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Verfahren zur Herstellung von Tiefdruckplatten, Flachdruckformen,
gedruckten Schaltungen und dergl.
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Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur llerstellung von Tiefdruckplatten,
Flachdruckformen, gedruckten Schaltungen und dergl., bei dem ein lichtempfindliches
Aufzeichnungsmaterial, bestehend aus einem ätzbaren Schichtträger und mindestens
einer lichtempfindlichen Aufzeichnungsschicht bildgerecht mittels einer U.V.-Licllt
enthaltenden Lichtquelle bestrahlt, die nicht belichteten Teile der Schicht entfernt
und die freigelegten Teile der Schicht entfernt und die freigelegten Teile des Schichtträgers
geätzt werden.
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Es ist bekannt, zur Herstellung photomechanischer Reproduktionen Aufzeichnungsmaterialien
zu verwenden, die aus einem Schichtträger, beispielsweise einer Metallplatte, und
einer Reservierungs- oder Überzugsschicht aus den verschiedensten bichromatiserten
Substanzen, wie beispielsweise Leimen, Gummilacken, Albuminen und Polr(vinvlalkohol),
bestehen. Durch sitzen des Schichtträgers an den mit keinem @berzug versehenen Stellen
mit einer Ätzlösung und Entfernung des Überzuges wird eine Tiefdruckplatte erhalten.
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Die lerstellung von Reliefdruckplatten it weit verbreitet, da es relativ
einfach ist, aus einen @egerbten Kolloid ein photographisches Keliefbild herzustellen,
die nidit-gegerbten Bezirke der lichtempfindlichen Kolloidschicht abzuwaschen und
schließlicll die Metallplatte, auf welche das Kolloid aufgetragen ist, zu tzen.
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Es ist ferner bekannt, zur Herstellung photomechanischer Reproduktionen
andere lichtempfindliche Substanzen.als bichromatisierte Kolloide, beispielsweise
die aus den französischen Patentschriften 1 004 922 und 1 089 290 bekannten lichtempfindlichen
Polymeren, zu verwenden. Ihre Vorteile gegenüber der Verwendung von bichromatisierten
Kolloiden sind bekannt. Bei Verwendung von solchen lichtempfindlichen Polymeren
ist es beispielsweise möglich, sog. "vorsensibilisierte" Platten lange vor ihrer
Verwendung herzustellen.
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Bei Verwendung der bekannten lichtempfindlichen Polymeren zur Herstellung
photomechanischer Reproduktionen tritt jedoch der Nachteil auf, daß die unter Verwendung
der Polymeren hergestellten Aufzeichnungsmaterialien nicht ohne Schwierigkeiten
in üblichen Atzbädern, insbesondere in den bei kontinuierlichen Verfahren verwendeten
Atzbädern7 geätzt werden können, da die Resistschicht im Verlaufe des Atzprozesses
leicht unterhöhlt wird, Bei Verwendung der bisher üblichen Aufzeichnungsmaterialien
mit bekannten lichtempfindlichen Polymeren im Rahmen solcher Verfahren sind daher
zur Vermeidung solcher Unterhöhlungen zusätzliche Verfahrensschritte erforderlich
So ist es insbesondere bekannt geworden, das Atzen stufenweise durchzuführen und
nach jeder Stufe die beim Atzen auftretenden sog. Schulterabschrägungen oder Flanken
(talus) durch Aufbringen eines schützenden Harzes zu schützen, Das Aufbringen des
Harzes wird oftmals auch als Bestäubungs- oder Bepuderungsverfahren bezeichnet,
+i der Herstellung üblicher Reliefdruckplatten für direkte oder inlirekte Abzüge,
deren Umrisse genau durchgezeichnet sein müssen, ihrte man somit bisher bei den
vorher mit einer photographischen -eservierungsschicht versehenen bletallplatten
eine "Tiefätzunz" tufenweise durch, wobei,um das seitliche Anätzen der unter der
Re-;ervierungsschicht liegenden Schulterabschrägungen zu vermeiden, orsichtsmaßnahmen
erforderlich waren, um tief genug ätzen zu können. Die zum Schutz der Schulterabschrägungen
bekannten Bestäubungs-oder Bepuderungsverfahren bestehen beispielsweise im Aufbringen
von 'Drachenblut". Derartige Verfahren sind jedoch langwierig und kompliziert
und
gestatten insbesondere keine kontinuierliche Atzung der Schichtträger.
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Bei anderen bekannten Verfahren, bei denen eine Bestäubung vermieden
wird und die beispielsweise in den französischen Patentschriften 1 074 981; 1 186
260; 1 276 669 und 1 444 431 beschrieben werden, verwendet man Dispersionen, die
ein saures Netzmittel, z. B, eine Säurelösung, wie Salpetersäure, eine organische
Flüssigkeit, z, B. eine Erdölfraktion, und ein Netzmittel, z. B. eine sulfonierte
Verbindung, enthalten. Bei diesen Dispersionen ist die Säurelösung in Form von Tröpfchen
in der organischen Flüssigkeit dispergiert, Während des Atzvorgangs werden die Schulterabschrägungen
durch die das Netzmittel enthaltende und die aus der Säurelösung bestehenden Tröpfchen
umhüllende, organische Flüssigkeit geschützt. Andererseits breiten sich jedoch die
Tröpfchen auf der Metallplatte aus, so daß die Säure mit der Plattenoberfläche in
Kontakt gelangt und das Metall angreifen kann. Ein solches Ätzverfahren läßt sich
kontinuierlich durchführen, da es im Gegensatz zu den bekannten Bepuderungsverfahren
nicht erforderlich ist, eine schützende Substanz auf die Schulterabschrägungen aufzubringen,
Ein solches Verfahren führt bei Verwendung bichromatisierter Kolloide zu befriedigenden
Ergebnissen, jedoch nicht bei Verwendung der bekannten licht empfindlichen Polymeren,
die zur Herstellung von Reservierungsschichten bekannt sind, da diese von der organischen
Flüssigkeit angegriffen werden, so daß die Atzung unbefriedigend verläuft. Es hat
sich sogar gezeigt, daß sich die Reservierungsschicht oftmals vollständig von dem
metallischen Schichtträger ablöst und sich die ittzlösung über die gesamte Oberfläche
des Schichtträgers ergießt.
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Der Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung
von Tiefdruckplatten, Flachdruckformen, gedruckten Schaltungen und dergl. zu entwickeln,
das ohne zusätzliche Verfahrensschritte zum Schutze der Schulterabschrägungen kontinuierlich
mit üblichen Atzmitteln durchgeführt werden kann.
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Der Erfindung lag die Erkenntnis zugrunde, daß sich die gestellte
Aufgabe iviit einem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial lösen Pt, dessen lichtempfindliche
Schicht aus einem in bestimmter Weise aiJi~ einl-ten Polycarbonat besteht.
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Gegenstand der Erfindung ist somit ein Verfahren zur Herstellung von
Tiefdruckplatten, FlachdruckfOrmen, gedruckten Schaltungen und dergl., bei dem ein
lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial, bestehend aus einem setzbaren Schichtträger
und mindestens einer lichtempfindlichen Aufzeichnungsschicht, bildgerecht mittels
einer U,V,-Licht enthaltenden Lichtquelle bestrahlt, die nicht belichteten Teile
der Schicht entfernt und die freigelegten Teile des Schichtträgers geätzt werden,
welches dadurch gekennzeichnet ist, daß man ein Aufzeichnungsmaterial mit einer
lichtempfindlichen Schicht aus einem lichtempfindlichen Polycarbonat mit Styrylketonresten
der allgemeinen Formel:
in der Kette verwendet, wobei in der Formel R ein Wasserstoffatom oder einen Kohlenwasserstoffrest
bedeutet.
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Gegenstand der Erfindung ist ferner ein AufzeichnunZsmaterial zur
Durchführung des Verfahrens.
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Polycarbonate des erfindungsgeaäß verwendeten Typs sind aus der französischen
Patentstrift 1 268 008 bekannt,
Vorzugsweise besteht die lichtempfindliche
Schicht eines Aufzeichnungsmaterials nach der Erfindung aus einem Polycarbonat,
welches durch Umsetzung von mindestens 5 Mol-% Divan#illalcyclopentanon enthaltenden
Bisphenolen mit
Phosgen"
und/oder dem Bischloroformiat des Neopentylsterhalten wurde. Auch solche Polycarbonate
werden in allen Einzelheiten in der französischen Patentschrift 1 268 008 beschrieben.
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Die Schichtstärke der lichtempfindlichen Schicht beträgt zweckmäßig
etwa 1 bis 10 g/m2, vorzugsweise etwa 1,5 bis 5 g/m2.
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Die lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien nach der Lrfindung
weisen die geschilderten flachteile der bekannten Aufzeichnungsmaterialien nicht
auf.
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Die neuen Aufzeichnungsmaterialien nach der Erfindung, die z. b. zur
Herstellung von Tiefdruckplatten geeignet sind, können als sog. vorsensibilisierte
Platten vor ihrer Verwendung mehrere Jahre lang aufbewahrt werden. Ihre Qualität
leidet dabei unter den verschiedensten Umweltbedingungen, beispielsweise bei unterschiedlichen
Feuchtigkeitsgraden, Temperaturen und Luftdrucken, nicht. Die Aufzeichnungsmaterialien
werden bei Temperatur- und/ oder Druckeinwirkung nicht klebrig. Sie sind gegenüber
W-Licht sehr empfindlich. Uach der Belichtung der erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterialien
lassen sich die nicht-belichteten Bezirke leicht und vollständig freilegen, was
bei der Wiedergabe von Rasterbildern von erheblichem Vorteil ist. Die nach der Belichtung
und dem Freilegen der Aufzeichnungsmaterialien erhaltenen Reservierungsschichten
sind sowohl gegenüber mechanischem Abrieb als aucn gegenüber Ätzmitteln des beschriebenen,
zum kontinuierlicssen ritzen (gravure sans poudraSe) geeigneten Dispersionstys hervorragend
beständig. Im Gegensatz zur Verwendung von bekannten lichtempfindlichen Polymeren
ist es bei den erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterialien nicht erforderlich, die
+ enauer des @eopentylglykols (s. Strukturformel auf Seite 3 der @anzösischen Patentschrift
1 268 008),
Schulterabschrägungen (talus) in einer zusätzlichen
Verfahrensstufe zu schützen.
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Aufzeichnungsmaterialien nach der Erfindung mit Schichtträgern aus
biegsamen und starren Folien eignen sich ferner zur Herstellung gedruckter Schaltungen
sowie zur erstellung der verschiedensten Kennzeichen.
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Der Schichtträger kann aus den verschiedensten üblichen ätzbaren Metallen
oder Metallegierungen bestehen, zu deren Herstellung mindestens zwei Metalle verwendet
wurden, sowie aus sog.
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Bimetallplatten.
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Die Herstellung einer Tiefdruckplatte unter Verwendung eines Aufzeichnungsmaterials
nach der Erfindung erfolgt in der Weise, daß man (a) ein Aufzeichnungsmaterial nach
der Erfindung bildgerecht belichtet, (b) die Schichtträgeroberfläche durch Entfernen
der aus dem licht empfindlichen Polymerisat bestehenden, nicht-belichteten Bezirke
bildgerecht freilegt und schließlich (c) den Schichtträger mit einer dem Schichtträger
angepaßten Ätzlösung
ohne die Schulterabschrägungen besonders zu schützen,
d. h. ohne Bepudern, ätzt.
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Neben den geschilderten Vorteilen besitzen die Aufzeichnungsmaterialien
nach der Erfindung den weiteren Vorteil, daß man sie nacü dem Freilegen der Schichtträ.terob:erfläche
mit frischem Lösungsmittel spülen und hierauf vor dem Eintauchen in das Ätzbad trocknen
kann. Vorteilhaft ist ferner, daß man die beschriebenen Aufzeichnungsmaterialien
nach beendeter Ätzung in einem alkalischen bad und anschließend in Wasser spülen
und hierauf trocknen kann. Die Erfindung ermöglicht somit eine kontinuierliche Ätzung,
ohne daß ein zusätzlicher Verfahrensschritt zum Schutz z der Schulterabschrägungen
(talus) erforderlich ist.
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Die zum Ätzen der Schichtträger von Aufzeichnungsmaterialien nach
der Erfindung verwendeten Ätzmittel oder Ätzbäder (sans poudrage des talus) enthalten,
beispielsweise zum Ätzen von Magnesium- und Zinkträgern, als Ätzmittel eine Säurelösung,
beiapielsweiae eine Salpetersäurelösung, welche in einem Kohlenwasserstoff, beispielsweise
einer Erdölfraktion oder Dodecylbenzol, in Gegenwart eines Netzmittels, beispielsweise
in Gegenwart von Natriumalkoylbenzolsulfonat, dispergiert ist. Zum Ätzen von z,
B. aus Kupfer oder Kupferlegierungen bestehenden Schichtträgern enthalten die Ätzmittel
in der Regel dieselben Bestandteile, mit der Ausnahme, daß die Salpetersäure durch
Ferrichlorid ersetzt ist.
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Überraschenderweise hat sich gezeigt, daß die unter Verwendung der
erfindungsgemäß verwendeten Polycarbonate erhaltenen Schutzüberzüge gegenüber der
Einwirkung der beschriebenen Ätzmittel ohne Bepuderung beständig sind. Reservierungen,
die unter Verwendung anderer bekannter lichtempfindlicher Polymerisate erhalten
wurden, sind demgegenüber gegenüber solchen Ätzmitteln nicht beständig.
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1. Herste1lun von Tiefdruckplatten aus vorsensibilisierten lichtempfindlichen
Aufzeichnungsmaterialien nach der Erfindun: Zur Herstellung von Tiefdruckplatten
geeignete Schichtträger sind die bei Tiefdruckverfahren dblichen bekannten Platten
und Folien, z. B. Zink-, Kupfer- und Magnesiumfolien einer Stärke von beispielsweise
1,6; 2,5 und 6 mm.
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Bei der Herstellung vorsensibilisierter, lichtempfindlicher Aufzeichnungsmaterialien
für Tiefdruckplatten wird der Schichtträger, beispielsweise eine Zink-, Kupfer-
oder I4agnesiumfolie, zunächst vorzugsweise mit fleudonweiß (blanc de Meudon) oder
anderen, zu diesem Zweck geeigneten Substanzen entfettet, um die
Haftung
der auf die SchichtträgeroberfLäche aufgetragenen Schicht aus dem lichtempfindlichen
Polycarbonat zu verbessern.
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Hierauf wird der entfettete Schichtträger entweder durch Uberbürsten
mit einem Schleifmitteln, z. B. pulverislartem Binsstein oder pulverisiertem Siliciumdioxyd,
oder auf mechanischem Wege, beispielsweise mittels eines Sandstrahlgebläses, mattiert.
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Nach dem Mattieren wrrd der Träger einer chemischen Behandlung vorzugsweise
mit einer sauren Lösung unterworfen, um das auf der Metalloberfläche gebildete Oxydhäutchen
zu entfernen. Hierbei soll nach Möglichkeit eine Gasbildung durch die Einwirkung
der chemischen Lösung auf die Metalloberfläche vermieden werden.
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Neben sauren Lösungen können auch noch Lösungen, die die Metall ober
fläche gegenüber dem lichtempfindlichen Polymerisat inaktivieren, d. h. beispielsweise
Phosphat- oder Chromatlösungen, verwendet werden. Nach einer solchen chemischen
Behandlung wird der Metaliträger mit Wasser, vorzugsweise mit entionisiertem Wasser,
gespult und getrocknet, beispielsweise in einem schwachen Luftstrom oder mit IR-Strahlen.
Schließlich wird auf den in der beschriebenen Weise vorbehandelten Schichtträger
ein lichtempfindliches Polymerisat des beschriebenen Typs in der Weise aufgetragen,
daß, gemessen in trockenem Zustand, auf einen dm2 Trägerfläche etwa 10 bis etwa
100, zweckmäßig etwa 15 bis etwa 50 und vorzugsweise etwa 20 bis etwa 30mg lichtempfindliches
Polymerisat entfallen.
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Die Beschichtung des Schichtträgers als solche kann in dblicher bekannter
Weise, z. B. durch Wirbelbeschichtung (tournette), Bestäuben, Besprühen, Vorhangbeschichten
oder Tauchen des Schicht trägers, erfolgen. Zum Beschichten des Schichtträgers können
Lösungen eines lichtempfindlichen Polycarbonates des beschriebenen Typs in einem
Lösungsmittel oder einer Mischung aus zwei Oder mehreren, zur Herstellung einer
gleichmäßigen, schlieren-und faltenfreien Schicht geeigneten Lösungsmitteln verwendet
werden.
Solche Lösungsmittel sind beispielsweise Cyclohexanon, Trichloräthylen, Methylenchlorid,
Methylpyrrolidon, Dimethylformamid, Methyläthylketon, Benzylalkohol, Methylglykolacetat,
ethylacetat und Amylacetat. Gegebenenfalls kann der Beschichtungslösung ein Farbstoff
einverleibt werden, wenn farbige, vorsensibilisierte Aufzeichnungsmaterialien hergestellt
werden sollen. Nach ihrer Herstellung wird die Beschichtungslösung in vorteilhafter
Weise filtriert, z. B. in einer unter der Handelsbezeichnung Millipore von der Fa.
Millipore Society, USA, vertriebenen, mit einem Vorfilter (AP 25) und einem Hauptfilter
(Mitef) (7 p) ausgestatteten Filtrationsvorrichtung, um störende Verunreinigungen
zu entfernen.
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Durch dem Auftragen des lichtempfindlichen Polymerisats werden die
erhaltenen Aufzeichnungsmaterialien in mehreren Stufen getrocknet. Die hierbei herrschenden
Bedingungen (Temperatur, Luftdruck und dgl.) können sehr verschieden sein. In Jedem
Falle werden Aufzeichnungsmaterialien mit ausgezeichnet gleichmäßigen Schichten
erhalten.
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Die in der beschriebenen Weise erhaltenen, licht empfindlichen Aufzeicnnungsmaterialien
zur Herstellung von Tiefdruckplatten können unmittelbar im Anschluß an ihre Herstellung
oder aber, ohne daß sie sich hierbei verändern, erst nach mehrjähriger Aufbewahrung
weiterverwendet werden. die Aufzeichnungsmaterialien nach der erfindung können in
üblicher bekannter Weise belichtet werden. Da die zur Herstellung der lichtempfindlichen
Schichten der beschriebenen Aufzeichnungsmaterialien verwendeten, lichtempfindlichen
Polymerisate empfindlicher sind als bichromatisierte Kolloide, brauchen die vorsensibilisierten
Aufzeicflnungsniaterialien nach der Erfindung nicnt so stark belichtet zu werden
wie die bekannten, mit bichromatisierten Kolloiden beschlchteten Aufzeichnungsmaterialien.
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Die vorsensibilisierten Aufzeichnungsmaterialien nach der Erfindung
kleben beim Erwärmen auf Temperaturen über etwa 40°C und/oder beim Aufeinanderpressen
nicht und lassen sich mit üblichen Atzldaungen ätzen, ohne daß die Schulterabschrägungen
(talus) geschützt werden müssen. Es ist ferner nicht erforderlich, zum Ätzen der
vorsensibilisierten Aufzeichnungsmaterialien nach der Erfindung spezielle Ätzlösungen
zu verwenden.
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Als vorteilhaft hat es sich erwiesen, die vorsensibilisierten Aufzeichnungsmaterialien
nach der Erfindung etwa in der im folgenden beschriebenen Weise weiterzuverarbeiten.
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Das Aufzeichnungsmaterial nach der Erfindung wird mittels einer an
W-Licht reichen Lichtquelle durch ein Strich oder Rasternegativ belichtet. Zum Unlöslichmachen
des lichtempfindlichen Polymerisats kann z. B. bei einer Grauskalendichte von 0,60
bis 0,90, eine Beleuchtungsintensität von etwa 300 000 Lux Sekunden, wenn das verwendete,
lichtempfindliche Polymerisat transparent ist, und eine Beleuchtungsintensität von
etwa 800 000 Lux Sekunden, wenn das gewählte lichtempfindliche Polymerisat farbig
ist, ausreichen.
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Somit kann z. B. ein vorsensibilisiertes Aufzeichnungsmaterial nach
der Erfindung mit einem transparenten, d. h. nicht farbigen, lichtempfindlichen
Polymerisat des beschriebenen Typs entweder 8 Minuten lang aus einer Entfernung
von 40 cm mittels einer unter der Bezeichnung Philips HPR erhältlichen 250 W-Lampe
ohne Reflektor oder 6 Minuten lang aus einer Entfernung von 1,20 m mittels zweier,
von einem Strom von 30 Amp. durchflossener Lichtbogen belichtet werden.
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Nach der Belichtung kann man den Schichtträger dadurch freilegen,
daß man das Aufzeichnungsmaterial 30 Sekunden lang in ein Lösungsmittel oder eine
Mischung aus mehreren Lösungsmitteln, insbesondere in eine Mischung aus den im Zusazmnenhang
mit der
Herstellung einer Lösung des lichtempfindlichen Polymerisats
genannten Lösungsmitteln, eintaucht und mit frischem Lösungsmittel nachspült. Das
Freilegen des Schichtträgers kann Jedoch auch in einem automatischen Zerstäuber
erfolgen. Schließlich kann man gegebenenfalls gleichzeitig mit dem Freilegen des
Schichtträgers die auf dem Schichtträger zurückbleibenden Bezirke einfärben, indem
man zum Spülen ein farbiges Lösungsmittel verwendet. In diesem Falle ist es in der
Regel erforderlich, den Schichtträger zur Entfernung der Uberschüssigen Farbe mit
Alkohol naohzuspülen.
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Die Qualität der nach der Belichtung des Aufzeichnungsmaterials und
dem Freilegen des Schichtträgers erhaltenen "Phototiefdruckplatten" ist ausgezeichnet.
Man erhält selbst in den Dunkelbewirken vollkommen saubere Rasterpunkte, d. 11.
15- bis 85g-Punkte, was sich leicht mit Hilfe eines Binokulars nachprüfen läßt.
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Die in der beschriebenen Weise erhaltenen "Phototiefdruckplatten"
können entweder direkt geätzt oder zur Steigerung der Widerstandsfähigkeit (Abriebsbeständigkeit)
der restlichen Polymerisatschicht zunächst "gebacken" oder getrocknet werden. Letzteres
hat sich insbesondere dann als vorteilhaft erwiesen, wenn das Ätzen zusätzlich mehrmals
wiederholt wird. Das Trocknen der "Phototiefdruckplatten" kann innerhalb von 2 bis
6 Minuten bei Temperaturen zwischen 160 und 2000C, beispielsweise in einer Trockenkammer,
mit IR-Strahlen oder in einem Bad aus aufgeschmolzenen Salzen, erfolgen.
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Das Ätzen der in der beschriebenen Weise hergestellten "Phototiefdruckplatte"
kann mit einer üblichen, dem jeweiligen Schichtträger angepaßten Ätzlösung erfolgen.
Das Ätzen kann kontinuierlich erfolgen. Bei Verwendung üblicher Träger, belspielsweise
aus Zink, Kupfer und Magnesium sowie deren Legierungen, kann man übliche Ätzmittel,
wie sie beispielsweise aus den französischen Patentschriften 1 074 981, 1 186 260,
1 276 669 und 1 444 431 bekannt sind, verwenden. Da die erfindungsgemäß verwendeten,
lichtempfindlichen Polymerisate gegenüber sauren Lösungen
besonders
beständig sind, läßt sich das Ätzen bei Verwendung von stärker sauren Ätzmitteln,als
sie bisher verwendet werden konnten, beschleunigen.
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Abgesehen von ihrer Beständigkeit gegenüber sauren Ätzmitteln sind
die mit den erfindungsgemäß verwendeten, lichtempfindlichen Polycarbonaten erhaltenen
Reservierungen auch gegenüber den in zur Herstellung von Tiefdruckplatten aus Zink,
Kupfer und Magnesium üblichen Ätzmitteln enthaltenen Lösungsmittel und Netzmittel
beständig. Solche, in üblichen Ätzmitteln enthaltenen Hilfsmittel, welche oftmals
die aus den üblichen bekannten lichtempfindlichen Harzen bestehenden Reservierungen
angreifen, kdnnen beispielsweise aus Kohlenwasserßtoffl8sungsmitteln (z. B. dem
von der Sociætd Esso Standard erhältlichen Lösungsmittel Solvesso 150 und den von
der SocidtS Anonyme de Photogravure Francaise vertriebenen Lösungsmittel R-200)
bestehen. Diese Lösungsmittel enthalten beispielsweise Xthylenthioharnstoff, Diäthylphopsphate,
Alkoylarylsulfonate, sulfonierte Öle und dergleichen.
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Nach dem Ätzen kann die Tiefdruckplatte mit einer alkalischen Lösung
und hierauf mit Wasser abgespült und anschließend getrocknet werden. Nach dem Trocknen
kann die Reservierung mit Hilfe eines Lösungsmittels, beispielsweise Methylenchlorid,
entfernt werden. Andererseits kann man aber auch die für Druckfarbe aufnahmefähige
Reservierung auf der Druckplatte belassen.
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In diesem Falle bildet die Reservierung beim Aufbewahren der Druckplatten
vor ihrer Verwendung in der Druckpresse einen Schutz für die Druckbezirke.
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2. Herstellung von Aufzeichnungsmaterialien mit Bimetall- oder Polymetalls
chichtträgern Die Schichtträger solcher, zur Herstellung von Flachdruckformen geeigneter
Materlalien können beispielsweise aus einer mit
einem dünnen Chromüberzug
versehenen Kupfer- oder Messingfolie bestehen, wobei sich auf der Kupfer- oder Messingseite
gegebenenfalls noch eine Stahl- oder Aluminiumschicht befinden kann.
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Bei Aufzeichnungsmaterialien dieses Typs kann die Chromschichtmit
der licht empfindlichen Polycarbonatscicht überzogen sein.
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Die Herstellung der Flachdruckformen entspricht, soweit es das Auftragen
der Lösung des lichtempfindlichen Polymerisats auf den Schichtträger betrifft, der
Herstellung der beschriebenen Tiefdruckplatten. In der Vorbereitung des Schichtträgers
können sich die beiden Herstellungsverfahren allerdings unterscheiden.
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Die Schichtträger werden unter Bedingungen, bei denen die etalloberflächen
nicht angegriffen werden, mit alkalischen Lösungen, wie beispielsweise Natrium-
und Kaliumcarbonatlösungen, entfettet, worauf die Metalloberflächen beispielsweise
mit Schwefel- oder Chlorwasserstoffsäure behandelt werden. Die Konzentration solcher
Säurelösungen soll nicht so hoch sein, daß sich auf den Metalloberflächen Blasen
bilden. Schließlich spült man die vorbehandelten Schichtträger mit entionisiertem
naser, trocknet sie und beschichtet sie in der bei der Herstellung der Tiefdruckplatten
beschriebenen Weise mit einer Lösung des lichtempfindlichen Polycarbonates.
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Die auf diese Weise erhaltenen Aufzeichnungsmaterialien werden entsprechend
den zur erstellung der Tiefdruckplatten dienenden Aufzeichnungsmaterialien belichtet,
worauf bestimmte Bezirke des Schichtträgers mit Hilfe von Lösungsmitteln vom Polymerisatüberzug
befreit werden. Die hierbei erhaltenen Flachdruckformen eignen sich hervorragend
zur Verwendung in Offsetdruckpressen. Aus mehreren Metallen bestehende Flachdruckformen
vom ryp Kupfer/Uhrom oder Messingichrom können durch Eintauchen in eine Chlorwasserstoffsäure
und Chloride enthaltende, handelsübliche S-szlösung (solution de morsure) geätzt
werden.
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3. Herstellung von Auizeichnunçsmaterialien zur Herstellung von gedruckten
Schaltungen Aus Folien bestehende Schichtträger zur Herstellung gedruckterX Schaltungen
können beispielsweise aus einem aus einem Kunstharz, z. B. einem Polyester, wie
PolyCäthylenterephthalat) , Bakelit oder einem Epoxydharz gebildeten Träger, der
mit einem Überzug aus einem Metall, z. B. Kupfer oder einer Kupferlegierung einer
Dicke von z. B. 17; 35 oder 70 ij versehen ist, bestehen. Der Träger kann hierbei
ein- oder beidseitig mit der Metallschicht beschichtet sein.
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Die Metallschicht, z. B. aus Kupfer oder einer Kupferlegierung, wird
ihrerseits mit dem beschriebenen lichtempfindlichen Polycarbonat beschichtet.
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Die Schichtträger kdnnensstarr oder biegsam sein.
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Die Herstellung solcher Aufzeichnungsmaterialien entspricht der beschriebenen
Herstellung von Tiefdruckplatten, Die Weiterbehandlung der zur Herstellung gedruckter
Schaltungen geeigneten Folien entspricht hinsichtlich Belichtung und Losungsmittelbehandlung
der bei der Herstellung von Tiefdruckplatten beschriebenen Behandlung, Hierauf kann
die mit Hilfe eines geeigneten Lösungsmittels freigelegte Metalloberfläche mit Üblichen
bekannten Atzlösungen oder Ätzbädern geätzt werden. Besteht die Metalloberfläche
z. B. aus Kupfer, so kann die Ätzlösung z, B, aus einer Ferrichloridlösung bestehen.
Der Ätzprozess kann gegebenenfalls in einer automatischen Vorrichtung erfolgen,
in der die Folien in die ätzlösung getaucht werden oder in der die Ätzlösung durch
umlaufende Verteiler auf die Folien aufgesprüht wird.
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Die Reservierungsschicht bläht sich in Gegenwart der Lösungsmittel
und der in solchen Lösungsmitteln als Hilfsstoffe enthaltenen Netzmittel weder auf
noch löst sie sich vom Träger ab.
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Nach dem Atzen wird die Folie mit Wasser gespült und getrocknet und
kann zur Herstellung gedruckter Schaltungen verwendet werden.
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4. Herstellung von Kennzeichen oder Schildern (laqueß de lien nach
der Erfindung Zur Herstellung von Kennzeichen und Schildern eignen sich insbesondere
Aufzeichnungsiaaterialien mit einem Aluminiumträger, einer darauf aufgetragenen
Schicht aus gefärbtem oder nicht gefärbtem Aluminiumoxyd sowie einer aus dem beschriebenen,
lichtempfindlichen Polycarbonat gebildeten Schicht.
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Die Herstellung der Aufeeichnungsmaterialien dieses Typs erfolgt wie
die Herstellung der Aufzeichnungsmaterialien für Tiefdruckplatten.
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Die Aufzeichnungsmaterialien werden ebenso wie die bereits beschriebenen
Aufzeichnungsmaterialien belichtet und mit Lösungsmitteln behandelt. Hierauf wird
der durch eine 20%ige Natriumhydroxydlösung freigelegte Schichtträger geätzt, bis
die Aluminiumoxydschicht verschwunden ist. Nach dem Ätzen wird das erhaltene Kennzeichen
oder Schild mit Wasser gespült und getrocknet.
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Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher veranschaulichen.
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Beispiel 1 Dieses Beispiel veranschaulicht die Herstellung eines Aufzeichnungsmaterials
nach der Erfindung, das sich zur Herstellung von Tiefdruckplatten verwendengEßt,
sowie die Herstellung einer solchen Platte.
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Eine handelsübliche, (von der Firma "Le Magnesium Francais" unter
der Handelsbezeichnung "Climag" vertriebene) Magnesiumplatte einer Stärke von 1,6
mm wurde mittels einer rotierenden BUrste und einer Mischung aus Meudonweiß und
Siliciumdioxyd entfettet und aufgerauht4 Hierauf wurde die Oberfläche der Magnesiumplatte
20 Sekunden lang mit einer 0,5%igen Phosphorsäurel5sung behandelt, mit entionisiertem
Wasser abgespült und mit Druckluft getrocknet.
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Die in der beschriebenen Weise vorbereitete Magnesiumplatte wurde
nun mit einer Lösung eines Polycarbonats des auf Seite 3 der französischen Patentschrift
1 268 008 (@ruppe III) beschrieon benen Typs in einer Mischung von 75 Vol-% Cyclohexanrund
25 Vol-% Trichloräthylen wirbelbeschichtet. Nach dem Auftragen wurde die lichtempfindliche
Schicht itIR-Strah1en und Warmluft getrocknet, Die Stärke der auf derMagnesiumplatte
abgelagerten, lichtempfindlichen Schicht betrug, gemessen im trockenen Zustand,
20 mg/dm2 Trägerfläche.
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Das in der beschriebenen Weise hergestellte Aufzeichnungsmaterial
wurde mittels eines üblichen, von einem Strom von 30 Amp. durchflossenen Lichtbogens
durch ein Rasternegativ belichtet.
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Die Belichtungszeit wurde so gesteuert, daß die lichtempfindliche
Schicht unter der Graukeilfläche mit einer Dichte von 0,90 unlöslich wurde. Hierauf
wurden die nicht-belichteten Bezirke
des Aufzeichnungsmaterials freigelegt, indem
dieses nach der Belichtung
30 Sekunden lang in eine Schale,in welcher sich eine Mischung aus 80 Vol.-Teilen
Trichloräthylen und 20 VolrTeilen Methylenchlorid befand, eingetaucht wurde.
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Diese Behandlung wurde mit frischem Lösungsmittelgemisch wiederholt.
Hierauf wurde die erhaltene "Phototiefdruckplatte" an der Luft getrocknet.
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Vor dem Ätzen wurde die Phototiefdruckplatte leicht mit Meudonweiß
abgebeizt und hierauf in eine basische Kaliumpermanganatlösung getaucht. Schließlich
wurde eine übliche kontinuierliche Ätzung (nach dem sog. Dow" -Verfahren in einer
von der Firma Société Nonotype unter der Handelsbezeichnung Lithotex vertriebenen
Ätz- oder Graviervorrichtung) durchgeführt. Die Ätzdauer betrug 15 Minuten und erfolgte
in einem 21 0C warmen Ätzbad der folgenden Zusammensetzung: Salpetersäure (400 B6)
4,4 1 Solvesso 150 (Esso) 1,2 1 Konzentrat A (von der Firma Dow Chemical,Co., USA,
vertrieben) 275 ml Konzentrat B (von der Firma Dow Chemical Co., USA, vertrieben)
63 g Wasser 36 1 Mach dem Ätzen wurde die erhaltene Tiefdruckplatte durch Abreiben
mit einer mit einer Meudonweißlösung getränkten Bürste gereinigt getrocknet und
in eine übliche Druckpresse eingespannt, bohne daß sich die Reservierungsschicht
löste.
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Im Gegensatz zu den Beobachtungen, die man bei Verwendung von anderen
üblichen lichtempfindlichen Polymeren machte, konnte festgestellt werden, daß das
erfindungsgemäß verwendete, lichtempfindliche Polymer gegenüber Ätzmitteln hervorragend
beständig war, otme daß es erforderlich war, die Reservierung zu trocknen.
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Das Verfahren wurde wiederholt, Jedoch mit der Ausnahme, daß anstelle
des erfindungsgemflß verwendeten Polycarbonats ein biher übliches lichtempfindlicheß
Polymer, und zwar Poly(vinylcinnamat) und ein lichtempfindliches Polymer dea in
der rranzösischen Patentschrift 1 137 056 beschriebenen Typs, z. B. ein Polycinnamylidenmalonat
von Äthylenglykol, verwendet wurde.
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Hierbei ergab sich, daß die unter Verwendung der angegebenen lichtempfindlichen
PolymereS hergestellten Reservierungsschichten gegenüber dem angegebenen Ätzmittel
nicht beständig waren und sich rasch vom Träger ablösten.
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Beispiel 2 Dieses Beispiel veranschaulicht ein vorteilhaftes Verfahren
zur Herstellung einer aus zwei Metallen bestehenden Flachdruckform aus einem lichtempfindlichen
Aufzeichnungsmaterial nach der Erfindung.
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Eine aus verchromtem Kupfer bestehende Bimet all folie einer Länge
von 37 cm, einer Breite von 22,5 cm und einer Dicke von 0,15 mm wurde in einer 15%igen
Kaliumcarbonatlösung entfettet und nach dem Entfetten mit einer 15%igen Chlorwasserstofflösung
behandelt. Hierauf wurde die Folie mit entionisiertem Wasser abgespült und mit Druckluft
getrocknet.
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Nach dem Trocknen wurde die mit einer Chromschicht versehene Seite
der Folie in der in Beispiel 1 beschriebenen Weise mit einer lichtempfindlichen
Schicht versehen und belichtet. Hierauf wurde die Folie, wie in Beispiel 1 beschrieben,
entwickelt.
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Das Ätzen der hierbei freigelegten Bezirke erfolgte mit Chlorwasserstoffsäure.
Hierbei verschwand der Chromüberzug vollständig. Ein Trocknen der Platte vor dem
Ätzen war nicht erforderlich. Es zeiGte sich, daß die beim Entwickeln der Metalloberfläche
auf dieser zurückbleibende Reservierung trotz Verwendung aktivierter er und ohrle
getrocknet zu werden ausgezeichnet bestAndLL war.
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Die Reservierung wurde nun von der Folie durch Eintauchen derselben
in Methylenchlorid abgelöst. Schließlich wurde die Oberfläche der geätzten Folie
mit einer mit 15%iger Phosphorsäurelösung getränkten Bürste abgerieben, worauf die
freigelegten Kupferbezirke der Folie mit Druckfarbe eingefärbt wurden. Die in der
beschriebenen Weise hergestellte Bimetallplatte war nunmehr als Flachdruckform verwendungsbereit.
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Beispiel 3 Dieses Beispiel veranschaulicht die Herstellung gedruckter
Schaltungen unter Verwendung eines lichtempfindlichen AufzeichnungsBaterials nach
der Erfindung, dessen Schichtträger aus einer Kupferfolie bestand.
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Nach dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren wurde eine zur Herstellung
von gedruckten Schaltungen übliche Folie, bestehend aus einem Laminat aus einer
auf eine Folie aus plastischem Material auflaminierten Kupferfolie, deren Kupferschicht
eine Stärke von 35 Mikron besaß, entfettet und aufgerauht. Hierauf wurde die Folie
30 Sekunden lang in eine pro Leiter Lösung 50 g Natriuabichromat und 10 ml konz.
Schwefelsäure enthaltende Lösung getaucht. Daran anschließend wurde die Folie mit
entionisiertem Wasser abgespUlt und mit Druckluft getrocknet. Dts Auftragen der
lichteipfindlichen Schicht auf die Folie erfolgte wie in Beispiel 1 beschrieben.
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Die Folie wurde nun durch ein kontrastreiches Negativ, das ausgehend
von einem Kodalithfilm des Typs III erhalten wurde, belichtet und in der in Beispiel
1 beschriebenen Weise entwickelt.
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Das Ätzen erfolgte mittels einer Ferrichloridlösung von 420 Bd in
einer Projektionsvorrichtung. Daraufhin wurde die aus dem gehärteten, lichtempfindlichen
Polycarbonat bestehende Reservierungsschicht mit Methylenchlorid entfernt. Dabei
wurde eine verwendungsbereite gedruckte Schaltung erhalten.
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Es zeigte sich, wie in den vorherigen Beispielen, daß die aus dem
erfindungsgemäß verwendeten, lichtempfindlichen Polymer bestehende Reservierungsschicht
gegenUber der Ätzung hervorragend beständig war, obwohl sie vorher nicht getrocknet
worden war.
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Beispiel 4 Dieses Beispiel veranschaulicht ein vorteilhaftes Herstellungsverfahren
für Kennzeichen oder Schilder (plaques de marque) mit Hilfe eines lichtempfindlichen
Aufzeichnungsmaterials nach der Erfindung.
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Es wurde eine anodisierte Aluminiumplatte, deren beim Anodisie ren
gebildete Poren nicht durch Auffüllen verschlossen wurden, und die eine Stärke von
0,2 mm besaß, mit Meudonweiß entfettet, hierauf abgespült und getrocknet. Nachdem
die Platte in der in Beispiel 1 beschriebenen Weise mit einer lichtempfindlichen
Schicht beschichtet worden war, wurde sie, wie in Beispiel 1 beschrieben, durch
ein kontrastreiches, Buchstaben und Ziffern aufweisendes Negativ belichtet. Das
Freilegen der Schicht träger- bzw. Plattenoberfläche erfolgte wie in Beispiel 1
beschrieben. Hierauf wurde die Aluminiumoxydschicht mit einer 20%igen Natriumhydroxydlösung
geätzt. Das Ätzmittel wurde so lange auf die Aluminiumplatte einwirken gelassen,
bis die Farbe der Aluminiumoxydschicht an den nicht geschützten Stellen verschwunden
war.
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Es zeigte sich, daß die Reservierung gegenüber der basischen, d. h.
20%igen Natriumhydroxydlösung hervorragend beständig war, obwohl sie vorher nicht
getrocknet worden war. Schließlich wurde die Reservierung durch Eintauchen der Platte
in Methylenchlorid entfernt. Es wurde ein verwendungsbereites Kennzeichen oder Schild
erhalten.