschicht
Siedeschicht
Äquivalenter
Porenradius
Porenradius
(rim) Λ T(K)
1. Kupfer-Nickel, Teilchengröße 36
125-149 μιη, granulär
125-149 μιη, granulär
2. Kupfer, Teilchengröße 86
250-500 am, granulär
250-500 am, granulär
3. Kupfer-Nickel, Teilchengröße 76
250-297 um, granulär
250-297 um, granulär
4. Aluminium, Teilchengröße 46
53-105 am, granulär
53-105 am, granulär
5. Aluminium, Teilchengröbe 6V
250-500 [xm, granulär
250-500 [xm, granulär
6. Kupfer-Nickel, Teilchengröße 51
44-298 μηι. granulär
44-298 μηι. granulär
7. Aluminium, Teilchengröße 178
500-710 μηι, granulär
500-710 μηι, granulär
0,83
1,11
1,11
0,83
1,11
1,39
1,11
1,39
0,83
1,11
1,39
1,11
1,39
1,39
0,83
0,83
1,11
1,39
1,39
0,83
1,11
1,39
1,39
1,11
1,39
1,39
Wärmestrom*) | Wärmeüber |
QfA | gangszahl |
(W/cnr) | (W/cnr K) |
1,10 | 1,33 |
5,52 | 4,97 |
2,68 | 3,21 |
5,52 | 4,97 |
9,78 | 7,04 |
3,00 | 3,59 |
5,52 | 4,97 |
0,88 | 0,64 |
1,77 | 1,25 |
2,84 | 3,41 |
4.73 | 4,26 |
7,10 | 5,11 |
0,69 | 0,83 |
1,45 | 1,31 |
2,62 | 1,89 |
0,95 | 0,85 |
1,77 | 1,25 |
*) Wo Werte weggelassen sind, liegt der Wärmestrom QIA außerhalb des in Fig. 2 wiedergegebenen Bereiches von 0,95
bis 11 W/cm2.
Fi g. 2 zeigt die Daten der Tabelle III in Form eines
Diagramms mit dem Wärmestrom als Ordinate und der Temperaturdifferenz 4TaIs Abszisse. Gleiche Oberflächen
sind in der Tabelle 11, der Tabelle III und F i g. 2 mit gleichen Kennziffern versehen. Ein Vergleich der
einzelnen Geraden für porige Schichten, die aus b5 Teilchen unterschiedlicher Größe gefertigt sind, zeigt
weitgehende Unterschiede hinsichtlich des Betriebsverhaltens. Der Vergleich kann beispielsweise auf dem
Wert von Δ Tbei gleichem Wärmestrom beruhen, wobei
die wirksamste Oberfläche das kleinste Δ Τ erfordert,
während die Oberfläche mit geringstem Wirkungsgrad den größten Δ T-Wert verlangt (die Temperaturdifferenz
kann unmittelbar in den Energiebedarf umgesetzt werden).
Die zum Aufbau der porigen Schicht verwendeten Metallteilchen können unterschiedliche Teilchengrößen
besitzen. Ein größerer Anteil der Teilchen soll jedoch durch ein Sieb mit einer Maschenweite von 500 μηι
hindurchgehen, um Poren hinreichend kleiner Abmessung zu erhalten, die bei niedrigem 47"aktiv werden. In
F i g. 2 stellen die Geraden 8 und 9 glatte Oberflächen dar. Das Betriebsverhalten verbessert sich demgegenüber
bei der Oberflächenschicht mit den größten Poren (Nr. 7 mit einer Teilchengröße von 500 bis 710 μΐη); es r>
verbessert sich weiter mit feineren Poren (Nr. 2,5,3 und
1 mit Teilchengrößen von 250 bis 500 μιη, 250 bis 500 μιη, 250 bis 300 μπι bzw. 125 bis 149 μηι), um
anschließend bei noch feineren Poren (Nr. 4 mit Teilchengrößen von 53 bis 105 μηι und Nr. 6 mit
Teilchengrößen von 44 bis 297 μιη) wieder schlechter zu
werden. Um optimale Ergebnisse zu erhalten, sollten infolgedessen die zum Aufbau der porigen Schicht
benutzten Teilchen eine Teilchengröße zwischen 125 und 500 μιη haben, was bedeutet, daß im wesentlichen >·ί
sämtliche Metallteilchen durch ein Sieb mit einer Maschenweite von 500 μιη hindurchgehen und von
einem Sieb mit einer Maschenweite von 125 μιη zurückgehalten werden. Pulver, die zur Herstellung
dieser bevorzugten Oberflächen verwendet werden, m können kleinere Prozentsätze an Teilchen enthalten, die
gröber oder feiner als der Bereich vor, 125 bis 500 μιη
sind. Versuche lassen erkennen, daß derartige Teilchen in kleinen Mengen, zum Beispiel 10 Gew.-%, unabhängig
davon, ob sie größer oder kleiner als die Teilchen des ι -,
bevorzugten Bereiches sind, das Belriebsverhalten weder verbessern noch verschlechtern.
Während im allgemeinen kleinere Teilchen zu porigen Schichten mit kleineren äquivalenten Radien
führen, besteht zwischen diesen beiden Parametern keine unmittelbare Beziehung. Dies ist zum Teil darauf
zurückzuführen, daß die zur Herstellung einer bestimmten porigen Schicht benutzten Einzelteilchen weder ·
notwendigerweise die gleiche Gestalt besitzen, noch unbedingt die gleiche Gestalt wie zur Herstellung -r,
anderer poriger Schichten benutzte Teilchen mit unterschiedlicher Teilchengröße haben. Außerdem
werden die Teilchen ungeordnet auf die wärmeleitende Wand aufgebracht und können die Größen der
interstitiellen, miteinander verbundenen Poren erheb- ->o
lieh schwanken. Die Teilchengestalt beeinflußt die Porengröße, da beispielsweise Kugeln eine dichtere
Packung als Teilchen mit unregelmäßiger Form haben und zu kleineren Hohlräumen führen. Die unzähligen
Variationen, die diese Faktoren zulassen, machen es -ss
praktisch unmöglich, für alle geeigneten Pulver eine gemeinsame Vorschrift anzugeben. Demgegenüber
bildet der äquivalente Porenradius, der durch Routineversuche an Proben der fertigen porigen Schicht in der
oben beschriebenen Weise bestimmt wird, eine ui
Möglichkeit zu einer genauen Identifikation.
Allgemein ist jeder metallische Werkstoff für die Herstellung der porigen Schicht geeignet, vorausgesetzt,
daß er gute Wärmeleitfähigkeit hat, als feines Pulver zur Verfügung steht, die Metallteilchen untereinander
und mit dem Grundmetall eine Bindung eingehen können und der Werkstoff durch die zu siedende
Flüssigkeit leicht benetzt wird. Die für die Fertigung der
porigen Schicht verwendeten Pulverteilchen sind vorzugsweise entweder granulär oder kugelig. Geometrische
Überlegungen deuten darauf hin, daß solche Teilchen wirksamer als Flocken oder dendritische
Teilchen sind, wenn es darum geht, eine große Anzahl von Poren ungefähr gleicher Größe zu erzeugen. Sehr
dünne Flocken sind weniger geeignet, da sie als diskrete Teilchen nur schwierig miteinander verbunden werden
können und ihre extrem große Oberfläche eine gründliche Reinigung des Pulvers erschwert.
Unter anderem wurden als Werkstoff für porige Siedeoberflächenschichten Nickel und Kupfer auf
einem Kupfergrundwerkstoff unter identischen Bedingungen geprüft. Die Wärmeübergangszah! für Kupferauf-Kupfer
ist ungefähr dreimal so groß wie die Wärmeübergangszahl der Kombination Nickel-auf-Kupfer,
was wegen der größeren Wärmeleitfähigkeit von Kupfer zu erwarten ist. Kupfer hat auch gewisse
Vorteile gegenüber Aluminium; die Leitfähigkeit dieser Metalle liegen bei 388 bzw. 203 W/(mK). In korrodierenden
Umgebungen können gegen chemische Angriffe widerstandsfähige Legierungen, beispielsweise rostfreier
Stahl, benutzt werden.
Die Dicke der porigen Schicht kann ohne wesentliche Beeinträchtigung um einen Faktor von mindestens 10
variieren und wird durch die physikalischen Eigenschaften der Siedeflüssigkeit nur wenig beeinflußt. Die Dicke
sollte über dem mittleren Teilchendurchmesser liegen und vorzugsweise mindestens den doppelten Wert des
mittleren Teilchendurchmessers haben. Bei feinen Teilchen, beispielsweise Teilchengrößen von 44 μιη,
bestimmen die Gleichförmigkeit und der Zusammenhang des Überzuges im allgemeinen die aufzubringende
minimale Dicke.
Die maximale Dicke, die ohne nachteilige Wirkungen verwendet werden kann, wird funktionsmäßig nur durch
die Kapillarität der Schicht und die Fähigkeit der Schicht bestimmt, den beim Sieden erzeugten Dampf
abzugeben. Im Betrieb sollte die Schicht in der Lage sein, die Flüssigkeit durch die volle Dicke der Schicht
hindurch bis zum Grundwerkstoff zu ziehen, so daß die Oberfläche vollständig benetzt wird, während gleichzeitig
der Dampf aus den Poren abgegeben wird und sich von den Poren löst. Hervorragende Ergebnisse wurden
mit verhältnismäßig dicken Schichten erzielt. Beispielsweise ist die porige Schicht des Beispiels 5 der Tabelle 11
und der F i g. 2 ungefähr 1,1 mm dick.
Eine solche Schicht kann beispielsweise dadurch hergestellt werden, daß Teilchen aus wärmeleitendem
Metall, beispielsweise Kupfer, mit einer Größe von 250 bis 500 μπι auf die Wand aufgesintert werden, die die
Wärme für die Siedeflüssigkeit liefert. Die Teilchen werden in solcher Menge aufgebracht, daß eine porige
Schicht mit einer Dicke von ungefähr 1,1 mm entsteht Die Zwischen- oder Hohlräume zwischen den Teilchen
sollten im wesentlichen Irei von massivem Werkstoff und innerhalb der Schicht miteinander verbunden sein.
Die Größe der auf diese Weise gebildeten, miteinander verbundenen Poren schwankt in weiten Grenzen. Viele
Poren liegen, wie mikroskopisch ermittelt wurde, in einem Durchmesserbereich von 100 bis 200 μπι. Pro
Flächeneinheit der Oberfläche ist eine große Anzahl von Poren vorhanden.
Zur Erzeugung der porigen Schicht auf einem metallischen Grundwerkstoff können verschiedene
Verfahren eingesetzt werden. Vorzugsweise wird ein Bindemittel, beispielsweise ein Kunststoff, verwendet,
das auf der Oberfläche des Grundwerkstoffes einen
gleichförmigen Oberzug bildet und das sich während der Aufheizung und des Sinterprozesses zersetzt und
verdampft Ein geeigneter Kunststoff ist u.a. ein Isobutylpolymer mit einem Molekulargewicht von
ungefähr 140 000, das im Handel unter der Bezeichnung »Vistanex« (Wz) erhältlich ist.
Das Kunststoffbindemittel wird in einem Lösungsmittel, beispielsweise Kerosin oder Tetrachlorkohlenstoff,
gelöst. Es wird eine ausreichende Menge an Metallpulver zugesetzt, um einen gleichförmigen, viskosen Brei
mit einem Metall-Kunststoff-Gewichtsverhältnis von ungefähr 92:1 zu erhalten. Die Oberfläche des
Grundwerkstoffes muß frei von Fett, Öl und Oxydschichten sein, um für eine einwandfreie Bindung des
porigen Überzuges zu sorgen. Unmittelbar bevor der Brei aufgetragen wird, kann die Oberfläche mit der
Kunststufflösung gespült werden, um die Benetzung durch den Brei zu erleichtern, wodurch eine gleichmäßigere
Verteilung sichergestellt wird. Das Aufbringen eines breiigen Oberzuges auf das Grundmetall kann in
verschiedenartiger Weise, z. B. durch Sprühen oder Tauchen erfolgen.
Der Überzug wird entweder während oder nach dem Aufbringen luftgetrocknet. Der Großteil des Lösungsmittels
wird auf diese Weise durch Verdampfen entfernt. Es verbleibt eine feste, selbsttragende Schicht,
die durch das Bindemittel an Ort und Stelle gehalten wird. Sodann werden das Grundmetall und der Überzug
mit einer leicht reduzierenden Atmosphäre abgedeckt. Die Temperatur wird für eine Zeitspanne erhöht, die jo
ausreicht, um die Teilchen miteinander und mit dem Grundmetall zu sintern. Das umlaufende reduzierende
Gas beseitigt den dünnen Oxydfilm und spült außerdem Zersetzungsprodukte weg. Im Falle von Kupfer wird
der Überzug bei ungefähr 100 K unterhalb des r> Schmelzpunktes oder ungefähr 96O0C gesintert.
Es ist auch möglich, nur das Bindemittel und das Lösungsmittel auf die Oberfläche aufzutragen und das
Metallpulver dann in trockener Form auf den klebrigen Überzug aufzustäuben. Dies hat den Vorteil, daß das
Lösungsmittel verdampft werden kann, bevor die Metallteilchen aufgebracht werden, und daß der
Kunststoff weniger fließfähig ist. Bei sorgfältigem Aufstäuben kann eine sehr gleichförmige Schicht
erhalten werden, die eine verringerte Neigung zum 4-, Laufen oder Absacken hat. Die Überzugs- und
Aufstäubvorgänge können wiederholt werden, um verhältnismäßig dicke Schichten aus dünnen Teilschichten
aufzubauen. Dieses Vorgehen eignet sich für die Herstellung von porigen Schichten auf der Außenwand
von Wärmeaustauscherrohren. Der Kunststoffüberzug läßt sich durch Aufsprühen oder Aufbürsten leicht
aufbringen. Das Pulver läßt man zweckmäßigerweise von einem über der Trägerfläche angeordneten Sieb
herunterfallen. Statt dessen kann das mit Kunststoff überzogene Rohr auch in dem Metallpulver gewälzt und
dann aufgestampft werden, um überschüssige Teilchen abzulösen, die nicht fest anhaften.
Ein anderes geeignetes Bindemittel ist ein im Handel unter dem Namen »Methocel« (Wz) bekanntes Methyl- ω
cellulosepolymer mit einer Viskosität von 4000 cP. Vorzugsweise werden 32 g Kupferpulver in 100 cm3
einer 2%igen wäßrigen Lösung des Polymers eingemischt. Der auf das Grundmetall aufgebrachte Überzug
wird an Luft bei normalen Temperaturen (unterhalb des b5
Siedepunktes von Wasser) vorgetrocknet, anschließend bei ungefähr 4000C im Ofen in einer Atmosphäre von
mit Wasser gesättigtem Glühgas weiter getrocknet und dann gesintert.
Ein anderes brauchbares Kunststoffbindemittel ist Polystyrol, das ein Molekulargewicht von ungefähr
90 COO hat und in Toluol oder Xylol löslich ist.
Das Bindemittel hat die Aufgabe, die Verteilung zu erleichtern und das Pulver zwischenzeitig an Ort und
Stelle zu halten, bis eine dauerhafte thermische Bindung erzielt ist Wenn es die Oberflächenausbildung erlaubt,
kann das Pulver jedoch auch ohne Bindemittel aufgebracht und in trockener Form gesintert werden.
Die porige Schicht kann beispielsweise auf die Innenwand von Wärmeaustauscherrohren aufgebracht
werden. Dabei wird vorteilhaft zunächst das Pulver/Bindemittel-Gemisch innerhalb des Rohres über dessen
Länge verteilt und das Rohr dann um seine Achse mit einer Drehzahl gedreht, die ausreicht, um einen glatten
Überzug entstehen zu lassen. Als zweckmäßig erwies sich zum Beispiel eine Drehzahl von 200 U/min. Der
Überzug wird während des Drehvorganges luftgetrocknet und dann unter den oben beschriebenen Bedingungen
im Ofen gesintert. Um insbesondere flache oder gewellte Flächen und zylindrische Außenflächen zu
beschichten, wird zweckmäßig ein Brei aus Metallpulver und Kunststoffbii demittel von einem Trichter aus auf
die Außenfläche einer polierten Walze in gleichförmiger Schicht aufgebracht. Während die Walze langsam
rotiert, erhärtet der Kunststoffilm durch Verdampfung des Lösungsmittels. Der Kunststoffilm wird von der
Walze in Form einer Kunststoffolie mit eingebettetem Metallpulver ständig abgezogen und mit der Oberfläche
eines Metallbleches in Kontakt gebracht, das in den Ofen eingeführt wird, wo der Kunststoff verdampft und
das Metallpulver auf das Blech aufgesintert wird.
Die wärmeleitende Wand eignet sich für Wärmeaustauscher, bei denen mindestens zwei Kanäle über die
Wand einander derart thermisch zugeordnet sind, daß die zu siedende Flüssigkeit durch einen ersten Kanal und
ein wärmeres, fließfähiges Medium durch den zweiten Kanal hindurchströmt. Dabei bildet das wärmere
fließfähige Medium die Wärmequelle, während die wärmeleitende Wand Wärme von dem wärmeren
fließfähigen Medium aufnimmt. Die porige Schicht ist Teil des ersten Kanals. Dynamische Wärmeaustauscher,
für die sich die beschriebene Wand eignet, sind unter anderem Platten-Wärmeaustauscher, bei denen mehrere
parallele, in Abstand voneinander angeordnete Trennbleche in einem Kernabschnitt untergebracht
sind, wobei zweckentsprechende Sammlerstücke und Sammelleitungen für die Ströme der fließfähigen
Medien vorhanden sind. Der Wärmeaustauscher kann auch ein Mantel/Rohr-Wärmeaustauscher sein, bei dem
ein oder mehrere Rohre innerhalb eines Mantels derart untergebracht sind, daß die Rohre einen ersten Kanal
und der umgebende Mantel einen zweiten Kanal bilden. Die porige Schicht wird auf die eine Seite der Rohrwand
aufgebracht, so daß sie mit der Siedeflüssigkeit in Kontakt steht. Die Wand läßt sich auch bei Beckensiedewärmeaustauschern
vorsehen, bei denen die eine Seite der Wand mit einem wärmeren fließfähigen Medium oder einer elektrischen, kerntechnischen oder
anderen Feststoff-Wärmequelle in Kontakt steht. Die porige Schicht wird mit der zu siedenden Flüssigkeit
bedeckt; der entstehende Dampf wird von der porigen Schicht freigegeben und gelangt durch das Flüssigkeitsbad
hindurch in den darüberliegenden Gasraum.
Die porige Schicht kann ferner auf die Innenwände eines Rohrbündels aufgebracht sein, das in einem
Mantel lotrecht angeordnet ist. Die kühlere Flüssigkeit
in den Rohren wird durch das wärmere fließfähige Medium innerhalb des Mantels, das mit der Rohraußenfläche
in Kontakt kommt, aufgeheizt und zum Sieden gebracht. Die Flüssigkeit siedet mit einem Perkolationseffekt,
wobei die aus der porigen Schicht aufsteigenden Dampfblasen den verhältnismäßig dünnen Flüssigkeitsfilm durchqueren, der die porige Schicht vollständig
bedeckt. Der aufsteigende Dampf, der Flüssigkeitsteilchen mit sich führt, wird von dem oberen Ende der
Rohre aus abgeleitet
Bei der Anwendung der wärmeleitenden Wand braucht die zu siedende Flüssigkeit nur einen dünnen
Film über der porigen Schicht zu bilden; es kommt lediglich darauf an, daß diese Schicht vollständig
bedeckt ist Bei anderen Ausführungsformen taucht die porige Schicht in ein verhältnismäßig tiefes Flüssigkeitsbad
ein. Die wärmeleitende Wand kann jeden beliebigen Winkel zwischen einer waagrechten Lage und einer
lotrechten Lage einnehmen. Bei einer schrägen oder lotrechten Anordnung kann die zu siedende Flüssigkeit
in der oben beschriebenen Weise am unteren Ende eingeführt werden; statt dessen ist es aber auch möglich,
die Flüssigkeit am oberen Ende aufzugeben, so daß sie nach unten strömt
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Wärmeleitende Wand für einen Wärmeaustauscher zum Sieden von Flüssigkeiten mit einem
Kelvin-Parameter zwischen 0,0014 und 0,0254 cmK,
deren eine Seite mit einer Wärmequelle in Berührung steht und deren andere Seite eine porige
Schicht trägt, die von der Siedeflüssigkeit bedeckt ist und die Blasenbildung unterstützende Keimstellen
bildet, dadurch gekennzeichnet, daß die porige Schicht aus diskreten Teilchen hoher
Wärmeleitfähigkeit aufgebaut ist, daß die überwiegende Menge der Teilchen eine Teilchengröße
zwischen 125 und 500 μΐη hat, daß die Teilchen in
wahlloser Schichtung untereinander und mir der Wand unter Bildung eines gleichförmigen Gefüges
verbunden sind, das miteinander in Verbindung stehende Poren aufweist, daß der äquivalente
Porenradius zwischen 38 und 114 μπι liegt und daß
die Dicke der porigen Schicht mindestens gleich dem Wert der mittleren Teilchengröße, jedoch so klein
ist, daß im Betrieb Flüssigkeit mittels Kapillarwirkung durch die porige Schicht hindurch bis zu der
wärmeleitenden Wand gelangt.
2. Wärmeleitende Wand nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der porigen
Schicht mindestens gleich dem doppelten Wert des mittleren Teilchendurchmessers ist.
3. Wärmeleitende Wand nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß bei Anwendung der
wärmeleitenden Wand für das Sieden von Wasser der äquivalente Porenradius zwischen 51 und
102 um beträgt.
io
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