DE1909757A1 - Verfahren zur Reinigung von Elektroden fuer elektrolytische Prozesse - Google Patents
Verfahren zur Reinigung von Elektroden fuer elektrolytische ProzesseInfo
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Description
«000 FRANKFURT (MAIN)
ANNASTRASSE 19
FERNSPRECHER! (0611) 555061
TELEGRAMMEi LOMOSAPATENT
LANDESZENTRALBANK 4/951
DRESDNER BANK FFM., Nr. i
Verfahren zur Reinigung von Elektroden für elektrolytische Prozesse.
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Reinigung von Anoden für elektrolytische Prozesse, und zwar Anoden, die aus
einer leitenden Unterlage bestehen und mit Edelmetallen oder chemischen Verbindungen derselben, z.B. Oxiden, gegebenenfalls
zusammen mit anderen Leitern überzogen sind·
Sie Reinigung solcher Anoden war bisher ein grosser Problem,
weil bei den üblichen Methoden oft eher die leitende Unterlage, insbesondere ein filmbildendes Metall, wie Titan, als die Edelmetallüberzüge angegriffen wird, da Titan und analoge Leiter
im allgemeinen weniger edel sind«
Mit chemischen Methoden, wie Aetzen, erzielte man wenig Erfolg,
weil die geringste Menge Edelmetall auf einem filmbildenden Metall, wie Titan, diesem eine groase chemische Beständigkeit
durch anodischen Schutz erteilt·
Es ist nun äusserst wichtig, diese leiterüberzogenen Anoden
aus unedlen Metallen und anderen Leitern, und Insbesondere aus filmbildenden Metallen, wie Titan, reinigen zu können, weil
die Ueherreate von Edelmetall entfernt werden müssen, um die
Unterlage erneut durch Aetzen aktivieren zu können· Dieses Aetzen ist nämlich unmöglich, solange noch die geringste Menge
Edelmetall vorhanden ist·
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Es ist also unbedingt erforderlich, dass zur Wiederaktivierung
zunächst alle Edelmetalle oder anderen Leiter entfernt werden, damit eine aktive Unterlage durch Aetzen erhalten werden kknn,
die sich dann aufs neue mit einem Leiter überziehen lässt.
Ueberraschenderweise wurde nun gefunden, dass man praktisch jedes
Edelmetall, Legierungen von Edelmetallen und andere Leiter von diesen unedlen Metallen entfernen kann, ohne der Unterlage
in irgendeiner Weise zu schaden, indem man die teilweise überzogene Unterlage in eine einen alkalischen Stoff enthaltende
Salzschmelze eintaucht, und zwar in Gegenwart eines oxidierenden Salzes oder von Sauerstoff bei einer über 2500G liegenden Temperatur.
Als oxidierendes Salz setzt man zweckmässig ein Alkalimetallsalz
ein, das bei 250 bis 4-000C oxidierend wirkt.
Gute Resultate erhält man mit einer Salzschmelze, die über 50 Gew.% eines oxidierenden Salzes, wie Kaliumnitrat oder Natriumnitrat,
und weniger als 50 Gew.% einer Base, wie Natriumhydroxid
oder Kaliumhydroxid, enthält.
Die Salzschmelze selbst kann durch Erhitzen, z.B.. auf Temperaturen
zwiwehen 25O0O und 10000C hergestellt werden· Eine hervorragende
Salzschmelze zu diesem Zweck erhält man z.B. aus 2 Gew.TIn. Natriumnitrat und 1 Gew.-Tl. Natriumhydroxid, wenn man
die Temperatur zwischen 425*C und 4750C wählt. Wenn Titan oder
ein anderes filmbildendes Metall, überzogen mit Edelmetallen oder andern Leitern, wie Oxiden und Mischoxiden aus edlen und
unedlen Metallen, während mehrerer Minuten in dieser Salzschmelze verweilt, werden alle vorhandenen Leiter entfernt, während
das Basismetall nicht geschädigt *iM«
Die gewünschte rauhe Oberfläche des filmbildenden Metalls, z«B. Titan, die z.B. das erste Mal durch Aetzen in warmer wässriger
Oxalsäure oder Salzsäure erhalten wurde, bleibt völlig intakte,
so dass ein Aetzen in einer Lösung eines dazu geeigneten Stoffes wie Oxalsäure oder Weinsäure, währ&na eines Ze&atels ©d@r w©-
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niger der Zeit, die das erste Mal "beansprucht wurde, diese Oberfläche
völlig wiederaktiviert, und man einen neuen Ueberzug mit den gewünschten Edelmetallen oder anderen Leitern aufbringen
kann. Versuche haben gezeigt, dass eine in dieser Weise neuüberzogene Anode, z.B. eine Titananode, bei der Chloralkalielektrolyse
bessere Eigenschaften als die ursprüngliche Anode aufweist.
Die Salzschmelze kann in herkömmlichen beständigen Gefässen hergestellt
werden, vorzugsweise jedoch werden solche aus rostfreiem Stahl verwendet. Erhitzen kann man in üblicher Weise mit
Elektrizität, Gas usw.
Das in der Salzschmelze gelöste Edelmetall kann wiedergewonnen Λ
werden, z.B. indem das Gefäss aus rostfreiem Stahl als Anode angeschlossen wird, und als Kathode ein Material eingesetzt
wird, das gegen die Salzschmelze beständig ist. Wenn ein Strom durch die Salzschmelze geführt wird, der praktisch Gleichstrom
ist, wird das gelöste Edelmetall in metallischer Form auf der Kathode abgelagert, von der es später wieder entfernt werden
kann. In der Praxis Kann eine Menge Edelmetall bis etwa 3 Gew.%
in die Salzschmelze aufgenommen werden.
Die Salzschmelze kann auch in Wasser gelöst werden und die gelösten
Metalle können dann durch chemische !Fällung oder Elektrolyse zurückgewonnen werden.
Es empfiehlt sich, die Anoden nach ihrer Reinigung in der Salz- i
schmelze, kurze Zeit mit einer verdünnten Säure, wie einer
Salzsäure- oder Schwefelsäurelösung zu waschen. Auch kann ein verdünntes Gemisch aus Salzsäure und Salpetersäure verwendet
werden, dass das filmbildende Basismetall, z.B. Titan, Zirkon oder Tantal, nicht löst. Durch diese Nachbehandlung werden die
letzten Ueberreste dee Ueberzugs völlig entfernt.
Der Ausdruck "filmbildende Metalle", umfasst in dieser Beschreibung
Titan, Tantal, Niob, Zirkon, Wolfram und Wismut.
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Der Ausdruck Leiter (Ueberzug) bezieht sich auf die Materialien, die unter anodischen Bedingungen den wässrigen Elektrolyten
elektrische Energie zuführen.
Man mischt 2 Gew.-TIe. Kaliumnitrat mit 1 Gew.-Tl. Kaliumhydroxid.
Diese Mischung wird auf eine Temperatur von 250 bis 55O°C
erhitzt. Die entstandene Salzschmelze eignet sich besonders zum Entfernen von Edelmetallen, wie Gold und Silber, und Metallen
der Platingruppe von filmbildenen Metallen, wie Titan und Zirkon.
Vorzugstemperatur: 34O°C für 70% Pt + 30% Ir (Mol-%).
Abbeizzeit: 5 Minuten
Dicke des Ueberzugs: 20 g/m (etwa 1 Mikron).
Eine Mischung von 2 Gew.-TIn. Kaliumnitrat und 1 Gew«-Tl. Natriumhydroxid
wird auf eine Temperatur von 300 bis 6000C erhitzt,
wobei die Mischung völlig schmilzt. Diese Salzschmelze eignet sich besonders zum Entfernen von Edelmetallen von filmbildenden
Metallen. Diese Mischung eignet sich besonders zum Seinigen von Tantal, Zirkon und Niob, weil diese Salzschmelze etwas weniger
agressiv ist als die Mischung nach Beispiel 1.
Vorzugstemperatur: 5Ö0°C für Pt und/oder Ir.
Abbeizzeit: 5 Minuten
Dicke des Ueberzugs: 20 g/m (etwa 1 Mikron)«
Die Salzschmelzen nach den Beispielen 1 und 2 werden auf Temperaturen
von 400 bis 8000C erhitzt. Sie eignen sich besonders
zum Entfernen der Oxide der Edelmetalle, gegebenenfalls mit den Edelmetallen selbst vermischt und erwünischtenfalls in Gegenwart
von Oxiden filmbildender Metalle, wie Titan, Tantal, Niob, Zirkon und Aluminium. Daten für einen Ueberzug von Rutheniumoxid
mit Titanoxid!
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Vorzugstemperatur: 45O°C
Abbeizzeit: 5 Minuten
Dicke des Ueberzugs: 10 gi/% (etwa 2 Ms 2,5 Mikron).
Die Salzschmelzen nach den Beispielen 1 und 2 eignen sich. auch,
"besonders zum Entfernen von Mischoxiden, die aus Oxiden von Metallen
oder Mischungen davon bestehen, Oxide die unter anodischen Bedingungen in einem Elektrolyten elektroleitend sind,
sowie von Oxiden filmbildender Metalle.
Eine Mischung von 3 G/ew.-Tln. Natriumhydroxid und 1 Gew.-Tl.
Kaliumnitrat, erhitzt auf eine Temperatur von 350 bis 11000C,
eignet sich besonders zum Reinigen filmbildender Metalle, überzogen mit Metallen der Platingruppe, und von Oxiden oder Mischungen
davon, zusammen mit den Oxiden der Nichtedelmetalle.
Vorzugstemperatur:
Abbeizzeit: 5 Minuten
Abbeizzeit: 5 Minuten
Bei einer Dicke des Ueberzugs von 10 g/m eignet sich die Behandlung
für Metalle sowie für Oxide.
Eiae Salzschmelze, bestehend aus 2 Gew.-TIn. Kaliumnitrat,
1 Gew.-Tl. Natriumhydroxid und 1 Gew.-Tl. Natriumchlorid, erhitzt auf eine Temperatur von 300 bis 11000C, eignet sich besonders
zum Reinigen filmbildender mit Leitern überzogener Metallanoden. Die Menge Natriumchlorid kann ohne nachteilige Wirkung
gesteigert werden und das Natriumchlorid kann durch Kaliumchlorid oder Kalium/Natriumcarbonat ersetzt werden.
Vorzugstemperatur: 4800C
Abbeizzeit: 5 Minuten
ο 2 *
Dicke des Ueberzugs: 20 g/m für Edelmetall, 10 g/m für ein
Oxid eines Edelmetalls.
Es ist auch möglich, das Natrium/Kaliumhydrozid teilweise durch
eine andei?© Baae, z.B. Lithiumhydroxid, zu ersetzen. Dann wird
die Aktivität &@r Salzschmelzen erheblich geringer, was in manchen
Fällea mit glich sein kann.
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Wenn das Natiumhydroxid durch. Lithiumhydroxid ersetzt wird, ist
die Temperatur auch 4800C, die Abbeizzeit "beträgt jedoch mehr
als 5 Minuten.
Die Salzschmelze besteht aus einer Mischung von 2 Gew.-TIn. Kaliumnitrat
und 1 Gew.-Tl. Bariumhydroxid. Sie wird auf eine Temperatur zwischen 400 und 7000C erhitzt, wobei die Mischung völlig
schmilzt.
Vorzugstemperatur: etwa 5000C
Diese Mischung eignet sich zum Beizen von Metallen, sowie von Oxiden, die auf Titan, Tantal, Zirkon,und Niob aufgetragen sind.
Das Bariumhydroxid kann auch durch Lithiumhydroxid ersetzt werden, das sich gleichfalls sowohl für Metalle wie für Oxide eignet.
Die Salzschmelze nach Beispiel 1, bestehend aus 2 Gew.-TIn. Kaliumnitrat
und 1 Gew.-Tl. Natriumhydroxid, kann auch durch 2 Gew.-TIe. Natriumnitrat und 1 Gew.-TI· Natriumhydroxid ersetzt
werden.
Wenn nur Natriumhydroxid bei einer Temperatur von 4000C angewendet
wird, wird mit Platin oder mit Ruthenium überzogenes Titan gut abgebeizt, dabei entstehen Jedoch grosse Verluste an
Titan oder anderen Basismetallen.
Wenn 5% Kaliumnitrat oder ein anderes oxidierendes Salz zugegeben wird, werden die Verluste mindestens zehnmal kleiner. Der
Gewichtsverlust verringert sich, ge nachdem grössere Mengen Kaliumnitrat
oder Natriumnitrat zugegeben werden.
Das ""ad fängt schon bei 95% KNO* und 5% KOH oder NaOH su wi&en
an. Wenn eine Schmelze, die aus NaOH oder KOH besteht, gewählt wird und wenn feinverteilte Luft oder Sauerstoff durch das Bad
hindurchgeblasen wird, ist der Titanverlust ungefähr ebenso gross wie wenn 5% KNO^ vorhanden ist. Bei Zirkon und Tantal hat
man praktisch die gleichen Verhältnisse.
- 7 -909838/1042
Claims (4)
- PatentansprücheVerfahren zur Reinigung von Anoden für elektrolytisch^ Prozesse, und zwar Anoden, die aus einer leitenden Unterlage bestehen, und mit Edelmetallen oder chemischen Verbindungen derselben, gegebenenfalls zusammen mit andern Leitern überzogen sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Anoden mit einer Schmelze behandelt werden, die ein basisches Material enthält, bei einer Temperatur über 25O°C und in Gegenwart eines Oxidationsmittels oder von Sauerstoff.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das ä Oxidationsmittel ein Alkalimetallsalζ ist, dass bei einer Temperatur zwischen 25O°C und 11000C oxidierend wirkte
- 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass über 50 Gew.% eines oxidierenden Salzes, wie Kaliumnitrat oder iYatriumnitrat, eingesetzt wird, und weniger als 50 Gew.% eines basischen Materials, wie Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid oder Bariumhydroxide
- 4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch feekennzeichnet, dass ein Salzbad verwendet wird, das 2 Gew.TIe. Natriumnitrat und 1 Gew.-Tl. Natriumhydroxid enthält, und auf eine Temperatur zwischen 425°C und 4-750C gebracht ist.5· Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 4-, dadurch gekennzeichnet, t dass nach der Reinigung der Anoden mit Hilfe der Schmelze die tleberreste des Ueberzugs durch eine Nachbehandlung mit verdünnter Salzsäure, Schwefelsäure und/oder Salpetersäure entfernt werden.909839/10^2ORIGINAUNSPECTED
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0434622A1 (de) * | 1989-12-19 | 1991-06-26 | Eltech Systems Corporation | Entfernen von Elektrodenüberzügen mit Salzschmelzen |
| EP1577408A1 (de) † | 2002-11-29 | 2005-09-21 | Mitsubishi Materials Corporation | Verfahren zur trennung eines elements aus der platingruppe |
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